JPH10293401A - ネガ型画像記録材料 - Google Patents

ネガ型画像記録材料

Info

Publication number
JPH10293401A
JPH10293401A JP9103647A JP10364797A JPH10293401A JP H10293401 A JPH10293401 A JP H10293401A JP 9103647 A JP9103647 A JP 9103647A JP 10364797 A JP10364797 A JP 10364797A JP H10293401 A JPH10293401 A JP H10293401A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
recording material
image recording
weight
binder polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9103647A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3798504B2 (ja
Inventor
Keitaro Aoshima
桂太郎 青島
Ippei Nakamura
一平 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP10364797A priority Critical patent/JP3798504B2/ja
Priority to US09/062,643 priority patent/US6083658A/en
Priority to EP98107210A priority patent/EP0874282B1/en
Priority to DE69820327T priority patent/DE69820327T2/de
Publication of JPH10293401A publication Critical patent/JPH10293401A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3798504B2 publication Critical patent/JP3798504B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/128Radiation-activated cross-linking agent containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レー
ザを用いて記録することにより、コンピューター等のデ
ジタルデータから直接製版可能であり、レーザに対して
高感度なネガ型画像記録材料を提供する。 【解決手段】 (A)酸により架橋する化合物と、
(B)バインダーポリマーと、(C)熱により酸を発生
する化合物と、(D)赤外線吸収剤を含むネガ型画像記
録材料において、(A)酸により架橋する化合物が下記
一般式(I)で表されるフェノール誘導体であり、且
つ、(B)バインダーポリマーがヒドロキシ基またはア
ルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を側鎖に有
するポリマーである、ことを特徴とする。下記式中、A
1 は芳香族炭化水素環を示す。R1 およびR2 はそれ
ぞれ独立に水素原子または炭素数12個以下の炭化水素
基を示し、R3 は水素原子または炭素数12個以下の炭
化水素基を示す。mは2〜4の整数を、nは1〜3の整
数を示す。一般式(I) 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材やカ
ラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターと
して使用できる画像記録材料に関するものである。特に
コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ
を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレ
クト製版可能な平版印刷用版材として使用可能なネガ型
画像記録材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色又は緑色を発光するレーザを用い露光する
光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層した
もの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。
【0003】しかしながら、の電子写真法を用いるも
のは、帯電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑で
あり、装置が複雑で大がかりなものになる。また、の
光重合系によるものでは、青色や緑色の光に対して高感
度な版材を使用するため、明室での取扱いが難しくな
る。、の方法では銀塩を使用するため現像等の処理
が煩雑になる、処理廃液中に銀が含まれる等の欠点があ
る。
【0004】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できるようになっている。コンピ
ュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、これらのレーザは非常に有用である。しか
し、実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が
760nm以下の可視光域であるため、これらの赤外線
レーザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザ
で記録可能な材料が望まれている。
【0005】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料として、米国特許(以下、適宜、USと記載
する)第4,708,925号に記載されている、オニ
ウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤より成る記録材
料がある。しかしながら、この画像記録材料は、オニウ
ム塩とフェノール樹脂により発現する、現像液に対する
溶解抑止効果を利用したポジ型であり、本発明のような
ネガ型ではない。一方、ネガ型の画像記録材料は、例え
ば、特開平8−276558号に記載されている、光を
吸収し熱を発生する物質、アルカリ可溶性樹脂、分子内
に4〜8個のベンゼン核を有する特定のフェノール誘導
体より成る記録材料がある。しかしながら、この画像記
録材料は、レーザ露光時の感度が不十分であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接製版可能であり、さらにレーザに対して
高感度なネガ型画像記録材料を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ネガ型画像
記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、特定の
官能基を有するフェノール誘導体を架橋剤として用いる
ことにより、上記目的が達成できることを見出し、本発
明を完成するに至った。即ち、本発明は、(A)酸によ
り架橋する化合物と、(B)バインダーポリマーと、
(C)熱により酸を発生する化合物と、(D)赤外線吸
収剤を含むネガ型画像記録材料において、(A)酸によ
り架橋する化合物が、下記一般式(I)で表されるフェ
ノール誘導体であり、且つ、(B)バインダーポリマー
が、ヒドロキシ基またはアルコキシ基が直接結合した芳
香族炭化水素環を側鎖に有するポリマーであることを特
徴とするネガ型画像記録材料である。
【0008】一般式(I)
【化2】
【0009】式中、Ar1 は、置換基を有していても良
い芳香族炭化水素環を示す。R1 およびR2 は、それぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭素数
12個以下の炭化水素基を示す。R3 は、水素原子また
は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4
の整数を示す。nは、1〜3の整数を示す。
【0010】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。 [(A)酸により架橋する化合物]本発明では、酸によ
り架橋する化合物(以下、適宜、酸架橋剤又は単に架橋
剤と称する)として、前記一般式(I)で表されるフェ
ノール誘導体を使用する。前記一般式(I)中、Ar1
は、置換基を有していても良い芳香族炭化水素環を示
す。原料の入手性から、芳香族炭化水素環としては、ベ
ンゼン環、ナフタレン環またはアントラセン環が好まし
い。また、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、炭
素数12個以下の炭化水素基、炭素数12個以下のアル
コキシ基、炭素数12個以下のアルキルチオ基、シアノ
基、ニトロ基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。
感度が高いという理由で、Ar1 としては、置換基を有
していないベンゼン環およびナフタレン環、または、ハ
ロゲン原子、炭素数6個以下の炭化水素基、炭素数6個
以下のアルコキシ基、炭素数6個以下のアルキルチオ
基、ニトロ基等を置換基として有するベンゼン環および
