JP3405411B2 - 角形基板の製造方法 - Google Patents
角形基板の製造方法Info
- Publication number
- JP3405411B2 JP3405411B2 JP2001047050A JP2001047050A JP3405411B2 JP 3405411 B2 JP3405411 B2 JP 3405411B2 JP 2001047050 A JP2001047050 A JP 2001047050A JP 2001047050 A JP2001047050 A JP 2001047050A JP 3405411 B2 JP3405411 B2 JP 3405411B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- ingot
- manufacturing
- polished
- rectangular substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、角形基板の製造方
法に関し、特に太陽電池基板等に適用できる角柱状の多
結晶シリコンのインゴットから角形状の基板を製造する
角形基板の製造方法に関するものである。
法に関し、特に太陽電池基板等に適用できる角柱状の多
結晶シリコンのインゴットから角形状の基板を製造する
角形基板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、地球環境保護の見地から、火力発
電、原子力発電等に代わる発電手段として、太陽電池が
注目されている。すなわち、この太陽電池による発電
は、太陽光さえあれば発電可能であり、しかも、二酸化
炭素，放射性廃棄物等の有害物を一切排出しないため、
クリーンなエネルギー源として注目されている。
電、原子力発電等に代わる発電手段として、太陽電池が
注目されている。すなわち、この太陽電池による発電
は、太陽光さえあれば発電可能であり、しかも、二酸化
炭素，放射性廃棄物等の有害物を一切排出しないため、
クリーンなエネルギー源として注目されている。
【０００３】このような太陽電池は、図６（Ａ）に示す
ように、多結晶シリコンからなり面取りを施した角柱状
のインゴットＡを、その軸方向と直角方向Ｂ−Ｂにワイ
ヤソーのワイヤーでスライスして、図６（Ｂ）に示すよ
うに多結晶シリコン基板Ｃを製造し、この多結晶シリコ
ン基板Ｃを洗浄し、銀ペースト塗布、乾燥、電極形成等
の諸工程を経て製造している。
ように、多結晶シリコンからなり面取りを施した角柱状
のインゴットＡを、その軸方向と直角方向Ｂ−Ｂにワイ
ヤソーのワイヤーでスライスして、図６（Ｂ）に示すよ
うに多結晶シリコン基板Ｃを製造し、この多結晶シリコ
ン基板Ｃを洗浄し、銀ペースト塗布、乾燥、電極形成等
の諸工程を経て製造している。
【０００４】なお、上記スライス時には、摩擦熱による
インゴットＡそのものやワイヤソーのワイヤーの温度上
昇に起因する寸法精度低下を防ぐため、およびスライス
によって生じる屑を洗い流すために、冷却液を供給しな
がらスライスしている。また、この冷却液の中に適量の
エッチング液を混入させることによって、スライス時に
多結晶シリコン基板Ｃの表面に生じる微小な凹凸をエッ
チングにより平坦化する場合もある。
インゴットＡそのものやワイヤソーのワイヤーの温度上
昇に起因する寸法精度低下を防ぐため、およびスライス
によって生じる屑を洗い流すために、冷却液を供給しな
がらスライスしている。また、この冷却液の中に適量の
エッチング液を混入させることによって、スライス時に
多結晶シリコン基板Ｃの表面に生じる微小な凹凸をエッ
チングにより平坦化する場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は、前
記角柱状のインゴットＡの側面Ａａ〜Ａｄは特に問題に
なることはないとして、角柱状に切り出した後に研磨す
ることなくスライスしていたが、側面Ａａ〜Ａｄに存在
する凹凸に起因して、次のような不都合が生じることが
分かった。
記角柱状のインゴットＡの側面Ａａ〜Ａｄは特に問題に
なることはないとして、角柱状に切り出した後に研磨す
ることなくスライスしていたが、側面Ａａ〜Ａｄに存在
する凹凸に起因して、次のような不都合が生じることが
分かった。
【０００６】第１に、図７（Ａ）に示すように、側面Ａ
ａ（他の側面Ａｂ〜Ａｄを代表）に存在する凹凸、特
に、鋭いＶ字状断面の深い凹部Ｄが存在する場合は、イ
ンゴットＡのスライス時に、その凹部Ｄがオリジンにな
って図７（Ｂ）に示すようにクラックＥが発生して、多
結晶シリコン基板Ｃの収率が低下することがある。
ａ（他の側面Ａｂ〜Ａｄを代表）に存在する凹凸、特
に、鋭いＶ字状断面の深い凹部Ｄが存在する場合は、イ
ンゴットＡのスライス時に、その凹部Ｄがオリジンにな
って図７（Ｂ）に示すようにクラックＥが発生して、多
結晶シリコン基板Ｃの収率が低下することがある。
【０００７】第２に、インゴットＡから取れる多結晶シ
リコン基板Ｃの枚数を多くするためには、インゴットＡ
をスライスするワイヤソーのワイヤーは出来るだけ細く
することが望ましいが、ワイヤソーのワイヤーを細くす
ると、インゴットＡの側面Ａａに比較的大きな凹部Ｄが
存在する場合は、その凹部Ｄの存在によって、ワイヤソ
ーの細いワイヤーが微妙に横ぶれして、多結晶シリコン
基板Ｃの厚さが多結晶シリコン基板Ｃ，Ｃ相互間または
多結晶シリコン基板Ｃの面内で不均一になることがあっ
た。
リコン基板Ｃの枚数を多くするためには、インゴットＡ
をスライスするワイヤソーのワイヤーは出来るだけ細く
することが望ましいが、ワイヤソーのワイヤーを細くす
ると、インゴットＡの側面Ａａに比較的大きな凹部Ｄが
存在する場合は、その凹部Ｄの存在によって、ワイヤソ
ーの細いワイヤーが微妙に横ぶれして、多結晶シリコン
基板Ｃの厚さが多結晶シリコン基板Ｃ，Ｃ相互間または
多結晶シリコン基板Ｃの面内で不均一になることがあっ
た。
【０００８】そこで、本発明は、インゴットの側面の凹
凸に起因するクラック発生をなくして収率よく、しか
も、均一な厚さを有する角形基板を製造できる角形基板
の製造方法を提供することを目的とする。
凸に起因するクラック発生をなくして収率よく、しか
も、均一な厚さを有する角形基板を製造できる角形基板
の製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の角形基板の製造
方法は、上記の課題を解決するために、角柱状のインゴ
ットをスライスして薄板状の角形基板を製造する角形基
板の製造方法において、インゴットの側面を研磨加工し
た後、スライスすることを特徴とするものである。
方法は、上記の課題を解決するために、角柱状のインゴ
ットをスライスして薄板状の角形基板を製造する角形基
板の製造方法において、インゴットの側面を研磨加工し
た後、スライスすることを特徴とするものである。
【００１０】上記の製造方法によれば、側面を研磨加工
してその凹凸をなくした状態にしてからスライスするの
