WO2005101126A1 - ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 - Google Patents

ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 Download PDF

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WO2005101126A1
WO2005101126A1 PCT/JP2005/007172 JP2005007172W WO2005101126A1 WO 2005101126 A1 WO2005101126 A1 WO 2005101126A1 JP 2005007172 W JP2005007172 W JP 2005007172W WO 2005101126 A1 WO2005101126 A1 WO 2005101126A1
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WO
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acid
group
resin
negative photosensitive
photosensitive composition
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PCT/JP2005/007172
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English (en)
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Koji Hayashi
Yuuki Torihata
Yasushi Miyamoto
Eiji Hayakawa
Original Assignee
Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd.
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Publication date
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    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
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    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
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    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols

Definitions

  • the present invention relates to a negative-type photosensitive lithographic printing plate used in the field of offset printing, and more particularly to a so-called computer-to-plate (CTP) plate capable of directly making digital signal power by a computer or the like.
  • CTP computer-to-plate
  • the present invention relates to a negative photosensitive lithographic printing plate to be used and a negative photosensitive composition suitably used for the photosensitive layer of such a lithographic printing original plate.
  • Priority is claimed on Japanese Patent Application No. 2004-118334, filed on April 13, 2004, the content of which is incorporated herein by reference.
  • a computer toe plate (CTP) system that uses this system for lithographic printing plates and directly forms an image on a photosensitive lithographic printing plate without outputting to a silver halide mask film has attracted attention.
  • CTP computer toe plate
  • a CTP system that uses a high-power laser that has the maximum intensity in the near-infrared or infrared region as the light source for light irradiation has the advantage that a high-resolution image can be obtained with a short exposure time.
  • solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have become easily available with high output and small size.
  • Negative-type photosensitive compositions capable of forming an image using a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays include alkali-soluble resins (such as novolak resins) and cross-linkable acids.
  • alkali-soluble resins such as novolak resins
  • cross-linkable acids such as alkali-soluble resins
  • Compounds comprising compounds (acid crosslinking agents such as resin resins), compounds that generate acid by heat (acid generators), and photothermal conversion agents (infrared absorbers such as dyes and pigments) have been proposed. For example, it is disclosed in Patent Document 1 below.
  • a diatom salt compound such as a rhododium salt or a sulfodium salt as an acid generator.
  • a negative image is formed as follows. It is supposed to be. First, infrared light emitted from a solid-state laser or a semiconductor laser is converted into heat by a photothermal conversion agent. This heat generates an acid from the acid generator. Next, when preheating (heating) is performed before development, crosslinking is performed by the catalytic action of an acid. As a result, a negative image is formed.
  • Patent Document 2 discloses that a positive photosensitive composition has a sulfonic acid ester structure in which at least a part of a phenolic hydroxyl group is esterified with a sulfonic acid conjugate. It is described that a resin is contained, and among the examples of the sulfonic acid ester compound, a compound having a substituent X in the present invention is included.
  • the present invention relates to a positive photosensitive composition whose reaction mechanism is completely different from that of a negative photosensitive composition, wherein the above-mentioned esterified alkali-soluble resin has reduced alkali solubility. It is used as a dissolution inhibitor for improving film strength or as a film strength improver.
  • Patent Document 1 JP-A-7-20629
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-228089
  • a photosensitive lithographic printing plate is required to be able to be handled in a light room, but a phosporium salt or a diazoyium salt which is suitable as an acid generator is UV-sensitive. Therefore, when the photosensitive lithographic printing plates containing these are exposed to white light or white light (UV cut) with reduced UV, some density appears in the unexposed areas. There is a problem that a phenomenon called "fog" is easily caused.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and a negative photosensitive composition and a negative photosensitive lithographic plate which are less likely to cause development failure even when exposed to a white fluorescent lamp or a UV-cut white fluorescent lamp.
  • the purpose is to provide a printing plate.
  • the negative photosensitive composition of the present invention comprises an alkali-soluble resin (a), a compound crosslinked by an acid (b), and a compound capable of generating an acid by heat (c) , Photothermal conversion Agent (d) and a resin having a phenolic hydroxyl group, wherein at least a part of the hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl group is substituted with a substituent X having a group represented by the following general formula (1). ! Pool resin (e) is contained.
  • Ar represents a substituted or unsubstituted phenylene or naphthylene group
  • Y 1 and Y 2 each independently represent COR 1 or COOR 2
  • R ⁇ R 2 each independently represent an alkyl group
  • the present invention also provides a negative photosensitive lithographic printing plate characterized in that a photosensitive layer comprising the negative photosensitive composition of the present invention is provided on the surface of a support.
  • One of the general evaluations of fogging prevention characteristics is safety flight safety, which is evaluated based on the allowable exposure time (safety time) so that poor development does not occur when exposed to a UV-cut white fluorescent lamp. 'I have sex.
  • the safe light safety of a negative photosensitive composition can be improved and a negative photosensitive composition and a negative photosensitive lithographic printing plate excellent in fog prevention characteristics can be obtained.
  • the alkali-soluble resin (a) refers to a binder resin that is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution, and specifically includes a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, and a sulfonic acid.
  • a resin having an alkali-soluble group such as a group, a phosphonic group, an active imino group, or an N-sulfolamide group.
  • alkali-soluble resin (a) examples include phenol 'formaldehyde resin, talesol' formaldehyde resin, and phenol 'tarezol' formaldehyde co-condensation.
  • Novolak resins or resole resins such as synthetic resins; polyhydroxystyrene; polyhalogenated hydroxystyrene; N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, hydrocyanine quinone monomethacrylate, N— ( Acrylic resin containing at least one monomer having an acidic group such as sulphamoylphenol) methacrylamide, N-phenylsulfolmethacrylamide, N-phenylsulfolmaleimide, acrylic acid and methacrylic acid; Active methylene group-containing resin; Vure polymerization resin such as urea bond-containing resin; Polyurethane resin having N-sulfolamide group, N-sulfolureido group, N-aminosulfo
  • novolak resin is preferably used in that a wide development allowable range is obtained.
  • the use amount of the alkali-soluble resin (a) is preferably in the range of 40 to 95% by mass based on the solid content of the negative photosensitive composition. If necessary, two or more (a) alkali-soluble resins may be used in combination.
  • the weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the alkali-soluble resin (a) is preferably from 1,000 to 50,000, and more preferably from 2,000 to 20,000. ! / ⁇ .
  • the compound (b) that causes a crosslinking reaction by an acid is a compound that causes a crosslinking reaction with an alkali-soluble resin (a) or an acid by the catalytic action of an acid generated from a compound (c) that generates an acid by heat as described below.
  • the compound (b) which crosslinks with (b) and causes a cross-linking reaction with an alkali-soluble resin (a) or an acid is insoluble in an alkali developing solution.
  • a compound (b) for example, an amino compound having at least two methylol groups, alkoxymethyl groups, acetomethyl groups and the like can be mentioned.
  • Specific examples include melamine derivatives such as methoxymethylated melamine, benzoguanamine derivatives, and glycolperyl derivatives; urea resin derivatives; [0015]
  • resol resin is preferably used in that the solubility of the image portion and the non-image portion in the developer and the contrast are increased.
  • the amount of compound (b) used is preferably in the range of 5 to 70% by mass based on the solid content of the negative photosensitive composition. If necessary, two or more compounds (b) may be used in combination.
  • Examples of the compound (c) that generates an acid by heat include, for example, known oxamium salts such as ammonium salt, phospho-ammonium salt, odonium salt, sulfo-ammonium salt, seleno-ammonium salt, and organic halo.
  • oxamium salts such as ammonium salt, phospho-ammonium salt, odonium salt, sulfo-ammonium salt, seleno-ammonium salt, and organic halo.
  • Genie dagger Photoacid generators having a ditrobenzyl-type protector, disulfone conjugates, and the like.
  • a trihaloalkylated compound and a diazonium salted compound are preferably used in that high sensitivity is obtained.
  • torino and lipoalkylated conjugates examples include trihalomethyl-s triazine compounds described in US Pat. No. 4,239,850, and oxadiazole compounds described in US Pat. No. 4,212,970. Compounds, tribromomethylsulfonyl compounds, and the like.
  • diazo-dimethyl salt compound examples include, for example, 4 diazodiphenylamine, 4 diazo 3-methyldiphenylamine, 4 diazo-4′-methyldiphenylamine, and 4 diazo 3 ′ 4-Methyldiphenylamine, 4-Diazo-4'-methoxydiphenylamine, 4-Diazo3-methyl-4'ethoxydiphenylamine, 3-Diazo-4-methoxydiphenylamine, etc.
  • Organic or inorganic acid salts of the compounds are mentioned.
  • Examples of the organic acid include methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, naphthalenesnorenoic acid, propinorenaphthalenesnolephonic acid, and naphthonorehone.
  • Sunolefonic acid 2-Trobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 2-Hydroxy-1-methoxybenzophenone 5-Snolephonic acid, 2,4-dihydroxybenzophenone, Benzenphosphinic acid, Trifluoromethanesulfonic acid And the like.
  • the inorganic acid include hexafluorophosphoric acid, tetrafluoroboric acid, and thiocyanic acid.
  • the compound (c) that generates an acid by heat may be an acid having a sulfonic acid group in the molecule.
  • a dye salt can be suitably used.
  • the acidic dye is a water-based dye having a coloring acidity having an acidic group such as a sulfonic acid group and a carboxyl group in a molecule, and is usually used as a sodium salt. Therefore, the “form salt of an acid dye having a sulfonic acid group in the molecule” here is a salt of a pigment acid having a sulfonic acid group in the molecule, and instead of sodium ion as a cation, It has diatom ions, odonium ions, sulfo ions and the like.
  • Such a chromium salt of an acid dye having a sulfonic acid group in the molecule includes a commercially available acid dye having a sulfonic acid group in the molecule (mainly a sodium salt), a diazo-dimethyl salt, and a rhododendron. It can be obtained by mixing an aqueous salt mixture such as a platinum salt or a sulfonium salt in the form of an aqueous solution, and filtering the resulting precipitate.
  • Acid Red 350 (the following formula (I1)
  • Acid Blue 114 (the following formula (I2)
  • Benzo Indigo Blue the following formula (I)
  • I3) Direct Brown 202 (the following formula (I4)), Acid Green 5 (the following formula (I5)), Food Green 2 (the following formula (I5)), Acid Blue 34 (the following formula (I6 )), Acid Blue 90 (the following formula (I-7)), Acid Green 25 (the following formula (1-8)), Anthraquinone e Green GX (the following formula (1-9)), Acid Red 81 (the following formula (I-10)) and Acid Blue 80 (the following formula (I11)) are typical examples.
  • acidic dyes having a sulfonic acid group in the molecule include, for example, Acid dyes
  • the acidic dye having a sulfonic acid group in the molecule is preferably one having 21 or more carbon atoms in the molecule.
  • the number of carbon atoms in the molecule is 21 or more, the molecular weight of the onium salt of the acid dye having a sulfonate group in the molecule is increased, and the thermal stability of the onium salt is improved.
  • the storage stability of a coating film having a high functional composition is further improved.
  • the molecular weight of the acid salt of an acid dye having a sulfonic acid group in the molecule is increased, the heat scattering of the acid salt is suppressed, and the abrasion of the coating film composed of the negative photosensitive composition is suppressed. Is further suppressed.
  • a blue or green dye is preferable because of its excellent plate-reading properties and visual-visibility.
  • Examples of the cation in the oxalate of the acidic dye having a sulfonic acid group in the molecule include diazo-ion, odonium ion, and sulfo-ion.
  • Examples of diazodium ions include those of the following formulas (II1) to (II23), and examples of antioxidant ions include those of the following formulas (III1) to (III-10).
  • Examples of the sulfonium ion include those of the following formulas (IV-1) to (IV-19).
