JPS5834751A - ウエハ研削盤 - Google Patents

ウエハ研削盤

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Publication number
JPS5834751A
JPS5834751A JP13006481A JP13006481A JPS5834751A JP S5834751 A JPS5834751 A JP S5834751A JP 13006481 A JP13006481 A JP 13006481A JP 13006481 A JP13006481 A JP 13006481A JP S5834751 A JPS5834751 A JP S5834751A
Authority
JP
Japan
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wafer
grinding wheel
rough
grinding
finish
Prior art date
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Granted
Application number
JP13006481A
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English (en)
Other versions
JPS6315100B2 (ja
Inventor
Takashi Sano
高志 佐野
Atsushi Kato
淳 加藤
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Via Mechanics Ltd
Original Assignee
Hitachi Seiko Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Seiko Ltd filed Critical Hitachi Seiko Ltd
Priority to JP13006481A priority Critical patent/JPS5834751A/ja
Publication of JPS5834751A publication Critical patent/JPS5834751A/ja
Publication of JPS6315100B2 publication Critical patent/JPS6315100B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/10Single-purpose machines or devices
    • B24B7/16Single-purpose machines or devices for grinding end-faces, e.g. of gauges, rollers, nuts, piston rings

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はウェハ研削盤とくに四−ダ、アンローダ付のイ
ンデックス形平面研削盤に適用しうるウェハ研削盤に関
するものである。
従来この種のウェハ研削盤においては、第1図に示す如
く、円周方向に90’間隔で4個のウェハ3を夫々真空
吸着する真空吸着装置2を備え、90゛毎に矢印方向に
回動するインデックステーブル1を設け、このインデッ
クステーブル1の周囲上記4個のウェハ3の対向位置に
ローダ4゜アン冒−ダ5.荒研削装置O9仕上研削装置
Oを配置している。
上記ローダ4およびアンローダ5はブロックでしか示し
ていないが、一方のローダ4は上記真空吸着装置2が対
向位置まで回動して停止したとき、これに連動して新た
なウェハ3を真空吸着装置2上に搬送して真空吸着装置
2にローダ完了の信号を発信するように形成されている
またアンローダ5Iri加工完了後のウェハ3が対向位
置まで回動して停止し、真空吸着装置2がウェハ3の吸
着と解除すると、ウェハ3を搬出して上記にインデック
ステーブル1の回動装置にアンローダ完了の信号を発信
するように形成されている。
真空吸着装置2は図示していないが、加工後のウェハ3
を吸着してアン四−ダ5の対向位置まで回動して停止す
ると、真空吸着を解除してアンローダ5に信号を発信し
、然る後、ローダ4の対向位置まで回動して停止しロー
ダ4によって新たなウェハ3が塔載したと龜つエノ・3
を吸着しインデックステーブル1の回動装置およびアン
ローダ5に吸着完了の信号を発信するようにしている。
荒研削装置Uおよび仕上研削装置0は夫々上記インデッ
クステーブル10回動中心により9σの間隔で放射状に
配置されたベラ) 7a 、 7bと、このベット7a
 、 7b上にインデックステーブル1に向って矢印方
向に前進、後退する如く塔載されたコラム811! 8
bと、このコラムga 、 gbにその摺動面9a 、
 9bにそうて上下方向に移動自在に塔載し荒研削用砥
石101および仕上研削用砥石10bを夫々保持する主
軸頭11a 、 llbと、上記コラム8a 、 8b
上に塔載し、上記各砥石10a 、 10bを夫々ベル
) 12& 、 12bを介して矢印方向に回転させる
モータ13a 、 13bとから形成されている。
なお、上記コラム81L I 8bの前進、後退および
主軸1[111、llbの上下動を−させる駆動機構は
図示していないが夫々ベラ) 7a 、 7b内に設置
されている。
したがって荒研削装置むおよび仕上研削装置Oは、夫々
の対向位置にウエノ・3が回動して停止し、インデック
ステーブル1の回動装置よりウェハ3の加工位置決め完
了の信号が送られてくると、両砥石10a 、 10b
が回転しつつウェハ3に向って前進してウニ/・3をc
、d I/C示す如き軌跡を画きながら荒研削および仕
上研削する。
研削完了すると、両砥石IQa 、 10bが後退移動
てインデックステーブル1が回動し以下上記作用を繰返
す。
然るに上記構成のウェハ研削盤においては、荒研削用砥
石10aおよび仕上研削砥石10bを夫々駆動する荒研
削装置むおよび仕上研削装置■が独立して設置されてい
るため、ウェハ研削盤全体の形状が大形化して製造費が
高くなる。また荒研削砥石101におよび仕上研削用砥
石10bが夫々ウェハ3を同一方向の軌跡c、dを画き
ながら研削するため、ヘアクラックの成虫を助長する傾
向にある。
本発明は上記従来の欠点を除去し、形状を小形化して製
造費を安価にし、かつヘアクラックの助長を防止するウ
ェハ研削盤を提供することにある。
本発明は上記の目的を達成するため、ベット上をインデ
ックスに向って前進後退するコラムに共通台を上下動自
在に設け、この共通台上に荒研削用砥石および仕上研削
用砥石を並列にかつ一方の砥石のみ移動可能に設け、共
通台を介して荒研削用砥石および仕上研削用砥石を同時
に移動させるようにしたものである。
以下本発明の実施例を示す第2図および第3図につき説
明する。第2図は本発明の実施例を示すウェハ研削盤の
平面図、第3図は第2図のA−A矢視正面図である。な
お、従来と同一部分は第1図と同符号をもって示す。
14はコラムにして、ベット15上にインデックステー
ブル1に向って前進後退可能に支持されている。16は
上下動案内テーブルにして、上記ベット16内に設けた
駆動機構(図示せず)に接続し、コラム14に固定され
たクランププレート11にそうて上下動するように形成
され一端部に共通台18池端部に砥石回転用モータ19
を固定している。
上記共通台18は、荒研削用砥石20を支持する主軸1
ilI21および仕上研削用砥石22を支持する主軸1
[23を並列に塔載し、微小上下動用リプ24を回転す
ることにより一方の荒研削用主軸頭21のみ上下動可能
になっている。上記砥石回転用モータ19は軸端部に固
定されたプーリ25と上記荒研削用砥石20および仕上
研削用砥石22に夫々接続するプーリ26 、27とベ
ルト2Bを介して連動するようになっている。なお、図
のt、fは荒研削用砥石20および仕上研削用砥石22
の研削軌跡、heは素材ウエノ・3&の厚さ、hiけ荒
研削後のウエハ3の厚さ、hlは仕上研削後のウェハ3
の厚さを示す。上記の構成であるから、予じめ素材ウェ
ハ3aの厚さhoに対して仕上研削後のウェハ3の厚さ
hmになるように共通台18を上下動させて仕上研削用
砥石22の位置を調整したのち、荒研削後のウェハ3の
厚みがhlになるように微小上下動リプ24を回転して
荒研削用砥石20の位置を調整する。この状態で、砥石
回転用モータ19を駆動して両砥石20 、22を回転
させると同時にウェハ3に向って前進移動させると、両
砥石20゜22は互いに異なる方向の軌跡1.1を画き
ながら2個のウェハ3を夫々荒研削、仕上研削する。
なお、上記実施例においては1個の砥石回転用モータ1
9にて2個の砥石20 、22を同時に回転させている
が、これに限定されるものでなく2個の砥石回転モータ
にて夫々の砥石20 、22を回転することも可能であ
る。
即ち、本発明においては荒研削用砥石および仕上研削用
砥石を1個の共通台に載置し、この共通台を介して上記
2個の砥石を1個の上下動。
動機構により同時に上下動させること、上記共通台を保
持する部材例えばコラムおよびベットを1個にしたこと
にあるから、これ以外の部分において上記実施例と異な
る構成にしても本発明の要旨を変更するものでない。
本発明は以上述べたる如くであるから少くとも荒研削用
砥石および仕上研削用砥石を上下動させる駆動機構を1
個にすることができ、かっ上゛記両砥石を保持する部材
を1個にすることができるので、ウェハ研削盤全体の形
状を小形化して製造費を安価にすることができる。また
上記両砥石の研削軌跡を異なる方向にしてヘアクラック
の助長を少くかつ精度が安定に得られる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のローダ、アン四−ダ付のインデックス形
平面研削盤を示す平面図、第2図は本発明によるローダ
、アンローダ付インデックス形平面研削盤を示す平面図
、第3図は第2図0A=A矢視正面図である。 14・・・コラム、15・・・ペット、16・・・上下
動案内テーブル、17・・・クランププレート、18・
・・共通台、 19・・・砥石回転用モータ、20・・
・荒研削用砥石、 21・・・主軸頭、 22・・・仕
上研削用砥石、23・・・主軸頭、24・・・微小上下
動リプ、25 、26 、27・・・プーリ、28・・
・ベルト。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 円周方向に複数個の真空吸着装置を保有し所定角度宛回
    動するインデックステーブルの周囲に荒研削装置および
    仕上研削装置を設けたウェハ研削盤において、ペット上
    をインデックステーブルに向って前進後退するコラムを
    設け、このコラムに上下動自在に保持された共通台を設
    け、この共通台に荒研削砥石および仕上研削用砥石を並
    列にかつ一方の砥石のみ移動可能に設け、上記共通台を
    介して荒研削用砥石および仕上研削用砥石を1個の駆動
    機構にて同時に移動しうるようにしたことを特徴とする
    ウェハ研削盤。
JP13006481A 1981-08-21 1981-08-21 ウエハ研削盤 Granted JPS5834751A (ja)

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JP13006481A JPS5834751A (ja) 1981-08-21 1981-08-21 ウエハ研削盤

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JPS5834751A true JPS5834751A (ja) 1983-03-01
JPS6315100B2 JPS6315100B2 (ja) 1988-04-02

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59232758A (ja) * 1983-06-13 1984-12-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 球面加工装置
JPS6044206A (ja) * 1983-08-19 1985-03-09 Kitamura Kikai Kk 多軸立型フライス盤における工具長調整装置
JPS6076959A (ja) * 1983-09-30 1985-05-01 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法
JPS60242951A (ja) * 1984-05-17 1985-12-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 面取り加工システム
JPS60242953A (ja) * 1984-05-17 1985-12-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 面取り加工装置
JP2002200545A (ja) * 2000-12-27 2002-07-16 Disco Abrasive Syst Ltd 研削装置
JP2010124006A (ja) * 1999-01-06 2010-06-03 Tokyo Seimitsu Co Ltd 平面加工装置及び方法

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