JPH1055066A - ネガ型画像記録材料 - Google Patents
ネガ型画像記録材料Info
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Abstract
版可能で、印刷時の耐刷性及び汚れにくさに優れたネガ
型画像記録材料を提供する。 【解決手段】 ネガ型画像記録材料において、(A)ポ
リマー側鎖に、下記一般式(I)で表される構造を含有
するポリマーと、(B)酸により架橋する化合物と、
(C)光又は熱により酸を発生させる化合物とを含む。 【化1】 式中、Ar1 は、置換基を有していてもよい炭素数20
以下のアリーレン基を示し、X1 は、NR2 、O、S又
はSiR3 R4 を示し、X2 は、NR5 、O、S又はS
iR6 R7 を示し、R1 は、置換基を有していてもよい
炭素数20以下の炭化水素基を示し、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 及びR7 は同じでも異なっていてもよ
く、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数20
以下の炭化水素基を示し、mは0〜5の整数を示し、n
はmが0のときは1を示しmが1〜5の整数のときは0
又は1を示す。
Description
ォトレジストとして使用できる画像記録材料に関するも
のであり、特にコンピュータ等のデジタル信号に基づい
て赤外線レーザを操作することにより直接製版できる、
いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷用版材として使
用可能な画像記録材料に関する。
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色又は緑色を発光するレーザを用い露光する
光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層した
もの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。
のは、帯電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑で
あり、装置が複雑で大がかりなものになる。また、の
光重合系によるものでは、青色や緑色の光に対して高感
度な版材を使用するため、明室での取扱いが難しくな
る。、の方法では銀塩を使用するため現像等の処理
が煩雑になる、処理廃液中に銀が含まれる等の欠点があ
る。
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できるようになっている。コンピ
ュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、これらのレーザは非常に有用である。しか
し、実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が
760nm以下の可視光域であるため、これらの赤外線
レーザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザ
で記録可能な材料が望まれている。
像記録材料として、US4、708、925号に記載さ
れている、オニウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤
より成る記録材料がある。しかしながら、この画像記録
材料は、オニウム塩とフェノール樹脂により発現する、
現像液に対する溶解抑止効果を利用したポジ型である。
一方、ネガ型の画像記録材料としては特開平7−206
29号に記載されている、オニウム塩、レゾール樹脂、
ノボラック樹脂、及び赤外線吸収剤より成る記録材料が
ある。この画像記録材料は、レーザ露光のみではポジ型
であり、レーザ露光後、加熱処理を行うことによりネガ
像が得られる。一般にネガ像を得るためには、非画像部
となる未露光部は、現像後、塗膜が残らないことが原則
であるが、特開平7−20629号に記載されている画
像記録材料では、露光後の加熱処理を穏和な条件にする
と、記録材料のポジ型としての性質が消失しにくくな
り、未露光部にも塗膜が残りやすくなる。従って、この
ような画像記録材料を用いた印刷用版材は、印刷時汚れ
が起こりやすいという問題があった。さらにこの画像記
録材料を用いた印刷用版材では、画像部の膜強度が不足
しており、結果として印刷時の耐刷性が不十分であっ
た。
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接製版可能なネガ型画像記録材料を提供す
ることである。また、本発明の別の目的は、画像記録後
の非画像部の残存塗膜が少なく、印刷時に汚れないネガ
型画像記録材料を提供することである。さらに、本発明
の目的は、記録された画像の膜強度に優れ印刷時の耐刷
性が良好なネガ型画像記録材料を提供することである。
記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、ヘテロ
原子が直接芳香族環と結合した置換基を有するポリマー
をバインダーとして用いることにより、上記目的が達成
できことを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、
本発明は、(A)ポリマー側鎖に、下記一般式(I)で
表される構造を含有するポリマーと、(B)酸により架
橋する化合物(以下、熱架橋剤という。)と、(C)光
又は熱により酸を発生させる化合物(以下、酸発生剤と
いう。)とを含むことを特徴とする。
い炭素数20以下のアリーレン基を示す。X1 は、NR
2 、O、S又はSiR3 R4 を示し、X2 は、NR5 、
O、S又はSi R6 R7 を示す。R1 は、置換基を有し
ていてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示し、
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 及びR7 は、同じでも異
なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していても
よい炭素数20以下の炭化水素基を示す。mは0〜5の
整数を示し、nはmが0のときは1を示しmが1〜5の
整数のときは0又は1を示す。
を含有するポリマー]本発明では、ポリマー側鎖に、前
記一般式(I)で表される構造を含有するポリマーを使
用する。一般式(I)で表される構造は、ポリマー主鎖
に直接結合していてもよいし、適当な連結鎖を介してペ
ンダント状に結合していてもよい。好ましい連結鎖とし
ては、例えば、エステル結合、アミド結合、エーテル結
合及び、これらの結合を含有していてもよい炭素数20
以下の炭化水素基等を挙げることができる。また、ポリ
マー主鎖としては、ポリ(メタ)アクリレート、ポリス
チレン、ポリビニルアセタール等の主鎖であるビニル重
合体、ポリエステル、及びポリウレタン等が挙げられる
が、入手性・経済性からビニル重合体であることが好ま
しい。
ていてもよい炭素数20以下のアリーレン基を示す。ア
リーレン基として具体的には、フェニレン、ナフチレ
ン、アントラセニレン、フェナントレニレン等を挙げる
ことができる。これらのアリーレン基のうち、入手性・
経済性の観点から、フェニレン又はナフチレンであるこ
とが好ましい。また、これらのアリーレン基が有するこ
とができる好ましい置換基としては、炭素数20以下の
炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カル
ボキシル基、カルバモイル基等を挙げることができる。
20以下の炭化水素基を示す。また、X1 は、NR2 、
O、S又はSiR3 R4 を示し、X2 は、NR5 、O、
S又はSi R6 R7 を示す。R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 及びR7 は、同じでも異なっていてもよく、水素原
子又は置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化
水素基を示す。R1 〜R7 において用いることのできる
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素数20
以下のアルコキシル基、炭素数20以下のペルフルオロ
アルキル基及び炭素数20以下のヒドロキシアルキル基
等を挙げることができる。
きは1を示しmが1〜5の整数のときは0又は1を示
す。つまり、X1 及びX2 のうちいずれか1つ以上がA
r1 に結合していなければならない。好ましくは、X1
及びX2 のうちいずれか2つ以上がAr1 に結合する。
ー側鎖に、一般式(I)で表される構造を含有するポリ
マーは、下記一般式(II)又は(III )で表される構成
単位を含有するポリマーである。なお、一般式(II)及
び(III )中、一般式(I)の符号と同じものについて
は同じ符号を付して説明を省略する。
ミド結合、エーテル結合、及びこれらの結合を含有して
いてもよい炭素数20以下の炭化水素基等を挙げること
ができる。R8 は水素原子又はメチル基を示す。R9 及
びR10は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子、又は置換基を有していてもよい炭素数20
以下の炭化水素基を示す。R9 及びR10が有することが
できる好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイル基、炭素
数20以下のアルコキシル基、ペルフルオロアルキル基
及びヒドロキシアルキル基等を挙げることができる。な
お、R9 とR10は、縮環したベンゼン環、ナフタレン環
やシクロヘキサン環等を形成していてもよい。また、p
は1〜4の整数を示し、q及びrはそれぞれ0〜3の整
数を示し、sは0〜4の整数を示す。
般式(IV)又は(V)で表されるモノマーを用い、従来
公知の方法によりラジカル重合することにより得られ
る。なお、一般式(IV)及び(V)中、一般式(I)、
(II)及び(III )の符号と同じものについては同じ符
号を付して説明を省略する。
ーのうち、本発明において好適に用いられるものを以下
に挙げる。
ル基を示す。
されるモノマーの少なくともいずれか一つをラジカル重
合することにより得られるポリマーを使用することが好
ましく、一般式(IV)〜(V)で表されるモノマーの一
種のみを用いた単独重合体や2種以上を用いた共重合体
の双方を使用することができる。
ポリマーは、一般式(IV)又は(V)で表されるモノマ
ーの少なくともいずれか一つと、カルボン酸等の酸性基
を有するモノマーとを、ラジカル重合することにより得
られる共重合体である。ポリマーに酸性基を導入するこ
とは、水又はアルカリ性水溶液による現像性が向上する
ため好ましい。酸性基としては、例えば、−COOH、
−CONHCO−、−CONHSO2 −、−SO2 NH
−、フェノール性OH等が挙げられる。
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、N−(2−カルボキシエチル)アクリルア
ミド、N−(2−カルボキシエチル)メタクリルアミ
ド、N−(カルボキシフェニル)アクリルアミド、N−
(カルボキシフェニル)メタクリルアミド、カルボキシ
スチレン、マレイミド、N−(フェニルスルホニル)ア
クリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリル
アミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N−(クロ
ロフェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(クロロ
フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(スルフ
ァモイルフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモ
イルフェニル)メタクリルアミド、N−(メチルスルフ
ァモイルフェニル)アクリルアミド、N−(メチルスル
ファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニ
ルスルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フ
ェニルスルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルファモイルフェニル)アクリルアミド、
N−(トリルスルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−[(クロロフェニルスルファモイル)フェニ
ル]アクリルアミド、N−[(クロロフェニルスルファ
モイル)フェニル]メタクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(ヒドロキシナフチル)ア
クリルアミド、N−(ヒドロキシナフチル)メタクリル
アミド等が挙げられる。
ルホン酸のナトリウム塩、2−アクリルアミド−2−メ
チルプロパンスルホン酸のアルカリ金属塩、テトラアル
キルアンモニウム塩、3−スルホプロピルアクリレート
のカリウム塩等の強酸の塩を含有するモノマーは、水に
対する溶解性を向上でき、結果として画像記録材料の水
性現像液に対する現像性を向上できるので、共重合体の
構成成分として好ましい。
び塩を含有するモノマー以外の従来公知のモノマーを、
必要に応じて用いてもよい。このような他の公知のモノ
マーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート等のアクリル酸エステル類、メチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート等のメタクリル酸エステル類、及びアクリロニト
リル等が挙げられる。
式(II)又は(III )で表される構成単位の割合は、2
0〜95重量%であることが好ましく、さらに好ましく
は30〜90重量%である。
平均分子量は好ましくは5000以上であり、さらに好
ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量は好
ましくは1000以上であり、さらに好ましくは200
0〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/
数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好ましくは
1.1〜10の範囲である。
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。
に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラ
ン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用
いられる。
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。
ても混合して用いてもよい。これらポリマーは、画像記
録材料全固形分に対し20〜95重量%、好ましくは4
0〜90重量%の割合で画像記録材料中に添加される。
添加量が20重量%未満の場合は、画像形成した際、画
像部の強度が不足する。また添加量が95重量%を越え
る場合は、画像形成されない。
用いられる熱架橋剤は、分子内に2個以上のヒドロキシ
メチル基、アルコキシメチル基、エポキシ基又はビニル
エーテル基を有する化合物である。好ましくはこれらの
架橋性官能基が芳香環に直接結合した化合物である。具
体的には、メチロールメラミン、レゾール樹脂、エポキ
シ化されたノボラック樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
さらに、「架橋剤ハンドブック」(山下晋三、金子東助
著、大成社(株))に記載されている化合物も好まし
い。特に、分子内に2個以上のヒドロキシメチル基又は
アルコキシメチル基を有するフェノール誘導体は、画像
形成した際の画像部の強度が良好であり好ましい。この
ようなフェノール誘導体として、具体的には、レゾール
樹脂を挙げることができる。
がら熱に対して不安定であり、画像記録材料を作成した
あとの保存時の安定性があまりよくない。これに対し、
分子内に2個以上のヒドロキシメチル基又はアルコキシ
メチル基を有し、かつベンゼン核を3〜5個含み、さら
に分子量が1,200以下であるフェノール誘導体は、
保存時の安定性も良好であり、本発明において最も好適
に用いられる。アルコキシメチル基としては、炭素数6
以下のものが好ましい。具体的にはメトキシメチル基、
エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、イソプロ
ポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、イソブトキシ
メチル基、sec−ブトキシメチル基、t−ブトキシメ
チル基が好ましい。さらに、2−メトキシエトキシメチ
ル基及び2−メトキシ−1−プロポキシメチル基のよう
に、アルコキシ置換されたアルコキシメチル基も好まし
い。
ましいものを以下に挙げる。
っていてもよく、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル
基、又はエトキシメチル基を示す。
導体は、対応するヒドロキシメチル基を有さないフェノ
ール化合物(化11〜化15においてL1 〜L8 が水素
原子である化合物)とホルムアルデヒドを塩基触媒下で
反応させることによって得ることができる。この際、樹
脂化やゲル化を防ぐために、反応温度を60℃以下で行
うことが好ましい。具体的には、特開平6−28206
7号、特開平7−64285号等に記載されている方法
にて合成することができる。
導体は、対応するヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル誘導体とアルコールを酸触媒下で反応させることによ
って得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を防ぐ
ために、反応温度を100℃以下で行うことが好まし
い。具体的には、EP632003A1等に記載されて
いる方法にて合成することができる。
料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10〜65重
量%の添加量で用いられる。熱架橋剤の添加量が5重量
%未満であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化
し、また、70重量%を越えると保存時の安定性の点で
好ましくない。
てもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。
剤とは、光又は100℃以上の加熱により分解し酸を発
生する化合物である。発生する酸としては、スルホン
酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好まし
い。本発明において好適に用いられる酸発生剤として
は、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム
塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体
的には、US4、708、925や特開平7−2062
9号に記載されている化合物を挙げることができる。特
に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム
塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ま
た、US5、135、838やUS5、200、544
に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。
さらに、特開平2−100054号、特開平2−100
055号及び特願平8−9444号に記載されている活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。他にも、特開平7−271029号に記載されてい
る、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好まし
い。
生剤は、下記一般式(VI)又は(VII )で示される化合
物である。
炭素数30以下の炭化水素基を示す。R12は、置換基を
有していてもよい炭素数25以下の2価の炭化水素基を
示す。R13、R14及びR15は、同じでも異なっていても
よく、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数2
0以下の炭化水素基を示す。また、R13、R14及びR 15
のうち2つ以上が一緒になって環を形成していてもよ
い。なお、R11、R12、R13、R14及びR15において用
いられる好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、オ
キソ基、ヒドロキシル基、炭素数20以下のアルキルオ
キシ基、炭素数20以下のアリールオキシ基を挙げるこ
とができる。
る化合物のうち、特に好ましいものを以下に挙げる。
2−100054号、特開平2−100055号、US
5、135、838及びUS5、200、544に記載
の方法にて合成することができる。
に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜25
重量%、より好ましくは0.5〜15重量%の割合で画
像記録材料中に添加される。添加量が0.01重量%未
満の場合は、画像が得られない。また添加量が50重量
%を越える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生する。
また2種以上を組み合わせて使用してもよい。
酸発生剤は光又は熱により分解し酸を発生させる。酸発
生剤を光により分解させる場合であって酸発生剤が吸収
する光(例えば、紫外光線)を照射する場合は、特に分
光増感剤を用いる必要はない。しかしながら、酸発生剤
が吸収をしない光を照射する場合は、分光増感剤が必要
である。可視光線を照射する場合に用いられる増感剤と
しては、従来より光ラジカル重合型の画像記録材料に用
いられている公知の増感剤を使用することができる。具
体的には、例えば、特開平4−219756号に記載さ
れているエオシン類や、特開平2−244050号及び
特願平7−23133号に記載されているチアゾリジノ
ン骨格を有する色素が挙げられる。しかしながら、本発
明の画像記録材料はラジカル重合性の多官能モノマーを
含むものではない。従って、上述の光ラジカル重合型に
おいて有効な増感剤が、本発明でも有効である理由は明
確ではない。
ザで画像記録することである。このためには、分光増感
剤として赤外線吸収剤を併用することが必要である。本
発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760n
mから1200nmの赤外線を有効に吸収する染料又は
顔料である。好ましくは、波長760nmから1200
nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10
重量%、顔料の場合特に好ましくは1.0〜10重量%
の割合で画像記録材料中に添加することができる。顔料
又は染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が
低くなり、また50重量%を越えると印刷時非画像部に
汚れが発生する。
層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加しても
よい。
用機構は、「増感剤」(徳丸克己・大河原信編、講談社
(株))等に記載されている通り、エネルギー移動や電
子移動等によるものであるとされている。しかしなが
ら、赤外線増感剤の場合は、その作用機構について十分
明確となっているわけではない。例えば、赤外線吸収剤
が赤外線を吸収した後、熱を発し酸発生剤を熱的に分解
しているとも言われている。
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。具体的には、オイルイ
エロー#101、オイルイエロー#103、オイルピン
ク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイ
ルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリ
エント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバ
イオレット(CI42535)、エチルバイオレット、
ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI520
15)等、及び特開昭62−293247号に記載され
ている染料を挙げることができる。
画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、
0.01〜10重量%の割合である。
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
剤の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチル
ラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれ
に限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全
固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形
分)は、用途によって異なるが、平版印刷用版材につい
ていえば一般的に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができ
るが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー
塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。
を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−1
70950号に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像
記録材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましく
は0.05〜0.5重量%である。
能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例
えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、
金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラス
チックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された
紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。
ィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。
望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸若しく
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号に開示されているよう
に両者を組み合わせた方法も利用することができる。
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には、電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが
付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
表面は必要により親水化処理が施される。本発明で使用
可能な親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、第3,280,7
34号及び第3,902,734号に開示されているよ
うなアルカリ金属シリケート(例えば、ケイ酸ナトリウ
ム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケ
イ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理
される。他に、特公昭36−22063号に開示されて
いるフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第3,27
6,868号、同第4,153,461号、同第4,6
89,272号に開示されているようなポリビニルホス
ホン酸で処理する方法等が用いられる。
る前に、必要に応じて支持体上に下塗層を設けることが
できる。
いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸等
のアミノ基を有するホスホン酸類;置換基を有してもよ
いフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキル
ホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン
酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸;置換
基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、ア
ルキルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸;置換
基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホス
フィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィ
ン酸等の有機ホスフィン酸;グリシンやβ−アラニン等
のアミノ酸類;及びトリエタノールアミンの塩酸塩等の
ヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる
が、2種以上混合して用いてもよい。
m2 が適当である。
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、波長760nmから1200nmの
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画
像露光されることが好ましい。本発明においては、レー
ザ照射後すぐに現像処理を行ってもよいが、レーザ照射
工程と現像工程の間に加熱処理を行うことが好ましい。
加熱処理の条件は、70℃〜150℃の範囲内で10秒
〜5分間行うことが好ましい。加熱方法としては、従来
公知の種々の方法を用いることができる。例えば、パネ
ルヒーターやセラミックヒーターによる加熱、及びラン
プによる方法等が挙げられる。具体的には、特願平8−
94197号に記載の方法が挙げられる。この加熱処理
により、レーザ照射時、記録に必要なレーザエネルギー
を減少させることができる。
の画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶
液にて現像される。
画像記録材料の現像液及び補充液としては従来より知ら
れているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸
ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液の一例は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸
塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
M2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号、特公
昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金
属ケイ酸塩が有効に用いられる。
には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充
液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク
中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷用版材
を処理できることが知られている。本発明においてもこ
の補充方式が好ましく適用される。
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸等の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、
さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えるこ
ともできる。
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55ー155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。
いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。
g/m2 (乾燥重量)が適当である。
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来より行なわれて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。ポリマー〔BP−1〕の合成 攪拌装置及び冷却管を装着した500ml容量のフラス
コに、o−メトキシフェノール24.83g(0.2モ
ル)、テトラヒドロフラン100mlを入れた。このフ
ラスコ内を攪拌しながら、ナトリウムメトキシドのメタ
ノール溶液(0.2モル分)を加えた。この後、テトラ
ヒドロフラン及びメタノールを減圧下留去した。次に、
再度テトラヒドロフラン300mlを加え、さらに2−
クロロエチル−p−トルエンスルホナート46.94g
(0.2モル)を加え、加熱還流下20時間攪拌し反応
させた。反応終了後、不溶物を濾過により取り除き、減
圧下濃縮した。さらに、シリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフィーにより、この反応混合物を精製し、2−
(o−メトキシフェノキシ)エチルクロリド25.1g
を得た。
0ml容量のフラスコに、2−(o−メトキシフェノキ
シ)エチルクロリド25.1g、メタクリル酸カリウム
33.40g、ヨウ化カリウム11.17g、N、N−
ジメチルホルムアミド50ml及び少量のヒドロキノン
を入れ、100℃に加熱し攪拌した。この反応混合物を
シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精
製し、2−(o−メトキシフェノキシ)エチルメタクリ
レート24.8gを得た。
00ml容量のフラスコに、1−メトキシ−2−プロパ
ノール21.4gを入れ、窒素気流下75℃に加熱し
た。このフラスコ内を攪拌しながら、2−(o−メトキ
シフェノキシ)エチルメタクリレート15.36g、メ
タクリル酸3.01g、V−601(和光純薬(株)製
アゾ系重合開始剤)0.1151g、及び1−メトキシ
−2−プロパノール21.4gの混合物を2.5時間か
けて滴下した。滴下終了後、V−601の0.1151
gを再度加え、3時間、75℃で攪拌した。反応終了後
室温まで冷却し、メタノール50mlを加え、水1リッ
トルに攪拌下投入した。析出物を濾過により集め、減圧
乾燥することにより、本発明のポリマー〔BP−1〕1
7.5gを得た。なお、重量平均分子量をGPCにより
測定した所、6.2万(ポリスチレン標準)であった。
ルを塩基性条件下で反応させ、3−(2、6−ジメトキ
シフェニル)プロパノールを得た。次に、メチルアクリ
レートと3−(2、6−ジメトキシフェニル)プロパノ
ールを、酸触媒存在下メタノールを加熱留去しながら反
応させ、エステル交換を行い、3−(2、6−ジメトキ
シフェニル)プロピルアクリレートを得た。さらに、3
−(2、6−ジメトキシフェニル)プロピルアクリレー
ト、N−(pースルファモイルフェニル)メタクリルア
ミド、及びアクリル酸を共重合させ、本発明のポリマー
〔BP−2〕を得た。なお、重量平均分子量をGPCに
より測定した所、6.6万(ポリスチレン標準)であっ
た。
合成 上記の方法と同様にして、表1〜4に示す本発明のポリ
マー〔BP−3〕〜〔BP−10〕を合成した。
チル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エチル〕ベンゼン20g(本州化学工業(株)製、
Trisp−PA)を10%水酸化カリウム水溶液に加
え、攪拌、溶解した。次に、この溶液を攪拌しながら、
37%ホルマリン水溶液60mlを室温下で1時間かけ
て徐々に加えた。さらに室温下で6時間攪拌した後、希
硫酸水溶液に投入した。析出物を濾過し、十分水洗した
後、メタノール30mlより再結晶することにより、下
記構造のヒドロキシメチル基を有するフェノール誘導体
〔HM−1〕の白色粉末20gを得た。純度は92%で
あった(液体クロマトグラフィー法)。
ノール誘導体〔HM−1〕20gを1リットルのメタノ
ールに加え、加熱攪拌し、溶解した。次に、この溶液に
濃硫酸1mlを加え、12時間加熱還流した。反応終了
後、反応液を冷却し、炭酸カリウム2gを加えた。この
混合物を十分濃縮した後、酢酸エチル300mlを加え
た。この溶液を水洗した後、濃縮乾固させることによ
り、下記構造のメトキシメチル基を有するフェノール誘
導体〔MM−1〕の白色固体22gを得た。純度は90
%であった(液体クロマトグラフィー法)。
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄して
脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス
トン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で
洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水
溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、さらに
2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。この時の砂
目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であった。次
にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密度15
A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設けた
後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記下塗
り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被
覆量は10mg/m2 であった。下塗り液 β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g
を、上記の下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、10
0℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材〔P−1〕
を得た。乾燥後の重量は1.5g/m2 であった。
を、紫外線にて露光した。露光後、パネルヒーターに
て、100℃で30秒間加熱処理した後、富士写真フイ
ルム(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス液F
R−3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処理し
た。次いで富士写真フイルム(株)製ガムGU−7
(1:1)で版面を処理し、ハイデルKOR−D機で印
刷した所、非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られ
た。
て、本発明の組成物の種類を変えて、9種類の溶液〔Q
−2〕〜〔Q−9〕を調整した。この溶液をそれぞれ、
実施例1で用いた下塗り済みのアルミニウム板に塗布
し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材
〔Q−1〕〜〔Q−9〕を得た。乾燥後の重量は1.5
g/m2 であった。
す。
〜〔Q−9〕を、波長830〜850nm程度の赤外線
を発する半導体レーザで露光した。露光後、100℃で
30秒間加熱処理した後、富士写真フイルム(株)製現
像液、DP−4(1:8)、リンス液FR−3(1:
7)を仕込んだ自動現像機を通して処理した。次いで富
士写真フイルム(株)製ガムGU−7(1:1)で版面
を処理し、ハイデルKOR−D機で印刷した。この際得
られた良好な印刷物の枚数を観察した。結果を表6に示
す。いずれも、4万枚以上の印刷物が得られた。またい
ずれの印刷物においても、非画像部に汚れは認められな
かった。
〔Q−1〕において、ポリマー〔BP−1〕の代わり
に、m−クレゾールとホルムアルデヒドを酸性条件下で
反応させて得られるノボラック樹脂(重量平均分子量2
500)を用い、これ以外は実施例2と同様にしてネガ
型平版印刷用版材〔R〕を作成した。得られた平版印刷
用版材〔R〕を、実施例2と同様に画像形成し印刷し
た。この際得られた良好な印刷物の枚数を観察した。結
果を表6に示すが、2万枚程度の印刷物しか得られなか
った。また非画像部にわずかな汚れが認められた。
のネガ型画像記録材料を用いた平版印刷用版材は、印刷
時の耐刷性に優れていることがわかる。また非画像部の
汚れにくさにも優れることがわかる。
アルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン
洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
よく水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナト
リウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗
後、さらに2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。
この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 で
あった。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電
流密度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜
を設けた。その後、70℃の珪酸ソーダ2.5%水溶液
に1分間浸漬後、水洗乾燥した。
組成物の種類を変えて、5種類の溶液〔S−1〕〜〔S
−5〕を調整した。この溶液をそれぞれ、上記のアルミ
ニウム板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平
版印刷用版材〔S−1〕〜〔S−5〕を得た。乾燥後の
重量は1.6g/m2 であった。
す。
〜〔S−5〕を、波長約1064nmの赤外線を発する
固体レーザのYAGレーザで露光した。露光後、100
℃で30秒間加熱処理した後、富士写真フイルム(株)
製現像液、DN−3C(1:1)で現像した。さらに版
面をFN−2で処理し、ハイデルKOR−D機で印刷し
た。この際得られた良好な印刷物の枚数を観察した。結
果を表8に示す。いずれも、3万枚以上の印刷物が得ら
れた。またいずれの印刷物においても、非画像部に汚れ
は認められなかった。
〔S−1〕において、ポリマー〔BP−1〕の代わり
に、m−クレゾールとホルムアルデヒドを酸性条件下で
反応させて得られるノボラック樹脂(重量平均分子量2
500)を用い、これ以外は実施例11と同様にしてネ
ガ型平版印刷用版材〔T〕を作成した。得られた平版印
刷用版材〔T〕を、実施例11と同様に画像形成し印刷
した。この際得られた良好な印刷物の枚数を観察した。
結果を表8に示すが、2万枚未満の印刷物しか得られな
かった。
明のネガ型画像記録材料を用いた平版印刷用版材は、印
刷時の耐刷性に優れていることがわかる。また非画像部
の汚れにくさにも優れることがわかる。
いて、本発明の組成物の種類を変えて、2種類の溶液
〔U−1〕及び〔U−2〕を調整した。この溶液をそれ
ぞれ、実施例11で用いたアルミニウム板に塗布し、1
00℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材〔U−
1〕および〔U−2〕を得た。乾燥後の重量は1.0g
/m2 であった。
示す。
及び〔U−2〕を、波長830〜850nm程度の赤外
線を発する半導体レーザで露光した。露光後、130℃
で30秒間加熱処理した後、水道水をかけながらブラシ
でこすり、現像した。得られた印刷版を用い印刷した
所、非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。
及び半導体レーザを用いて記録することにより、コンピ
ューター等のデジタルデータから直接製版可能であり、
さらに印刷時の耐刷性及び汚れにくさに優れたネガ型画
像記録材料を提供できる。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)ポリマー側鎖に、下記一般式
(I)で表される構造を含有するポリマーと、(B)酸
により架橋する化合物と、(C)光又は熱により酸を発
生させる化合物と、を特徴とするネガ型画像記録材料。 【化1】 [式中、Ar1 は、置換基を有していてもよい炭素数2
0以下のアリーレン基を示し、X1 は、NR2 、O、S
又はSiR3 R4 を示し、X2 は、NR5 、O、S又は
Si R6 R7 を示し、R1 は、置換基を有していてもよ
い炭素数20以下の炭化水素基を示し、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 及びR7 は、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数20
以下の炭化水素基を示し、mは0〜5の整数を示し、n
はmが0のときは1を示しmが1〜5の整数のときは0
又は1を示す]
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