JPH11160860A - ポジ型画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンピューター等のデジタルデータに基づ
き、赤外線を放射する固体レーザおよび半導体レーザ等
により直接書き込みが可能であり、画像形成性が良好
で、かつ印刷時の耐久性にも優れた平版印刷用版材を作
製するのに適したポジ型画像形成材料を提供すること。 【解決手段】Ａ．フェノール性水酸基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物、 Ｂ．上記フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高
分子化合物に対するアルカリ溶解抑制作用を有し、かつ
光または熱により分解して前記アルカリ溶解抑制作用を
失う化合物、 Ｃ．フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子
化合物を含む組成物に対し、上記Ｂ．成分と共に使用す
ることにより、前記アルカリ溶解抑制作用を増強し、か
つアルカリ可溶性高分子化合物を加熱架橋する架橋性基
を分子内に２以上有する化合物、 とを含有するポジ型画像形成材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明はポジ型画像形成材料
に関し、特に平版印刷用版材に使用するのに適した、レ
ーザー光等の光、レーザー光照射に伴って発生する熱、
あるいはサーマルヘッド等により付与される熱等によっ
て書込みを行うことが可能な、ポジ型画像形成材料に関
するものである。本発明は特にコンピュータ等のデジタ
ル信号から赤外線レーザ等を用いて直接製版できる、い
わゆるダイレクト製版可能な平版印刷用版材に使用する
のに適したポジ型画像形成材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放
射する固体レーザおよび半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュ
ータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源
として、これらのレーザは非常に有用である。このよう
な赤外線レーザにて記録可能な画像記録材料としては、
欧州特許公報７０３４９９Ａ１号に記載されているテト
ラヒドロピラニルエステルをアルカリ可溶性高分子化合
物に用いたポジ型記録材料がある。また、特開平８−３
１０１４８号公報には紫外線レーザーによるアブレージ
ョンにより成るポジ型記録材料が記載されている。しか
しながら、これらの画像記録材料を用いた版材では、高
温高湿条件下で保存した後、画像形成し印刷をおこなう
と、画像形成性が著しく低下するという問題や、画像部
の耐傷性が低いという問題を有している。

【０００３】また、アルカリ可溶性高分子化合物に、赤
外線吸収剤およびアルカリ可溶性高分子化合物のアルカ
リ溶解抑制作用を有し、かつ光または熱で分解する物質
（以下、「光熱分解物質」という場合もある。）を含有
せしめたポジ型の画像形成材料に、赤外線レーザーで書
き込みを行うものも提案されている。しかし、この種の
ものは、書き込みに使用する程度のエネルギーのレーザ
ーでは前記の光熱分解物質の分解、言い換えれば、アル
カリ溶解抑制作用の解除ないし消失が十分に行われない
ので、照射部と非照射部とのアルカリ溶解性に大きな差
を生じさせることができず（感度低下）、その結果とし
て画像形成が良好ではない。この対策として、前記光熱
分解物質の添加量を低減することが考えられるが、この
場合には、非照射部におけるアルカリ溶解抑制作用も小
さくなってしまうため、結果的に同様に照射部と非照射
部とのアルカリ可溶性に大きな差が出ず、良好な画像形
成が期待できない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題点に鑑みなされたもので、その目的は、コンピュー
ター等のデジタルデータに基づき、赤外線を放射する固
体レーザおよび半導体レーザ等により直接書き込みが可
能であり、画像形成性が良好で、かつ印刷時の耐久性に
も優れた平版印刷用版材を作製するのに適したポジ型画
像形成材料を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下のポジ型画像形成材料を提供することによって達成さ
れる。 Ａ．フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子
化合物、 Ｂ．上記フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高
分子化合物に対するアルカリ溶解抑制作用を有し、かつ
光または熱により分解して前記アルカリ溶解抑制作用を
失う化合物、 Ｃ．フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子
化合物を含む組成物に対し、上記Ｂ．成分と共に使用す
ることにより、前記アルカリ溶解抑制作用を増強し、か
つアルカリ可溶性高分子化合物を加熱架橋する架橋性基
を分子内に２以上有する化合物、 とを含有するポジ型画像形成材料。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。 ＜フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子化
合物を含む組成物に対し、上記Ｂ．成分と共に使用する
ことにより、前記アルカリ溶解抑制作用を増強し、かつ
アルカリ可溶性高分子化合物を加熱架橋する架橋性基を
分子内に２以上有する化合物＞まず、本発明が特徴とす
る、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子
化合物を含む組成物に対し、上記Ｂ．成分と共に使用す
ることにより、前記アルカリ溶解抑制作用を増強し、か
つアルカリ可溶性高分子化合物を加熱架橋する架橋性基
を分子内に２以上有する化合物（以下、単に「架橋性化
合物」と略称する。）について説明する。この架橋性化
合物は、本発明のポジ型画像形成材料の感度を向上させ
るために添加する物質であり、前記光熱分解物質のアル
カリ溶解抑制作用を増強する機能を有するが、それ自身
ではアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ溶解抑制作
用を実質的に有していない。したがって、光熱分解物質
とこの架橋性化合物を含む画像形成材料に赤外線レーザ
ー光を照射すると、光熱分解物質は分解しアルカリ溶解
抑制作用は消失するが、架橋性化合物自体は実質的にア
ルカリ溶解抑制作用を有していないため、レーザー照射
部におけるアルカリ溶解性を阻害する要因にはならな
い。

【０００７】一方、レーザー非照射部においては架橋性
化合物と光熱分解物質との相互作用により、光分解物質
が本来有しているアルカリ溶解抑制作用よりもさらに増
幅されたアルカリ溶解抑制作用が発現している。本発明
の架橋性化合物（Ｃ）は、分子内にヘテロ原子を含み、
アルカリ可溶性高分子化合物（Ａ）および光または熱に
より分解し前記アルカリ溶解性を失う物質（Ｂ）の双方
と、水素結合、イオン性相互作用等の相互作用が可能で
あり、前記アルカリ溶解抑制作用を増強する。架橋性化
合物（Ｃ）に含まれるヘテロ原子としては水素結合、イ
オン性相互作用等の相互作用が可能なヘテロ原子であれ
ば特に限定されるものではないが、窒素、酸素、フッ
素、塩素、臭素等の電気陰性度の大きな原子が好まし
く、窒素及び酸素が特に好ましい。窒素及び酸素などの
ヘテロ原子を含有し、前記相互作用を発現する置換基と
しては、エーテル結合、アミド結合、スルホンアミド結
合、エステル結合、水酸基等が挙げられる。したがっ
て、レーザー照射部とレーザー非照射部とのアルカリに
対する溶解性の差は、単に光熱分解物質を添加したもの
に比較してより大きくなり、画像形成材料としての感度
は向上する。しかも、本発明における架橋性化合物は分
子中に、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高
分子化合物と架橋反応する、架橋性基を２以上有してい
るため、アルカリ現像後に加熱を行う（バーニング処
理）と、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高
分子化合物が架橋硬化して、非照射部における被膜強度
が増大する。したがって、ポジ型画像形成材料を印刷版
に適用した場合、現像後のバーニング処理により、その
耐刷性が大幅に向上する。ここで、架橋性基とは、縮合
架橋性の置換基または重合性の置換基が挙げられ、縮合
架橋性の置換基の例としては、置換または無置換のヒド
ロキシメチル基、置換または無置換のアルコキシメチル
基、置換または無置換のアリールオキシメチル基等が挙
げられる。重合性の置換基の例としては、カチオン重合
性の置換基として、東村敏延著「講座重合反応論＜３＞
カチオン重合（化学同人）の表１・１」に記載の、カチ
オン重合可能な化合物が有するカチオン重合性の置換
基、例えばエチレン性二重結合、エポキシ基、ビニルエ
ーテル基等が、またラジカル重合性の置換基としてエチ
レン性二重結合等が挙げられる。この中でも好ましくは
縮合架橋性の置換基、カチオン重合性の置換基であり、
特に好ましくはヒドロキシメチル基、アルコキシメチル
基、エチレン性二重結合、エポキシ基等が挙げられる。
さらに、本発明においては、この架橋性化合物を添加す
ることにより、光熱分解物質の添加量を、光熱分解物質
を単独で用いる場合に比較して低減させることができる
ため、比較的エネルギーレベルが低い赤外線レーザー書
込みを行った場合にも、レーザー照射部とレーザー非照
射部とのアルカリに対する溶解性の差を大きくすること
が可能であり、良好な感度を得ることができる。このよ
うな架橋性化合物として特に良好な化合物を以下に列挙
する。