で、そのスライス時にインゴット側面の凹凸に起因する
クラックの発生や、ワイヤソーにおけるワイヤーの横ぶ
れに起因する角形基板相互間の厚さの不均一および角形
基板面内の厚さの不均一が生じないため、均一な厚さを
有する角形基板を収率よく製造することができる。
してその凹凸をなくした状態にしてからスライスするの
で、そのスライス時にインゴット側面の凹凸に起因する
クラックの発生や、ワイヤソーにおけるワイヤーの横ぶ
れに起因する角形基板相互間の厚さの不均一および角形
基板面内の厚さの不均一が生じないため、均一な厚さを
有する角形基板を収率よく製造することができる。
【００１１】本発明においては、上記インゴットの側面
の研磨加工時に、インゴットの２側面を上向きＶ字状の
支持部によって支持し、斜め上方を向いた２側面を研磨
加工するようにしてもよいものである。
の研磨加工時に、インゴットの２側面を上向きＶ字状の
支持部によって支持し、斜め上方を向いた２側面を研磨
加工するようにしてもよいものである。
【００１２】上記の製造方法によれば、インゴットの２
側面を上向きＶ字状の支持部によって支持することによ
り、その反対側の２側面が斜め上方を向くので、その斜
め上方を向いた２側面を同時に研磨加工することがで
き、一側面ずつ順次研磨加工する場合に比較して研磨加
工時間を半減することができ、加工費の低減を図ること
ができる。
側面を上向きＶ字状の支持部によって支持することによ
り、その反対側の２側面が斜め上方を向くので、その斜
め上方を向いた２側面を同時に研磨加工することがで
き、一側面ずつ順次研磨加工する場合に比較して研磨加
工時間を半減することができ、加工費の低減を図ること
ができる。
【００１３】本発明はまた、上記インゴットの側面の研
磨加工時に、前記上向きＶ字状の支持部によって支持さ
れたインゴットを、その長手方向に移動させながら、研
磨手段によって研磨加工するようにしてもよいものであ
る。
磨加工時に、前記上向きＶ字状の支持部によって支持さ
れたインゴットを、その長手方向に移動させながら、研
磨手段によって研磨加工するようにしてもよいものであ
る。
【００１４】上記の製造方法によれば、上向きＶ字状の
支持部によって支持されたインゴットを、その長手方向
に移動させながら研磨加工するので、回転機構部を有す
る研磨手段を定位置に配置することができ、研磨手段を
移動させる場合に比較して構成が簡単になるのみなら
ず、研磨手段の移動機構部の故障発生をなくすことがで
き、設備稼働率を向上することができる。
支持部によって支持されたインゴットを、その長手方向
に移動させながら研磨加工するので、回転機構部を有す
る研磨手段を定位置に配置することができ、研磨手段を
移動させる場合に比較して構成が簡単になるのみなら
ず、研磨手段の移動機構部の故障発生をなくすことがで
き、設備稼働率を向上することができる。
【００１５】本発明はまた、上記インゴットの側面の研
磨加工時に、前記インゴットを、その移動方向に沿って
配置された粗さが異なる複数の研磨冶具によって研磨加
工するようにしてもよいものである。
磨加工時に、前記インゴットを、その移動方向に沿って
配置された粗さが異なる複数の研磨冶具によって研磨加
工するようにしてもよいものである。
【００１６】上記の製造方法によれば、粗さの大きな研
磨冶具で粗研磨し、また粗さの小さな研磨冶具で仕上げ
研磨することができ、粗さの大きな研磨冶具のみで研磨
する場合に比較して、インゴットの側面の大きな凹凸も
小さな凹凸も簡単になくすことができるのみならず、粗
さが小さな研磨冶具のみで研磨加工する場合に比較し
て、大きな凹凸を短時間でなくせるので研磨加工時間を
大幅に短縮することができ、加工費の低減を図ることが
できる。
磨冶具で粗研磨し、また粗さの小さな研磨冶具で仕上げ
研磨することができ、粗さの大きな研磨冶具のみで研磨
する場合に比較して、インゴットの側面の大きな凹凸も
小さな凹凸も簡単になくすことができるのみならず、粗
さが小さな研磨冶具のみで研磨加工する場合に比較し
て、大きな凹凸を短時間でなくせるので研磨加工時間を
大幅に短縮することができ、加工費の低減を図ることが
できる。
【００１７】本発明はまた、前記複数の研磨冶具が、イ
ンゴットの送り方向の手前側が粗研磨用で、前方側が仕
上げ研磨用であるように配置することができるものであ
る。
ンゴットの送り方向の手前側が粗研磨用で、前方側が仕
上げ研磨用であるように配置することができるものであ
る。
【００１８】上記の製造方法によれば、粗研磨用の研磨
冶具で粗研磨した後、仕上げ研磨用の研磨冶具で仕上げ
研磨することができ、大きい凹凸も小さな凹凸も除去で
きるのみならず、インゴットの側面を粗研磨の後に仕上
げ研磨するので、ダメージの少ない状態に研磨加工でき
る。
冶具で粗研磨した後、仕上げ研磨用の研磨冶具で仕上げ
研磨することができ、大きい凹凸も小さな凹凸も除去で
きるのみならず、インゴットの側面を粗研磨の後に仕上
げ研磨するので、ダメージの少ない状態に研磨加工でき
る。
【００１９】本発明はまた、前記上向きＶ字状の支持部
によって支持されたインゴットの斜め上方を向いた２側
面の研磨加工後、上下反転して残りの斜め上方を向いた
２側面を研磨加工するようにしてもよいものである。
によって支持されたインゴットの斜め上方を向いた２側
面の研磨加工後、上下反転して残りの斜め上方を向いた
２側面を研磨加工するようにしてもよいものである。
【００２０】上記の製造方法によれば、一度に２側面ず
つ同時に研磨加工できるので、４側面を順次研磨加工す
る場合に比較して、研磨加工時間を半減することができ
るのみならず、姿勢変換回数を低減することもでき、加
工費を低減することができる。
つ同時に研磨加工できるので、４側面を順次研磨加工す
る場合に比較して、研磨加工時間を半減することができ
るのみならず、姿勢変換回数を低減することもでき、加
工費を低減することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係る基
板の製造方法について、図面を参照して説明する。図１
（Ａ）は本発明の角形基板の製造方法を実施するための
研磨装置の概略構成平面図、（Ｂ）はその正面図であ
る。
板の製造方法について、図面を参照して説明する。図１
（Ａ）は本発明の角形基板の製造方法を実施するための
研磨装置の概略構成平面図、（Ｂ）はその正面図であ
る。
【００２２】図１において、１，２は搬送用コンベア
で、多結晶シリコンからなる角柱状のインゴットＡをそ
の長さ方向が搬送方向と直交するように載置して、図示
右方向から図示左方向に搬送するものであり、それぞれ
の搬送経路の途中にインゴットＡの姿勢変換機構部３，
４を備えている。姿勢変換機構部３は、例えば、図２
（Ａ）に示すように、Ｌ字状の断面形状を有し、搬送用
コンベア１上を搬送されて来た一側面Ａｄを下向きにし
た状態のインゴットＡを、図示しないシリンダ機構等に
よって軸３ａを中心に搬送方向に４５°回転させること
によって、図２（Ｂ）に示すようにインゴットＡの２側