ナフタレン環が特に好ましい。R1 およびR2 は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭素
数12個以下の炭化水素基を示す。合成が容易であると
いう理由から、R1 およびR2 は、水素原子またはメチ
ル基であることが特に好ましい。R3 は、水素原子また
は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。感度が高いと
いう理由で、R 3 は、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等の炭素数7個
以下の炭化水素基であることが特に好ましい。mは、2
〜4の整数を示す。nは、1〜3の整数を示す。
【0011】本発明において好適に用いられる一般式
(I)で表されるフェノール誘導体の具体例を以下に示
す(架橋剤[KZ−1]〜[KZ−8])が、本発明は
これに制限されるものではない。
【0012】
【化3】
【0013】
【化4】
【0014】これらのフェノール誘導体は、従来公知の
方法により合成できる。例えば[KZ−1]は、フェノ
ール、ホルムアルデヒドおよび、ジメチルアミンやモル
ホリン等の2級アミンを反応させ、トリ(ジアルキルア
ミノメチル)フェノールとし、次に無水酢酸と反応さ
せ、さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノ
ールと反応させることにより、下記反応式[1]に表す
如き経路で合成することができる。
【0015】反応式[1]
【化5】
【0016】さらに、別の方法によっても合成できる。
例えば[KZ−1]は、フェノールとホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドを、KOH等のアルカリ存
在下反応させ、2,4,6−トリヒドロキシメチルフェ
ノールとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと
反応させることにより、下記反応式[2]に表す如き経
路でも合成することができる。
【0017】反応式[2]
【化6】
【0018】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して2量体や3量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い。なお、この場合でも、不純物は3
0%以下であることが好ましく、20%以下であること
がさらに好ましい。
【0019】本発明において、フェノール誘導体は全画
像記録材料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10
〜50重量%の添加量で用いられる。ここで、架橋剤と
してのフェノール誘導体の添加量が5重量%未満である
と画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、7
0重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。
【0020】[(B)バインダーポリマー]本発明で
は、バインダーポリマーとして、ヒドロキシ基またはア
ルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を側鎖に有
するポリマーを用いる。アルコキシ基としては、感度の
観点から、炭素数20個以下のものが好ましい。また、
芳香族炭化水素環としては、原料の入手性から、ベンゼ
ン環、ナフタレン環またはアントラセン環が好ましい。
これらの芳香族炭化水素環は、ヒドロキシ基またはアル
コキシ基以外の置換基、例えば、ハロゲン基、シアノ基
等の置換基を有していても良いが、感度の観点から、ヒ
ドロキシ基またはアルコキシ基以外の置換基を有さない
方が好ましい。
【0021】本発明において、好適に用いることができ
るバインダーポリマーは、下記一般式(II)で表される
構成単位を有するポリマーである。
【0022】一般式(II)
【化7】
【0023】式中、Ar2 は、ベンゼン環、ナフタレン
環またはアントラセン環を示す。R 4 は、水素原子また
はメチル基を示す。R5 は、水素原子または炭素数20
個以下のアルコキシ基を示す。X1 は、単結合または、
C、H、N、O、Sより選ばれた1種以上の原子を含
み、かつ炭素数0〜20個の2価の連結基を示す。k
は、1〜4の整数を示す。
【0024】本発明において、好適に用いられる一般式
(II)で表される構成単位の例([BP−1]〜[BP
−6])を以下に挙げるが、本発明はこれに制限される
ものではない。
【0025】
【化8】
【0026】
【化9】
【0027】これらの構成単位を有するポリマーは、対
応するモノマーを用い、従来公知の方法によりラジカル
重合することにより得られる。
【0028】本発明では、バインダーポリマーとして、
一般式(II)で表される構成単位のみから成る単独重合
体を用いても良いが、この特定構成単位とともに、他の
公知のモノマーより誘導される構成単位を有する共重合
体を用いても良い。この際用いられる他の公知のモノマ
ーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート等のアクリル酸エステル類;メチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート等のメタクリル酸エステル類;スチレン、アクリ
ロニトリル、および、アクリル酸、メタクリル酸等の酸
性基を有するモノマー;さらにp−スチレンスルホン酸
のナトリウム塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸のアルカリ金属塩、テトラアルキルアン
モニウム塩、3−スルホプロピルアクリレートのカリウ
ム塩等の強酸の塩を含有するモノマー等が挙げられる。
【0029】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式(II)で表される構成単位の割合は、50〜100重
量%であることが好ましく、さらに好ましくは60〜1
00重量%である。また、本発明で使用されるポリマー
の重量平均分子量は好ましくは5000以上であり、さ
らに好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子
量は好ましくは1000以上であり、さらに好ましくは
2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分
子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好ま
しくは1.1〜10の範囲である。
【0030】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよ
いが、ランダムポリマーであることが好ましい。
【0031】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラ
ン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用
いられる。
【0032】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。
【0033】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、画像記録材料全固形分に対し20〜95重量%、好
ましくは40〜90重量%の割合で画像記録材料中に添
加される。添加量が20重量%未満の場合は、画像形成
した際、画像部の強度が不足する。また添加量が95重
量%を越える場合は、画像形成されない。
【0034】以上記述した(A)フェノール誘導体と
(B)特定構造のバインダーポリマーを同時に使用する
ことにより、レーザ露光時の感度が向上する。例えば、
(B)バインダーポリマーとして、同様にヒドロキシ基
が直接結合した芳香族炭化水素環を有するが、側鎖では
なく、主鎖に組み込まれているノボラック樹脂を用いた
場合では、このような高感度は達成しえない。この理由
については、必ずしも明確ではないが、本発明の場合、
芳香族炭化水素環がポリマーの側鎖にあることで、架橋
剤である(A)フェノール誘導体との強い相互作用が発
現し、架橋効率が向上し、結果として感度が向上したの
ではないかと考えられる。また、(A)フェノール誘導
体として、特開平8−276558号に記載されてい
る、分子内に4〜8個のベンゼン核を有する特定のフェ
ノール誘導体を用いた場合も本発明における如き高感度
は達成しえない。一般的には、架橋剤の分子量が大きい
方が架橋効率が高く、結果として感度が高いと考えられ
る。しかしながら、本発明の記録材料において(A)酸
により架橋する化合物として用いられるフェノール誘導
体は、前記分子内に4〜8個のベンゼン核を有する特定
のフェノール誘導体よりも分子量が小さい化合物にであ
るにもかかわらず先の化合物よりも感度が改良されてい
る。この理由についても明確ではないが、本発明の場
合、架橋剤を低分子とすることで先に述べた(B)特定
構造のバインダーポリマーの側鎖にある特定の芳香族炭
化水素環との相互作用が起こりやすくなっているのでは
ないかと考えられる。
【0035】[(C)熱により酸を発生する化合物]本
発明において熱により酸を発生する化合物(以下、適
宜、酸発生剤と称する)とは、100℃以上の加熱によ
り分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸として
は、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸である