  • Examples include pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, and other polymer-bound pigments.
  • carbon black is particularly preferably used as a substance that efficiently generates heat by absorbing light in the near-infrared region and the infrared region and has excellent power.
  • a highly dispersible Graftey d'Illbon black having various functional groups is commercially available.
  • Graftey d'Illbon black having various functional groups is commercially available.
  • “Carbon Black Handbook 3rd Edition” (edited by Carbon Black Association, 1995) Page 167
  • “Characteristics and Optimum Mixing and Utilization Techniques of Carbon Black” (Technical Information Association, 1997), page 111, etc., all of which are suitably used in the present invention. .
  • These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a known surface treatment.
  • Known surface treatment methods include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of binding a reactive substance such as a silane coupling agent, an epoxy conjugate, or a polyisocyanate to the pigment surface. And the like.
  • These surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Stones” (Koshobo), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), and “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984). It is described in.
  • the particle size of the pigment used in the present invention is preferably in the range of 0.01 to 15 micrometers, more preferably in the range of 0.01 to 5 micrometers.
  • dyes used in the present invention known dyes can be used, and examples thereof include “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, 1970), “Color Material Engineering Handbook” (Color Material Association) Ed., Asakura Shoten, 1989), “Technologies and Markets of Industrial Dyes” (CMC, 1983), “Chemical Handbook Applied Chemistry” (Chemical Society of Japan, Maruzen Shoten, 1986) And others.
  • azo dyes metal chain salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carboxy dyes, quinone imine dyes, methine dyes And dyes such as cyanine dyes, cyanine dyes, indigo dyes, quinoline dyes, nitro dyes, xanthene dyes, thiazine dyes, azine dyes and oxazine dyes.
  • these dyes those that absorb light in the near infrared and infrared regions are particularly preferred.
  • Dyes that absorb near-infrared light or infrared light include, for example, cyanine dyes, methine dyes, naphthoquinone dyes, squarylium dyes, arylbenzo (thio) pyridin-dimethyl salts, and trimethinethiapyrylium. Salts, pyrylium compounds, pentamethinethiopyrylium salts, infrared absorbing dyes and the like.
  • At least one suitable pigment or dye capable of absorbing a specific wavelength of a light source described below and converting it into heat is selected from the above-mentioned pigments or dyes, It is used by adding to the light-sensitive composition.
  • the amount of the pigment is preferably in the range of 1 to 70% by mass relative to the total solid content of the negative photosensitive composition, and more preferably.
  • the range is 3 to 50% by mass, particularly preferably 5 to 10% by mass.
  • the amount of the pigment used is less than 1% by mass, the amount of heat generated by absorbing light is not sufficient, and when the amount is more than 70% by mass, the amount of heat generated is large. It is not preferable because it tends to be too large.
  • the amount of the dye used is preferably in the range of 0.1 to 30% by mass based on the total solid content of the negative photosensitive composition. It is preferably in the range of 0.5 to 20% by mass, particularly preferably in the range of 1 to 10% by mass. If the amount of dye used is less than 0.1% by mass, the amount of heat generated by absorbing light will not be sufficient. If the amount of dye used is more than 30% by mass, the amount of heat generated Is substantially saturated, and the effect of addition tends to be unfavorable.
  • the resin (e) according to the present invention at least a part of the hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl group in the raw resin (e ′) having a phenolic hydroxyl group has a group represented by the general formula (1). It is substituted with the following substituent X.
  • a resin having a phenolic hydroxyl group among the resins usable as the alkali-soluble resin (a) can be used.
  • the aromatic hydroxylated compound and an aldehyde or ketone are condensed under an acidic catalyst. Novolak resins obtained by the combined reaction are preferred.
  • phenols are preferred, for example, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-dimethylphenol, 2,4-dimethylphenol, 2,5-dimethylphenol,
  • monovalent phenols such as 2,6-dimethylphenol
  • divalent phenols such as resorcinol, hydroquinone, and catechol
  • trivalent phenols such as pyrogallol, gallic acid, and propyl gallate.
  • Aldehydes include formaldehyde, acetoaldehyde and the like.
  • ketones include acetone, methyl ethyl ketone, and the like.
  • Talesol 'resorcinol' formaldehyde co-condensation resin pyrogallol'acetone resin
  • Talesol 'formaldehyde resin Tesol novolak resin
  • the Mw of the raw resin (e,) is preferably in the range of 500 to 20,000, more preferably in the range of 1,000 to 5,000.
  • Ar represents a phenylene group (a divalent group formed by losing two hydrogen atoms from benzene) or a naphthylene group (a divalent group formed from naphthalene). Is a divalent group formed by losing a hydrogen atom of the above), and may have one or more substituents Z.
  • substituent Z include a hydroxyl group and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The substituent Z is preferably a hydroxyl group.
  • Y 1 and Y 2 each independently represent COR 1 or COOR 2 .
  • Each RR 2 independently represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom.
  • the carbon number of the alkyl group of RR 2 is preferably from 1 to 20 member is preferably a methyl group.
  • the number of carbon atoms of ⁇ Li Lumpur groups R ⁇ R 2 is particularly preferably 6 to 18 members Hue - Le group.
  • substituent X is preferably a sulfonic ester group represented by the following general formula (2) or a carboxylic ester group represented by the following general formula (3).
  • Ar, Y ⁇ Y 2 , and R ⁇ R 2 have the same meanings as in general formula (1).
  • R 3 represents CH 3 or 0CH 3
  • Resin (e) can be produced, for example, by the following method. That is, first, the raw resin (e ') is reacted with an acid derivative having a diazo group and a substituent for deriving Ar, so that at least a part of the phenolic hydroxyl groups of the raw resin (e') is the acid. An intermediate esterified by the derivative is obtained. It is preferable to use a sulfonate or a carboxylate as the acid derivative.
  • Examples of the acid derivative include 1,2 naphthoquinonediazido 4-sulfonyl chloride, 1,2 naphthoquinonediazide-l-5-sulfoylclauride, 1,2 naphthoquinonediazide-16-sulfoylclauride, and 1,2benzoquinonediazide-14- Sulfo-urc-mouth rides and the like are preferably used. Of these, 1,2 naphthoquinonediazido 5-sulfo-urc-mouth ride is preferred.
  • the methylene group of the compound having an active methylene group is reacted with the diazo group of the obtained intermediate to generate a substituent X.
  • the compound having an active methylene group include acetylacetone, alkyl acetoacetate, and dialkyl malonate. Can be suitably used. In this reaction, it is preferable to use potassium tert-butoxide, sodium methoxide or the like as a catalyst.
  • the lower limit of the molar ratio (acid derivative Z raw material (e ')) of the raw material resin (e') when reacting the above-mentioned Ar-inducing substituent with an acid derivative having a diazo group. Is preferably 0.1 or more, more preferably 0.2 or more.
  • the upper limit of the molar ratio is 1.0, that is, all the hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl group of the raw resin (e ') may be esterified. It is preferable that the phenolic hydroxyl group derived from e ′) remains, since the resin (becomes soluble in an alkali developing solution. Therefore, the upper limit of the molar ratio is preferably less than 1.0. Magusu 0.333 or less is more preferable.
  • the amount of the resin (e) used is preferably in the range of 1 to 10% by mass, more preferably in the range of 3 to 7% by mass, based on the total solid content of the negative photosensitive composition. .
  • the amount of the resin (e) used is less than the above range, the fogging prevention effect cannot be sufficiently obtained, and when the amount used is more than the above range, the balance of the developing property is lost and a good image is obtained. It may not be available.
  • the negative photosensitive composition of the present invention contains a sulfonated compound (f) represented by the following general formula (V).
  • R and R ' represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group or heterocyclic group which may be the same or different.
  • the sulfone conjugate (f) acts as a dissolution inhibitor for the alkali-soluble resin and does not cause abrasion when exposed to light.
  • sulfone conjugate (f) represented by the general formula (V), specifically, diphenylenolesnorefone, dixylyl sulfone, 4,4, dichlorodiphenyl sulfone, Di-n-butylsulfone, 2-pyridyltrib-mouth methylsulfone, and the like.
  • diphenyl sulfone is particularly preferably used, in which R and R are preferably aryl groups in view of the effect of suppressing the dissolution of the alkali-soluble resin in the developer.
  • two or more sulfone conjugates (f) may be used in combination.
  • the use amount of the sulfone compound (f) is preferably in the range of 0.01 to 50% by mass relative to the solid content of the negative photosensitive composition, and particularly preferably in the range of 0.5 to 20% by mass. preferable.
  • the amount of the sulfonated conjugate (f) used is less than 0.01% by mass, the effect of suppressing the dissolution of the alkali-soluble resin cannot be sufficiently improved.
  • the solubility of the non-image area in the developing solution is significantly reduced.
  • the negative photosensitive composition of the present invention may contain, if necessary, known additives such as a coloring material (dye or pigment), a surfactant, a plasticizer, and a stability improver.
  • Suitable dyes include, for example, basic oil-soluble dyes such as crystal violet, malachite green, Victoria blue, methylene blue, ethyl violet, and rhodamine B.
  • Commercially available products include, for example, "Victoria Pure Blue BOH” (manufactured by Hodogaya-Danigaku Kogyo Co., Ltd.), “Oil Blue # 603" (manufactured by Orienti-Danigaku Kogyo Co., Ltd.), “VPB—Nap s ( Victoria Pure Blue naphthalene sulfonate) ”(manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.),“ D11 ”(manufactured by PCAS), and the like.
  • the pigment include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, dioxazine violet, quinacridone red, and the like.
  • Examples of the surfactant include a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant.
  • plasticizer examples include getyl phthalate, dibutyl phthalate, octyl phthalate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tricresyl phosphate, tri (2-chloroethyl) phosphate, and tributyl citrate.
  • phosphoric acid for example, phosphoric acid, phosphorous acid, oxalic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid, dipicolinic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid and the like can be used in combination.
  • phosphoric acid for example, phosphoric acid, phosphorous acid, oxalic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid, dipicolinic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid and the like can be used in combination.
  • the amount of these various additives varies depending on the purpose. Usually, the amount is preferably in the range of 0 to 30% by mass of the solid content of the photosensitive composition.
  • the negative-working photosensitive lithographic printing plate of the present invention is schematically constituted having a support and a photosensitive layer provided on the support and comprising the above-described negative-working photosensitive composition.
  • the photosensitive layer may be referred to as a heat-sensitive layer because it utilizes heat generated by light irradiation, but is referred to herein as a photosensitive layer for convenience.
  • the support for example, a metal plate of aluminum, zinc, copper, stainless steel, iron or the like; a plastic film of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polybutylacetal, polyethylene, or the like; Composite materials in which a metal layer is provided on a paper or plastic film coated with a resin solution by a technique such as vacuum deposition or lamination; and other materials used as a support for a printing plate.
  • a metal plate of aluminum, zinc, copper, stainless steel, iron or the like a plastic film of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polybutylacetal, polyethylene, or the like
  • Composite materials in which a metal layer is provided on a paper or plastic film coated with a resin solution by a technique such as vacuum deposition or lamination and other materials used as a support for a printing plate.
  • aluminum and the use of a composite support coated with aluminum are particularly preferred.
  • the surface of the aluminum support is desirably surface-treated for the purpose of increasing water retention and improving adhesion to the photosensitive layer.
  • Such surface treatments include, for example, a brush polishing method, a ball polishing method, electrolytic etching, chemical etching, liquid horning, roughening treatment such as sand blasting, and combinations thereof.
  • an electrolytic bath used for electrolytic etching an aqueous solution containing an acid, an alkali or a salt thereof or an aqueous solution containing an organic solvent is used.
  • an electrolytic solution containing hydrochloric acid, nitric acid, or a salt thereof is particularly preferable.