面Ａａ，Ａｂを斜め上方に向けるように姿勢変換するも
のである。
で、多結晶シリコンからなる角柱状のインゴットＡをそ
の長さ方向が搬送方向と直交するように載置して、図示
右方向から図示左方向に搬送するものであり、それぞれ
の搬送経路の途中にインゴットＡの姿勢変換機構部３，
４を備えている。姿勢変換機構部３は、例えば、図２
（Ａ）に示すように、Ｌ字状の断面形状を有し、搬送用
コンベア１上を搬送されて来た一側面Ａｄを下向きにし
た状態のインゴットＡを、図示しないシリンダ機構等に
よって軸３ａを中心に搬送方向に４５°回転させること
によって、図２（Ｂ）に示すようにインゴットＡの２側
面Ａａ，Ａｂを斜め上方に向けるように姿勢変換するも
のである。
【００２３】５は姿勢変換機構３によって姿勢変換され
たインゴットＡを後述する搬送手段（７）に移載する移
載手段であり、インゴットＡの２つの角部Ａｅ，Ａｆ
｛図２（Ｂ）参照｝を把持する一対の把持部６，６を有
する。前記移載手段５は前記姿勢変換機構３と後述する
搬送手段（７）との間を往復動作するとともに、把持部
６，６は同期して上下動作し、かつ互いに接近動作また
は離隔動作する。
たインゴットＡを後述する搬送手段（７）に移載する移
載手段であり、インゴットＡの２つの角部Ａｅ，Ａｆ
｛図２（Ｂ）参照｝を把持する一対の把持部６，６を有
する。前記移載手段５は前記姿勢変換機構３と後述する
搬送手段（７）との間を往復動作するとともに、把持部
６，６は同期して上下動作し、かつ互いに接近動作また
は離隔動作する。
【００２４】搬送手段７は、インゴットＡを上向きＶ字
状の支持部８ａに載置して搬送用コンベア１，２と直交
する方向に搬送する台車８と、この台車８が移動する一
対のレール９，９と、前記台車８を押し出しまたは引き
戻すプッシャ１０とを有する。
状の支持部８ａに載置して搬送用コンベア１，２と直交
する方向に搬送する台車８と、この台車８が移動する一
対のレール９，９と、前記台車８を押し出しまたは引き
戻すプッシャ１０とを有する。
【００２５】この搬送手段７の前方｛図１（Ａ）の上
方｝には、研磨加工部１１が配置されている。この研磨
加工部１１は、搬送手段７の搬送路の両側上方に配置さ
れた複数の研磨冶具１２ａ，１２ｂ，１３ａ，１３ｂを
備えている。前記研磨冶具１２ａ，１３ａは、インゴッ
トＡの一方の側面Ａａを研磨加工するもので、研磨冶具
１２ｂ，１３ｂは、インゴットＡの他方の側面Ａｂを研
磨加工するものであり、１２ａ，１２ｂは粗研磨用、１
３ａ，１３ｂは仕上げ研磨用である。そして、それぞれ
粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂが搬送経路の手前側
に配置され、仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが
搬送経路の前方側に配置されている。これらの研磨冶具
１２ａ〜１３ｂは、各種構成のものが採用できるが、例
えば、樹脂製の毛にダイアモンド砥粒を埋め込んだもの
をドーナツ状に植設した回転ブラシが用いられる。
方｝には、研磨加工部１１が配置されている。この研磨
加工部１１は、搬送手段７の搬送路の両側上方に配置さ
れた複数の研磨冶具１２ａ，１２ｂ，１３ａ，１３ｂを
備えている。前記研磨冶具１２ａ，１３ａは、インゴッ
トＡの一方の側面Ａａを研磨加工するもので、研磨冶具
１２ｂ，１３ｂは、インゴットＡの他方の側面Ａｂを研
磨加工するものであり、１２ａ，１２ｂは粗研磨用、１
３ａ，１３ｂは仕上げ研磨用である。そして、それぞれ
粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂが搬送経路の手前側
に配置され、仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが
搬送経路の前方側に配置されている。これらの研磨冶具
１２ａ〜１３ｂは、各種構成のものが採用できるが、例
えば、樹脂製の毛にダイアモンド砥粒を埋め込んだもの
をドーナツ状に植設した回転ブラシが用いられる。
【００２６】前記搬送手段７に隣接してインゴットＡの
反転機構部１４が配置されている。この反転機構部１４
は、インゴットＡの両端を把持して、その軸を中心に１
８０°回転（すなわち、反転）させるものである。この
反転機構部１４の上方にはインゴットＡの移載手段１５
が配置されている。移載手段１５はインゴットＡの２つ
の角部を把持する一対の把持部１６，１６を有する。こ
の移載手段１５は前記搬送手段７と姿勢変換機構４との
間を往復動作するとともに、搬送手段７と姿勢変換機構
部４との間を往復動作し、把持部１６，１６は同期して
上下動作し、かつ互いに接近動作または離隔動作する。
反転機構部１４が配置されている。この反転機構部１４
は、インゴットＡの両端を把持して、その軸を中心に１
８０°回転（すなわち、反転）させるものである。この
反転機構部１４の上方にはインゴットＡの移載手段１５
が配置されている。移載手段１５はインゴットＡの２つ
の角部を把持する一対の把持部１６，１６を有する。こ
の移載手段１５は前記搬送手段７と姿勢変換機構４との
間を往復動作するとともに、搬送手段７と姿勢変換機構
部４との間を往復動作し、把持部１６，１６は同期して
上下動作し、かつ互いに接近動作または離隔動作する。
【００２７】次に、上記の研磨装置を用いる本発明の角
形基板の製造方法について説明する。まず、搬送用コン
ベア１上にローダ側（図示右方側）から、多結晶シリコ
ンからなり面取りされた角柱状のインゴットＡを供給す
る。供給されたインゴットＡは、自重によってその一側
面Ａｄが下側になる。インゴットＡが姿勢変換機構部３
に来ると、図２（Ａ）に示すように、Ｌ字状断面形状の
姿勢変換機構部３に載り、姿勢変換機構部３がエアシリ
ンダ等によって軸３ａを中心に搬送方向に４５°回転し
て、図２（Ｂ）に示すように、インゴットＡの２側面Ａ
ａ，Ａｂが斜め上向きになるように姿勢変換される。
形基板の製造方法について説明する。まず、搬送用コン
ベア１上にローダ側（図示右方側）から、多結晶シリコ
ンからなり面取りされた角柱状のインゴットＡを供給す
る。供給されたインゴットＡは、自重によってその一側
面Ａｄが下側になる。インゴットＡが姿勢変換機構部３
に来ると、図２（Ａ）に示すように、Ｌ字状断面形状の
姿勢変換機構部３に載り、姿勢変換機構部３がエアシリ
ンダ等によって軸３ａを中心に搬送方向に４５°回転し
て、図２（Ｂ）に示すように、インゴットＡの２側面Ａ
ａ，Ａｂが斜め上向きになるように姿勢変換される。
【００２８】この状態で、移載機構５が姿勢変換機構部
３の上方位置に水平移動した後、把持部６，６が下降し
かつ相互に接近動作してインゴットＡの２つの角部Ａ
ｅ，Ａｆを把持した後上昇し、続いて搬送手段７の上方
に水平移動した後、把持部６，６が下降しかつ相互に離
隔動作してインゴットＡを台車８の上向きＶ字状の支持
部８ａに移載する。
３の上方位置に水平移動した後、把持部６，６が下降し
かつ相互に接近動作してインゴットＡの２つの角部Ａ
ｅ，Ａｆを把持した後上昇し、続いて搬送手段７の上方
に水平移動した後、把持部６，６が下降しかつ相互に離
隔動作してインゴットＡを台車８の上向きＶ字状の支持
部８ａに移載する。
【００２９】すると、プッシャ１０が台車８の支持部８
ａに載置されたインゴットＡを搬送手段７の前方側｛図
１（Ａ）の上方側｝に押し出す。台車８の支持部８ａ上
に載置されたインゴットＡが研磨加工部１１に来ると、
研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め下方に下降して、図３
（Ａ）に示すようにインゴットＡの斜め上方を向いた２
側面Ａａ，Ａｂが研磨冶具１２ａ〜１３ｂによって研磨
される。ここで、粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂが
搬送方向の手前側に配置され、仕上げ研磨用の研磨冶具
１３ａ，１３ｂが搬送方向の前方側に配置されているの
で、上記２側面Ａａ，Ａｂは、まず粗研磨用の研磨冶具
１２ａ，１２ｂで粗研磨され、続いて仕上げ研磨用の研
磨冶具１３ａ，１３ｂによって仕上げ研磨される。この
研磨加工によって、インゴットＡの２側面Ａａ，Ａｂの
凹凸は除去される。
ａに載置されたインゴットＡを搬送手段７の前方側｛図
１（Ａ）の上方側｝に押し出す。台車８の支持部８ａ上
に載置されたインゴットＡが研磨加工部１１に来ると、
研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め下方に下降して、図３
（Ａ）に示すようにインゴットＡの斜め上方を向いた２
側面Ａａ，Ａｂが研磨冶具１２ａ〜１３ｂによって研磨
される。ここで、粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂが
搬送方向の手前側に配置され、仕上げ研磨用の研磨冶具
１３ａ，１３ｂが搬送方向の前方側に配置されているの
で、上記２側面Ａａ，Ａｂは、まず粗研磨用の研磨冶具
１２ａ，１２ｂで粗研磨され、続いて仕上げ研磨用の研
磨冶具１３ａ，１３ｂによって仕上げ研磨される。この
研磨加工によって、インゴットＡの２側面Ａａ，Ａｂの
凹凸は除去される。
【００３０】粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂと仕上
げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂとの下降タイミング
は同時であってもよいが、例えば、まず粗研磨用の研磨
冶具１２ａ，１２ｂのみが下降して、この粗研磨用の研
磨冶具１２ａ，１２ｂによって粗研磨加工されたインゴ
ットＡの研磨加工済み部分が、仕上げ研磨用の研磨冶具
１３ａ，１３ｂの位置に来るタイミングに合わせて仕上
げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが下降して、仕上げ
研磨加工するようにしてもよい。このようにすれば、仕
上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが未加工のインゴ
ットＡの側面を研磨加工することが防止されるので、仕
上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂの磨耗を低減して
長寿命化を図ることができる。
げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂとの下降タイミング
は同時であってもよいが、例えば、まず粗研磨用の研磨
冶具１２ａ，１２ｂのみが下降して、この粗研磨用の研
磨冶具１２ａ，１２ｂによって粗研磨加工されたインゴ
ットＡの研磨加工済み部分が、仕上げ研磨用の研磨冶具
１３ａ，１３ｂの位置に来るタイミングに合わせて仕上
げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが下降して、仕上げ
研磨加工するようにしてもよい。このようにすれば、仕
上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが未加工のインゴ
ットＡの側面を研磨加工することが防止されるので、仕
上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂの磨耗を低減して
長寿命化を図ることができる。
【００３１】なお、各研磨冶具１２ａ〜１３ｂは、例え
ば、その回転軸を通して回転ブラシの中心部に冷却液を
供給するようにすれば、回転ブラシの回転に伴う遠心力
によって、冷却液が回転ブラシの中心から外周部へ向か
って流れるので、研磨加工によって生じた微細な屑によ
る回転ブラシの毛の目詰まりを防止することができ、研
磨冶具１２ａ〜１３ｂに長期間にわたって良好な研磨性
能を維持することができる。
ば、その回転軸を通して回転ブラシの中心部に冷却液を
供給するようにすれば、回転ブラシの回転に伴う遠心力
によって、冷却液が回転ブラシの中心から外周部へ向か
って流れるので、研磨加工によって生じた微細な屑によ
る回転ブラシの毛の目詰まりを防止することができ、研
磨冶具１２ａ〜１３ｂに長期間にわたって良好な研磨性
能を維持することができる。
【００３２】インゴットＡの２側面Ａａ，Ａｂの研磨が
終了すると、研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め上方に退避
し、次いで台車８がプッシャ１０によって引き戻され、
元の位置に戻る。この間に、移載手段５が次のインゴッ
トＡを取りに姿勢変換機構部３の上方位置に水平移動し
ており、また移載手段１５が搬送手段７の上方位置まで
水平移動して来ており、移載手段１５の把持部１６，１
６が下降しかつ互いに接近動作して２側面Ａａ，Ａｂの
研磨加工が終了したインゴットＡの角部Ａｅ、Ａｆを把
持して上昇後、反転機構部１４の位置に水平移動し、把
持部１６，１６が下降した後、互いに離隔動作してイン
ゴットＡを反転機構部１４に移載する反転機構部１４
は、図４（Ａ）に示すように、２側面Ａａ，Ａｂが斜め
上方を向いた状態のインゴットＡを図示しない把持手段
によって軸方向の両端から把持して回転機構によって軸
方向を中心にして１８０°回転させる。すると、図４
（Ｂ）に示すように、インゴットＡが上下反転して研磨
済みの２側面Ａａ，Ａｂが斜め下向きとなり、代わって
未研磨の２側面Ａｃ，Ａｄが斜め上向き状態になる。こ
の状態で移載手段１５の把持部１６，１６が下降しかつ
互いに接近動作して、インゴットＡの２つの角部Ａｅ，
Ａｆを把持して上昇後、移載手段１５が水平移動して把
持部１６，１６が下降後、互いに離隔動作することによ
って、再び台車８の上向きＶ字状の支持部８ａに移載す
る。
終了すると、研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め上方に退避
し、次いで台車８がプッシャ１０によって引き戻され、
元の位置に戻る。この間に、移載手段５が次のインゴッ
トＡを取りに姿勢変換機構部３の上方位置に水平移動し
ており、また移載手段１５が搬送手段７の上方位置まで
水平移動して来ており、移載手段１５の把持部１６，１
６が下降しかつ互いに接近動作して２側面Ａａ，Ａｂの
研磨加工が終了したインゴットＡの角部Ａｅ、Ａｆを把
持して上昇後、反転機構部１４の位置に水平移動し、把
持部１６，１６が下降した後、互いに離隔動作してイン
ゴットＡを反転機構部１４に移載する反転機構部１４
は、図４（Ａ）に示すように、２側面Ａａ，Ａｂが斜め
上方を向いた状態のインゴットＡを図示しない把持手段
によって軸方向の両端から把持して回転機構によって軸
方向を中心にして１８０°回転させる。すると、図４
（Ｂ）に示すように、インゴットＡが上下反転して研磨
済みの２側面Ａａ，Ａｂが斜め下向きとなり、代わって
未研磨の２側面Ａｃ，Ａｄが斜め上向き状態になる。こ
の状態で移載手段１５の把持部１６，１６が下降しかつ
互いに接近動作して、インゴットＡの２つの角部Ａｅ，
Ａｆを把持して上昇後、移載手段１５が水平移動して把
持部１６，１６が下降後、互いに離隔動作することによ
って、再び台車８の上向きＶ字状の支持部８ａに移載す
る。
【００３３】すると、プッシャ１０が再び台車８を搬送
手段７の前方に押し出す。台車８上のインゴットＡが研
磨加工部１１に来ると、研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め
下方に下降して、図３（Ｂ）に示すようにインゴットＡ
の斜め上向きの２側面Ａｃ，Ａｄが研磨冶具１２ａ〜１
３ｂによって研磨加工される。ここで、前述のとおり、
粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂが手前側に配置さ
れ、仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが前方側に
配置されているので、上記２側面Ａｃ，Ａｄは、まず粗
研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂで粗研磨され、続いて
仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂによって仕上げ
研磨される。
手段７の前方に押し出す。台車８上のインゴットＡが研
磨加工部１１に来ると、研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め
下方に下降して、図３（Ｂ）に示すようにインゴットＡ
の斜め上向きの２側面Ａｃ，Ａｄが研磨冶具１２ａ〜１
３ｂによって研磨加工される。ここで、前述のとおり、
粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂが手前側に配置さ
れ、仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂが前方側に
配置されているので、上記２側面Ａｃ，Ａｄは、まず粗
研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂで粗研磨され、続いて
仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂによって仕上げ
研磨される。
【００３４】インゴットＡの２側面Ａｃ，Ａｄの研磨が
終了すると、研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め上方に退避
し、台車８がプッシャ１０によって引き戻され、元の位
置に戻る。このとき、移載手段１５が搬送手段７の上方
に位置しているので、その把持部１６，１６が下降後、
互いに接近動作して２側面Ａｃ，Ａｄの研磨が終了した
インゴットＡの角部Ａｅ、Ａｆを把持して上昇後、移載
手段１５が姿勢変換機構部４の位置に水平移動し、把持
部１６，１６が下降後、互いに離隔動作することによっ
てインゴットＡを姿勢変換機構部４に移載する。
終了すると、研磨冶具１２ａ〜１３ｂが斜め上方に退避
し、台車８がプッシャ１０によって引き戻され、元の位
置に戻る。このとき、移載手段１５が搬送手段７の上方
に位置しているので、その把持部１６，１６が下降後、
互いに接近動作して２側面Ａｃ，Ａｄの研磨が終了した
インゴットＡの角部Ａｅ、Ａｆを把持して上昇後、移載
手段１５が姿勢変換機構部４の位置に水平移動し、把持
部１６，１６が下降後、互いに離隔動作することによっ
てインゴットＡを姿勢変換機構部４に移載する。
【００３５】姿勢変換機構部４は、図５（Ａ）に示すよ
うに、インゴットＡの２側面Ａｃ．Ａｄが斜め上方を向
いた姿勢状態から、図示しないエアシリンダ等によって
その軸４ａを中心に搬送方向に４５°回転して、図５
（Ｂ）に示すようにインゴットＡの側面Ａａが下向きな
るように姿勢変換して、搬送用コンベア２上に載せ、搬
送用コンベア２がインゴットＡをアンローダ側（図１左
方側）に搬送する。
うに、インゴットＡの２側面Ａｃ．Ａｄが斜め上方を向
いた姿勢状態から、図示しないエアシリンダ等によって
その軸４ａを中心に搬送方向に４５°回転して、図５
（Ｂ）に示すようにインゴットＡの側面Ａａが下向きな
るように姿勢変換して、搬送用コンベア２上に載せ、搬
送用コンベア２がインゴットＡをアンローダ側（図１左
方側）に搬送する。
【００３６】以上のようにして、ローダ側（図１右方
側）から角柱状のインゴットＡを供給し、アンローダ側
（図１左方側）から、４側面Ａａ〜Ａｄが仕上げ研磨さ
れた角柱状のインゴットＡを取り出すことができる。
側）から角柱状のインゴットＡを供給し、アンローダ側
（図１左方側）から、４側面Ａａ〜Ａｄが仕上げ研磨さ
れた角柱状のインゴットＡを取り出すことができる。
【００３７】この後、従来法と同様に、上記の角柱状の
インゴットＡをその軸方向と直交する方向Ｂ−Ｂにワイ
ヤソーのワイヤーでスライスすれば、図６（Ｂ）と同様
に多結晶シリコンからなる薄板状の角形多結晶シリコン
基板Ｃが得られる。このスライス時に、インゴットＡの
４側面が仕上げ研磨加工されて凹凸がなくなっているた
め、従来技術で述べた深い凹部Ｄに起因するクラックＥ
の発生や、ワイヤソーにおけるワイヤーの横ぶれに起因
する角形多結晶シリコン基板Ｃの厚さが角形多結晶シリ
コン基板Ｃ，Ｃ間または角形多結晶シリコン基板Ｃの面
内で不均一になるといった不都合がなくなり、均一な厚
さを有する角形多結晶シリコン基板Ｃを収率よく製造す
ることができる。
インゴットＡをその軸方向と直交する方向Ｂ−Ｂにワイ
ヤソーのワイヤーでスライスすれば、図６（Ｂ）と同様
に多結晶シリコンからなる薄板状の角形多結晶シリコン
基板Ｃが得られる。このスライス時に、インゴットＡの
４側面が仕上げ研磨加工されて凹凸がなくなっているた
め、従来技術で述べた深い凹部Ｄに起因するクラックＥ
の発生や、ワイヤソーにおけるワイヤーの横ぶれに起因
する角形多結晶シリコン基板Ｃの厚さが角形多結晶シリ
コン基板Ｃ，Ｃ間または角形多結晶シリコン基板Ｃの面
内で不均一になるといった不都合がなくなり、均一な厚
さを有する角形多結晶シリコン基板Ｃを収率よく製造す
ることができる。
【００３８】なお、上記実施形態において、粗研磨用の
研磨冶具１２ａ，１２ｂの砥粒を、例えば＃３２０、仕
上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂの砥粒を例えば＃
８００にし、回転ブラシの周速を、例えば６３０〜６５
０ｍ／ｍｉｎにし、プッシャ１０によるインゴットＡの
移動速度を、例えば０．３ｍ／ｍｉｎとすることによ
り、ワイヤソーによるインゴットＡのスライス時にクラ
ックや厚さの不均一の生じない多結晶シリコン基板Ｃが
収率よく得られた。ここで、インゴットＡの移動速度
は、仕上げ研磨の仕上がり表面状態を調整するため、あ
るいは各種材質のインゴットに対応するため、サーボモ
ータによって０〜１．０ｍ／ｍｉｎの範囲で可変できる
ようにすることが望ましい。
研磨冶具１２ａ，１２ｂの砥粒を、例えば＃３２０、仕
上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂの砥粒を例えば＃
８００にし、回転ブラシの周速を、例えば６３０〜６５
０ｍ／ｍｉｎにし、プッシャ１０によるインゴットＡの
移動速度を、例えば０．３ｍ／ｍｉｎとすることによ
り、ワイヤソーによるインゴットＡのスライス時にクラ
ックや厚さの不均一の生じない多結晶シリコン基板Ｃが
収率よく得られた。ここで、インゴットＡの移動速度
は、仕上げ研磨の仕上がり表面状態を調整するため、あ
るいは各種材質のインゴットに対応するため、サーボモ
ータによって０〜１．０ｍ／ｍｉｎの範囲で可変できる
ようにすることが望ましい。
【００３９】また、上記実施形態では、姿勢変換機構部
３，４として、Ｌ字状断面形状に構成し、軸３ａ，４ａ
を中心に４５°回転させるものについて説明したが、必
要ならば、Ｌ字状断面形状のインゴット支持部を先端に
有するアームで構成し、このアームの基部の軸を中心に
所定角度回動させるようにしてもよい。このようにすれ
ば、インゴットＡの姿勢変換と同時にインゴットＡを搬
送用コンベア１，２の上面よりも高くすることができ、
移載手段５による姿勢変換機構部３からのインゴットＡ
の受け取り、および移載手段１５による姿勢変換機構部
４へのインゴットＡの受け渡しを容易にできる。しか
も、移載手段５，１５の水平移動距離を短くでき、装置
の小型化ができるとともに、移載時間を短縮することが
できる。
３，４として、Ｌ字状断面形状に構成し、軸３ａ，４ａ
を中心に４５°回転させるものについて説明したが、必
要ならば、Ｌ字状断面形状のインゴット支持部を先端に
有するアームで構成し、このアームの基部の軸を中心に
所定角度回動させるようにしてもよい。このようにすれ
ば、インゴットＡの姿勢変換と同時にインゴットＡを搬
送用コンベア１，２の上面よりも高くすることができ、
移載手段５による姿勢変換機構部３からのインゴットＡ
の受け取り、および移載手段１５による姿勢変換機構部
４へのインゴットＡの受け渡しを容易にできる。しか
も、移載手段５，１５の水平移動距離を短くでき、装置
の小型化ができるとともに、移載時間を短縮することが
できる。
【００４０】さらに、上記実施形態では、移載手段５，
１５を、把持部６，６および１６，１６の取付部分が水
平移動し、把持部６，６および１６，１６が上下動作
と、相互に接近動作および離隔動作する場合について説
明したが、把持部は相互に接近動作および離隔動作のみ
を行い、この把持部の取付部分が水平移動動作および上
下動作するように構成することもできる。要は、全体と
して、把持部が相対的に水平移動動作，上下動作および
相互に接近動作および離隔動作するものであればよい。
１５を、把持部６，６および１６，１６の取付部分が水
平移動し、把持部６，６および１６，１６が上下動作
と、相互に接近動作および離隔動作する場合について説
明したが、把持部は相互に接近動作および離隔動作のみ
を行い、この把持部の取付部分が水平移動動作および上
下動作するように構成することもできる。要は、全体と
して、把持部が相対的に水平移動動作，上下動作および
相互に接近動作および離隔動作するものであればよい。
【００４１】さらにまた、上記実施形態のように、搬送
用コンベア１，２の搬送方向に直交する方向に搬送手段
７および研磨加工部１１を設けると、装置全体を小型化
でき、特に、研磨加工部１１でインゴットＡのある斜め
上方を向いた２側面の研磨加工が終わってから、一旦、
台車８を元の位置に戻して、インゴットＡを上下反転
後、再び研磨加工部１１で残りの斜め上方を向いた２側
面を研磨加工するようにすると、より装置を小型化する
ことができる。ただし、すべての構成部を直線状に配置
したり、あるいは搬送手段７を長くしてその途中にイン
ゴットＡの反転機構部１４を配置し、その前方に別の研
磨加工部を設置したりするようにしてもよい。
用コンベア１，２の搬送方向に直交する方向に搬送手段
７および研磨加工部１１を設けると、装置全体を小型化
でき、特に、研磨加工部１１でインゴットＡのある斜め
上方を向いた２側面の研磨加工が終わってから、一旦、
台車８を元の位置に戻して、インゴットＡを上下反転
後、再び研磨加工部１１で残りの斜め上方を向いた２側
面を研磨加工するようにすると、より装置を小型化する
ことができる。ただし、すべての構成部を直線状に配置
したり、あるいは搬送手段７を長くしてその途中にイン
ゴットＡの反転機構部１４を配置し、その前方に別の研
磨加工部を設置したりするようにしてもよい。
【００４２】また、研磨加工部１１は、粗研磨用の研磨
冶具１２ａ．１２ｂと、仕上げ研磨用の研磨冶具１３
ａ，１３ｂとで構成する場合について説明したが、も
し、必要ならば、粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂと
仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂとの間に、中仕
上げ用の研磨冶具を設けてもよい。
冶具１２ａ．１２ｂと、仕上げ研磨用の研磨冶具１３
ａ，１３ｂとで構成する場合について説明したが、も
し、必要ならば、粗研磨用の研磨冶具１２ａ，１２ｂと
仕上げ研磨用の研磨冶具１３ａ，１３ｂとの間に、中仕
上げ用の研磨冶具を設けてもよい。
【００４３】
【発明の効果】本発明は、以上のように、角柱状のイン
ゴットをスライスして薄板状の角形基板を製造する角形
基板の製造方法において、インゴットの側面を研磨加工
した後、スライスすることを特徴とするものであるか
ら、インゴットの側面の凹凸が研磨加工によってなくな
り、したがって、その後のスライス時に側面の凹部をオ
リジンとするクラックの発生や、側面の凹部によってワ
イヤソーにおけるワイヤーが横ぶれすることに起因する
角形基板間のあるいは角形基板面内の厚さの不均一が生
じなくなり、均一な厚さを有する角形基板を収率よく製
造できるという効果を奏する。
ゴットをスライスして薄板状の角形基板を製造する角形