ことが好ましい。本発明において好適に用いられる酸発
生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホス
ホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられ
る。具体的には、US4,708,925号や特開平7
−20629号に記載されている化合物を挙げることが
できる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好まし
い。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,
147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,6
32,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開
平1−102456号及び特開平1−102457号の
各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、
US5,135,838号やUS5,200,544号
に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。
さらに、特開平2−100054号、特開平2−100
055号及び特願平8−9444号に記載されている活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。他にも、特開平7−271029号に記載されてい
る、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好まし
い。
【0036】これらの酸発生剤は、画像記録材料全固形
分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜4
0重量%、より好ましくは0.5〜30重量%の割合で
画像記録材料中に添加される。添加量が0.01重量%
未満の場合は、画像が得られない。また添加量が50重
量%を越える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生す
る。
【0037】これらの化合物は単独で使用してもよく、
また2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、こ
こに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解でき
るため、本発明の画像記録材料は、赤外線だけではなく
紫外線によっても画像記録可能である。
【0038】[(D)赤外線吸収剤]本発明の主な目的
は、赤外線を発するレーザで画像記録可能な記録材料を
提供することである。このためには、赤外線吸収剤を併
用することが必要である。即ち、赤外線吸収剤は、吸収
した赤外線を熱に変換する機能を有しており、この際発
生した熱により、(C)酸発生剤が分解し、酸を発生す
る。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長7
60nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染
料又は顔料である。好ましくは、波長760nmから1
200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
【0039】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
【0040】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
【0041】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
【0042】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
【0043】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
【0044】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
【0045】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
【0046】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
【0047】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。
【0048】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
【0049】これらの染料又は顔料は、画像記録材料全
固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10
重量%、顔料の場合特に好ましくは1.0〜10重量%
の割合で画像記録材料中に添加することができる。顔料
又は染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が
低くなり、また50重量%を越えると印刷時非画像部に
汚れが発生する。
【0050】これらの染料又は顔料は他の成分と同一の
層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加しても
よい。
【0051】[その他の成分]本発明では、さらに必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。具体的には、オイルイ
エロー#101、オイルイエロー#103、オイルピン
ク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイ
ルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリ
エント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバ
イオレット(CI42535)、エチルバイオレット、
ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI520
15)、アイゼンスピロンブルーC−RH(保土ヶ谷化
学(株)製)等、及び特開昭62−293247号に記
載されている染料を挙げることができる。
【0052】これらの染料を添加することにより、画像
形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすくなるた
め、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録
材料全固形分に対し、0.01〜10重量%の割合であ
る。
【0053】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
【0054】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
【0055】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
【0056】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
【0057】さらに、本発明の画像記録材料中には、必
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
【0058】本発明の画像記録材料では、通常上記各成
分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチル
ラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれ
に限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全
固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形
分)は、用途によって異なるが、平版印刷用版材につい
ていえば一般的に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができ
るが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー
塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。
【0059】本発明における画像記録材料には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−1
70950号に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像
記録材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましく
は0.05〜0.5重量%である。
【0060】[支持体]本発明の画像記録材料を塗布可
能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例
えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、
金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラス
チックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された
紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。
【0061】好ましい支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。
【0062】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用い
ることができる。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方
法がある。また、特開昭54−63902号に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。
【0063】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
【0064】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には、電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
【0065】陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2 より少
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが
付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
【0066】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明で使用
可能な親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、同第3,280,
734号及び同第3,902,734号に開示されてい
るようなアルカリ金属シリケート(例えば、ケイ酸ナト
リウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体
がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解
処理される。他に、特公昭36−22063号に開示さ
れているフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第3,2
76,868号、同第4,153,461号、同第4,
689,272号に開示されているようなポリビニルホ
スホン酸で処理する方法等が用いられる。
【0067】[その他]本発明の画像記録材料を塗布す
る前に、必要に応じて支持体上に下塗層を設けることが
できる。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いら
れ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸等のア
ミノ基を有するホスホン酸類;置換基を有してもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸;置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸;置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
等の有機ホスフィン酸;グリシンやβ−アラニン等のア
ミノ酸類;及びトリエタノールアミンの塩酸塩等のヒド
ロキシル基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、
2種以上混合して用いてもよい。また、前述したジアゾ
ニウム化合物を下塗りすることも好ましい。有機下塗層
の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当である。
【0068】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、赤外線レーザで記録できる。また、
紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能
である。本発明においては、波長760nmから120
0nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光されることが好ましい。本発明において
は、露光後すぐに現像処理を行ってもよいが、露光工程
と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理を
する場合その条件は、60℃〜150℃の範囲内で5秒
〜5分間行うことが好ましい。加熱方法としては、従来
公知の種々の方法を用いることができる。例えば、パネ
ルヒーターやセラミックヒーターにより記録材料と接触
しつつ加熱する方法、及びランプや温風による非接触の
加熱方法等が挙げられる。この加熱処理により、レーザ
照射時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させるこ
とができる。
【0069】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶
液にて現像される。
【0070】アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明の
画像記録材料の現像液及び補充液としては従来より知ら
れているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸
ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
【0071】これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液の一例は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸
塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号、特公
昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金
属ケイ酸塩が有効に用いられる。
【0072】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充
液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク
中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷用版材
を処理できることが知られている。本発明においてもこ
の補充方式が好ましく適用される。
【0073】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。
【0074】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。
【0075】このような界面活性剤、有機溶剤及び還元
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55−155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
【0076】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
【0077】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。
【0078】また、実質的に未使用の処理液で処理す
る、いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【0079】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。
【0080】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
【0081】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
【0082】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来より行なわれて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
【0083】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
【0084】
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。フェノール誘導体[KZ−1]の合成 前述の[反応式1]に従って、[KZ−1]を合成し
た。すなわち、フェノール0.1モルと約40%ホルマ
リン水溶液の1モル相当量をフラスコに入れ、室温下で
攪拌し、これに約50%ジメチルアミン水溶液の1モル
相当量を滴下した。滴下終了後、40℃で6時間反応さ
せた。この後、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮するこ
とにより、2,4,6−トリ(ジメチルアミノ)フェノ
ールを得た。次に、無水酢酸1モルと100℃で4時間
反応させ、過剰の無水酢酸を減圧下除去することによ
り、2,4,6−トリ(アセトキシメチル)フェニルア
セテートを得た。さらに、炭酸カリウム1モルおよびシ