  • the aluminum support subjected to the surface roughening treatment is desmutted with an acid or alkali aqueous solution as necessary.
  • the aluminum support thus obtained is desirably anodized.
  • anodizing treatment in a bath containing sulfuric acid or phosphoric acid is desirable.
  • silicate treatment sodium silicate, potassium silicate
  • fluorozirco-potassium diamate treatment phosphomolybdate treatment, alkyl titanate treatment, polyatalylic acid treatment, polybutyral treatment Sulfonic acid treatment, phosphonic acid treatment, phytic acid treatment, treatment with a salt of a hydrophilic organic polymer compound and a divalent metal, hydrophilic treatment with an undercoat of a water-soluble polymer having a sulfonic acid group, coloring with an acid dye Treatment, electrodeposition of silicate, etc.
  • an aluminum support that has been subjected to a sealing treatment after the surface roughening treatment (graining treatment) and the anodic oxidation treatment is also preferable.
  • Sealing treatment includes hot water, and inorganic or organic salts This is performed by immersing the aluminum support in a hot aqueous solution or by a steam bath or the like.
  • the negative photosensitive lithographic printing plate of the present invention is obtained by dissolving or dispersing a negative photosensitive composition in an organic solvent, coating the support on the surface of the support, and drying and drying the negative photosensitive composition on the support. It is manufactured by forming a photosensitive layer.
  • organic solvent for dissolving or dispersing the negative photosensitive composition any known and commonly used organic solvent can be used. Among them, those having a boiling point in the range of 40 ° C. to 200 ° C., particularly 60 ° C. to 160 ° C. are selected from the advantages in drying.
  • Examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or isopropyl alcohol, n- or isobutyl alcohol, and diacetone alcohol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, and methyl butyl.
  • alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or isopropyl alcohol, n- or isobutyl alcohol, and diacetone alcohol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, and methyl butyl.
  • Ketones such as ketone, methyl amyl ketone, methyl hexyl ketone, getyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and acetyl acetone; hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, benzene, Hydrocarbons such as toluene, xylene, and methoxybenzene; acetates such as ethyl acetate, n- or isopropyl acetate, n or isobutynoleate, ethynolebutynoleate, and hexinoleate; Tells; halides such as methylene dichloride, ethylene dichloride, and monochlorobenzene;
  • Ethers such as isopropyl ether, n-butyl ether, dioxane, dimethyldioxane, and tetrahydrofuran; ethylene glycol, methylacetosolve, methylacetosolve acetate, etinoleserosonolebu, getylosesolove, cellosonolebuacetate , Butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol , Propylene glycol monomethyl atenorea acetate, propylene glycol monomonoethenolate, propylene Rikonore mono ethyl Honoré ether Honoré acetate, propylene glycol monobutyl ether, 3-methylcarbamoyl Lou methoxybutanol, 1 Metokishi 2 derivatives of polyhydric alcohols and their propanol
  • Examples of the method of applying the negative photosensitive composition include roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, gravure offset coating, hopper coating, blade coating, wire doctor coating, spray coating, and the like. A method is used.
  • the coating amount of the negative-working photosensitive composition is in the range of 10ml / 2 ⁇ 100mlZm 2 is preferred.
  • Drying of the negative photosensitive composition applied on the support is usually performed with heated air. Heating is preferably in the range of 30 ° C to 200 ° C, particularly preferably in the range of 40 ° C to 140 ° C. A method in which the drying temperature is kept constant during drying, as well as a method in which the temperature is gradually increased, can be carried out.
  • the heated air is preferably supplied to the coating surface at a rate of 0.5 to 30 mZ seconds, particularly 0.5 to 20 mZ seconds.
  • the coating amount of the photosensitive composition is usually a dry weight in the range of about 0.5 5 to about 5gZm 2.
  • the negative photosensitive lithographic printing plate of the present invention is a so-called computer-to-plate (CTP) plate capable of directly writing an image on the plate by using a laser based on digital image information of a computer.
  • CTP computer-to-plate
  • the laser light source used in the present invention various semiconductor lasers having an oscillation wavelength from 300 nm to 950 nm, a carbon dioxide laser (oscillation wavelength: 10.6 nm), and a YAG laser (oscillation wavelength; 532 nm '1064 nm) Excimer laser (oscillation wavelength; 193 nm '308 nm. 35111111), Argon laser (oscillation wavelength; 48811111) and the like. Any of these lasers can be used by selecting a suitable pigment or dye capable of absorbing a specific wavelength of a light source and converting it into heat, also in the above-mentioned medium power, and adding it to the negative photosensitive composition.
  • a high-output laser having a maximum intensity in the near-infrared and infrared regions is most preferably used.
  • a high-intensity laser having the maximum intensity in the near-infrared power and infrared region includes: Various lasers having a maximum intensity in the near-infrared to infrared region of 760 nm to 3000 nm, for example, a semiconductor laser, a YAG laser and the like can be mentioned.
  • the negative photosensitive lithographic printing plate of the present invention is obtained by writing an image on a photosensitive layer using a laser beam, developing the image, and removing a non-image portion by a wet method.
  • the developer used for the development treatment include an aqueous alkaline solution (a basic aqueous solution).
  • alkaline agent used in the developer examples include sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium, potassium, and ammonium hydroxide of secondary or tertiary phosphate.
  • -Inorganic alkali compounds such as sodium salt, sodium metasilicate, sodium carbonate, and ammonia; monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, getylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, n- Organic alkali compounds such as butyramine, di-n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, ethyleneimine and ethylenediamine are exemplified.
  • the content of the alkali agent in the developer is preferably in the range of 0.005 to 10% by mass, and particularly preferably in the range of 0.05 to 5% by mass.
  • the content of the alkaline agent in the developer is less than 0.005% by mass, the development tends to be poor, and when the content is more than 10% by mass, the image portion is eroded at the time of image development. It is preferable because there is a tendency.
  • Organic solvent can also be added to the developer.
  • Organic solvents that can be added to the developer include, for example, ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycolone monobutynoleate acetate, butynole lactate, butynole levulinate, methinoleethynole ketone, ethyl butyl Ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethylene glycolone monobutynoleate, ethylene glycolone monobenzinoate, ethyleneglyconele monophene-note, benzinoleanole, methinolefe-norecanolebite, n-Amyl alcohol, methylamyl alcohol, xylene, methylene dichloride, ethylene dichloride, monochrome benzene, and the like.
  • the amount of the organic solvent is preferably 20% by mass or less, particularly preferably 10% by mass or less.
  • water-soluble sulfites such as lithium sulfite, sodium sulfite, potassium sulfite, and magnesium sulfite; if necessary, alkali-soluble pyrazopine compounds, alkali-soluble thiol compounds, methylresorcinol, etc.
  • Hydroxyaromatic compounds such as polyphosphates and aminopolycarboxylic acids; sodium isopropylnaphthalenesulfonate, sodium n-butylnaphthalenesulfonate, sodium N-methyl-N-pentadecylaminoacetate, sodium lauryl sulfate
  • Aionic surfactants such as salts
  • Nonionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, various surfactants such as fluorine-based surfactants, and various defoaming agents can be used. it can.
  • a commercially available developing solution for a negative PS plate or a positive PS plate can be used.
  • a commercially available developer for a concentrated negative PS plate or a developer for a positive PS plate, which is diluted 1 to LOOO times, can be used as the developer in the present invention. .
  • the temperature of the developer is preferably in the range of 15 to 40 ° C, and the immersion time is preferably in the range of 1 second to 2 minutes. If necessary, the surface can be lightly rubbed during development.
  • the lithographic printing plate after development is washed with water and treated with a Z or water-based desensitizing agent.
  • water-based desensitizing agent examples include aqueous solutions of water-soluble natural polymers such as gum arabic, dextrin, and carboxyl methyl cellulose; and water-soluble synthetic polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and polyacrylic acid. Can be If necessary, an acid, a surfactant or the like is added to these aqueous desensitizing agents. After being treated with a desensitizing agent, the lithographic printing plate is dried and used for printing as a printing plate.
  • the yellow dye is known to absorb in the ultraviolet region
  • the present inventors have found that when the yellow dye is contained in place of the resin (e), the developability is significantly deteriorated. Confirmed. This is probably because the acid generated from the compound (c) which generates an acid by heat is trapped by the yellow dye.
  • the negative-type photosensitive lithographic printing plate of the present invention does not cause such inconvenience, but can increase the developing speed and form a good image. can do.
  • the negative photosensitive composition of the present invention can be used for various uses such as a photoresist in addition to a lithographic printing plate.
  • Resin (e) was synthesized as follows.
  • the solution in the flask was kept at 30 ° C., and 6.47 g of triethylamine was added dropwise as a desalinating hydrogenating agent. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 10 hours. Next, the solution in the flask was poured into 1500 g of deionized water, and the precipitate was separated by filtration. The obtained precipitate was washed with deionized water and then dried to obtain a naphthoquinonediazide-modified polymer (I) having a dry mass of 33.5 g.
  • the obtained polymer (1) was subjected to infrared spectroscopy. As a result, it was found that absorption specific to the naphthoquinone diazide conjugate was not observed. Also, when UV spectrum analysis was performed And a peak was observed at 420 nm.
  • a naphthoquinonediazide-modified polymer (I) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Next, 16.7 g of the obtained naphthoquinonediazide-modified resin (1) and 132.5 g of methyl acetoacetate were placed in a light-shielded three-necked flask and stirred with a stirrer. After that, a synthesis example
  • a polymer (2) having a dry mass of 168 g was obtained in the same manner as in 1.
  • the obtained polymer (2) was subjected to infrared spectroscopy. As a result, it was found that absorption characteristic of the naphthoquinone diazide conjugate was not observed. Also, when UV spectrum analysis was performed
  • PAD-333 (trade name, manufactured by PCAS) was used as a naphthoquinonediazide-modified polymer.
  • This PAD-333 is pyrogallol'acetone resin, in which one of the three hydroxyl groups of pyrogallol is esterified with 1,2-naphthoquinonediazido 5-sulfol-chloride.
  • the obtained precipitate was washed with deionized water and then dried to obtain a polymer (3) having a dry mass of 8.4 g.
  • the obtained polymer (3) was subjected to infrared spectroscopy. As a result, it was found that absorption specific to the naphthoquinone diazide conjugate was not observed. Further, when ultraviolet spectrum analysis was performed, a peak was found at 420 nm.
  • the obtained polymer (4) was subjected to infrared spectroscopy. As a result, it was found that absorption characteristic of the naphthoquinone diazide conjugate was not observed. Further, when ultraviolet spectrum analysis was performed, a peak was found at 420 nm.
  • a polymer (5) having a dry mass of 8.3 g was obtained in the same manner as in Synthesis Example 3 except that 66.8 g of acetoacetic acid methyl ester was used in Synthesis Example 3 in place of acetylacetone.
  • the obtained polymer (5) was subjected to infrared spectroscopy. As a result, it was found that absorption characteristic of the naphthoquinone diazide conjugate was not observed. In addition, when ultraviolet spectrum analysis was performed, a peak was found at 403 nm.
  • HD-30 is a compound in which three naphthoquinonediazidesulfonic acid ester groups are provided on one benzene ring of diphenyl ketone. Then, 3.02 g of HD-30 and 33.4 g of acetylacetone were placed in a light-shielded triloflaco and stirred with a stirrer. Next, 0.42 g of potassium tert-butoxide was added to the solution in the flask, and an additional 1.68 g of deionized water was removed.
  • the solution in the flask was heated to 60 ° C and stirring was continued for 24 hours. Next, the solution in the flask was poured into a mixed solution of 113 g of toluene and 25 g of deionized water, and the precipitate was separated by filtration. The obtained precipitate was washed with deionized water, and then dried to obtain a compound (7) having a dry mass of 3.lg.
  • the obtained compound (7) was subjected to infrared spectroscopy. As a result, it was found that absorption characteristic of the naphthoquinone diazide conjugate was not observed. Also, when UV spectrum analysis was performed And a peak was observed at 420 nm.
  • alkali-soluble resin (a) As alkali-soluble resin (a), m-cresol novolac resin (solid content 35% by mass, solvent acetone, trade name: N-13P, manufactured by Eastman Kodak Company) 7. 20 parts by mass, and Phenol novolak resin (trade name: PN-4, manufactured by Asahi Organic Materials Co., Ltd.)
  • a blue dye represented by the following formula (VI) (trade name: D-11, manufactured by PCAS): 0.06 parts by mass, and
  • DC- 190 (trade name, Eastman Kodak Kampa - one company, Ltd., the solvent is propylene glycol monomethyl ether (PGME), concentration of 10 mass 0/0) 0.44 parts by weight,
  • An aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was degreased with an aqueous sodium hydroxide solution, and this was electropolished in a 20% hydrochloric acid bath to obtain a center line average roughness (Ra) of 0.5 m. Grained board was obtained.
  • the coating solution of the negative photosensitive composition was coated on an aluminum support with a bar coater (# 12) and dried at 120 ° C. for 50 seconds to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate. At this time, the dry coating amount was 1.4 gZm 2 .
  • a negative photosensitive lithographic plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a coating solution containing no resin (e) was used in Example 1 as an example of a coating solution for the negative photosensitive composition. A printing plate was obtained.
  • image exposure was performed with a specified laser power using an exposure machine equipped with a near-infrared semiconductor laser (trade name: Trendsetter 3244, Creo, wavelength 830 nm, rotation speed 185 rpm). went.
  • a near-infrared semiconductor laser trade name: Trendsetter 3244, Creo, wavelength 830 nm, rotation speed 185 rpm.
  • Table 1 shows the difference between the measurement results and the measurement results of Comparative Example 3. That is, the measurement result of Comparative Example 3 is force ⁇ s, and a negative value indicates that it was shorter than this.
  • the obtained photosensitive lithographic printing plate was exposed to a UV-cut white fluorescent lamp for a predetermined time, and then subjected to the same preheating and development treatment as in the sensitivity evaluation described above.
  • the light exposure time was varied in 1 minute intervals from 5 to 15 minutes.
  • Table 1 shows the fog time (unit: minute) at which development failure occurred.
  • One of the general evaluations of fogging prevention characteristics is safety flight safety, which is evaluated based on the allowable exposure time (safety time) to prevent poor development when exposed to a UV-cut white fluorescent lamp. 'I have sex.
  • the safe light safety of a negative photosensitive composition can be improved and a negative photosensitive composition and a negative photosensitive lithographic printing plate excellent in fog prevention characteristics can be obtained.

Description

ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版
技術分野
[0001] 本発明は、オフセット印刷分野で使用されるネガ型感光性平版印刷版に関し、特 に、コンピュータ一等によるデジタル信号力も直接製版できる、いわゆるコンピュータ 一 'トウ'プレート (CTP)版として用いられるネガ型感光性平版印刷版、およびこのよ うな平版印刷原版の感光層に好適に用いられるネガ型感光性組成物に関する。 本願は、 2004年 4月 13日に出願された特願 2004— 118334号に基づき優先権 を主張し、その内容をここに援用する。
背景技術
[0002] 近年、コンピュータ画像処理技術の進歩に伴!ヽ、デジタル信号に対応した光照射 により直接感光層に画像を書き込む方法が開発されている。本システムを平版印刷 版に利用し、銀塩マスクフィルムへの出力を行わずに、直接、感光性平版印刷版に 画像を形成するコンピュータ ·トウ ·プレート(CTP)システムが注目されて 、る。光照 射の光源として、近赤外または赤外領域に最大強度を有する高出力レーザーを用い る CTPシステムは、短時間の露光で高解像度の画像が得られること、などの利点を 有している。特に、波長 760nm〜1200nmの赤外線を放射する固体レーザーおよ び半導体レーザーは、高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになつてきて いる。
[0003] このような赤外線を放射する固体レーザーまたは半導体レーザーを用いて画像を 形成することが可能なネガ型感光性組成物としては、アルカリ可溶性榭脂 (ノボラック 榭脂等)、酸により架橋する化合物(レゾ一ル榭脂等の酸架橋剤)、熱により酸を発生 する化合物 (酸発生剤)、および光熱変換剤 (染料、顔料等の赤外線吸収剤)からな るものが提案されており、例えば下記特許文献 1に開示されている。
また酸発生剤として、ョードニゥム塩やスルホ -ゥム塩などのォ-ゥム塩ィ匕合物ゃジ ァゾ-ゥム塩化合物を用いることが知られて 、る。
[0004] このようなネガ型感光性組成物においては、以下のようにしてネガ型の画像が形成 されるとされている。まず、固体レーザーまたは半導体レーザーから放射される赤外 線が、光熱変換剤によって熱に変換される。この熱により酸発生剤から酸が発生する 。次いで、現像前のプレヒート (加熱)を行うと、酸の触媒作用により架橋される。これ により、ネガ型の画像が形成される。
[0005] ところで、下記特許文献 2には、ポジ型感光性組成物に、フエノール性水酸基の少 なくとも一部をスルホン酸ィ匕合物でエステルイ匕したスルホン酸エステル構造を有する エステルイ匕アルカリ可溶性榭脂を含有させることが記載されており、該スルホン酸ェ ステル化合物の例の中に、本発明における置換基 Xを有する化合物が含まれて 、る し力しながら、該文献に記載されている発明は、ネガ型感光性組成物とは反応のメ 力二ズムが全く異なるポジ型の感光性組成物に関するものであり、上記エステル化ァ ルカリ可溶性榭脂は、アルカリ溶解性を低下させて膜強度を向上させるための溶解 抑制剤または膜強度向上剤として用いられている。
特許文献 1:特開平 7— 20629号公報
特許文献 2:特開平 11― 228089号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] 感光性平版印刷版は明室での取り扱いが可能であることが要求されるが、酸発生 剤として好適なォ-ゥム塩ィ匕合物やジァゾユウム塩ィ匕合物が UV感受性を有している ために、これらを含有する感光性平版印刷版が白色灯または UVが低減された白色 灯 (UVカット)に曝された場合に、未露光部にも若干の濃度が出てしまう「かぶり」と 呼ばれる現象不良が生じ易 、と 、う問題があった。
[0007] 本発明は前記事情に鑑みてなされたものであって、白色蛍光灯や UVカット白色蛍 光灯に曝光されても現像不良が生じ難いネガ型感光性組成物およびネガ型感光性 平版印刷版を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0008] 上記の目的を達成するために、本発明のネガ型感光性組成物は、アルカリ可溶性 榭脂 (a)、酸により架橋する化合物 (b)、熱により酸を発生する化合物 (c)、光熱変換 剤(d)、およびフエノール性水酸基を有する榭脂であって、少なくとも一部のフエノー ル性水酸基の水素原子が、下記一般式(1)で示される基を有する置換基 Xで置換さ れて!ゝる榭脂 (e)を含有することを特徴とする。
[化 1]
Figure imgf000005_0001
(式中、 Arは置換または無置換のフエ-レン基またはナフチレン基を表し、 Y1および Y2はそれぞれ独立に COR1または COOR2を表し、 R\ R2はそれぞれ独立にアルキ ル基、ァリール基、または水素原子を表す。 )
[0009] また本発明は、支持体表面に、本発明のネガ型感光性組成物からなる感光層が設 けられていることを特徴とするネガ型感光性平版印刷版を提供する。
発明の効果
[0010] 一般的なかぶり防止の特性評価の一つに、 UVカット白色蛍光灯に曝光されたとき に、現像不良が生じないための、曝光の許容時間(安全時間)によって評価するセー フライト安全'性がある。
本発明によれば、ネガ型感光性組成物のセーフライト安全性を向上させることがで き、かぶり防止特性に優れたネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 が得られる。
発明を実施するための最良の形態
[0011] <ネガ型感光性組成物 > アルカリ可溶性榭脂 (a)とは、水不溶でアルカリ性水溶液に可溶のバインダー榭脂 をいい、具体的には、カルボキシル基、フヱノール性水酸基、スルホン酸基、ホスホン 基、活性イミノ基、 N—スルホ-ルアミド基などのアルカリ可溶性基を有する榭脂であ る。
[0012] このようなアルカリ可溶性榭脂(a)としては、例えば、フエノール 'ホルムアルデヒド榭 脂、タレゾール 'ホルムアルデヒド榭脂、フエノール 'タレゾール 'ホルムアルデヒド共縮 合榭脂等のノボラック榭脂類またはレゾール榭脂類;ポリヒドロキシスチレン;ポリハロ ゲン化ヒドロキシスチレン; N— (4—ヒドロキシフエ-ル)メタクリルアミド、ハイド口キノ ンモノメタタリレート、 N— (スルファモイルフエ-ル)メタクリルアミド、 N—フエニルスル ホ-ルメタクリルアミド、 N—フエ-ルスルホ-ルマレイミド、アクリル酸、メタクリル酸等 の酸性基を有するモノマーを 1種以上含有するアクリル系榭脂;活性メチレン基含有 榭脂;尿素結合含有榭脂等のビュル重合系榭脂; N—スルホ-ルアミド基、 N—スル ホ-ルウレイド基、 N—アミノスルホ -ルアミド基を有するポリウレタン榭脂;活性イミノ 基含有ポリウレタン榭脂等のポリウレタン榭脂;ポリヒドロキシポリアミド等のポリアミド榭 脂類;フエノール性水酸基を有するポリエステル榭脂等のポリエステル榭脂類などが 挙げられる。
[0013] これらの中でも、広い現像許容範囲が得られる点で、ノボラック榭脂が、好適に用い られる。
アルカリ可溶性榭脂 (a)の使用量は、ネガ型感光性組成物の固形分に対して 40〜 95質量%の範囲が好ましい。また、必要に応じて、 2種以上の(a)アルカリ可溶性榭 脂を併用してもよい。
アルカリ可溶性榭脂 (a)のゲルパーミュエーシヨンクロマトグラフィー(GPC)測定に よるポリスチレン換算質量平均分子量(以下、 Mwと略記する)は 1000〜50000が 好まし <、 2000〜20000力より好まし!/ヽ。
[0014] (b)
酸により架橋反応を起こす化合物 (b)は、後述の熱により酸を発生する化合物 (c) から発生した酸の触媒作用によって、アルカリ可溶性榭脂 (a)と、または酸により架橋 反応を起こす化合物 (b)と架橋し、アルカリ可溶性榭脂 (a)や酸により架橋反応を起 こす化合物 (b)をアルカリ現像液に対して不溶ィ匕するものであれば、特に限定はされ ない。
このような化合物(b)としては、例えば、メチロール基、アルコシキメチル基、ァセトキ シメチル基等を少なくとも 2つ有するァミノ化合物が挙げられる。具体的には、メトキシ メチル化メラミン、ベンゾグアナミン誘導体、グリコールゥリル誘導体等のメラミン誘導 体、尿素樹脂誘導体、レゾール榭脂などが挙げられる。 [0015] これらの中でも、画像部'非画像部の現像液への溶解度や、コントラストが大きくな る点で、レゾール榭脂が、好適に用いられる。
化合物 (b)の使用量は、ネガ型感光性組成物の固形分に対して 5〜70質量%の 範囲が好ましい。また、必要に応じて、化合物 (b)を 2種以上併用してもよい。
[0016] (c)
熱により酸を発生する化合物(c)としては、例えば、アンモニゥム塩、ホスホ-ゥム塩 、ョードニゥム塩、スルホ -ゥム塩、セレノ -ゥム塩等の公知のォ -ゥム塩、有機ハロ ゲンィ匕合物、。—二トロベンジル型保護機を有する光酸発生剤、ジスルホンィ匕合物等 が挙げられる。特に、高い感度が得られる点で、トリハロアルキルィ匕合物およびジァゾ ユウム塩ィ匕合物が好適に用いられる。
[0017] トリノ、口アルキルィ匕合物としては、例えば、米国特許第 4239850号明細書に記載 されているトリハロメチル— s トリアジン系化合物、米国特許第 4212970号明細書 に記載されて 、るォキサジァゾール系化合物、トリブロモメチルスルホニル化合物な どが挙げられる。
[0018] ジァゾ -ゥム塩化合物としては、例えば、 4ージァゾジフエニルァミン、 4 ジァゾ 3—メチルジフエニルァミン、 4 ジァゾ—4 'ーメチルジフエニルァミン、 4 ジァゾ 3 'ーメチルジフエニルァミン、 4 ジァゾ 4 'ーメトキシジフエニルァミン、 4 ジァゾ 3—メチルー 4' エトキシジフエニルァミン、 3—ジァゾー4ーメトキシジフエニルァ ミン等力 選択される少なくとも 1種の化合物の有機酸塩または無機酸塩が挙げられ る。
[0019] 有機酸としては、例えば、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン 酸、キシレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタ レンスノレホン酸、プロピノレナフタレンスノレホン酸、 1 ナフトーノレー5—スノレホン酸、 2 -トロベンゼンスルホン酸、 3 クロ口ベンゼンスルホン酸、 2 ヒドロキシ一 4—メト キシベンゾフエノン 5—スノレホン酸、 2, 4ージヒドロキシベンゾフエノン、ベンゼンホ スフイン酸、トリフルォロメタンスルホン酸等が挙げられ、無機酸としては、へキサフル ォロリン酸、テトラフルォロホウ酸、チォシアン酸等が挙げられる。
[0020] また、熱により酸を発生する化合物(c)として、分子中にスルホン酸基を有する酸性 染料のォ-ゥム塩を好適に用いることができる。
ここで、酸性染料とは、分子中にスルホン酸基、カルボキシル基などの酸性基を有 する色素酸力もなる水性染料であり、通常、ナトリウム塩として使用されるものである。 したがって、ここでの「分子中にスルホン酸基を有する酸性染料のォ -ゥム塩」とは、 分子中にスルホン酸基を有する色素酸の塩であり、カチオンとして、ナトリウムイオン の代わりに、ジァゾ -ゥムイオン、ョードニゥムイオン、スルホ -ゥムイオン等を有する ものである。
このような、分子中にスルホン酸基を有する酸性染料のォ-ゥム塩は、分子中にス ルホン酸基を有する市販の酸性染料 (主にナトリウム塩)と、ジァゾ -ゥム塩、ョードニ ゥム塩、スルホ -ゥム塩等のォ-ゥム塩ィ匕合物とを、水溶液の状態で混合し、生成し た沈澱を濾過することにより得ることができる。
分子中にスルホン酸基を有する市販の酸性染料としては、例えば、 Acid Red 35 0 (下記式(I 1) )、 Acid Blue 114 (下記式(I 2) )、 Benzo Indigo Blue (下 記式(I 3) )、 Direct Brown 202 (下記式(I 4) )、 Acid Green 5 (下記式(I 5) )、 Food Green 2 (下記式(I 5) )、 Acid Blue 34 (下記式(I 6) )、 Aci d Blue 90 (下記式(I— 7) )、 Acid Green 25 (下記式(1— 8) )、 Anthraquinon e Green GX (下記式(1— 9) )、 Acid Red 81 (下記式(I— 10) )、 Acid Blue 80 (下記式 (I 11) )が代表的なものとして挙げられる。
ScOB
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0002
SEOEN
(l-l) 'L N N
Figure imgf000009_0003
[ ] [2200]
L
ZLlLOO/SOOZdT/lDd 9Zll0l/S00Z OAV
Figure imgf000010_0001
(9-0
- O-
Figure imgf000010_0002
9ZH01/S00Z OAV
[0024] [化 4]
Figure imgf000011_0001
[0025] これらの他に、分子中にスルホン酸基を有する酸性染料としては、例えば、 Acid
Violet 2、 Acid Blue 113、 Acid Black 24、 Direct Red 116、 Direct Vi olet 41、 Direct Blue 29、 Direct Green 23、 Direct Brown 14、 Acid B lue 103、 Acid Green 22、 Acid Violet 17、 Acid Green 27、 Acid Viol et 34、 Spirit Fast Blue G、 Acid Yellow 65、 Acid Yellow 40などが挙 げられる。
[0026] また、分子中にスルホン酸基を有する酸性染料としては、分子中の炭素数が 21以 上のものが好ましい。分子中の炭素数が 21以上となることによって、分子中にスルホ ン酸基を有する酸性染料のォニゥム塩の分子量が高くなり、ォニゥム塩の熱安定性 が向上し、これに伴ってネガ型感光性組成物力 なる塗膜の保存安定性がさらによく なる。また、分子中にスルホン酸基を有する酸性染料のォ -ゥム塩の分子量が高くな り、ォ -ゥム塩の熱飛散が抑えられ、ネガ型感光性組成物からなる塗膜のアブレーシ ヨンがさらに抑制される。 また、分子中にスルホン酸基を有する酸性染料としては、青または緑系のものが検 版性、検視性に優れているため好ましい。
[0027] 分子中にスルホン酸基を有する酸性染料のォ -ゥム塩におけるカチオンとしては、 ジァゾ -ゥムイオン、ョードニゥムイオン、スルホ -ゥムイオンが挙げられる。ジァゾ- ゥムイオンとしては、例えば、下記式(II 1)〜(II 23)のものが挙げられ、ョードユウ ムイオンとしては、例えば、下記式(III 1)〜(III— 10)のものが挙げられ、スルホ- ゥムイオンとしては、例えば、下記式(IV— 1)〜(IV— 19)のものが挙げられる。
[0028] [化 5]
Figure imgf000012_0001
(11-1) (H-2) (Π-3)
OCH3
OCH3 CH3
02N- CI- -Ν2'
GI
(Μ-4) (ΙΙ-5)
OCH; OCH3
'■
Ν2 :一 N2
(C2H52 n-C4H9NH-02S
{M S)
Figure imgf000012_0002
(tl-11) (Iレ 12)
》ー
Figure imgf000012_0003
(11-13) (fl-14)
Figure imgf000013_0001
(II-22) (Π-23)
『'
Figure imgf000014_0001
3一 1-
3 0CH
C
〔s003
_■
Figure imgf000015_0001
[0032
[0033 よい。
形分に対 範囲、特
Figure imgf000016_0001
に好ましくは 1〜: L0質量%の範囲である。該化合物(c)の使用量が 0. 01質量%より い に bでアルカ a また
顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、その他ポリマー結合 色素等が挙げられる。具体的には、不溶性ァゾ顔料、ァゾレーキ顔料、縮合ァゾ顔 料、キレートァゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びべ リノン系顔料、チォインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジォキサジン系顔料、イソィ ンドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染め付けレーキ顔料、ァジン顔料、ニトロソ顔 料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
[0035] これらの中でも、特に、近赤外力 赤外線領域の光を吸収して効率よく熱を発生し 、し力も経済的に優れた物質として、カーボンブラックが好ましく用いられる。また、こ のようなカーボンブラックとしては、種々の官能基を有する分散性のよいグラフトイ匕力 一ボンブラックが市販されており、例えば、「カーボンブラック便覧第 3版」(カーボン ブラック協会編、 1995年)の 167ページ、「カーボンブラックの特性と最適配合及び 利用技術」(技術情報協会、 1997年)の 111ページ等に記載されているものが挙げ られ、いずれも本発明に好適に使用される。
[0036] これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよぐまた公知の表面処理を施して用い てもよい。公知の表面処理方法としては、榭脂ゃワックスを表面コートする方法、界面 活性剤を付着させる方法、シランカップリング剤やエポキシィ匕合物、ポリイソシァネー ト等の反応性物質を顔料表面に結合させる方法などが挙げられる。これらの表面処 理方法については、「金属石鹼の性質と応用」(幸書房)、「最新顔料応用技術」 (C MC出版、 1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、 1984年刊)に記載されてい る。
本発明で使用される顔料の粒径は、 0. 01〜15マイクロメートルの範囲にあることが 好ましぐ 0. 01〜5マイクロメートルの範囲にあることがさらに好ましい。
[0037] 本発明で使用される染料としては、公知慣用のものが使用でき、例えば、「染料便 覧」(有機合成化学協会編、昭和 45年刊)、「色材工学ハンドブック」(色材協会編、 朝倉書店、 1989年刊)、「工業用色素の技術と市場」(シーエムシー、 1983年刊)、「 化学便覧応用化学編」(日本化学会編、丸善書店、 1986年刊)に記載されているも のが挙げられる。より具体的には、ァゾ染料、金属鎖塩ァゾ染料、ピラゾロンァゾ染料 、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ-ゥム染料、キノンィミン染料、メチ ン染料、シァニン染料、インジゴ染料、キノリン染料、ニトロ系染料、キサンテン系染 料、チアジン系染料、ァジン染料、ォキサジン染料等の染料が挙げられる。これらの 染料の中でも、近赤外力 赤外領域の光を吸収するものが特に好ましい。
[0038] 近赤外光もしくは赤外光を吸収する染料としては、例えば、シァニン染料、メチン染 料、ナフトキノン染料、スクヮリリウム色素、ァリールべンゾ (チォ)ピリジ-ゥム塩、トリメ チンチアピリリウム塩、ピリリウム系化合物、ペンタメチンチォピリリウム塩、赤外吸収染 料等が挙げられる。
[0039] 光熱変換剤 (d)は、上記の顔料または染料の中から、後述する光源の特定波長を 吸収し、熱に変換できうる適当な顔料または染料を少なくとも 1種を選び、ネガ型感 光性組成物に添加することにより使用される。
[0040] 光熱変換剤 (d)として顔料を使用する場合、顔料の使用量は、ネガ型感光性組成 物の全固形分に対して、 1〜70質量%の範囲が好ましぐより好ましくは 3〜50質量 %の範囲、特に好ましくは 5〜 10質量%の範囲である。顔料の使用量が 1質量%より 少ない場合には、光を吸収して熱を発生しても充分な熱量とはならず、使用量が 70 質量%より多い場合には、発生する熱量が多すぎる傾向にあるので好ましくない。
[0041] (d)光熱変換剤として染料を使用する場合、染料の使用量は、ネガ型感光性組成 物の全固形分に対して、 0. 1〜30質量%の範囲が好ましぐより好ましくは 0. 5〜2 0質量%の範囲、特に好ましくは 1〜10質量%の範囲である。染料の使用量が 0. 1 質量%より少ない場合には、光を吸収して熱を発生しても充分な熱量とはならず、使 用量が 30質量%より多い場合には、発生する熱量が実質的に飽和に達して添加の 効果が上がらな 、傾向にあるので好ましくな!/、。
[0042] (e)
本発明における榭脂 (e)は、フエノール性水酸基を有する原料榭脂 (e' )の、少なく とも一部のフ ノール性水酸基の水素原子が、上記一般式(1)で示される基を有す る置換基 Xで置換されて 、るものである。
置換基 Xで置換される前の原料榭脂 (e' )としては、前記アルカリ可溶性榭脂 (a)と して使用できる樹脂のうちのフエノール性水酸基を有する榭脂を用いることができる。 中でも、芳香族ヒドロキシィ匕合物とアルデヒド類またはケトン類とを酸性触媒下で縮 合反応させて得られるノボラック榭脂が好ま 、。
芳香族ヒドロキシ化合物としては、フエノール類が好ましぐ例えばフエノール、 o— クレゾール、 m—クレゾール、 p—クレゾール、 2, 3—ジメチルフエノール、 2, 4—ジメ チルフエノール、 2, 5—ジメチルフエノール、 2, 6—ジメチルフエノール等の一価フエ ノール、レソルシノール、ヒドロキノン、カテコール等の二価フエノール、ピロガロール、 没食子酸、没食子酸プロピル等の三価フ ノール等が例示される。
アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、ァセトアルデヒド等が挙げられる。
ケトン類としては、アセトン、メチルェチルケトン等が挙げられる。
特に、タレゾール 'レソルシノール'ホルムアルデヒド共縮合榭脂、ピロガロール'ァ セトン樹脂、タレゾール 'ホルムアルデヒド榭脂(タレゾールノボラック榭脂)が好適で ある。
該原料榭脂(e,)の Mwは 500〜20, 000の範囲力 子ましく、より好ましくは 1, 000 〜5, 000の範囲である。
上記一般式(1)で示される基を有する置換基 Xにおいて、 Arはフエ二レン基(ベン ゼンから 2個の水素原子が失われてできる 2価基)またはナフチレン基 (ナフタレンか ら 2個の水素原子が失われてできる 2価基)であり、置換基 Zを 1個以上有していても よい。該置換基 Zの例としては水酸基、炭素数 1〜20のアルキル基が挙げられる。置 換基 Zは好ましくは水酸基である。
置換基 Xにお 、て、 Y1および Y2はそれぞれ独立に COR1または COOR2を表す。 該 R R2はそれぞれ独立にアルキル基、ァリール基、または水素原子を表す。 R R 2のアルキル基の炭素数は 1〜20が好ましぐ特にメチル基が好ましい。 R\ R2のァリ ール基の炭素数は 6〜18が好ましぐ特にフエ-ル基が好ましい。
また、置換基 Xは下記一般式(2)で表されるスルホン酸エステル基、または下記一 般式(3)で表されるカルボン酸エステル基であることが好ましい。なお、一般式(2)お よび(3)において、 Ar、 Y\ Y2、 R\ R2は一般式(1)と同義である。 [0044] [化 10]
Figure imgf000020_0001
[0045] 置換基 Xの好ま 、例を下記式 (4)に示す,
[0046] [化 11]
(4)
Figure imgf000020_0002
(式中、 R3は CH3又は 0CH3を表す。)
[0047] 上記一般式(1)で示される基の具体例を下記式(5)〜 (44)に示す。
/101126
PCT/JP2005/007172
19
12]
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000021_0002
/101126
PCT/JP2005/007172
20 13]
Figure imgf000022_0001
)
Figure imgf000022_0002
21
[0050] [化 14]
:26)
(28) 0)
Figure imgf000023_0001
Figure imgf000023_0002
OH H 0/C—。
人 N〜 =C (34) :) \
OC— OC2H4OCH3
[0051] [化 15]
Figure imgf000024_0001
OC-CH3
OC— CH.
/ H /
N-N^C ( 38 )
( 37 ) V
\ OC— OCH3
OC— C2H5
OC— CH3
H / ( 39 ) l-C ( 4ひ)
\
OC— OC2H5 V OC— OC3H7
Figure imgf000024_0002
OC— CH3
H ! ( 43 )
N-N=C
OC— O" OC— CH3
OC— OC2H4OCH3
[0052] 榭脂 (e)は、例えば次の方法で製造することができる。すなわち、まず原料榭脂 (e' )と、上記 Arを誘導する置換基とジァゾ基を有する酸誘導体とを反応させて、原料榭 脂(e ' )のフエノール性水酸基の少なくとも一部が前記酸誘導体によってエステルイ匕 された中間体を得る。前記酸誘導体としてスルホン酸塩またはカルボン酸塩を用いる のが好ましい。前記酸誘導体として、例えば 1, 2 ナフトキノンジアジドー 4—スルホ ニルクロライド、 1, 2 ナフトキノンジアジド一 5—スルホユルク口ライド、 1 , 2 ナフト キノンジアジド一 6—スルホユルク口ライド、 1, 2 ベンゾキノンジアジド一 4—スルホ ユルク口ライド等が好適に用いられる。中でも 1, 2 ナフトキノンジアジドー 5—スルホ ユルク口ライドが好ましい。
次いで、得られた中間体のジァゾ基に、活性メチレン基を有する化合物のメチレン 基を反応させて置換基 Xを生成する。活性メチレン基を有する化合物としては、例え ば、ァセチルアセトン、ァセト酢酸アルキルエステル、マロン酸ジアルキルエステル等 を好適に用いることができる。この反応においては、触媒としてカリウム一 tert—ブトキ シド、ナトリウムメトキシド等を用いることが好ましい。
[0053] 原料榭脂 (e' )と、上記 Arを誘導する置換基とジァゾ基を有する酸誘導体とを反応 させるときの両者のモル比 (酸誘導体 Z原料榭脂 (e' ) )の下限は 0. 1以上が好ましく 、より好ましくは 0. 2以上である。また該モル比の上限は 1. 0、すなわち原料榭脂(e' )の全部のフエノール性水酸基の水素原子がエステルイ匕されてもよいが、榭脂(e)に おいて、原料榭脂 (e ' )に由来するフ ノール性水酸基が残存していると、榭脂 ( が アルカリ現像液に可溶となるので好ましい。しがたつて前記モル比の上限は、 1. 0未 満が好ましぐ 0. 333以下がより好ましい。
[0054] 榭脂(e)の使用量は、ネガ型感光性組成物の全固形分に対して、 1〜10質量%の 範囲が好ましぐより好ましくは 3〜7質量%の範囲である。榭脂(e)の使用量が上記 範囲より少ない場合には、かぶり防止効果が十分に得られず、使用量が上記範囲よ り多い場合には、現像性のバランスがくずれて良好な画像が得られないおそれがあ る。
[0055] (f)
さらに、本発明のネガ型感光性組成物に、下記一般式 (V)で示されるスルホンィ匕 合物 (f )を含有させることが好ま 、。
R— SO— R
2 , - " (V)
(式中、 Rおよび R'は、同一でも異なっていてもよぐ置換または無置換のアルキル 基、アルケニル基、ァリール基または複素環基を表す。 )
[0056] 該スルホンィ匕合物 (f)は、アルカリ可溶性榭脂の溶解抑制剤として作用し、かつ露 光時にアブレーシヨンを起こさな 、ものである。
[0057] このような前記一般式 (V)で示されるスルホンィ匕合物(f)としては、具体的には、ジ フエニノレスノレホン、ジキシリルスルホン、 4, 4,ージクロロジフエニルスルホン、ジー n -ブチルスルホン、 2 -ピリジルトリブ口モメチルスルホンなどが挙げられる。
これらの中でも、アルカリ可溶性榭脂の現像液への溶解抑制効果の点で、式中、 R および R,がァリール基のものが好ましぐ特に、ジフエニルスルホンが好適に用いら れる。また、必要に応じて、スルホンィ匕合物 (f)を 2種以上併用してもよい。 [0058] スルホン化合物(f)の使用量は、ネガ型感光性組成物の固形分に対して 0. 01〜5 0質量%の範囲が好ましぐ 0. 5〜20質量%の範囲が特に好ましい。該スルホンィ匕 合物 (f)の使用量が 0. 01質量%より少ない場合には、アルカリ可溶性榭脂の溶解を 抑制する作用の向上が十分に期待できず、 50質量%より多い場合には、非画像部 の現像液に対する溶解度が著しく低下する。
[0059] (その他の成分)
本発明のネガ型感光性組成物には、必要に応じて、公知の添加剤、例えば、着色 材 (染料、顔料)、界面活性剤、可塑剤、安定性向上剤を加えることができる。
好適な染料としては、例えば、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、ビクトリア ブルー、メチレンブルー、ェチルバイオレット、ローダミン B等の塩基性油溶性染料な どが挙げられる。市販品としては、例えば、「ビクトリアピュアブルー BOH」〔保土谷ィ匕 学工業 (株)製〕、「オイルブルー # 603」〔オリエントィ匕学工業 (株)製〕、「VPB— Nap s (ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩)」〔保土谷化学工業 (株)製〕、「D 11」〔PCAS社製〕等が挙げられる。顔料としては、例えば、フタロシアニンブルー、フ タロシアニングリーン、ジォキサジンバイオレット、キナクリドンレッド等が挙げられる。
[0060] 界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等が挙げられ る。
可塑剤としては、例えば、ジェチルフタレート、ジブチルフタレート、ジォクチルフタ レート、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ(2—クロ口 ェチル)、クェン酸トリブチル等が挙げられる。
さらに、公知の安定性向上剤として、例えば、リン酸、亜リン酸、蓚酸、酒石酸、リン ゴ酸、クェン酸、ジピコリン酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン 酸等ち併用することがでさる。
これら各種の添加剤の添加量は、その目的によって異なる力 通常、感光性組成 物の固形分の 0〜30質量%の範囲が好ましい。
[0061] <ネガ型感光性平版印刷版 >
本発明のネガ型感光性平版印刷版は、支持体と、該支持体上に設けられた、上述 のネガ型感光性組成物からなる感光層とを有して概略構成される。 ここで、感光層は、光照射により発生した熱を利用することから、感熱性層と称して も構わないが、ここでは便宜上感光層と称する。
[0062] 支持体としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ステンレス、鉄等の金属板;ポリ エチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビュルァセタール、ポリエチレン等の プラスチックフィルム;合成樹脂を溶融塗布ある ヽは合成樹脂溶液を塗布した紙、プ ラスチックフィルムに金属層を真空蒸着、ラミネート等の技術により設けた複合材料; その他印刷版の支持体として使用されている材料が挙げられる。これらのうち、特に アルミニウムおよびアルミニウムが被覆された複合支持体の使用が好まし 、。
[0063] アルミニウム支持体の表面は、保水性を高め、感光層との密着性を向上させる目的 で表面処理されていることが望ましい。そのような表面処理としては、例えば、ブラシ 研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体ホー-ング、サン ドブラスト等の粗面化処理、およびこれらの組み合わせが挙げられる。これらの中でも
、特に電解エッチングの使用を含む粗面化処理が好まし ヽ。
電解エッチングの際に用いられる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を 含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられる。これらの中でも、特に 、塩酸、硝酸、またはそれらの塩を含む電解液が好ましい。
[0064] さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム支持体は、必要に応じて酸またはアル カリの水溶液にてデスマット処理される。このようにして得られたアルミニウム支持体は 、陽極酸化処理されることが望ましい。特に、硫酸またはリン酸を含む浴で処理する 陽極酸ィ匕処理が望ましい。
[0065] また、必要に応じて、ケィ酸塩処理 (ケィ酸ナトリウム、ケィ酸カリウム)、フッ化ジルコ -ゥム酸カリウム処理、ホスホモリブデート処理、アルキルチタネート処理、ポリアタリ ル酸処理、ポリビュルスルホン酸処理、ホスホン酸処理、フィチン酸処理、親水性有 機高分子化合物と 2価の金属との塩による処理、スルホン酸基を有する水溶性重合 体の下塗りによる親水化処理、酸性染料による着色処理、シリケ一ト電着等の処理を 行うことができる。
[0066] また、粗面化処理 (砂目立て処理)および陽極酸化処理後、封孔処理が施されたァ ルミ-ゥム支持体も好ましい。封孔処理は、熱水、および無機塩または有機塩を含む 熱水溶液へのアルミニウム支持体の浸漬、または水蒸気浴等によって行われる。
[0067] 本発明のネガ型感光性平版印刷版は、ネガ型感光性組成物を有機溶剤に溶解ま たは分散させたものを支持体表面に塗布し、これを乾燥して支持体上に感光層を形 成させること〖こよって製造される。
[0068] ネガ型感光性組成物を溶解または分散させる有機溶剤としては、公知慣用のもの がいずれも使用できる。中でも、沸点 40°C〜200°C、特に 60°C〜160°Cの範囲のも のが、乾燥の際における有利さから選択される。
[0069] 有機溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、 n—またはイソ プロピルアルコール、 n—またはイソ ブチルアルコール、ジアセトンアルコール等 のアルコール類;アセトン、メチルェチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチル ケトン、メチルアミルケトン、メチルへキシルケトン、ジェチルケトン、ジイソプチルケトン 、シクロへキサノン、メチルシクロへキサノン、ァセチルアセトン等のケトン類;へキサン 、シクロへキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、 メトキシベンゼン等の炭化水素類;ェチルアセテート、 n—またはイソ プロピルァセ テート、 n またはイソーブチノレアセテート、ェチノレブチノレアセテート、へキシノレァセ テート等の酢酸エステル類;メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルべ ンゼン等のハロゲン化物;
[0070] イソプロピルエーテル、 n ブチルエーテル、ジォキサン、ジメチルジォキサン、テトラ ヒドロフラン等のエーテル類;エチレングリコール、メチルセ口ソルブ、メチルセ口ソル ブアセテート、ェチノレセロソノレブ、ジェチルセ口ソルブ、セロソノレブアセテート、ブチル セロソルブ、ブチルセ口ソルブアセテート、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリ コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ コーノレメチノレエチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、プロピレング リコーノレ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル エーテノレアセテート、プロピレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレ モノエチノレエーテノレアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、 3—メチ ルー 3—メトキシブタノール、 1ーメトキシー 2 プロパノール等の多価アルコールとそ の誘導体;ジメチルスルホキシド、 N, N ジメチルホルムアミド、乳酸メチル、乳酸ェ チル等の特殊溶剤などが挙げられる。これらは単独あるいは混合して使用される。そ して、塗布するネガ型感光性組成物中の固形分の濃度は、 2〜50質量%とするのが 適当である。
[0071] ネガ型感光性組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコーティング、ディップコ 一ティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオフセットコーテ イング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティング、ス プレーコーティング等の方法が用いられる。ネガ型感光性組成物の塗布量は、 10ml / 2〜100mlZm2の範囲が好適である。
[0072] 支持体上に塗布されたネガ型感光性組成物の乾燥は、通常、加熱された空気によ つて行われる。加熱は 30°C〜200°C、特に、 40°C〜140°Cの範囲が好適である。乾 燥の温度は乾燥中一定に保たれる方法だけでなく段階的に上昇させる方法も実施し 得る。
また、乾燥風は除湿することによって好ましい結果が得られる場合もある。加熱され た空気は、塗布面に対し 0. lmZ秒〜 30mZ秒、特に 0. 5mZ秒〜 20mZ秒の割 合で供給するのが好適である。
感光性組成物の塗布量は、乾燥質量で通常、約 0. 5〜約 5gZm2の範囲である。
[0073] 本発明のネガ型感光性平版印刷版は、コンピュータ等力ものデジタル画像情報を 基に、レーザーを使用して直接版上に画像書き込みができる、いわゆるコンピュータ •トウ ·プレート(CTP)版として使用できる。
[0074] 本発明で用いられるレーザーの光源としては、発振波長が 300nmから 950nmま での各種半導体レーザー、炭酸ガスレーザー(発振波長; 10. 6nm)、 YAGレーザ 一(発振波長; 532nm' 1064nm)、エキシマレーザー(発振波長; 193nm' 308nm . 35111111)、ァルゴンレーザー(発振波長;48811111)等が挙げられる。いずれのレー ザ一も、光源の特定波長を吸収し、熱に変換できうる適当な顔料または染料を前述し た中力も選び、ネガ型感光性組成物に添加することにより使用できる。
[0075] 本発明においては、ネガ型感光性平版印刷版を明室で取り扱うことができることか ら、近赤外力 赤外領域に最大強度を有する高出力レーザーが最も好ましく用いら れる。このような近赤外力 赤外領域に最大強度を有する高出力レーザーとしては、 760nm〜3000nmの近赤外から赤外領域に最大強度を有する各種レーザー、例え ば、半導体レーザー、 YAGレーザー等が挙げられる。
[0076] 本発明のネガ型感光性平版印刷版は、感光層にレーザー光を用いて画像を書き 込んだ後、これを現像処理して非画像部が湿式法により除去されることによって、画 線部が形成された平版印刷版となる。現像処理に使用される現像液としては、アル力 リ性水溶液 (塩基性の水溶液)などが挙げられる。
[0077] 現像液に用いられるアルカリ剤としては、例えば、ケィ酸ナトリウム、ケィ酸カリウム、 水酸ィ匕カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第三リン酸のナトリウム 、カリウム又はアンモ-ゥム塩、メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の 無機のアルカリ化合物;モノメチルァミン、ジメチルァミン、トリメチルァミン、モノェチ ルァミン、ジェチルァミン、トリエチルァミン、モノイソプロピルァミン、ジイソプロピルァ ミン、 n—ブチルァミン、ジ n—ブチルァミン、モノエタノールァミン、ジエタノールァ ミン、トリエタノールァミン、エチレンィミン、エチレンジァミン等の有機のアルカリ化合 物が挙げられる。
[0078] 現像液中のアルカリ剤の含有量は、 0. 005〜10質量%の範囲が好ましぐ 0. 05 〜5質量%の範囲が特に好ましい。現像液中のアルカリ剤の含有量が 0. 005質量 %より少ない場合、現像が不良となる傾向にあり、また、 10質量%より多い場合、現 像時に画像部を浸食する等の悪影響を及ぼす傾向にあるので好ましくな 、。
[0079] 現像液には有機溶剤を添加することもできる。現像液に添加することができる有機 溶媒としては、例えば、酢酸ェチル、酢酸ブチル、酢酸ァミル、酢酸ベンジル、ェチ レングリコーノレモノブチノレアセテート、乳酸ブチノレ、レブリン酸ブチノレ、メチノレエチノレ ケトン、ェチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン、エチレングリ コーノレモノブチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノべンジノレエーテノレ、エチレングリ コーノレモノフエ-ノレエーテノレ、ベンジノレアノレコーノレ、メチノレフエ-ノレカノレビトーノレ、 n —ァミルアルコール、メチルァミルアルコール、キシレン、メチレンジクロライド、ェチレ ンジクロライド、モノクロ口ベンゼン、などが挙げられる。
現像液に有機溶媒を添加する場合の有機溶媒の添加量は、 20質量%以下が好ま しぐ 10質量%以下が特に好ましい。 [0080] さらにまた、上記現像液中には必要に応じて、亜硫酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、 亜硫酸カリウム、亜硫酸マグネシウム等の水溶性亜硫酸塩;アルカリ可溶性ピラゾ口 ン化合物、アルカリ可溶性チオール化合物、メチルレゾルシン等のヒドロキシ芳香族 化合物;ポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類等の硬水軟化剤;イソプロピルナフタレ ンスルホン酸ナトリウム、 n—ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、 N—メチルー N —ペンタデシルァミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等のァ-オン性 界面活性剤ゃノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、フ ッ素系界面活性剤等の各種界面活性剤や各種消泡剤を用いることができる。
[0081] 現像液としては、実用上は、市販されているネガ型 PS版用またはポジ型 PS版用の 現像液を用いることができる。具体的には、市販されている濃縮型のネガ型 PS版用 、あるいはポジ型 PS版用の現像液を 1〜: LOOO倍に希釈したものを、本発明における 現像液として使用することができる。
[0082] 現像液の温度は、 15〜40°Cの範囲が好ましぐ浸漬時間は 1秒〜 2分の範囲が好 ましい。必要に応じて、現像中に軽く表面を擦ることもできる。
現像を終えた平版印刷版は、水洗および Zまたは水系の不感脂化剤による処理が 施される。水系の不感脂化剤としては、例えば、アラビアゴム、デキストリン、カルボキ シメチルセルロースの如き水溶性天然高分子;ポリビュルアルコール、ポリビュルピロ リドン、ポリアクリル酸の如き水溶性合成高分子、などの水溶液が挙げられる。必要に 応じて、これらの水系の不感脂化剤に、酸や界面活性剤等が加えられる。不感脂化 剤による処理が施された後、平版印刷版は乾燥され、印刷刷版として印刷に使用さ れる。
[0083] このようなネガ型感光性平版印刷版にあっては、榭脂 (e)を含有させたネガ型感光 性組成物を用いることにより、セーフライト安全光が向上する。これは置換基 Xが紫外 線領域に吸収をもつことによると考えられる。
一方、黄色染料は紫外線領域に吸収があることが知られているが、榭脂 (e)の代わ りに黄色染料を含有させた場合には、現像性が著しく悪くなることを本発明者等は確 認した。これは熱により酸を発生する化合物 (c)から発生した酸が、黄色染料によつ てトラップされたことが原因と考えられる。 これに対して、後述の実施例に示されるように、本発明のネガ型感光性平版印刷版 は、そのような不都合を生じず、むしろ現像速度を向上させることができ、良好な画像 を形成することができる。
[0084] なお、本発明のネガ型感光性組成物は、平版印刷版以外にも、フォトレジスト等の 様々な用途に使用することができる。
実施例
[0085] 以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例の 範囲に限定されるものではない。
[0086] 榭脂(e)は、以下のようにして合成した。
(合成例 1)
まず、三口フラスコ中で、原料榭脂(e,)として 30gの o—タレゾール 'レソルシノール •ホルムアルデヒド共縮合榭脂(Mw3000、フエノール性水酸基 0. 258ル)を、 N, N —ジメェチルァセトアミド 150gに溶解させた。これに、 16.38gの 1, 2—ナフトキノン ジアジド一 5—スルホ-ルクロライド(0. 061モル)をカ卩えて攪拌した。
フラスコ内の溶液を 30°Cに保ち、脱塩ィ匕水素剤として 6.47gのトリェチルアミンを滴 下して加えた。滴下終了後、 10時間攪拌した。次いで、フラスコ内の溶液を 1500g の脱イオン水中に注ぎ、濾過して沈殿物を分離した。得られた沈殿物を脱イオン水で 水洗した後、乾燥させて、乾燥質量 33. 5gのナフトキノンジアジド変性ポリマー(I)を 得た。
[0087] 次に、得られたナフトキノンジアジド変性樹脂(I) 16. 7gと、 132. 5gのァセチルァ セトンを遮光された三口フラスコに入れ、スターラーで撹拌した。次いで、 1. 74gの力 リウム一 tert—ブトキシドをフラスコ内の溶液に加え、さらに 6. 981gの脱イオン水をカロ えた。フラスコ内の溶液を 60°Cに加熱して 24時間撹拌を続けた。次いで、 471gのト ルェンと 104gの脱イオン水の混合液中に、フラスコ内の溶液を注ぎ、濾過して沈殿 物を分離した。得られた沈殿物を脱イオン水で水洗した後、乾燥させて、乾燥質量 1 70. 2gのポリマー(1)を得た。
得られたポリマー(1)について、赤外スペクトル分析を行ったところナフトキノンジァ ジドィ匕合物に特有の吸収はみられな力つた。また、紫外スペクトル分析を行ったところ 、 420nmにピークがみられた。
[0088] (合成例 2)
前記合成例 1と同様にしてナフトキノンジアジド変性ポリマー(I)を得た。 次に、得られたナフトキノンジアジド変性樹脂(1) 16. 7gと、 132. 5gのァセト酢酸メ チルエステルを遮光された三口フラスコに入れ、スターラーで撹拌した。後は合成例
1と同様にして乾燥質量 168gのポリマー(2)を得た。
得られたポリマー(2)について、赤外スペクトル分析を行ったところナフトキノンジァ ジドィ匕合物に特有の吸収はみられな力つた。また、紫外スペクトル分析を行ったところ
、 403nmにピークがみられた。
[0089] (合成例 3)
ナフトキノンジアジド変性ポリマーとして、 PAD— 333 (商品名、 PCAS社製)を用 いた。この PAD— 333は、ピロガロール 'アセトン榭脂であって、ピロガロールの 3つ の水酸基のうちの 1つを 1, 2—ナフトキノンジアジドー 5—スルホ-ルクロライドでエス テル化した榭脂である。
そして、 8. 04gの PAD— 333と、 66. 8gのァセチルアセトンを遮光された三ロフラ スコに入れ、スターラーで撹拌した。次いで、 0. 835gのカリウム一 tert—ブトキシドを フラスコ内の溶液に加え、さらに 3. 35gの脱イオン水をカ卩えた。フラスコ内の溶液を 6 0°Cに加熱して 24時間撹拌を続けた。次いで、 226gのトルエンと 50gの脱イオン水 の混合液中に、フラスコ内の溶液を注ぎ、濾過して沈殿物を分離した。得られた沈殿 物を脱イオン水で水洗した後、乾燥させて、乾燥質量 8. 4gのポリマー(3)を得た。 得られたポリマー(3)について、赤外スペクトル分析を行ったところナフトキノンジァ ジドィ匕合物に特有の吸収はみられな力つた。また、紫外スペクトル分析を行ったところ 、 420nmにピークがみられた。
[0090] (合成例 4)
合成例 1において、 1, 2—ナフトキノンジアジドー 5—スルホ-ルクロライドの使用量 を 32. 76g (0. 122モル)に変更し、トリェチルァミンの使用量を 12. 94gに変更した 他は、合成例 1と同様にして乾燥質量 37. 4gのナフトキノンジアジド変性ポリマー(II) を得た。 次に、得られたナフトキノンジアジド変性樹脂(II) 16. 7gと、 132. 5gのァセチルァ セトンを遮光された三口フラスコに入れ、スターラーで撹拌した。後は合成例 1と同様 にして乾燥質量 171. 3gのポリマー (4)を得た。
得られたポリマー (4)について、赤外スペクトル分析を行ったところナフトキノンジァ ジドィ匕合物に特有の吸収はみられな力つた。また、紫外スペクトル分析を行ったところ 、 420nmにピークがみられた。
[0091] (合成例 5)
前記合成例 3において、ァセチルアセトンに代えてァセト酢酸メチルエステル 66. 8 gを用いた他は、合成例 3と同様にして乾燥質量 8. 3gのポリマー(5)を得た。
得られたポリマー(5)について、赤外スペクトル分析を行ったところナフトキノンジァ ジドィ匕合物に特有の吸収はみられな力つた。また、紫外スペクトル分析を行ったところ 、 403nmにピークがみられた。
[0092] (比較合成例 1)
前記合成例 1と同様にして、 o—タレゾール ·レソルシノール ·ホルムアルデヒド共縮 合榭脂と 1 , 2 -ナフトキノンジアジド 5 スルホユルク口ライドを反応させて乾燥質 量 33. 5gのナフトキノンジアジド変性ポリマー(I)を得た。これをポリマー(6)とする。
[0093] (比較合成例 2)
合成例 1において、ナフトキノンジアジド変'性榭脂(I)に代えて、 110— 30 (商品名、 東洋合成社製)を用いた。この HD— 30は、ジフエ-ルケトンの 1つのベンゼン環に ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル基が 3つ設けられている化合物である。 そして、 3. 02gの HD— 30と、 33. 4gのァセチルアセトンを遮光された三ロフラス コに入れ、スターラーで撹拌した。次いで、 0. 42gのカリウム一 tert—ブトキシドをフラ スコ内の溶液に加え、さらに 1. 68gの脱イオン水をカ卩えた。フラスコ内の溶液を 60°C に加熱して 24時間撹拌を続けた。次いで、 113gのトルエンと 25gの脱イオン水の混 合液中に、フラスコ内の溶液を注ぎ、濾過して沈殿物を分離した。得られた沈殿物を 脱イオン水で水洗した後、乾燥させて、乾燥質量 3. lgの化合物 (7)を得た。
得られた化合物(7)について、赤外スペクトル分析を行ったところナフトキノンジァ ジドィ匕合物に特有の吸収はみられな力つた。また、紫外スペクトル分析を行ったところ 、 420nmにピークがみられた。
[実施例 1〜5、比較例 1, 2]
•アルカリ可溶性榭脂 (a)として、 m—クレゾ一ルノボラック榭脂(固形分濃度 35質量 %、溶剤アセトン、商品名: N— 13P、イーストマンコダックカンパ-一製) 7. 20質量 部、およびフエノールノボラック榭脂(商品名: PN— 4、旭有機材工業社製) 1. 51質 量部、
•酸により架橋する化合物 (b)として、レゾール榭脂(ビスフ ノール Aタイプ)をプロピ レンダリコールモノメチルエーテル(PGME)に溶解させた固形分濃度 40質量0 /0の 溶液、商品名:フ ノライト ZF— 7234、大日本インキ化学工業 (株)製) 11. 09質量 部、
'熱により酸を発生する化合物(c)として、 3—メトキシ 4 ジァゾ ジフエ-ルァミン p トルエンスルホン酸塩 0. 51質量部、
•光熱変換剤 (d)として、 PS— 221 (商品名、 日本化薬社製、シァニン染料) 0. 60質 量部、
-榭脂 (e)として、上記合成例 1〜5および比較合成例 1, 2 (それぞれ実施例 1〜5、 比較例 1, 2に対応)で得たポリマー 1〜6、およびィ匕合物 7を 0. 36質量部、
•染料として、下記式 (VI)で表される青色染料 (商品名 D— 11、 PCAS社製) 0. 06 質量部、および
'界面活性剤として、 DC— 190 (商品名、イーストマンコダックカンパ-一社製、溶剤 はプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、濃度 10質量0 /0) 0. 44質量部 を、
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 45. 71質量部、メチルェチルケ トン(MEK) 13. 79質量部、およびメタノール(MeOH) 18. 63質量部からなる溶剤 に溶かし、ネガ型感光性組成物の塗布液を調製した。 [0095] [化 16]
Figure imgf000036_0001
[0096] 厚さ 0. 24mmのアルミニウム板を水酸ィ匕ナトリウム水溶液にて脱脂し、これを 20% 塩酸浴中で、電解研磨処理して中心線平均粗さ (Ra) O. 5 mの砂目板を得た。つ いで、この砂目板を、 20%硫酸浴中、電流密度 2AZdm2で陽極酸化処理して、 2. 7g/m2の酸化皮膜を形成した後、水洗乾燥し、アルミニウム支持体を得た。上記の ネガ型感光性組成物の塗布液をアルミニウム支持体上にバーコ一ター ( # 12)で塗 布し、 120°Cで 50秒間乾燥してネガ型感光性平版印刷版を得た。この時の、乾燥塗 膜量は 1. 4gZm2であった。
[0097] [比較例 3]
ネガ型感光性組成物の塗布液の例として、実施例 1にお ヽて榭脂 (e)を配合しなか つた塗布液を用いた他は、実施例 1と同様にしてネガ型感光性平版印刷版を得た。
[0098] [感度]
得られた感光性平版印刷版を用い、近赤外線半導体レーザーを搭載した露光機 ( 商品名: Trendsetter 3244、 Creo社製、波長 830nm、回転数 185rpm)にて、所 定のレーザーパワーで画像露光を行った。
ついで、ウィンスコンシンオーブン(搬送速度 2. 5feetZmin)を用い、 150°Cで 1 分間プレヒートを行い、自動現像機(商品名: PK— 910、コダックポリクロームグラフィ ックス (株)製)および現像液 (商品名: PD1 (コダックポリクロームグラフィックス (株)製 )の 1: 8希釈溶液)を用いて 30°Cで 25秒間、現像処理を行った。
[0099] 露光時のレーザーパワーを 4. 5w、 4. 8w、 5. lw、 · ' · Ί . 2wと、 0. 3w刻みで変化 させ、現像処理後の画像において、すじ状のムラ (banding)が生じない最低の露光 量 (単位: mj/cm2)を感度として表 1に示す。
[0100] [現像速度] 得られた感光性平版印刷版を、上記感度評価におけるプレヒートと同様にしてプレ ヒートした後、現像液 (商品名: PD1 (コダックポリクロームグラフィックス (株)製)の 1 : 8 希釈溶液)を、 2秒おきに非画像部の互いに異なる部位に滴下し、最後の滴下から 2 秒後に水洗を行った。水洗後の印刷版を目視にて観察し、画線がなくなるまでの現 像液との接触時間 (単位:秒)を調べた。
測定結果については、比較例 3の測定結果との差の値を表 1に示す。すなわち、比 較例 3の測定結果力 ^秒であり、マイナスの値はこれよりも短時間であったことを示す
[0101] [セーフライト安全性]
得られた感光性平版印刷版を、 UVカット白色蛍光灯に所定時間曝光させた後、上 記感度評価と同様のプレヒートおよび現像処理を施した。曝光させる時間は 5〜 15 分間の範囲で 1分刻みで変化させた。現像不良が生じたフォグ時間(単位:分)を表 1 に示す。
[0102] [網点再現性]
上記感度評価と同様にして現像処理した後の感光性平版印刷版の網点について 、その再現性を観察して、評価した。露光時のレーザーパワーは 7wとした。観察の 結果、 0. 5〜99. 5%を再現していたものを A、 1〜99%を再現していたものを B、 3 〜97%再現で実用不可であったものを Cで示す。特に、比較例 1および比較例 2は 、 98%網点シャドー部の抜けが不良で実用に適さないものであった。
[0103] [表 1]
感度 現像速度 フライ卜安全性 網点再現性
(mJ/cm2) (秒) (分)
実施例 1 5 1 .1 - 1 0 1 4 A
実施例 2 51 .1 -8 1 2 A
実施例 3 48.6 一 6 1 0 A
実施例 4 50.6 - 2 1 1 A
実施例 5 46.7 一ら 9 A
比較例 Ί 46.7 十 1 0 5 C
比較例 2 48.6 + 4 7 c
比較例 3 63.2 0 5 B
[0104] 表 1の結果より、実施例の感光性平版印刷版は、榭脂 (e)を含有しない感光性平版 印刷版 (比較例 3)に比べて、セーフライト安全性が向上しているほか、感度、現像速 度、網点再現性も優れていることがわかる。
産業上の利用可能性
[0105] 一般的なかぶり防止の特性評価の一つに、 UVカット白色蛍光灯に曝光されたとき に、現像不良が生じないための、曝光の許容時間(安全時間)によって評価するセー フライト安全'性がある。
本発明によれば、ネガ型感光性組成物のセーフライト安全性を向上させることがで き、かぶり防止特性に優れたネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 が得られる。

Claims

請求の範囲 [1] アルカリ可溶性榭脂 (a)、酸により架橋する化合物 (b)、熱により酸を発生する化合 物 (c)、光熱変換剤 (d)、およびフ ノール性水酸基を有する榭脂であって、少なくと も一部のフ ノール性水酸基の水素原子が、下記一般式(1)で示される基を有する 置換基 Xで置換されて ヽる榭脂 (e)を含有することを特徴とするネガ型感光性組成物
[化 1]
Figure imgf000039_0001
(式中、 Arは置換または無置換のフエ-レン基またはナフチレン基を表し、 Y1および Y2はそれぞれ独立に COR1または COOR2を表し、
Figure imgf000039_0002
R2はそれぞれ独立にアルキ ル基、ァリール基、または水素原子を表す。 )
[2] 支持体表面に、請求項 1記載のネガ型感光性組成物力 なる感光層が設けられて V、ることを特徴とするネガ型感光性平版印刷版。
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