【０００８】

【化１】

【０００９】

【化２】

【００１０】

【化３】

【００１１】

【化４】

【００１２】

【化５】

【００１３】

【化６】

【００１４】本発明において、架橋性化合物は画像形成
材料の全固形分中、５〜７０重量％、好ましくは１０〜
６５重量％の添加量で用いられる。架橋性化合物の添加
量が５重量％未満であると画像記録した際の画像部の膜
強度が悪化し、また、７０重量％を越えると現像性の点
で好ましくない。また、同様の理由から、架橋性化合物
は、光熱分解物質に対し５〜８０重量％の添加量で用い
るのが好ましい。本発明において、架橋性化合物は単独
で使用してもよく、また２種類以上を組み合わせて使用
してもよい。

【００１５】＜フェノール性水酸基を有するアルカリ可
溶性高分子化合物＞次に、本発明において使用されるフ
ェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子化合物
について説明する。本発明のフェノール性水酸基を有す
るアルカリ可溶性高分子化合物は、以下において説明す
るように、レーザー照射部は前記Ｂ．成分が分解してア
ルカリ溶解抑制作用を失うためアルカリ現像液に可溶性
となって印刷版上から除去され、一方レーザー非照射部
は前記Ｂ．およびＣ．の成分との相互作用に基づきアル
カリ現像液に溶解しないため残存し、その結果画像を形
成する高分子化合物である。

【００１６】本発明におけるフェノール性水酸基を有す
るアルカリ可溶性高分子化合物としては、フェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ
−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、等のノボラッ
ク樹脂、ポリヒドロキシスチレン類、ヒドロキシスチレ
ン−Ｎ−置換マレイミド共重合体、ヒドロキシスチレン
−無水マレイン酸共重合体等が耐刷性、基板との密着性
の点で好ましく使用される。

【００１７】本発明のフェノール性水酸基を有するアル
カリ可溶性高分子化合物としては、重量平均分子量が１
０００〜１，０００，０００が好ましく、２０００〜３
００，０００のものがさらに好ましい。重量平均分子量
が１０００未満では、耐刷性が低下するという不都合を
生じ、また、１，０００，０００を越えると現像性の点
で好ましくない。

【００１８】本発明において、アルカリ可溶性高分子化
合物はポジ型画像形成材料の全固形分中、１０〜９０重
量％、好ましくは２０〜８５重量％、特に好ましくは３
０〜８０重量％の添加量で用いられる。アルカリ可溶性
の高分子化合物の添加量が１０重量％未満であると記録
層の耐久性が悪化し、また、９０重量％を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。また、これらのアル
カリ可溶性樹脂は、１種類のみで使用しても良いし、あ
るいは２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

【００１９】＜フェノール性水酸基を有するアルカリ可
溶性高分子化合物のアルカリ溶解抑制作用を有し、光ま
たは熱により分解し前記アルカリ溶解抑制作用を失う物
質＞次に、本発明に使用するフェノール性水酸基を有す
るアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ溶解抑制作用
を有し、光または熱により分解し前記アルカリ溶解抑制
作用を失う化合物（以下、「光熱分解物質」という。）
について説明する。この物質は、光もしくは熱で分解す
ることによりアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ溶
解性を抑制する機能を失うので、ポジ型画像形成材料の
レーザー照射部はアルカリ現像液に可溶性となるが、一
方非照射部ではこの物質が依然としてアルカリ可溶性高
分子化合物のアルカリ可溶性を抑制しているため、この
両者のアルカリ可溶性の差に起因して、現像により印刷
版上に画像が形成される。

【００２０】本発明の光熱分解物質としてはまた、光ま
たは熱により分解して酸を発生するものを好適に用いる
ことができる。この場合、ポジ型画像形成材料のレーザ
ー照射部においては光熱分解化合物が分解してアルカリ
溶解抑制作用が消失すると共に酸を発生するので、その
部分のアルカリ可溶性が一層増大する。

【００２１】光熱により分解して酸を発生させるものと
しては、例えば、以下のものを挙げることができる。
Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓ
ｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．
Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３
（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，
０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、同Ｒｅ２
７，９９２号、特開平４−３６５０４９号の明細書に記
載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔ ａ
ｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８
（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔａｌ，Ｔｅｈ，Ｐ
ｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ，Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，
ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許
第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号に記
載のホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ
ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），
１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗ
ｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１
０４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４
１０，２０１号、特開平２−１５０８４８号、特開平２
−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、

【００２２】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈ
ｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔ
ｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９
８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍ
ｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８
１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．
Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７
０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７
号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特
許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４
１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，
０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８
２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０
４，５８０号、同３，６０４，５８１号に記載のスルホ
ニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃ
ｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載の
セレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩。

【００２３】米国特許第３，９０５，８１５号、特公昭
４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭
５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特
開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７
号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４
０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９
８３３９号に記載の有機ハロゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅ
ｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３
（４），２６（１９８６），Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌ ｅｔ
ａｌ， Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９，３００７（１
９８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｓ．，１９（１２），３７７（１８９６）、特開平２−
１６１４４５号に記載の有機金属／有機ハロゲン化物。

【００２４】Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，７５３（１９８７）、
Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙ
ｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，
２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚｈｕ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，８５，３９，３１７
（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（２４）２２０５（１９７
３），Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．３５７１（１９６５）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏ
ｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐ
ｅｒｋｉｎ Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．Ｒｕｄｉ
ｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７５）、Ｊ．
Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、Ｓ．Ｃ．Ｂ
ｕｓｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃ
ｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８５）、Ｈ．
Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、Ｐ．Ｍ．
Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２（１９７２）、Ｓ．
Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌ
ｅｓ，１８，１７９９（１９８５）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍ
ａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈ
ｎｏｌ．，１３０（６）、Ｆ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ
ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２
００１（１９８８）、欧州特許第０２９０，７５０号、
同０４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，
８５１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９
０１，７１０号、同４，１８１，５３１号、特開昭６０
−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号に記載
のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光熱分解物質。

【００２５】Ｍ．ＴＵＮＯＯＫＡ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ Ｊａｐａｎ，３８
（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．
Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ ｅｔ
ａｌ，Ｃｏａｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，５５（６９
７），４５（１９８３）、Ａｋｚｏ，Ｈ．Ａｄａｃｈｉ
ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊ
ａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９９，６７２
号、同８４５１５号、同１９９，６７２号、同０４４，
１１５号、同０１０１，１２２号、米国特許第４，６１
８，５６４号、同４，３７１，６０５号、同４，４３
１，７７４号、特開昭６４−１８１４３号、特開平２−
２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号に記載のイ
ミノスルフォネート等に代表される、光分解してスルホ
ン酸を発生する化合物。

【００２６】特開昭６１−１６６５４４号に記載のジス
ルホン化合物、特公昭４３−２８４０３号に記載の１，
２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類に代表
される１，２−キノンジアジド化合物等である。