エタノール2モルと、80℃で5時間反応させた。反応
終了後、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した後、カラ
ムクロマトグラフィーにより精製することによりフェノ
ール誘導体[KZ−1]を得た。液体クロマトグラフィ
ーにより純度を測定した所、94%であった。得られた
[KZ−1]は、メチルエチルケトンに溶解し、10重
量%の溶液とした。
【0085】フェノール誘導体[KZ−3]および[K
Z−4]の合成 前述の[反応式2]に従って、[KZ−3]および[K
Z−4]を合成した。すなわち、p−クレゾール0.1
モル、水酸化カリウム0.25モル、パラホルムアルデ
ヒド0.8モル相当量および水150gをフラスコに入
れ、60℃で7時間反応させた。反応終了後、塩化アン
モニウム0.25モルを加え、析出物を濾過することに
より、[KZ−3]を得た。液体クロマトグラフィーに
より純度を測定した所、99%であった。得られた[K
Z−3]は、メチルエチルケトンに溶解し、10重量%
の溶液とした。再度[KZ−3]の粉末を20g合成
し、次いで濃硫酸1.0gおよびエタノール200gと
共にフラスコに入れ、80℃に加熱し4時間反応させ
た。反応終了後、炭酸バリウムにて硫酸を中和し、さら
に不溶物をミクロフィルターにて濾過することにより
[KZ−4]のエタノール溶液を得た。液体クロマトグ
ラフィーにより純度を測定した所、86%であった。
【0086】フェノール誘導体[KZ−8]の合成 [KZ−4]と同様に[反応式2]に従って[KZ−
8]を合成し、10重量%の2−プロパノール溶液を得
た。純度は83%であった。
【0087】バインダーポリマー[BP−2]の合成 2−(p−ヒドロキシフェニル)エタノールとメタクリ
ル酸を、酸触媒下で脱水反応させ、2−(p−ヒドロキ
シフェニル)エチルメタクリレートを合成した。さら
に、2−メトキシエタノールを溶媒とし、アゾ系重合開
始剤V−601(和光純薬工業(株)製))を用いラジ
カル重合し、水により再沈して、ポリマー[BP−2]
を得た。重量平均分子量は、5.6万(ポリヒドロキシ
スチレン標準)であった。
【0088】バインダーポリマー[BP−6]の合成 p−スチレンスルホン酸のナトリウム塩を、塩化チオニ
ルと反応させ、p−スチレンスルホニルクロリドとし、
引き続き、ピリジン存在下3,5−ジメトキシアニリン
と反応させ、p−(N−(3,5−ジメトキシフェニ
ル)アミノスルホニル)スチレンを合成した。さらに、
さらに、2−メトキシエタノールを溶媒とし、アゾ系重
合開始剤V−601(和光純薬工業(株)製))を用い
ラジカル重合し、水により再沈して、ポリマー[BP−
6]を得た。重量平均分子量は、7.2万(ポリヒドロ
キシスチレン標準)であった。
【0089】(実施例1〜5)厚さ0.30mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく
水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウ
ム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、さ
らに2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密
度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記
下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は10mg/m2 であった。 下塗り液 β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g
【0090】次に、下記溶液[P]において、本発明の
フェノール誘導体の種類を変えて、5種類の溶液[P−
1]〜[P−5]を調整した。この溶液を、上記の下塗
り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1分間乾
燥してネガ型平版印刷用版材[P−1]〜[P−5]を
得た。乾燥後の重量は1.4g/m2 であった。
【0091】 溶液[P] フェノール誘導体(10%溶液、表1に示すもの) 5.0g バインダーポリマー[BP−1] 1.5g 酸発生剤[SH−1] 0.2g 赤外線吸収剤[IK−1] 0.1g 着色剤(AIZEN SPILON BLUE C−RH、0.015g 保土ヶ谷化学(株)製) フッ素系界面活性剤 0.06g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 15g メチルアルコール 7g
【0092】溶液[P−1]〜[P−5]に用いたフェ
ノール誘導体を表1に示す。また、用いた酸発生剤[S
H−1]および赤外線吸収剤[IK−1]の構造を以下
に示す。なお、バインダーポリマー[BP−1]とし
て、マルカ リンカーM S−4P(商品名:丸善石油
化学(株)製)を用いた。
【0093】酸発生剤[SH−1]
【化10】
【0094】赤外線吸収剤[IK−1]
【化11】
【0095】得られたネガ型平版印刷用版材[P−1]
〜[P−5]を、波長830〜850nm程度の赤外線
を発する半導体レーザで走査露光した。露光後、パネル
ヒーターにて、110℃で15秒間加熱処理した後、富
士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8の水
希釈液)にて現像した。この際得られた画像の線幅とレ
ーザ出力、光学系でのロスおよび走査速度を基に、記録
に必要なエネルギー量を算出した。結果を表1に示す。
【0096】
【表1】
【0097】表1に明らかなように、本発明に係る平版
印刷用版材はいずれも、200mJ/cm2 以下のエネ
ルギー量で記録可能であり、高感度であった。 (比較例1)実施例1〜5で用いた溶液[P]におい
て、本発明のフェノール誘導体の代わりに、下記の構造
を有する化合物[HR−1]を用い、溶液[Q−1]を
調整した。この溶液を、実施例1〜5で用いた下塗り済
みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1分間乾燥し
てネガ型平版印刷用版材[Q−1]を得た。乾燥後の重
量は1.4g/m2 であった。得られた平版印刷用版材
[Q−1]を、実施例1〜5と同様に画像形成した。こ
の際の記録に必要なエネルギー量を算出したところ、2
40mJ/cm2 のエネルギーが必要であった。
【0098】化合物[HR−1]
【化12】
【0099】(比較例2)実施例1〜5で用いた溶液
[P]において、フェノール誘導体として[KZ−3]
を用い、さらに、バインダーポリマーとして、[BP−
1]の代わりに、フェノールノボラック樹脂(重量平均
分子量1万)を用いた溶液[Q−2]を調整した。この
溶液を、実施例1〜5で用いた下塗り済みのアルミニウ
ム板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版印
刷用版材[Q−2]を得た。乾燥後の重量は1.4g/
2 であった。得られた平版印刷用版材[Q−2]を、
実施例1〜5と同様に画像形成した。この際の記録に必
要なエネルギー量を算出したところ、260mJ/cm
2 のエネルギーが必要であった。
【0100】実施例1〜5及び比較例1、2より、本発
明のネガ型画像記録材料は、通常の架橋剤やバインダー
ポリマーを用いた比較例1、2の記録材料よりも、レー
ザ記録するために必要なエネルギー量が低く、感度が高
いことがわかる。
【0101】(実施例6〜8)下記溶液[R]におい
て、バインダーポリマーの種類を変えて、3種類の溶液
[R−1]〜[R−3]を調整した。この溶液を、実施
例1〜5で用いた下塗り済みのアルミニウム板に塗布
し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材
[R−1]〜[R−3]を得た。乾燥後の重量は1.4
g/m2 であった。
【0102】 溶液[R] フェノール誘導体[KZ−4](10%溶液) 5.0g バインダーポリマー(表2に示す) 1.5g 酸発生剤[SH−2] 0.4g 赤外線吸収剤[IK−2] 0.1g 着色剤(AIZEN SPILON BLUE C−RH、0.015g 保土ヶ谷化学(株)製) フッ素系界面活性剤 0.06g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 15g メチルアルコール 7g
【0103】溶液[R−1]〜[R−3]に用いたバイ
ンダーポリマーを表2に示す。また、用いた酸発生剤
[SH−2]および赤外線吸収剤[IK−2]の構造を
以下に示す。
【0104】酸発生剤[SH−2]
【化13】
【0105】赤外線吸収剤[IK−2]
【化14】
【0106】得られた平版印刷用版材[R−1]〜[R
−3]を、実施例1〜5と同様に画像形成し、この際の
記録に必要なエネルギー量を同様に算出した。結果を表
2に示す。
【0107】
【表2】
【0108】表2に明らかなように、本発明に係る平版
印刷用版材はいずれも、200mJ/cm2 以下のエネ
ルギー量で記録可能であり、高感度であることがわかっ
た。
【0109】
【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で
あり、さらに記録時の感度に優れたネガ型画像記録材料
を提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/004 505 G03F 7/004 505 H01L 21/027 H01L 21/30 502R

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)酸により架橋する化合物と、
    (B)バインダーポリマーと、(C)熱により酸を発生
    する化合物と、(D)赤外線吸収剤を含むネガ型画像記
    録材料において、 (A)酸により架橋する化合物が、下記一般式(I)で
    表されるフェノール誘導体であり、 且つ、(B)バインダーポリマーが、ヒドロキシ基また
    はアルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を側鎖
    に有するポリマーである、 ことを特徴とするネガ型画像記録材料。 一般式(I) 【化1】 式中、Ar1 は、置換基を有していても良い芳香族炭化
    水素環を示す。R1 およびR2 は、それぞれ同じでも異
    なっていても良く、水素原子または炭素数12個以下の
    炭化水素基を示す。R3 は、水素原子または炭素数12
    個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4の整数を示
    す。nは、1〜3の整数を示す。
JP10364797A 1997-04-21 1997-04-21 ネガ型画像記録材料 Expired - Fee Related JP3798504B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10364797A JP3798504B2 (ja) 1997-04-21 1997-04-21 ネガ型画像記録材料
US09/062,643 US6083658A (en) 1997-04-21 1998-04-20 Negative working image recording material
EP98107210A EP0874282B1 (en) 1997-04-21 1998-04-21 Negative working image recording material
DE69820327T DE69820327T2 (de) 1997-04-21 1998-04-21 Negativ arbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10364797A JP3798504B2 (ja) 1997-04-21 1997-04-21 ネガ型画像記録材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10293401A true JPH10293401A (ja) 1998-11-04
JP3798504B2 JP3798504B2 (ja) 2006-07-19

Family

ID=14359576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10364797A Expired - Fee Related JP3798504B2 (ja) 1997-04-21 1997-04-21 ネガ型画像記録材料

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6083658A (ja)
EP (1) EP0874282B1 (ja)
JP (1) JP3798504B2 (ja)
DE (1) DE69820327T2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100725118B1 (ko) * 1999-12-16 2007-06-04 후지필름 가부시키가이샤 전자선 또는 엑스선용 화학증폭계 네거티브 레지스트 조성물
JP2014071305A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Fujifilm Corp 感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、マスクブランクス、及びレジストパターン形成方法
KR20140104361A (ko) * 2013-02-20 2014-08-28 제이에스알 가부시끼가이샤 경화성 조성물, 착색 화소 및 그의 형성 방법, 및 컬러 필터
JP2018010299A (ja) * 2017-07-18 2018-01-18 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6489078B1 (en) * 1996-07-19 2002-12-03 Agfa-Gevaert IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6174646B1 (en) * 1997-10-21 2001-01-16 Konica Corporation Image forming method
JP2000035669A (ja) * 1998-07-17 2000-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
EP0982123B1 (en) * 1998-08-24 2004-07-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material and planographic printing plate using the same
JP3917318B2 (ja) * 1999-02-24 2007-05-23 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷用材料
JP2000309174A (ja) 1999-04-26 2000-11-07 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
EP1059164B1 (en) * 1999-05-31 2006-04-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material and planographic printing plate using same
JP3761359B2 (ja) * 1999-07-08 2006-03-29 東京応化工業株式会社 グラビア印刷版材の製造方法
JP3929653B2 (ja) * 1999-08-11 2007-06-13 富士フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物
KR100474544B1 (ko) * 1999-11-12 2005-03-08 주식회사 하이닉스반도체 Tips 공정용 포토레지스트 조성물
JP2002006483A (ja) * 2000-06-20 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd フォトレジスト組成物
GB0019251D0 (en) * 2000-08-04 2000-09-27 Lintfield Limited Photoinitiated reactions
ATE362846T1 (de) * 2000-08-21 2007-06-15 Fujifilm Corp Bildaufzeichnungsmaterial
JP2002072462A (ja) * 2000-08-25 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及びその製版方法
US6451502B1 (en) 2000-10-10 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc manufacture of electronic parts
US6451510B1 (en) 2001-02-21 2002-09-17 International Business Machines Corporation Developer/rinse formulation to prevent image collapse in resist
US6599676B2 (en) * 2002-01-03 2003-07-29 Kodak Polychrome Graphics Llc Process for making thermal negative printing plate
US6677106B2 (en) * 2002-01-03 2004-01-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Method and equipment for using photo- or thermally imagable, negatively working patterning compositions
US6723495B2 (en) 2002-01-24 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Water-developable negative-working ultraviolet and infrared imageable element
US6787281B2 (en) 2002-05-24 2004-09-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Selected acid generating agents and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements
JP2004012706A (ja) * 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US20040009426A1 (en) * 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
JP3850767B2 (ja) * 2002-07-25 2006-11-29 富士通株式会社 レジストパターン厚肉化材料、レジストパターン及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法
US20080299363A1 (en) * 2003-02-03 2008-12-04 Jivan Gulabrai Bhatt Method for Preparation of a Lithographic Printing Plate and to a Lithographic Printing Plate Produced by the Method
US7399507B2 (en) * 2003-02-03 2008-07-15 Jivan Gulabrai Bhatt Method for preparation of a lithographic printing plate and to a lithographic printing plate produced by the method
CN1802603A (zh) 2003-07-17 2006-07-12 霍尼韦尔国际公司 用于高级微电子应用的平面化薄膜及其生产装置和方法
JP4699053B2 (ja) * 2005-03-10 2011-06-08 東京応化工業株式会社 カラーフィルタ用感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
GB2476976A (en) 2010-01-18 2011-07-20 Lintfield Ltd Protected aryl ketones and their use as photoinitiators
JP5919122B2 (ja) * 2012-07-27 2016-05-18 富士フイルム株式会社 樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
CN105121495A (zh) * 2013-02-15 2015-12-02 英派尔科技开发有限公司 酚类环氧化合物
EP3008125A4 (en) 2013-06-13 2016-12-07 Empire Technology Dev Llc MULTIFUNCTIONAL PHENOLIN RESINS
JP6478051B2 (ja) * 2013-06-26 2019-03-06 日産化学株式会社 置換された架橋性化合物を含むレジスト下層膜形成組成物
US10106494B2 (en) 2013-12-02 2018-10-23 Empire Technology Development Llc Gemini surfactant and their use

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3107109A1 (de) * 1981-02-26 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial
DE3943413A1 (de) * 1989-12-30 1991-07-04 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefstrukturen
DE4111444A1 (de) * 1991-04-09 1992-10-15 Hoechst Ag Naphthochinondiazid-sulfonsaeure-mischester enthaltendes gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US5340699A (en) * 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
JP3515846B2 (ja) * 1995-02-06 2004-04-05 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
US5648196A (en) * 1995-07-14 1997-07-15 Cornell Research Foundation, Inc. Water-soluble photoinitiators
US6132935A (en) * 1995-12-19 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working image recording material

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100725118B1 (ko) * 1999-12-16 2007-06-04 후지필름 가부시키가이샤 전자선 또는 엑스선용 화학증폭계 네거티브 레지스트 조성물
JP2014071305A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Fujifilm Corp 感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、マスクブランクス、及びレジストパターン形成方法
KR20140104361A (ko) * 2013-02-20 2014-08-28 제이에스알 가부시끼가이샤 경화성 조성물, 착색 화소 및 그의 형성 방법, 및 컬러 필터
JP2014160202A (ja) * 2013-02-20 2014-09-04 Jsr Corp 硬化性組成物、着色画素及びその形成方法、並びにカラーフィルタ
JP2018010299A (ja) * 2017-07-18 2018-01-18 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69820327T2 (de) 2004-10-07
DE69820327D1 (de) 2004-01-22
JP3798504B2 (ja) 2006-07-19
EP0874282B1 (en) 2003-12-10
US6083658A (en) 2000-07-04
EP0874282A1 (en) 1998-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3798504B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JP3645362B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JP3810510B2 (ja) ネガ型画像記録材料及び平版印刷版原版
JP2001042541A (ja) 感光又は感熱性画像形成材料
JP3725624B2 (ja) ネガ型平版印刷用版材及び製版方法
JP2000035669A (ja) ネガ型画像記録材料
JP3798547B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JP2002278050A (ja) ポジ型画像形成材料
JPH10193554A (ja) ネガ型画像記録材料
JPH09197671A (ja) ネガ型画像記録材料
JP3636827B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JPH11102071A (ja) ネガ型画像記録材料
JP3660505B2 (ja) 画像記録材料および平版印刷用原版
JP3688839B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JP3816152B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JP3836605B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた平版印刷用原版
JP2002303983A (ja) ポジ型画像形成材料
JP3853910B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JP3836563B2 (ja) 平版印刷用版材
JP3802194B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JPH10282653A (ja) ネガ型画像記録材料
JP3822311B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JPH1184654A (ja) ネガ型画像記録材料
JP2000066393A (ja) ネガ型画像記録材料
JP4253001B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた平版印刷用原版

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050818

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050906

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060124

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060324

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060418

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060420

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees