JP3004583U - 石材研磨機 - Google Patents

石材研磨機

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 従来のコンベヤを設けた石材研磨機の問題点
であるベルトの収縮による加工誤差、ローラー軸とロー
ラー軸とに板材がかかる際に生じる薄板材の折れ、ジグ
ザグ型研磨軌跡以外の研磨軌跡が得られないことにより
招く加工上の限界などを克服し、研磨効率を増大させた
石材研磨機を提示する。 【構成】 屋根形に構成した両支柱1,1の滑接面1a
にそって傾斜運動をし、砥石2bを砥石車軸2aにそっ
て支柱の法線方向に上下運動させる砥石車2を設ける。
支柱1の底部には、石材を両面に密着支持してレール4
にそって前後進させる「△」形の台車3を設ける。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は一次加工された板材の石材を研磨する石材研磨機に係り、特に三角形 の支柱構造と三角形の台車とからなる研磨機に関する。
【0002】
【従来の技術と考案が解決しようとする課題】
従来の研磨機はコンベヤベルト上部に砥石車を垂直に設けた構造であり、コン ベヤベルト上に置いた板材が進むことにより、粗い研削から精密研削まで連続進 行されていた。
【0003】 したがって、作業効率は高まる。しかし、図8に示すように、板材(a)はベ ルト(b)に置いたままに連続移動され、ベルトの移送ローラー軸(c)により 単純支持状態で砥石車(d)からの研磨圧を負担する。したがって、ローラー軸 (c)の上方から研磨圧がかかる場合には、収縮変動率の大きいゴムベルトが収 縮され加工誤差を招くので、加工精密度も低い。また、ローラー軸とローラー軸 とに板材がかけわたされた状態で板材の中央部に研磨圧がかかる場合には、板材 中央部に最大ベンディングモーメントが生じ、それにより、板材が十分な厚さを 有しない場合には、最大応力が生じる中央部位で破壊されて折れることがある。
【0004】 以上の理由から、従来のコンベヤ式研磨機では、大量作業は可能ではあるが、 高附加価値の板材に要求される精密加工が困難であり、かつ薄板材の加工が不可 能であるという問題点があった。
【0005】 また、砥石車はベルトの進行方向に直角方向である左右へ移送されながら研磨 するようになり、ベルトは連続的に一方向だけに進むようになっているので、図 7(b)のようなジグザク状の研磨軌跡は得られても、それ以外の研磨軌跡は得 られなかった。
【0006】 このような研磨軌跡は研磨面に砥石の移送の跡が残るので、美麗な光沢を要す る石材の場合、別途の研磨機で仕上げ加工しなければならないなどの手間がかか るとともに、効率を低下させる要因になった。
【0007】
【課題を解決するための手段と作用】
本考案は以上のような従来の石材研磨機の問題点を解決し、作業効率を顕著に 増大させる新しい構造の石材研磨機の提示を目的に案出されたもので、 石材研磨機の支柱を三角形に構成し、両支柱に砥石車を装着し、支柱の底部に はレールにそって稼働される三角形の台車を設ける構成にし、台車の両面に置い た石材を両支柱にそって傾斜運動を行う砥石車により研磨させ、作業効率を倍加 し、石材が三角形台車の両面に密着支持されることにより、薄板材でも折れずに 加工できるだけでなく、石材の移送を台車による移送方式を採用することにより 多様な研磨軌跡による美麗な光沢の石材が得られるようにする。
【0008】 より詳しくは次のとおりである。すなわち、 請求項1の石材研磨機は、支柱(1)を屋根形に構成し、両支柱(1)(1) には滑接面(1a)を形成し、上記支柱(1)には、その滑接面(1a)に沿っ て傾斜運動をし、砥石(2b)が砥石車軸(2a)に沿って支柱の法線方向に上 下運動する砥石車(2)を装着し、支柱(1)の底部にはレール(4)に沿って 前後進させる「△」形の台車(3)を設けたものである。
【0009】 請求項2は、請求項1記載の石材研磨機において、石材研磨機を一直線に多数 配列して連続作業可能にするものである。
【0010】 請求項3は、請求項1または2に記載の石材研磨機において、石材研磨機を構 成する支柱(1)の一端部同士が相互に重なるように連続配列し、各々の研磨機 底部を通過するように矩形に設けたリフトチェーン(7)により台車(3)が直 角移送可能となるように構成したものである。
【0011】
【実施例】
図に示す本考案の実施例について説明する。
【0012】 図1は本考案の正面図を、図2は平面図を、図3は使用状態を示す。各図に示 したように、本考案の石材研磨機においては、 支柱(1)を
【外1】 形(本明細書において、屋根形と略称する)に構成し、両支柱(1)(1)には 滑接面(1a)を形成している。上記支柱(1)には、滑接面にそって傾斜運動 をし、砥石(2b)が砥石車軸(2a)にそって支柱(1)の法線方向に上下運 動を行うようになった公知の砥石車(2)を装着している。支柱(1)の底部に は、レール(4)にそって前後進させる「△」形の台車(3)を設けている。
【0013】 上記の構成により、図3に示したように、台車(3)の両面に板材(5)が装 着された状態から、台車(3)はリードスクリューまたはロープ転動などの方法 によりレールにそって前後に移送する工作物移送台のような機能を発揮し、砥石 車(2)は、別途に附加された油圧機構(6)により支柱(1)の滑接面にそっ て傾斜運動し、砥石車(2)に取付けられた砥石(2b)はモーターからの動力 により高速回転して板材を研磨する。
【0014】 その際、砥石(2b)は、砥石(2b)の回転軸(2c)を支持する砥石車軸 (2a)と一体に、支柱(1)に対し法線方向に上下運動する。ところが、公知 の砥石車において砥石車軸の上下運動は送りねじによるか、または油圧によるも ので、砥石車軸の上下運動により板材の厚さ調整及び研磨深さの調整を行うよう になっている。
【0015】 上述の砥石車(2)の傾斜運動と台車(3)の前後進運動との組合せにより、 多様な研磨軌跡が得られる。図7はこのような研磨軌跡を示したものである。す なわち、 (a)は、砥石車が石材の上部角にある状態から研磨を始めて台車の前進−砥 石車の下向−台車の後進−砥石車の上向の順により得られる四角形の研磨軌跡で ある。
【0016】 (b)は、台車の前進と砥石車の上下運動が同時に行われる場合に示される軌 跡で、従来の研磨機の研磨軌跡と同じものである。
【0017】 (c)は、砥石車の上向−台車の前進−砥石車の下向−台車の前進−砥石車の 上向−台車前進が逐次行う場合に得られる軌跡である。
【0018】 (d)は、台車の前進−砥石車の上向−台車の後進−砥石車の上向−台車前進 −砥石車の上向が行われる場合に示される軌跡である。
【0019】 (e)は、台車の前進及び後進と砥石車の上向及び下向が繰返して行われる場 合に示される軌跡である。
【0020】 (f)は、(b)のような運動を逆に行う場合に示される軌跡である。
【0021】 (b)の軌跡で運動させる場合は、磨耗面が多少不良であっても作業効率を増 大させる場合であり、(e)(f)は美麗な光沢を得る場合に使用できる。
【0022】 上記のように従来のコンベヤベルト移送方式で不可能な研磨軌跡を砥石車と台 車の運動の組合せにより容易に得られるだけでなく、薄板材でも台車が密着支持 されることにより加工が可能であり、機械的誤差が生じないので精密加工が可能 であり、同一ラインで二つの板材が同時研磨されることにより作業効率が大変高 められる効果がある。
【0023】 本考案は上記の構成を基にして、粗い研磨作業から仕上研磨作業まで同一ライ ン線上で連続的に行うための実施例を含めているが、 図4は本考案を一直線ラインで多数配列した実施例を示したもので、1番研磨 機は粗い砥石を装着し、進行すると細かい砥石を装着することにより、ラインの 終点部で完全な光沢を持つ板材が得られるようにしたものである。
【0024】 図5及び図6は研磨機の設置効率を増大し、空間を効率的に活用可能にするた め各々の研磨機を2個のラインに重ねて配置したものである。
【0025】 即ち、研磨機を構成する支柱の一端部が相互に重なるように連続的に配列し、 各々の研磨機底部を通過するように矩形に設けたリフトチェーン(7)により台 車(3)を直角移送可能に構成したものである。
【0026】 上記の構成は多数の台車をリフトチェーンにより矩形に循環させながら研磨作 業を行い、図面中のA部またはB部で板材を装着されるかまたは研磨が完了され た板材を幾つかずつ一時に除去することができるので、研磨効率がさらに改善さ れる。
【0027】 以上の説明のように、本考案の基本的な考えは、屋根形の支柱と「△」形の台 車により石材研磨機を構成して、石材の加工能力を高め、薄板の石材も精密に加 工可能にしたものである。上述の実施例以外に他の実施方法も可能であり、本考 案の範囲に属する。
【0028】
【考案の効果】
この考案によれば、精密加工が可能となり、加工の幅が広く、また加工効率も 増大する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の構成関係を示した正面図。
【図2】本考案の平面状態図。
【図3】本考案の使用状態図。
【図4】本考案の第1実施例を示す正面図。
【図5】本考案の第2実施例を示す正面図。
【図6】図5の平面図。
【図7】本考案を用いた研磨方法の例示図。
【図8】従来の研磨機の使用状態図。
【符号の説明】
1 支柱 1a 滑接面 2 砥石車 2a 砥石車軸 3 台車 4 レール 7 リフトチェーン

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支柱(1)を屋根形に構成し、両支柱
    (1)(1)には滑接面(1a)を形成し、上記支柱
    (1)には、その滑接面(1a)に沿って傾斜運動を
    し、砥石(2b)が砥石車軸(2a)に沿って支柱の法
    線方向に上下運動する砥石車(2)を装着し、支柱
    (1)の底部にはレール(4)に沿って前後進させる
    「△」形の台車(3)を設けたことを特徴とする石材研
    磨機。
  2. 【請求項2】 石材研磨機を一直線に多数配列して連続
    作業可能にすることを特徴とする請求項1記載の石材研
    磨機。
  3. 【請求項3】 石材研磨機を構成する支柱(1)の一端
    部同士が相互に重なるように連続配列し、各々の研磨機
    底部を通過するように矩形に設けたリフトチェーン
    (7)により台車(3)が直角移送可能となるように構
    成したことを特徴とする請求項1または2に記載の石材
    研磨機。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3405411B2 (ja) 2001-02-22 2003-05-12 株式会社石井表記 角形基板の製造方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5707652A (en) * 1990-12-04 1998-01-13 State Of Oregon Methods of treating circadian rhythm phase disorders
JP3725624B2 (ja) * 1996-08-09 2005-12-14 富士写真フイルム株式会社 ネガ型平版印刷用版材及び製版方法
JP4529252B2 (ja) * 1999-09-28 2010-08-25 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品
US6696112B2 (en) * 2000-06-28 2004-02-24 Toray Industries, Inc. Display device having a polyimide insulating layer
JP3895945B2 (ja) * 2001-04-24 2007-03-22 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 樹脂組成物及び樹脂組成物製造方法
TW200300772A (en) * 2001-12-11 2003-06-16 Kaneka Corp Polyimide precursor, manufacturing method thereof, and resin composition using polyimide precursor
US10696932B2 (en) 2015-08-03 2020-06-30 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Cleaning composition

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3926911A (en) * 1973-06-07 1975-12-16 Ciba Geigy Corp Crosslinked polymers containing siloxane groups
JPS5952822B2 (ja) * 1978-04-14 1984-12-21 東レ株式会社 耐熱性感光材料
JPH0768347B2 (ja) * 1985-09-25 1995-07-26 株式会社日立製作所 有機ケイ素末端ポリイミド前駆体とポリイミドの製造方法
JP2626696B2 (ja) * 1988-04-11 1997-07-02 チッソ株式会社 感光性重合体
JPH02144539A (ja) * 1988-11-28 1990-06-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH03763A (ja) * 1989-01-09 1991-01-07 Nitto Denko Corp ポジ型感光性ポリイミド組成物
US5055549A (en) * 1989-01-18 1991-10-08 Chisso Corporation Process for preparing photosensitive heat-resistant polymer
JP2619515B2 (ja) * 1989-02-02 1997-06-11 チッソ株式会社 シリコンポリイミド前駆体組成物
JPH0415226A (ja) * 1990-05-10 1992-01-20 Chisso Corp ヒドロキシフェニル基を有する感光性耐熱重合体
JP3015430B2 (ja) * 1990-09-10 2000-03-06 株式会社東芝 感光性組成物及び樹脂封止型半導体装置
JP2890213B2 (ja) * 1991-02-25 1999-05-10 チッソ株式会社 感光性重合体組成物及びパターンの形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3405411B2 (ja) 2001-02-22 2003-05-12 株式会社石井表記 角形基板の製造方法

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US5449588A (en) 1995-09-12

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