【００２７】また、これらの酸を発生する基、あるいは
化合物をポリマーの主鎖または側鎖に導入した化合物、
例えば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏｕｓｅ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０４，５５８６（１
９８２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉ
ｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８
６）、Ｓ．Ｋｏｎｄｏ ｅｔ ａｌ． Ｍａｋｒｏｍｏ
ｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｒａｐｉｄ Ｃｏｍｍｕｎ．，９，６
２５（１９８８）、Ｙ．Ｙａｍａｄａ ｅｔ ａｌ，Ｍ
ａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１５２，１５３，１６３
（１９７２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ．Ｊ．Ｐｏｙｌｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，３８４５（１９７９）、米国
特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３，９１４，
４０７、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６
４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−
１４６０３７、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６
２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記
載の化合物を用いることができる。

【００２８】更に、V. N. R. Pillai, Synthesis, (1),
1(1980)、A. Abad et al, Tetrahedron Lett., (47) 4
555 (1971)、D. H. R. Barton et al, J. Chem, Soc.,
(C),329 (1970) 、米国特許第３，７７９，７７８号、
欧州特許第１２６，７１２号等に記載の光により酸を発
生する化合物も使用することができる。

【００２９】本発明の酸を発生する光熱分解化合物とし
ては、以下の一般式（１）〜（７）の化合物が好まし
く、また、その中でも、ジアゾニウム塩およびキノンジ
アジド化合物が特に好ましい。本発明の光熱分解物質と
してジアゾニウム塩およびキノンジアジド化合物が特に
好ましいのは、これらの化合物は本発明の前記Ｃ．成分
（以下でいう「架橋性化合物」）との相互作用が良好な
ためである。 ［１］下記一般式（１）で示されるジスルホン誘導体ま
たは下記一般式（２）で表されるイミノスルホネート誘
導体。

【００３０】

【化７】 一般式（１） Ａｒ¹ −ＳＯ₂ −ＳＯ₂ −Ａｒ²

【００３１】

【化８】

【００３２】式中、Ａｒ¹ およびＡｒ² は各々独立に置
換もしくは未置換のアリール基を示す。Ｒ¹ は置換もし
くは未置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ａは
置換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基ま
たはアリーレン基を示す。

【００３３】［２］下記一般式（３）、（４）および
（５）で表されるオニウム塩誘導体。

【００３４】

【化９】一般式（３） Ａｒ³ −Ｉ⁺ −Ａｒ⁴ Ｒ
² −ＳＯ₃ ^-

【００３５】

【化１０】

【００３６】

【化１１】 一般式（５） Ａｒ⁵ −Ｎ₂ ⁺ Ｒ² −ＳＯ₃ ^- 上記一般式において、Ｒ² は置換基を有していても良い
炭素数２０以下の炭化水素基を示す。炭化水素基の具体
例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基等のア
ルキル基、ビニル基、１−メチルビニル基、２−フェニ
ルビニル基等のアルケニル基、ベンジル基、フェネチル
基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル
基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フ
ェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の
アリール基が挙げられる。

【００３７】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基、
等の置換基を有していても良い。置換基を有する炭化水
素基の具体例としては、トリフルオロメチル基、２−メ
トキシエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフ
ェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨー
ドフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチ
ル基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアント
ラセニル基、アントラキノニル基、等が挙げられる。

【００３８】Ａｒ³ 、Ａｒ⁴ およびＡｒ⁵ はそれぞれ、
置換基を有していても良い炭素数２０以下のアリール基
を示す。具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル
基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フ
ェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フ
ルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキ
シフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、アニリ
ノフェニル基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホ
リノフェニル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナ
フチル基、ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、
アントラキノニル基、等が挙げられる。

【００３９】Ｒ³ 、Ｒ⁴ およびＲ⁵ は置換基を有してい
ても良い炭素数１８以下の炭化水素基を示す。具体的に
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル
基、フェニル基、トリル基、ｔ−ブチルフェニル基、ナ
フチル基、アントラセニル基、等の炭化水素基、２−メ
トキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェニルチオフェニ
ル基、ヒドロキシナフチル基、メトキシナフチル基、ベ
ンゾイルメチル基、ナフトイルメチル基、等置換基を有
する炭化水素基が挙げられる。また、Ｒ³ およびＲ⁴ で
互いに結合し縮環していてもよい。

【００４０】一般式（３）〜（５）で表されるオニウム
塩のカチオン部としては、具体的には下記構造で示され
るヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニ
ウムイオンがあげられる。

【００４１】

【化１２】

【００４２】

【化１３】

【００４３】

【化１４】

【００４４】

【化１５】

【００４５】

【化１６】

【００４６】一方、これらのオニウム塩のカウンターア
ニオンとして良好に用いられるスルホネートイオンとし
ては、 １）メタンスルホネート、 ２）エタンスルホネート、 ３）１−プロパンスルホネート、 ４）２−プロパンスルホネート、 ５）ｎ−ブタンスルホネート、 ６）アリルスルホネート、 ７）１０−カンファースルホネート、 ８）トリフルオロメタンスルホネート、 ９）ペンタフルオロエタンスルホネート、 １０）ベンゼンスルホネート、 １１）ｐ−トルエンスルホネート、 １２）３−メトキシベンゼンスルホネート、 １３）４−メトキシベンゼンスルホネート、 １４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 １５）４−クロロベンゼンスルホネート、 １６）３−ニトロベンゼンスルホネート、 １７）４−ニトロベンゼンスルホネート、 １８）４−アセチルベンゼンスルホネート、 １９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 ２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、 ２１）メシチレンスルホネート、 ２２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 ２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホネート、 ２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、 ２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、 ２６）１−ナフタレンスルホネート、 ２７）２−ナフタレンスルホネート、 ２８）２−ナフトール−６−スルホネート、 ２９）２−ナフトール−７−スルホネート、 ３０）アントラキノン−１−スルホネート、 ３１）アントラキノン−２−スルホネート、 ３２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３４）キノリン−８−スルホネート、 ３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、 ３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート

【００４７】また、 ４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、 ４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、 ４３）１、５−ナフタレンジスルホネート、 ４４）２、６−ナフタレンジスルホネート、 ４５）２、７−ナフタレンジスルホネート、 ４６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、 ４７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、 ４８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、 ４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 等のジスルホネート類とオニウム塩カチオン２当量との
塩も用いることができる。

【００４８】本発明で良好に用いられるオニウム塩スル
ホネートは、対応するクロル塩等を、スルホン酸または
スルホン酸ナトリウムまたはカリウム塩と水中、あるい
はアルコール等の親水性溶媒と水との混合溶媒中でまぜ
あわせて塩交換を行うことにより、得ることができる。
オニウム化合物の合成は既知の方法で行うことができ、
たとえば丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の２・３章
（ｐ．４４８）、１４−III 巻の８・１６章（ｐ．１８
３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、Ｊ．Ｗ．Ｋｎ
ａｐｃｚｙｋ他、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、９１
巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙｃｏｋ他、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、３５巻、２５３２（１９７
０）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｅｄ．、１８巻、２６７７（１９８０）、米国特
許第２８０７６４８号、同４２４７４７３号、特開昭５
３−１０１３３１号、特公平５−５３１６６号公報等に
記載の方法で合成することができる。

【００４９】［３］下記一般式（６）および（７）で表
される１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸誘導体
等のジアゾ化合物。

【００５０】

【化１７】

【００５１】

【化１８】

【００５２】式中、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ は置換基を有してもよい
１価以上の有機基でありスルホニルとの連結部位はエス
テルまたはアミド結合である。ｎは１以上の整数を示
す。以下の化合物種のジアゾ化合物を用いた場合に有用
なポジ型画像形成材料である。

【００５３】次に前記一般式（１）で示されるジスルホ
ン誘導体または一般式（２）で表されるイミノスルホネ
ート誘導体の具体例を挙げるが、これに限定されるもの
ではない。

【００５４】

【化１９】

【００５５】

【化２０】

【００５６】

【化２１】

【００５７】

【化２２】

【００５８】次に、前記一般式（３）ないし（５）で示
されるオニウム塩中で特に好ましい具体的化合物例を挙
げるが、これらに限定されるものではない。

【００５９】

【化２３】

【００６０】

【化２４】

【００６１】

【化２５】

【００６２】

【化２６】

【００６３】

【化２７】

【００６４】

【化２８】

【００６５】

【化２９】

【００６６】

【化３０】

【００６７】

【化３１】

【００６８】

【化３２】

【００６９】

【化３３】

【００７０】

【化３４】

【００７１】次に一般式（６）および（７）で表される
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸誘導体の具体
例としては、ノボラック樹脂の１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、ノボラック樹脂の
１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、ピロガロールとアセトンの重縮合樹脂の１，２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ピロガ
ロールとアセトンの重縮合樹脂の１，２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、ピロガロールおよ
びレゾルシンの混合物とアセトンの重縮合樹脂の１，２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ピ
ロガロールおよびレゾルシンの混合物とアセトンの重縮
合樹脂の１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸エステル、多価フェノールとベンズアルデヒド、アセ
トアルデヒドの重縮合樹脂の１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、多価フェノールとベン
ズアルデヒド、アセトアルデヒドの重縮合樹脂の１，２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンの１，２−
ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，
３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフ
トキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，
４’−トリヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，
４’−トリヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフト
キノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，
４−ジヒドロキシフェニル）メタンの１，２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，４
−ジヒドロキシフェニル）メタンの１，２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸エステル等を挙げることが
できるが、これに限定されるものではない。

【００７２】本発明において、光熱分解物質は、画像形
成材料の全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好まし
くは０．１〜２５重量％、より好ましくは０．５〜２０
重量％の割合で画像形成材料中に添加される。添加量が
０．０１重量％以下の場合は、画像が得られない。また
添加量が５０重量％以上の場合は、印刷時非画像部に汚
れを発生する。

【００７３】＜赤外線吸収剤＞本発明においては赤外線
吸収剤を画像形成材料中に含ませることが望ましい。本
発明における赤外線吸収剤とは、赤外線レーザー光を吸
収して熱を発生する物質である。かかる赤外線吸収剤を
添加することにより、レーザー照射部を発熱させ、光熱
分解物質の分解を促進し、画像形成材料の感度を向上さ
せることができる。このような物質としては、種々の顔
料もしくは染料が用いられる。

【００７４】顔料としては、市販の顔料およびカラーイ
ンデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本
顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔
料が利用できる。

【００７５】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、その他、ポリマー結合
色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾ
レーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロ
シアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよ
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。

【００７６】これらの顔料は表面処理をせずに用いても
よく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の
方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活
性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカ
ップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書
房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８
６年刊）に記載されている。

【００７７】顔料の粒径は、０．０１μｍ〜１０μｍの
範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範
囲にあることがさらに好ましい。顔料を分散する方法と
しては、インク製造やトナー製造等に用いられている公
知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分
散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパ
ーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤ
ミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、
加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００７８】また、染料としては、市販の染料および文
献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４
５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属鎖塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料、アミニウム染料、ジイモニウム染料、スクア
リリウム染料等の染料が挙げられる。

【００７９】これらの顔料、もしくは染料のうち赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが特に好ましく、
顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ、染料
としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、同５９−
８４３５６号、同５９−２０２８２９号、同６０−７８
７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８
−１７３６９６号、同５８−１８１６９０号、同５８−
１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭
５８−１１２７９３号、同５８−２２４７９３号、同５
９−４８１８７号、同５９−７３９９６号、同６０−５
２４９０号、同６０−６３７４４号等に記載されている
ナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記
載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８
７５号記載のシアニン染料、米国特許３，５５７，０１
２号、特開平４−３４９４６２号記載のジイモニウム染
料、米国特許３，６３１，１４７号記載のアミニウム染
料等が好適に用いられる。また、米国特許第５，１５
６，９３８号記載の近赤外吸収剤も好適に用いられる。

【００８０】更に、米国特許第３，８８１，９２４号記
載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、
特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，
１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭
５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５
９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８
４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６
０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭
５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第
４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリ
ウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２
号公報に開示されているピリリウム化合物は特に好まし
く用いられる。また、特に好ましい別の例として米国特
許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）
として記載されている近赤外吸収染料を挙げることがで
きる。

【００８１】本発明においては、これらの顔料もしくは
染料は、画像形成材料の全固形分に対し０．０１〜５０
重量％、好ましくは０．１〜２０重量％、より好ましく
は０．５〜１５重量％の割合で画像形成材料中に添加す
ることができる。添加量が０．０１重量％より少ないと
画像が得られず、また、５０重量％より多いと印刷時非
画像部に汚れを発生する。本発明においては、これらの
染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加してもよ
いし、別の層を設けそこへ添加してもよい。

【００８２】また、画像形成後、画像部と非画像部の区
別がつきやすくなるので、可視光域に大きな吸収を持つ
染料を画像の着色剤として添加する方が好ましい。具体
的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０
３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイ
ルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラッ
クＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０
５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５
５５）、メチルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５３５）、
エチルバイオレット、ローダミンＢ（Ｃ．Ｉ．１４５１
７０Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ．Ｉ．４２００
０）、メチレンブルー（Ｃ．Ｉ．５２０１５）等、ある
いは特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている
染料を挙げることができる。尚、添加量は、画像形成材
料の全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合であ
る。

【００８３】さらに、本発明では、必要に応じて種々の
化合物を添加しても良い。たとえば、本発明における画
像形成材料中には、露光現像後にバーニング処理を行っ
てより一層の高耐刷性を得るために、Ｄ．Ｈ．ＳＯＬＯ
ＭＯＮの著書「THE CHEMISTRY OF ORGANIC FILM FORMER
S 」、特公平１−４９９３２号公報、特開平７−５３４
２６号公報、特開平７−６１９４６号公報等に記載され
ているようなアクコキシメチル基、アシルオキシメチル
基を含有するフェノール化合物、等の架橋剤を添加する
ことができる。これらの架橋剤は、単独で用いてもよ
く、二種以上混合して用いてもよいが、その際の使用量
は、感光性組成物中、０．２〜６０重量％、好ましくは
０．５〜２０重量％である。また、本発明における画像
形成材料中には、現像条件に対する処理の安定性を広げ
るため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−
２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界
面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４
−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活
性剤を添加することができる。

【００８４】非イオン界面活性剤としては、ソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられ
る。両面活性剤としては、アルキルジ（アミノエチル）
グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、
２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシ
エチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−
Ｎ，Ｎ−ベタイン型等が挙げられる。例えば、アモーゲ
ンＫ（商品名：第一工業（株）製）等を好適に使用する
ことができる。

【００８５】上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の画像形成材料中に占める割合は、０．０５〜１５
重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％で
ある。

【００８６】また、本発明の画像形成材料中には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸またはメタアクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等
が用いられる。

【００８７】また、本発明における画像形成材料のアル
カリ水溶液への溶解性を調整する化合物としては、環状
酸無水物、その他のフィラー等を加えることができる。
環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号
明細書に記載されているような無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６
−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、ピ
ロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物の添加量
は画像形成材料の全固形分に対し１〜１５重量％、好ま
しくは２〜１５重量％、より好ましくは３〜１０重量％
である。

【００８８】また、塗布性を改良するためのアルキルエ
ーテル類（例えばエチルセルロース、メチルセルロー
ス）、界面活性剤類（例えばフッ素系界面活性剤）、膜
の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤（例えばト
リクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、リン酸トリオクチル、リン酸トリブチ
ル、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等）を添加することができる。
これらの添加剤の添加量はその使用目的によって異なる
が、一般には画像形成材料の全固形分に対して０．５〜
３０重量％である。

【００８９】さらに、これら以外にも、前述のオニウム
塩やハロアルキル置換されたｓ−トリアジン、およびエ
ポキシ化合物、ビニルエーテル類、さらには特願平７−
１８１２０号明細書に記載のヒドロキシメチル基を持つ
フェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノ
ール化合物等を添加しても良い。

【００９０】本発明の画像形成材料は、通常上記各成分
を溶媒に溶解または分散して用い、適当な支持体上に塗
布することにより感光性平版印刷版材を製造することが
できる。また、半導体等のレジスト材料用としては溶媒
に溶解したままで使用することができる。ここで使用す
る溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、
プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエ
チルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテー
ト、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクト
ン、トルエン、水等をあげることができるがこれに限定
されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合
して使用される。

【００９１】溶媒中の上記成分（添加物を含む全固形
分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％、好ましくは
３〜３０重量％、より好ましくは５〜２０重量％であ
る。また、塗布して使用する場合、塗布量は用途により
異なるが、例えば感光性平版印刷版材についていえば一
般的に固形分として０．５〜３．０ｇ／ｍ² 、好ましく
は０．８〜２．５ｇ／ｍ² 、より好ましくは１．０〜
２．０ｇ／ｍ² であり、またフォトレジストについてい
えば一般的に固形分として０．１〜３．０ｇ／ｍ² が好
ましく、より好ましくは０．２〜２．０ｇ／ｍ² 、更に
好ましくは０．３〜１．５ｇ／ｍ² である。塗布量が少
なくなるにつれて、感光性は大きくなるが、感光膜の皮
膜特性は低下する。

【００９２】本発明による感光性平版印刷版に使用され
る支持体としては、寸法的に安定な板状物であり、例え
ば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金
属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチ
ックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、
上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された
紙、もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。

【００９３】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルムまたはアルミニウム板が好ましく、その中でも寸
法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特
に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々
１０重量％以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程
度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好まし
くは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【００９４】支持体としてアルミニウム板を用いる場合
には、あらかじめ粗面化処理を行うことが望ましい。ま
たこの際アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望に
より、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性
剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液等による脱脂処理
がおこなわれる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法によりおこなわれるが、例えば、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法および化学的に表面を選択溶解させる方法によりお
こなわれる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法
を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により
おこなう方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号
に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用
することができる。

【００９５】この様に粗面化されたアルミニウム板は、
必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理さ
れた後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を
形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。

【００９６】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１. ０ｇ／ｍ² より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。

【００９７】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０
６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７
３４号および第３，９０２，７３４号に開示されている
ようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウ
ム水溶液）法がある。この方法においては、支持体がケ
イ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまたは電解処
理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示さ
れているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第
３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同
第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。

【００９８】本発明における画像形成材料は公知の塗布
技術により上記の支持体上に塗布される。上記の塗布技
術の例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、デ
ィップ塗布後、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブ
レード塗布法、カーテン塗布法およびスプレー塗布法等
を挙げることができる。上記のようにして塗布された画
像形成材料の層は、４０〜１５０℃で３０秒〜１０分
間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥される。
本発明の画像形成材料をフォトレジストとして使用する
場合には銅板または銅メッキ板、シリコン板、ステンレ
ス板、ガラス板等の種々の材質の基板を支持体として用
いることができる。本発明における画像形成材料を含む
感光性平版印刷版材またはフォトレジスト等は、像露
光、必要により加熱処理、現像工程を施される。

【００９９】本発明による感光性平版印刷版は、必要に
応じて支持体上に下塗層を設けることができる。下塗層
成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カ
ルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガ
ム、２−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有する
ホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン
酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセ
ロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジ
ホスホン酸等の有機ホスホン酸、置換基を有してもよい
フェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およ
びグリセロリン酸等の有機リン酸、置換基を有してもよ
いフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アル
キルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸等の有機
ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸
類、トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシ基を
有するアミンの塩酸塩、およびビニル安息香酸、ポリビ
ニル安息香酸等のカルボン酸等から選ばれるが、２種以
上混合して用いてもよい。有機下塗層の被覆量は、２〜
２００ｍｇ／ｍ² が適当である。

【０１００】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平
５−４５８８５号公報に記載の有機高分子化合物および
特開平６−３５１７４号公報に記載の有機または無機金
属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸
化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被
覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ₃ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）
₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₃ Ｈ₇ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₄ Ｈ₉ ）₄ 等の
ケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手しやすく、それ
から得られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れてお
り特に好ましい。更に必要に応じて、感光膜の上にマッ
トまたはマット層を設けても良い。

【０１０１】以上のようにして、本発明の画像形成材料
を用いた平版印刷用版材を作製することができる。この
平版印刷用版材は、通常、像露光、現像処理を施され
る。像露光に用いられる活性光線の光源としては、例え
ば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線と
しては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等があ
る。またｇ線、ｉ線、Deep−ＵＶ光、高密度エネルギー
ビーム（レーザービーム）も使用される。レーザービー
ムとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザ
ー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザ
ー、ＫｒＦエキシマレーザー等が挙げられる。本発明に
おいては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が
好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。

【０１０２】必要に応じて加熱処理をおこなった後、本
発明による画像形成材料はアルカリ性水溶液にて現像さ
れる。本発明による画像形成材料の現像液および補充液
としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用で
きる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第三リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウム等の無機
アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤
も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは２種
以上を組み合わせて用いられる。

【０１０３】これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現
像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸
塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化
珪素ＳｉＯ₂ とアルカリ金属酸化物Ｍ₂ Ｏとの比率と濃
度によって現像性の調節が可能となるためであり、例え
ば、特開昭５４−６２００４号公報、特公昭５７−７４
２７号公報に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸
塩が有効に用いられる。

【０１０４】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材版を処
理できることが知られている。本発明においてもこの補
充方式が好ましく適用される。現像液および補充液には
現像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像
部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面
活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤と
しては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両
性界面活性剤があげられる。好ましい有機溶剤としては
ベンジルアルコール等が挙げられる。また、ポリエチレ
ングリコールもしくはその誘導体、またはポリプロピレ
ングリコールもしくはその誘導体等の添加も好ましい。
更に現像液および補充液には必要に応じて、ハイドロキ
ノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸等の無機酸の
ナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボ
ン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。

【０１０５】上記現像液および補充液を用いて現像処理
された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像形成材料を印刷用版材として使
用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み
合わせて用いることができる。

【０１０６】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理す
る方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。

【０１０７】本発明の画像形成材料を用いた感光性平版
印刷版材を画像露光し、現像し、水洗および／またはリ
ンスおよび／またはガム引きして得られた平版印刷版に
不必要な画像部（例えば原画フィルムのフィルムエッジ
跡等）がある場合には、その不必要な画像部の消去がお
こななわれる。このような消去は、例えば特公平２−１
３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要
画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水
洗することによりおこななう方法等がある。

【０１０８】本発明のポジ型画像形成材料を用いて平版
印刷版を作製する際には、露光・現像処理後バーニング
処理を行い、本発明の架橋性化合物とアルカリ可溶性高
分子化合物との架橋を行いより一層の高耐刷力を向上さ
せることが望ましい。平版印刷版をバーニングする場合
には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５
−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−
１５９６５５号の各公報に記載されているような整面液
で処理することが好ましい。その方法としては、該整面
液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上
に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸
漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布等が適
用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、ス
キージローラーで、その塗布量を均一にすることは、よ
り好ましい結果を与える。整面液の塗布量は一般に０.
０３〜０. ８ｇ／ｍ² （乾燥重量）が適当である。整面
液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された
後、バーニングプロセッサー（たとえば富士写真フイル
ム（株）より販売されているバーニングプロセッサー：
ＢＰ−１３００）等で高温に加熱される。この場合の加
熱温度および時間は、画像を形成している成分の種類に
もよるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲
が好ましい。バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来よりおこななわ
れている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合
物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引き等
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。

【０１０９】この様な処理によって得られた平版印刷版
はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用い
られる。

【０１１０】

【実施例】＜合成例＞ ［架橋性化合物Ｉ−２の合成］水素化ナトリウム（６０
％）１６ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに分散させ、
そこに氷冷下、パラニトロベンジルアルコール５０ｇの
テトラヒドロフラン溶液１００ｍｌを滴下した。室温で
１時間攪拌した後、氷冷下、ヨードメタン５６ｇを滴下
し、さらに室温で３時間攪拌した。反応液に水を加え、
酢酸エチルで抽出し、抽出溶媒を減圧留去し、シリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製して、パラメトキシメチル
ニトロベンゼン４０ｇを得た。パラメトキシメチルニト
ロベンゼン２０ｇを還元鉄存在下、常法により還元し、
パラメトキシメチルアニリン１３ｇを得た。アジピン酸
クロリド７．３ｇのアセトン溶液８０ｍｌに氷冷下パラ
メトキシメチルアニリン１１ｇとトリエチルアミン５．
９ｇのアセトン溶液を滴下した。さらに室温で３時間攪
拌し、反応液を水に注ぎ込み、析出したＩ−２をろ取
し、水でかけ洗いした後に減圧下乾燥した（収量１２
ｇ）。

【０１１１】

【化３５】

【０１１２】［架橋性化合物Ｉ−１９の合成］水酸化ナ
トリウム３．０ｇを水２０ｍｌに溶解し、さらに氷冷し
ながらトリメシン酸５．３ｇを少しずつ加えた。ヨウ化
カリウム６．２ｇ、ジメチルアセトアミド２０ｇを順次
加えた。次に、４−クロロメチルスチレン１３ｇをゆっ
くり滴下し、さらに１００℃で６時間攪拌した。放冷
後、エタノール５０ｍｌと水１５０ｍｌを加えた。炭酸
水素ナトリウムでｐＨを８前後に調整した後に、反応混
合物中の固体をろ取した。酢酸エチルとメタノールで再
結晶して化合物Ｉ−１９を６ｇ得た。

【０１１３】

【化３６】

【０１１４】［架橋性化合物Ｉ−２２の合成］２，６−
ビス（ヒドロキシメチル）−ｐ−クレゾール２０ｇを１
−メトキシ−２−プロパノール１５０ｇに溶解し、撹拌
しながら硫酸１．２ｇと１−メトキシ−２−プロパノー
ル３０ｇの混合液を滴下した。反応液を７０℃で６時間
撹拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出相
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥後、酢
酸エチルを留去した。得られた液体をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、化合物Ｉ−２２を１８ｇ
得た。

【０１１５】

【化３７】

【０１１６】［基板１の作製］厚さ０．３０ｍｍのアル
ミニウム板をナイロンブラシと４００メッシュのパミス
トンの水懸濁液を用いてその表面を砂目立てした後、よ
く水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６
０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後２０％
硝酸で中和洗浄、水洗した。これをＶＡ＝１２．７Ｖの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液
中で１６０クーロン／ｄｍ² の陽極時電気量で電解粗面
化処理をおこなった。その表面粗さを測定したところ、
０．６μ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて３０％の
硫酸水溶液中に浸漬し５５℃で２分間デスマットした
後、２０％硫酸水溶液中、電流密度２Ａ／ｄｍ² におい
て厚さが２．７ｇ／ｍ² になるように陽極酸化して基板
１を得た。

【０１１７】実施例１ 上記のように処理された基板１の表面に下記組成の下塗
り液１を塗布し８０℃、３０秒間乾燥した。乾燥後の被
覆量は３０ｍｇ／ｍ² であった。 下塗り液１ フェニルホスホン酸 ０．１５ｇ メタノール ９０ｇ 純水 １０ｇ 上記により得られた基板２上に下記感光液（Ｐ−１）を
塗布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印
刷版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。 感光液（Ｐ−１） 光熱分解物質（Ａ−１） ０．１５ｇ 赤外線吸収剤ＮＫ−２０１４（日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ フェノールノボラック（重量平均分子量１０，０００） １．６ｇ 架橋性化合物（Ｉ−２） ０．４０ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メタノール ７ｇ

【０１１８】得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−１）を
波長８３０ｎｍの赤外線を発する半導体レーザで露光し
た。露光後、富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−
４（１：８）で現像し、水洗した。得られた平版印刷版
をハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れの
ない良好な印刷物が約４．３万枚得られた。また、同様
にして得られた平版印刷版の版面を富士写真フイルム
（株）製バーニング整面液ＢＣ−３でふき、バーニング
装置ＢＰ−１３００で２６０℃で７分間処理してから、
印刷をしたところ、非画像部に汚れのない良好な印刷物
が約１２．２万枚得られた。

【０１１９】用いた光熱分解物質（Ａ−１）の構造を以
下に示す。

【化３８】 光熱分解物質（Ａ−１）

【０１２０】実施例２ 実施例１で用いた感光液（Ｐ−１）において、本発明の
架橋性化合物（Ｉ−２）を（Ｉ−１９）に替えた感光液
（Ｐ−２）を調製した。この溶液をそれぞれ、実施例１
で用いた下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、１００
℃で１分間乾燥してポジ型平版印刷用版材（ＰＬ−２）
を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ²であった。得ら
れたポジ型平版印刷版を波長８３０ｎｍの赤外線を発す
る半導体レーザで露光した。露光後、富士写真フイルム
（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）で現像し、水洗し
た。得られた平版印刷版をハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印刷
した。非画像部に汚れのない良好な印刷物が４．１万枚
得られた。また、バーニング処理をおこなってから印刷
した場合は非画像部に汚れのない良好な印刷物が１１．
０万枚得られた。

【０１２１】比較例１ 実施例１および２で使用した感光液において、本発明の
架橋性化合物を用いずに、それ以外は実施例１、２と同
様にして（架橋性化合物の減少分はバインダーを増量）
ポジ型平版印刷用版材（ＰＬＥ−１）を作成した。得ら
れた平版印刷版（ＰＬＥ−１）を、実施例１および２と
同様に画像形成を試みたが、感光層がすべて溶解し画像
は得られなかった。実施例１、２および比較例１から、
本発明のポジ型画像記録材料を用いた平版印刷用版材
は、画像形成性が良好でまた印刷時の耐久性が良好なこ
とがわかる。さらに画像形成後にバーニング処理するこ
とにより印刷時の耐久性が著しく向上することがわか
る。

【０１２２】実施例３ 実施例１で用いた基板２上に、下記感光液（Ｐ−３）を
塗布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印
刷版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。 感光液（Ｐ−３） 光熱分解物質（Ａ−１） ０．１５ｇ 放射線吸収剤ＮＫ−２０１４（日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ ポリヒドロキシスチレン（重量平均分子量１０，０００） １．６ｇ 架橋性化合物（Ｉ−２２） ０．４０ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メタノール ７ｇ 得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−３）を波長８３０ｎ
ｍの赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光後、
富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）
で現像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫ
ＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印
刷物が約４．９万枚得られた。また、同様にして得られ
た平版印刷版の版面を富士写真フイルム（株）製バーニ
ング整面液ＢＣ−３でふき、バーニング装置ＢＰ−１３
００で２６０℃で７分間処理してから、印刷をしたとこ
ろ、非画像部に汚れのない良好な印刷物が約１２．９万
枚得られた。

【０１２３】実施例４ 実施例３で用いた感光液（Ｐ−３）において、本発明の
架橋性化合物をジグリシジルエチレングリコールに替え
た感光液（Ｐ−４）を調製した。この溶液をそれぞれ、
実施例１で用いた下塗り済みのアルミニウム板に塗布
し、１００℃で１分間乾燥してポジ型平版印刷用版材
（ＰＬ−４）を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² で
あった。得られたポジ型平版印刷版を波長８３０ｎｍの
赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光後、富士
写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）で現
像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫＯＲ
−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印刷物
が４．８万枚得られた。また、バーニング処理をおこな
ってから印刷した場合は非画像部に汚れのない良好な印
刷物が１２．３万枚得られた。

【０１２４】比較例２ 実施例３および４で使用した感光液において、本発明の
架橋性化合物を用いずに、それ以外は実施例３および４
と同様にして（架橋性化合物の減少分はバインダーを増
量）ポジ型平版印刷用版材（ＰＬＥ−２）を作成した。
得られた平版印刷版（ＰＬＥ−２）を、実施例３および
４と同様に画像形成を試みたが、感光層がすべて溶解し
画像は得られなかった。実施例３、４および比較例２よ
り本発明のポジ型画像記録材料を用いた平版印刷用版材
は、画像形成性が良好で印刷時の耐久性が良好なことが
わかる。さらに画像形成後にバーニング処理することに
より印刷時の耐久性が著しく向上することがわかる。

【０１２５】実施例５ 実施例１で用いた基板２上に下記感光液（Ｐ−５）を塗
布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印刷
版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。 感光液（Ｐ−５） 光熱分解物質（Ａ−２） ０．１５ｇ 赤外線吸収剤ＮＫ−２０１４（日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ フェノールノボラック（重量平均分子量１０，０００） １．６ｇ 架橋性化合物（Ｉ−２） ０．４０ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メタノール ７ｇ 得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−５）を波長８３０ｎ
ｍの赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光後、
富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）
で現像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫ
ＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印
刷物が約４．４万枚得られた。また、同様にして得られ
た平版印刷版の版面を富士写真フイルム（株）製バーニ
ング整面液ＢＣ−３でふき、バーニング装置ＢＰ−１３
００で２６０℃で７分間処理してから、印刷をしたとこ
ろ、非画像部に汚れのない良好な印刷物が約１２．６万
枚得られた。

【０１２６】用いた光熱分解物質（Ａ−２）の構造を以
下に示す。

【化３９】 光熱分解物質（Ａ−２）

【０１２７】実施例６ 実施例５で用いた感光液（Ｐ−５）において、架橋性化
合物を（Ｉ−１９）に変えた感光液（Ｐ−６）を調製し
た。この溶液をそれぞれ、実施例１で用いた下塗り済み
のアルミニウム板に塗布し、１００℃で１分間乾燥して
ポジ型平版印刷用版材（ＰＬ−６）を得た。乾燥後の重
量は１．５ｇ／ｍ² であった。得られたポジ型平版印刷
版を波長８３０ｎｍの赤外線を発する半導体レーザで露
光した。露光後、富士写真フイルム（株）製現像液、Ｄ
Ｐ−４（１：８）で現像し、水洗した。得られた平版印
刷版をハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚
れのない良好な印刷物が４．６万枚得られた。また、バ
ーニング処理をおこなってから印刷した場合は非画像部
に汚れのない良好な印刷物が１１．０万枚得られた。

【０１２８】比較例３ 実施例５および６において使用した感光液において、本
発明の架橋性化合物を用いずに、それ以外は実施例５お
よび６と同様にして（架橋性化合物の減少分はバインダ
ーを増量）ポジ型平版印刷用版材（ＰＬＥ−３）を作成
した。得られた平版印刷版（ＰＬＥ−３）を、実施例５
および６と同様に画像形成を試みたが、感光層がすべて
溶解し画像は得られなかった。実施例５、６および比較
例３より本発明のポジ型画像記録材料を用いた平版印刷
用版材は、画像形成性が良好で印刷時の耐久性が良好な
ことがわかる。さらに画像形成後にバーニング処理する
ことにより印刷時の耐久性が著しく向上することがわか
る。

【０１２９】実施例７ 実施例１で用いた基板２上に、下記感光液（Ｐ−７）を
塗布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印
刷版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。 感光液（Ｐ−７） 光熱分解物質（Ａ−２） ０．１５ｇ 赤外線吸収剤ＮＫ−２０１４（日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ ポリヒドロキシスチレン（重量平均分子量１０，０００） １．６ｇ 架橋性化合物（Ｉ−２２） ０．４０ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メタノール ７ｇ 得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−７）を波長８３０ｎ
ｍの赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光後、
富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）
で現像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫ
ＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印
刷物が約４．０万枚得られた。また、同様にして得られ
た平版印刷版の版面を富士写真フイルム（株）製バーニ
ング整面液ＢＣ−３でふき、バーニング装置ＢＰ−１３
００で２６０℃で７分間処理してから、印刷をしたとこ
ろ、非画像部に汚れのない良好な印刷物が約１３．０万
枚得られた。

【０１３０】実施例８ 実施例７で用いた感光液（Ｐ−３）において、本発明の
架橋性化合物をジグリシジルエチレングリコールに変え
た感光液（Ｐ−８）を調製した。この溶液をそれぞれ、
実施例１で用いた下塗り済みのアルミニウム板に塗布
し、１００℃で１分間乾燥してポジ型平版印刷用版材
（ＰＬ−８）を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² で
あった。得られたポジ型平版印刷版を波長８３０ｎｍの
赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光後、富士
写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）で現
像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫＯＲ
−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印刷物
が４．５万枚得られた。また、バーニング処理をおこな
ってから印刷した場合は非画像部に汚れのない良好な印
刷物が１３．５万枚得られた。

【０１３１】比較例４ 実施例７および８にて使用した感光液において、本発明
の架橋性化合物を用いずに、それ以外は実施例７および
８と同様にして（架橋性化合物の減少分はバインダーを
増量）ポジ型平版印刷用版材（ＰＬＥ−２）を作成し
た。得られた平版印刷版（ＰＬＥ−４）を、実施例７お
よび８と同様に画像形成を試みたが、感光層がすべて溶
解し画像は得られなかった。実施例７、８および比較例
４より本発明のポジ型画像記録材料を用いた平版印刷用
版材は、画像形成性が良好で印刷時の耐久性が良好なこ
とがわかる。さらに画像形成後にバーニング処理するこ
とにより印刷時の耐久性が著しく向上することがわか
る。

【０１３２】実施例９ 実施例１で用いた基板２上に下記感光液（Ｐ−９）を塗
布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印刷
版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。 感光液（Ｐ−９） 光熱分解物質（ピロガロール−アセトン樹脂と１，２ナフトキノ０．１５ｇ ンジアジド−５−スルホニルクロリドとのエステル化物） （米国特許第３６３５７０９号明細書の実施例１に記載されているもの） 放射線吸収剤ＮＫ−２０１４（日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ フェノールノボラック（重量平均分子量１０，０００） １．６ｇ 架橋性化合物（Ｉ−２） ０．４０ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メタノール ７ｇ 得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−９）を波長８３０ｎ
ｍの赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光後、
富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）
で現像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫ
ＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印
刷物が約４．９万枚得られた。また、同様にして得られ
た平版印刷版の版面を富士写真フイルム（株）製バーニ
ング整面液ＢＣ−３でふき、バーニング装置ＢＰ−１３
００で２６０℃で７分間処理してから、印刷をしたとこ
ろ、非画像部に汚れのない良好な印刷物が約１２．２万
枚得られた。

【０１３３】実施例１０ 実施例９で用いた感光液（Ｐ−９）において、本発明の
架橋性化合物を（Ｉ−１９）に替えた感光液（Ｐ−１
０）を調製した。この溶液をそれぞれ、実施例１で用い
た下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、１００℃で１
分間乾燥してポジ型平版印刷用版材（ＰＬ−１０）を得
た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。得られた
ポジ型平版印刷版を波長８３０ｎｍの赤外線を発する半
導体レーザで露光した。露光後、富士写真フイルム
（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）で現像し、水洗し
た。得られた平版印刷版をハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印刷
した。非画像部に汚れのない良好な印刷物が４．３万枚
得られた。また、バーニング処理をおこなってから印刷
した場合は非画像部に汚れのない良好な印刷物が１２．
１万枚得られた。

【０１３４】比較例５ 実施例９および１０で使用した感光液において、本発明
の架橋性化合物を用いずに、それ以外は実施例９および
１０と同様にして（架橋性化合物の減少分はバインダー
を増量）ポジ型平版印刷用版材（ＰＬＥ−５）を作成し
た。得られた平版印刷版（ＰＬＥ−５）を、実施例９お
よび１０と同様に画像形成を試みたが、感光層がすべて
溶解し画像は得られなかった。実施例９、１０および比
較例５より本発明のポジ型画像記録材料を用いた平版印
刷用版材は、画像形成性が良好で印刷時の耐久性が良好
なことがわかる。さらに画像形成後にバーニング処理す
ることにより印刷時の耐久性が著しく向上することがわ
かる。

【０１３５】実施例１１ 実施例１で用いた基板２に、下記感光液（Ｐ−１１）を
塗布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印
刷版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ² であった。 感光液（Ｐ−１１） 光熱分解物質（ピロガロール−アセトン樹脂と１，２ナフトキノ０．１５ｇ ンジアジド−５−スルホニルクロリドとのエステル化物） （米国特許第３６３５７０９号明細書の実施例１に記載されているもの） 赤外線吸収剤ＮＫ−２０１４（日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ ポリヒドロキシスチレン（重量平均分子量１０，０００） １．６ｇ 架橋性化合物（Ｉ−２２） ０．４０ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メタノール ７ｇ 得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−１１）を波長８３０
ｎｍの赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光
後、富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：
８）で現像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデ
ルＫＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好
な印刷物が約４．０万枚得られた。また、同様にして得
られた平版印刷版の版面を富士写真フイルム（株）製バ
ーニング整面液ＢＣ−３でふき、バーニング装置ＢＰ−
１３００で２６０℃で７分間処理してから、印刷をした
ところ、非画像部に汚れのない良好な印刷物が約１３．
９万枚得られた。

【０１３６】実施例１２ 実施例１１で用いた感光液（Ｐ−１１）において、本発
明の架橋性化合物をジグリシジルエチレングリコールに
変えた感光液（Ｐ−１２）を調製した。この溶液をそれ
ぞれ、実施例１で用いた下塗り済みのアルミニウム板に
塗布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型平版印刷用版
材（ＰＬ−１２）を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ
² であった。得られたポジ型平版印刷版を波長８３０ｎ
ｍの赤外線を発する半導体レーザで露光した。露光後、
富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）
で現像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫ
ＯＲ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印
刷物が４．２万枚得られた。また、バーニング処理をお
こなってから印刷した場合は非画像部に汚れのない良好
な印刷物が１３．８万枚得られた。

【０１３７】比較例７ 実施例１１および１２にて使用した感光液において、本
発明の架橋性化合物を用いずに、それ以外は実施例１１
および１２と同様にして（架橋性化合物の減少分はバイ
ンダーを増量）ポジ型平版印刷用版材（ＰＬＥ−７）を
作成した。得られた平版印刷版（ＰＬＥ−７）を、実施
例１１、１２と同様に画像形成を試みたが、感光層がす
べて溶解し画像は得られなかった。実施例１１、１２お
よび比較例７より本発明のポジ型画像記録材料を用いた
平版印刷用版材は、画像形成性が良好で印刷時の耐久性
が良好なことがわかる。さらに画像形成後にバーニング
処理することにより印刷時の耐久性が著しく向上するこ
とがわかる。

【０１３８】実施例１３ ［基板３の作製］厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板を
ナイロンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁
液を用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄し
た。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で２０秒間浸漬し
てエッチングした後、流水で水洗後２０％硝酸で中和洗
浄、水洗した。これをＶＡ＝１２．７Ｖの条件下で正弦
波の交番波形電流を用いて０．７％硝酸水溶液中で４０
０クーロン／ｄｍ² の陽極時電気量で電解粗面化処理を
おこなった。この基板を１０％水酸化ナトリウム水溶液
中で表面のアルミニウムの溶解量が０．９ｇ／ｍ² にな
るように処理した。水洗後、２０％硝酸中で中和、洗浄
してスマットを除いた後、１８％硫酸中で、酸価皮膜量
が３ｇ／ｍ² になるように陽極酸化した。次いで、ケイ
酸ナトリウムの３％水溶液に３０℃で２０秒間浸漬処理
し、水洗し、乾燥した後、下記組成の下塗り液２を塗布
し８０℃、３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は２０ｍ
ｇ／ｍ² であった。 下塗り液 ポリビニル安息香酸 ０．２０ｇ メタノール ９５ｇ 純水 ５ｇ

【０１３９】上記により得られた基板３上に上記感光液
（Ｐ−９）を塗布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型
感光性平版印刷版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ
² であった。得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−１３）
を波長８３０ｎｍの赤外線を発する半導体レーザで露光
した。露光後、下記組成の現像液で現像し、水洗した。 現像液 Ｄ−ソルビトール ４．０重量％ 水酸化ナトリウム ０．９８重量％ 炭酸ナトリウム １．０５重量％ エチレンジアミンポリオキシエチレン付加物 ０．０３重量％ 水 ９４．０重量％ 得られた平版印刷版をハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印刷し
た。非画像部に汚れのない良好な印刷物が約４．０万枚
得られた。また、同様にして得られた平版印刷版の版面
を富士写真フイルム（株）製バーニング整面液ＢＣ−３
でふき、バーニング装置ＢＰ−１３００で２６０℃で７
分間処理してから、印刷をしたところ、非画像部に汚れ
のない良好な印刷物が約１０．５万枚得られた。

【０１４０】実施例１４ 上記により得られた基板３上に上記感光液（Ｐ−１１）
を塗布し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版
印刷版を得た。乾燥後の重量は１．５ｇ／ｍ²であっ
た。得られたポジ型平版印刷版（ＰＬ−１４）を波長８
３０ｎｍの赤外線を発する半導体レーザで露光した。露
光後、実施例１０で使用したものと同じ組成の現像液で
現像し、水洗した。得られた平版印刷版をハイデルＫＯ
Ｒ−Ｄ機で印刷した。非画像部に汚れのない良好な印刷
物が約４．３万枚得られた。また、同様にして得られた
平版印刷版の版面を富士写真フイルム（株）製バーニン
グ整面液ＢＣ−３でふき、バーニング装置ＢＰ−１３０
０で２６０℃で７分間処理してから、印刷をしたとこ
ろ、非画像部に汚れのない良好な印刷物が約１０．１万
枚得られた。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】Ａ．フェノール性水酸基を有するアルカリ
   可溶性高分子化合物、 Ｂ．上記フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高
   分子化合物に対するアルカリ溶解抑制作用を有し、かつ
   光または熱により分解して前記アルカリ溶解抑制作用を
   失う化合物、 Ｃ．フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子
   化合物を含む組成物に対し、上記Ｂ．成分と共に使用す
   ることにより、前記アルカリ溶解抑制作用を増強し、か
   つアルカリ可溶性高分子化合物を加熱架橋する架橋性基
   を分子内に２以上有する化合物、 とを含有するポジ型画像形成材料。