基板の製造方法において、インゴットの側面を研磨加工
した後、スライスすることを特徴とするものであるか
ら、インゴットの側面の凹凸が研磨加工によってなくな
り、したがって、その後のスライス時に側面の凹部をオ
リジンとするクラックの発生や、側面の凹部によってワ
イヤソーにおけるワイヤーが横ぶれすることに起因する
角形基板間のあるいは角形基板面内の厚さの不均一が生
じなくなり、均一な厚さを有する角形基板を収率よく製
造できるという効果を奏する。
【図１】（Ａ）は本発明に係る実施形態の角形基板の製
造方法について説明するための研磨装置の概略構成平面
図、（Ｂ）はその正面図である。
造方法について説明するための研磨装置の概略構成平面
図、（Ｂ）はその正面図である。
【図２】（Ａ）はローダ側の姿勢変換機構部におけるイ
ンゴットの姿勢変換前の状態を示す正面図、（Ｂ）はイ
ンゴットの姿勢変換後の状態を示す正面図である。
ンゴットの姿勢変換前の状態を示す正面図、（Ｂ）はイ
ンゴットの姿勢変換後の状態を示す正面図である。
【図３】（Ａ）は研磨加工部におけるインゴットの斜め
上方を向いた２側面の研磨加工時の正面図、（Ｂ）はイ
ンゴットの他の斜め上方を向いた２側面の研磨加工時の
正面図である。
上方を向いた２側面の研磨加工時の正面図、（Ｂ）はイ
ンゴットの他の斜め上方を向いた２側面の研磨加工時の
正面図である。
【図４】（Ａ）は反転機構部におけるインゴットの反転
前の状態を示す正面図、（Ｂ）はインゴットの反転後の
状態を示す正面図である。
前の状態を示す正面図、（Ｂ）はインゴットの反転後の
状態を示す正面図である。
【図５】（Ａ）はアンローダ側の姿勢変換機構部におけ
るインゴットの姿勢変換前の状態を示す正面図、（Ｂ）
はインゴットの姿勢変換後の状態を示す正面図である。
るインゴットの姿勢変換前の状態を示す正面図、（Ｂ）
はインゴットの姿勢変換後の状態を示す正面図である。
【図６】（Ａ）は角柱状のインゴットをスライスして角
形基板を製造する方法について説明するインゴットの斜
視図、（Ｂ）はそのスライスによって得られた角形基板
の拡大平面図である。
形基板を製造する方法について説明するインゴットの斜
視図、（Ｂ）はそのスライスによって得られた角形基板
の拡大平面図である。
【図７】（Ａ）はインゴットの側面の凹凸に起因する不
都合について説明するインゴット表面の拡大断面図、
（Ｂ）は凹部に起因するクラック発生について説明する
インゴット表面の拡大断面図である。
都合について説明するインゴット表面の拡大断面図、
（Ｂ）は凹部に起因するクラック発生について説明する
インゴット表面の拡大断面図である。
１，２ 搬送用コンベア
３，４ 姿勢変換機構部
５，１５ 移載手段
６，１６ 把持部
７ 搬送手段
８ 台車
８ａ 上向きＶ字状の支持部
９ レール
１０ プッシャ
１１ 研磨加工部
１２ａ，１２ｂ 研磨冶具（粗研磨用）
１３ａ，１３ｂ 研磨冶具（仕上げ研磨用）
１４ 反転機構部
Ａ 角柱状のインゴット
Ａａ〜Ａｄ 側面
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平２−122617（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−251600（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−112625（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−56400（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−193137（ＪＰ，Ａ)
実公 昭10−17748（ＪＰ，Ｙ１)
登録実用新案3004583（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/304
H01L 21/02
Claims (6)
- 【請求項１】角柱状のインゴットをスライスして薄板状
の基板を製造する角形基板の製造方法において、 インゴットの側面を研磨加工した後、スライスすること
を特徴とする角形基板の製造方法。 - 【請求項２】前記インゴットの２側面を上向きＶ字状の
支持部によって支持し、斜め上方に向いた２側面を研磨
加工することを特徴とする請求項１記載の角形基板の製
造方法。 - 【請求項３】前記上向きＶ字状の支持部によって支持さ
れたインゴットを、その長手方向に移動させながら、研
磨手段によって研磨加工することを特徴とする請求項１
または２に記載の角形基板の製造方法。 - 【請求項４】前記インゴットを、その移動方向に沿って
配置された粗さが異なる複数の研磨冶具によって研磨加
工することを特徴とする請求項３記載の角形基板の製造
方法。 - 【請求項５】前記複数の研磨冶具が、インゴットの送り
方向の手前側が粗研磨用で、前方側が仕上げ研磨用であ
ることを特徴とする請求項４記載の角形基板の製造方
法。 - 【請求項６】前記上向きＶ字状の支持部によって支持さ
れたインゴットの斜め上方を向いた２側面の研磨加工
後、上下反転して残りの斜め上方を向いた２側面を研磨
加工することを特徴とする請求項１なし５のいずれかに
記載の角形基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001047050A JP3405411B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | 角形基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001047050A JP3405411B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | 角形基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002252188A JP2002252188A (ja) | 2002-09-06 |
| JP3405411B2 true JP3405411B2 (ja) | 2003-05-12 |
Family
ID=18908560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001047050A Expired - Fee Related JP3405411B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | 角形基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3405411B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7637801B2 (en) * | 2000-09-28 | 2009-12-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of making solar cell |
| US7591712B2 (en) | 2005-05-11 | 2009-09-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Method of producing silicon blocks and silicon wafers |
| JP5458485B2 (ja) * | 2007-09-25 | 2014-04-02 | 三洋電機株式会社 | 太陽電池セルの製造方法及び太陽電池モジュールの製造方法 |
| JP5150196B2 (ja) * | 2007-10-16 | 2013-02-20 | シャープ株式会社 | シリコンウエハの製造方法 |
| CN101583463B (zh) * | 2007-12-28 | 2013-03-27 | 新东工业株式会社 | 棱柱状构件的研磨装置 |
| CN101612716B (zh) * | 2009-07-16 | 2011-05-25 | 浙江工业大学 | 晶硅方坯磨削加工专用磨床 |
| JP5406126B2 (ja) | 2010-06-09 | 2014-02-05 | 株式会社岡本工作機械製作所 | インゴットブロックの複合面取り加工装置および加工方法 |
| TWI566887B (zh) | 2010-09-01 | 2017-01-21 | Sintokogio Ltd | Cylindrical components of the grinding device |
| JP5563427B2 (ja) * | 2010-11-02 | 2014-07-30 | 株式会社Ｂｂｓ金明 | 研磨装置 |
| TWI520829B (zh) | 2010-11-18 | 2016-02-11 | Sintokogio Ltd | A grinding member for a cylindrical member, a cylindrical member, and a cylindrical member |
| CN102152203A (zh) * | 2010-12-30 | 2011-08-17 | 洛阳金诺机械工程有限公司 | 一种磨削硅芯或其它晶体材料的磨机 |
| CN103286655A (zh) * | 2013-06-18 | 2013-09-11 | 南通综艺新材料有限公司 | 一种多晶硅c角毛刷抛光机 |
| CN108389795A (zh) * | 2018-02-26 | 2018-08-10 | 无锡奥特维科技股份有限公司 | 电池片掰片系统 |
| KR102309406B1 (ko) * | 2019-11-29 | 2021-10-05 | (재)대구기계부품연구원 | 브러시 마모 자동 감지형 정밀 연마 시스템 및 이를 이용한 정밀 연마 방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3004583U (ja) | 1994-02-15 | 1994-11-22 | 相云 李 | 石材研磨機 |
-
2001
- 2001-02-22 JP JP2001047050A patent/JP3405411B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3004583U (ja) | 1994-02-15 | 1994-11-22 | 相云 李 | 石材研磨機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002252188A (ja) | 2002-09-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3405411B2 (ja) | 角形基板の製造方法 | |
| KR101301258B1 (ko) | 각주 형상 부재의 연마 장치 | |
| TWI758505B (zh) | 晶圓生成裝置 | |
| JP5406126B2 (ja) | インゴットブロックの複合面取り加工装置および加工方法 | |
| KR101598657B1 (ko) | 웨이퍼의 모따기 장치 | |
| JP5430975B2 (ja) | ワーク加工方法およびワーク加工装置 | |
| JP5517156B2 (ja) | インゴットブロックの複合面取り加工装置 | |
| JP2011136382A (ja) | シリコンインゴットの面取り加工装置 | |
| KR20230132521A (ko) | 기판 가공 방법 및 기판 가공 장치 | |
| JP2010194680A (ja) | ワーク加工方法およびワーク加工装置 | |
| TW201927469A (zh) | 基板處理系統、基板處理方法、程式及電腦記錄媒體 | |
| JP2014027000A (ja) | 研削装置 | |
| JP2023540884A (ja) | Ｃｍｐ処理のための基板ハンドリングシステム及び方法 | |
| CN212653275U (zh) | 研磨修复装置及硅棒加工设备 | |
| JP4966069B2 (ja) | 加工装置 | |
| JP2013132746A (ja) | 研磨装置およびスパッタリングターゲットの製造方法 | |
| JP2017204606A (ja) | ウエーハ製造方法 | |
| JP3980896B2 (ja) | 板材の加工方法及びその装置 | |
| JP6074154B2 (ja) | 加工装置 | |
| CN109119371A (zh) | 剥离装置 | |
| JP2003173986A (ja) | ２スピンドル切削装置における切削方法 | |
| TW202224012A (zh) | 被加工物之磨削方法 | |
| JPS61152357A (ja) | 加工装置 | |
| JP4564351B2 (ja) | 半導体ウェーハの分割方法、研削装置および半導体ウェーハ分割システム | |
| JP5735260B2 (ja) | サファイア基板の加工方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030121 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090307 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100307 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120307 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120307 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140307 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |