JP2003029400A - 画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度で記録可能であり、画像成時のラチチ
ュードに優れ、耐傷性が改良されたヒートモード対応ポ
ジ型画像形成材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に、（Ａ）水不溶性且つアルカ
リ可溶性樹脂を含有する第１の記録層と、（Ｂ）分子内
に少なくとも２個のエノールエーテル基を有する化合
物、（Ｃ）該成分（Ｂ）と反応して架橋構造を形成可能
な、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）光熱変換
剤、及び、（Ｅ）熱酸発生剤を含有する第２の記録層
と、を順次形成してなる。（Ｂ）成分としては、下記一
般式（１）で表されるエノールエーテル基を有する化合
物が好ましい。下記式中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それ
ぞれ独立に水素、アルキル基又はアリール基を表す。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ
型平版印刷版原版として有用なポジ型画像形成材料に関
する。

【０００２】

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。

【０００３】従来より知られているダイレクト製版用の
赤外線レーザ用ポジ型感光性画像形成材料においては、
アルカリ水溶液可溶性樹脂として、ノボラック樹脂が用
いられている。例えば、特開平７−２８５２７５号公報
に開示されているポジ型感光性画像形成材料は、ノボラ
ック樹脂等のフェノール性水酸基を有するアルカリ水溶
液可溶性樹脂に、光を吸収して熱を発生する物質と、種
々のオニウム塩、キノンジアジド化合物類等のようなポ
ジ型感光性化合物を添加したものであり、該ポジ型感光
性化合物が、画像部ではアルカリ水溶液可溶性樹脂の溶
解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、非画
像部では熱により溶解阻止能を発現しなくなり、現像に
より除去され得るようになって、画像が形成される。

【０００４】また、ＷＯ９７／３９８９４やＥＰ０８２
３３２７Ａ２に記載されているポジ型感光性画像形成材
料は、光を吸収して熱を発生する物質と、熱によりアル
カリ水溶液溶解性が変化する樹脂とからなるものであ
り、画像部ではアルカリ水溶液溶解性が低く、非画像部
では熱によりアルカリ水溶液可溶性が高くなり、現像に
より除去され得るようになって、画像が形成される。

【０００５】従来の平版印刷版原版において、ノボラッ
ク樹脂は、溶解阻止剤と強く相互作用するため、露光部
と非露光部とで現像液に対する溶解性の差が大きくなる
こと、インキ受容性に優れること等の理由から、特に好
ましく用いられている。そして、赤外線レーザ用ポジ型
感光性画像形成材料についても、同様の理由からノボラ
ック樹脂が用いられている。

【０００６】しかし、赤外線レーザ露光によるヒートモ
ードポジ型画像形成材料において、露光部と非露光部と
の現像液に対する溶解性の差が不十分であり、使用条件
の変動による現像過剰や現像不良が起きやすいという問
題があった。また、取扱い時に表面に触れる等によりわ
ずかに表面状態が変動した場合にも、現像時に未露光部
（画像部）が溶解してキズ跡状となり、耐刷の劣化や着
肉性不良を引き起こすという問題があり、処理安定性、
現像ラチチュード、耐傷性等の諸特性に影響を与える懸
念があった。

【０００７】溶解性ディスクリミネーションを向上さ
せ、現像ラチチュードを改善するため、特開平８−２２
０７５２号公報では、化学反応を利用した画像形成材料
が提案されている。これは、ヒートモード露光により発
生した酸を触媒として、アセタールを加水分解し、架橋
構造を切断することによって、ポジ型画像を形成する系
を利用するものである。この方法によれば、単なる熱的
な溶解抑制作用の解除を利用した系に比較して露光部の
アルカリ水溶液に対する溶解向上効果は改良されるもの
の、支持体との近傍においては支持体への熱の拡散など
により、この発生した酸による溶解性向上について十分
な反応性が得られず、さらなる感度の向上が望まれてい
た。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、高感度で記録可能であり、画像成時のラチチュード
に優れ、耐傷性が改良されたヒートモード対応ポジ型画
像形成材料を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、検討の結
果、記録層を重層構造とし、上部、即ち露光部表面近傍
の記録層に分子内に少なくとも２個のエノールエーテル
基を有する化合物及び該成分と相互作用を形成いうるア
ルカリ可溶性樹脂とを添加することで、上記目的を達成
しうることを見出し、本発明を完成した。

【００１０】即ち、本発明の画像形成材料は、支持体上
に、支持体上に、（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹
脂（以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する）を含有
する第１の記録層と、（Ｂ）分子内に少なくとも２個の
エノールエーテル基を有する化合物、（Ｃ）該成分
（Ｂ）と反応して架橋構造を形成可能な、水不溶性且つ
アルカリ可溶性樹脂（以下、適宜、架橋性アルカリ可溶
性樹脂と称する）、（Ｄ）光熱変換剤、及び、（Ｅ）熱
酸発生剤を含有する第２の記録層と、を順次形成してな
ることを特徴とする。ここで、支持体近傍に位置する第
１の記録層に、さらに、（Ｄ）光熱変換剤を含有するこ
とが感度向上の観点から好ましい。本発明における２層
の記録層のうち、表面（露光面）に最も近い側に設けら
れているものを第２の記録層（上部記録層）、該第２の
記録層よりも支持体に近い側に設けられているものを第
１の記録層（下部記録層）と定義する。なお、本発明に
おいて、前記記録層を順次形成してなるとは、支持体上
に前記２つの記録層がこの順に設けられていることを意
味し、本発明の効果を損なわない限りにおいて必要に応
じて設けられる他の層、例えば、表面保護層、中間層、
下塗り層、バックコート層などの存在を否定するもので
はない。前記（Ｂ）分子内に少なくとも２個のエノール
エーテル基を有する化合物としては、具体的には、下記
一般式（１）で表されるエノールエーテル基を有する化
合物が挙げられる。

【００１１】

【化１】

【００１２】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ
独立に水素、アルキル基又はアリール基を表す。また、
それらの内の２つが結合して飽和又はオレフィン性不飽
和の環を形成してもよい。］

【００１３】本発明の作用は明確ではないが、以下のよ
うに考えられる。即ち、支持体上に重層構造の記録層を
設け、露光部側の第２の記録層に、前記一般式（１）に
示すようなエノールエーテル基を少なくとも２個有する
化合物と、該化合物と相互作用を形成しうるアルカリ可
溶性樹脂と酸発生剤とを含有させることで、強力な溶解
抑制作用（インヒビション）を発現するとともに、ヒー
トモード露光時には、酸が発生し、その酸により相互作
用（架橋）が切断され、効果的にインヒビションが解除
される。さらに、該第２の記録層と支持体との間にアル
カリ可溶性樹脂を含有する第１の記録層を設けること
で、第１の記録層が、露光部では断熱層として機能し、
赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せ
ず、効率良く画像形成に使用されることから、第２の層
の熱による架橋切断反応の効率が向上し、高感度化を一
層向上させると共に、溶解抑制能が解除された第２の記
録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、さらに
は、支持体に隣接して存在するこの第１記録層自体がア
ルカリ可溶性高分子を主成分とするものであるため、現
像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した
現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生すること
なく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与する。ま
た、未露光部では、アルカリ現像液に対して非浸透性で
あり、且つ、前記したように優れたアルカリ水溶解抑制
能を有する第２の記録層自体が第１の記録層の保護層と
して機能するために、現像安定性が良好になり、画像部
（未露光部）の強度と非画像部（露光部）のアルカリ現
像液に対する優れた溶解性とが両立され、非常に大きな
溶解性ディスクリミネーションが実現し、この結果とし
て、高感度を維持しながら、現像ラチチュードと耐傷性
の向上を実現していると考えている。

【００１４】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義
について詳述する。Ｈａｎｓ−Ｊｏａｃｈｉｍ Ｔｉｍ
ｐｅ，ＩＳ＆Ｔｓ ＮＩＰ １５：１９９９ Ｉｎｔｅ
ｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ｏｎ Ｄ
ｉｇｉｔａｌ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇ
ｉｅｓ．Ｐ．２０９に記載されているように、感光体材
料において光吸収物質（例えば色素）を光励起させ、化
学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸
収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロ
セスには大きく分けて二つのモードが存在することが知
られている。１つは光励起された光吸収物質が感光材料
中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用（例え
ば、エネルギー移動、電子移動）をすることで失活し、
その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に
必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォ
トンモードであり、もう１つは光励起された光吸収物質
が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述
の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こす
いわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に
集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレ
ーションや１分子が多数の光子を一度に吸収する多光子
吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。

【００１５】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
トンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばｎ個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により１光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「１光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「ｎ個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分（反応点）から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。

【００１６】無論、フォトンモード露光では後続反応種
の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本
的には、このようなことは起こらない。即ち、感光材料
の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー
密度（ｗ／ｃｍ²）（＝単位時間当たりのエネルギー密
度）に対し感光材料の固有感度（画像形成に必要な反応
のためのエネルギー量）は一定となるが、ヒートモード
では露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇す
ることになる。従って、実際に画像記録材料として実用
上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定す
ると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光で
は通常は約０．１ｍＪ／ｃｍ²程度の高感度化が達成で
きるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、
未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対
し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でない
と反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係か
ら通常は５０ｍＪ／ｃｍ²程度が必要となるが、低露光
カブリの問題が回避される。そして、事実上ヒートモー
ド露光では感光材料の版面での露光パワー密度が５００
０ｗ／ｃｍ²以上が必要であり、好ましくは１００００
ｗ／ｃｍ²以上が必要となる。但し、ここでは詳しく述
べなかったが５．０×１０⁵ｗ／ｃｍ²以上の高パワー密
度レーザーを利用するとアブレーションが起こり、光源
を汚す等の問題から好ましくない。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明の画像形成材料は、支持体上に、（Ａ）アルカリ可
溶性樹脂を含有する第１の記録層と、（Ｂ）分子内に少
なくとも２個のエノールエーテル基を有する化合物、
（Ｃ）該成分（Ｂ）と反応して架橋構造を形成可能なア
ルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）光熱変換剤、及び、（Ｅ）熱
酸発生剤を含有する第２の記録層と、を備える。これら
の記録層について順次説明する。 ［（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有する第１の記録層］
第１の記録層は（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を主成分と
し、好ましくは、さらに後述する（Ｄ）光熱変換剤を含
有する。

【００１８】〔（Ａ）水不溶性且つアルカリ可溶性樹
脂〕本発明の支持体近傍に設けられる第１の記録層（下
部記録層）に使用できる（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、
高分子中の主鎖および／または側鎖に酸性基を含有する
単独重合体、これらの共重合体またはこれらの混合物を
包含する。中でも、下記（１）〜（６）に挙げる酸性基
を高分子の主鎖および／または側鎖中に有するものが、
アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現
の点で好ましい。

【００１９】（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ） （２）スルホンアミド基（−ＳＯ₂ ＮＨ−Ｒ） （３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド
基」という。） 〔−ＳＯ₂ ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ ＮＨＳＯ₂ Ｒ、−ＣＯ
ＮＨＳＯ₂ Ｒ〕 （４）カルボン酸基（−ＣＯ₂ Ｈ） （５）スルホン酸基（−ＳＯ₃ Ｈ） （６）リン酸基（−ＯＰＯ₃ Ｈ₂ ）

【００２０】上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有
していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。

【００２１】上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、（１）フェノール
基、（２）スルホンアミド基および（３）活性イミド基
を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、（１）
フェノール基または（２）スルホンアミド基を有するア
ルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解
性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から
最も好ましい。

【００２２】上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のも
のを挙げることができる。 （１）フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂として
は、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、
ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｍ−
／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、またはｍ−
／ｐ−混合のいずれでもよい）とホルムアルデヒドとの
縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールとア
セトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、フ
ェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合
体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖
に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることも
できる。

【００２３】フェノール基を有する化合物としては、フ
ェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。

【００２４】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有す
る化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として
構成される重合体を挙げることができる。上記のような
化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子
が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物が挙げられ
る。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロ
キシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基ま
たは置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分
子化合物が好ましく、例えば、下記一般式（ｉ）〜一般
式（ｖ）で表される化合物が挙げられる。

【００２５】

【化２】

【００２６】〔式中、Ｘ¹、Ｘ² は、それぞれ独立に−
Ｏ−または−ＮＲ⁷を表す。Ｒ¹、Ｒ⁴は、それぞれ独立
に水素原子又は−ＣＨ₃を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹²、
及び、Ｒ ¹⁶は、それぞれ独立に置換基を有していてもよ
い炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ³、
Ｒ⁷、及び、Ｒ¹³は、それぞれ独立に水素原子、置換基
を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。ま
た、Ｒ⁶、Ｒ¹⁷は、それぞれ独立に置換基を有していて
もよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ⁸、Ｒ¹⁰、Ｒ
¹⁴は、それぞれ独立に水素原子又は−ＣＨ₃を表す。Ｒ
¹¹、Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有して
いてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアル
キレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｙ
¹、Ｙ²は、それぞれ独立に単結合又はＣＯを表す。〕

【００２７】一般式（ｉ）〜一般式（ｖ）で表される化
合物のうち、本発明のポジ型平版印刷用材料では、特
に、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ
−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルア
ミド等を好適に使用することができる。

【００２８】（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物
に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成され
る重合体を挙げることができる。上記のような化合物と
しては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可
能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合
物を挙げることができる。

【００２９】

【化３】

【００３０】具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニ
ル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。

【００３１】（４）カルボン酸基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な
不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に
由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙
げることができる。 （５）スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する
最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げること
ができる。 （６）リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、
例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内
にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位
を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。

【００３２】第１の記録層に用いるアルカリ可溶性樹脂
を構成する、前記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を
有する最小構成単位は、特に１種類のみである必要はな
く、同一の酸性基を有する最小構成単位を２種以上、ま
たは異なる酸性基を有する最小構成単位を２種以上共重
合させたものを用いることもできる。

【００３３】前記共重合体は、共重合させる（１）〜
（６）より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中
に１０モル％以上含まれているものが好ましく、２０モ
ル％以上含まれているものがより好ましい。１０モル％
未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させるこ
とができない傾向がある。

【００３４】本発明では、化合物を共重合してアルカリ
可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる
化合物として、前記（１）〜（６）の酸性基を含まない
他の化合物を用いることもできる。（１）〜（６）の酸
性基を含まない他の化合物の例としては、下記（ｍ１）
〜（ｍ１２）に挙げる化合物を例示することができる
が、これらに限定されるものではない。 （ｍ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル
類。 （ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、等のアルキルアクリレート。 （ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキ
ルメタクリレート。 （ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチ
ロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。

【００３５】（ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロ
ロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。 （ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 （ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 （ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 （ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 （ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等。 （ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミ
ド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニル
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 （ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【００３６】アルカリ可溶性樹脂としては、赤外線レー
ザー等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノ
ール性水酸基を有することが好ましく、例えば、フェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ
−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合の
いずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラ
ック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げら
れる。

【００３７】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第４，１２３，
２７９号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル
基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体が挙げられる。

【００３８】アルカリ可溶性樹脂は、その重量平均分子
量が５００以上であることが画像形成性の点で好まし
く、１，０００〜７００，０００であることがより好ま
しい。また、その数平均分子量が５００以上であること
が好ましく、７５０〜６５０，０００であることがより
好ましい。分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は
１．１〜１０であることが好ましい。

【００３９】また、これらのアルカリ可溶性樹脂は単独
で用いるのみならず、２種類以上を組み合わせて使用し
てもよい。組み合わせる場合には、米国特許第４１２３
２７９号明細書に記載されているような、ｔ−ブチルフ
ェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチル
フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、
炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノ
ールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者らが先
に提出した特開２０００−２４１９７２号公報に記載の
芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を有す
るアルカリ可溶性樹脂などを併用してもよい。

【００４０】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、そ
の合計の含有量が、第１の記録層全固形分中、５０〜９
９．９重量％が好ましく、７０〜９９重量％がより好ま
しい。含有量が３０重量％未満である場合には、耐久性
が悪化する傾向にあり、また、９８重量％を超える場合
には、感度、画像形成性が低下する傾向があるため好ま
しくない。

【００４１】この第１の記録層には、以下に詳述する
（Ｄ）光熱変換剤を含有することが感度向上の観点から
好ましい。これは、第１の記録層に光熱変換剤を含有さ
せることにより、この記録層もまた感光性を有すること
になり、断熱層としての機能のみならず、第２の記録層
の画像形成反応に有用な熱の供給源としての機能をも有
するようになるためである。本発明に用いられる（Ｄ）
光熱変換剤としては、記録に使用する光エネルギー照射
線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域
の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力
レーザーへの適合性の観点から波長７６０ｎｍから１２
００ｎｍに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料
が好ましく挙げられる。第１の記録層に光熱変換剤を含
有させる場合の添加量としては、第１の記録層全固形分
に対し１〜３０重量％が好ましく、２〜１５重量％がよ
り好ましい。染料の添加量が１重量％未満であると添加
の効果が十分得られず、また３０重量％を越えると記録
層の均一性が低下し、耐久性が悪くなる傾向がある。

【００４２】第１の記録層は前記成分を適当な溶媒に溶
解して調製する塗布液を支持体に塗布、乾燥することに
より得られる。第１の記録層の塗布量（乾燥後の固形分
換算）は、用途によって異なるが、一般的に０．１〜３
ｇ／ｍ²が好ましく、０．３〜１．５ｇ／ｍ²がさらに好
ましい。塗布量が０．１ｇ／ｍ²未満であると効果が不
充分となり、３ｇ／ｍ²を超えると現像に要する時間が
長くなる傾向があり、処理効率が低下するため、いずれ
も好ましくない。

【００４３】［（Ｂ）分子内に少なくとも２個のエノー
ルエーテル基を有する化合物、（Ｃ）該成分（Ｂ）と反
応して架橋構造を形成可能なアルカリ可溶性樹脂、
（Ｄ）光熱変換剤、及び、（Ｅ）熱酸発生剤を含有する
第２の記録層］以下、第２の記録層に含まれる各構成成
分について順次説明する。 〔（Ｂ）分子内に少なくとも２個のエノールエーテル基
を有する化合物〕本発明において使用される、分子内に
少なくとも２個のエノールエーテル基を有する化合物
（以下、適宜、エノールエーテル基を有する化合物と称
する）について説明する。ここで、化合物の分子内に存
在するエノールエーテル基が１個のみであると前記アル
カリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性基と架橋構造を形成す
ることができず、本発明の効果を有効に得ることができ
ないため、エノールエーテル基が少なくとも２個有する
化合物を用いることが必要である。このエノールエーテ
ル基を有する化合物としては、具体的には、下記一般式
（１）で表されるエノールエーテル基を有する化合物が
挙げられる。

【００４４】

【化４】

【００４５】式中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独
立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ま
た、それらの内の２つが結合して飽和又はオレフィン性
不飽和の環を形成してもよい。ここで、Ｒ¹、Ｒ²、及び
Ｒ³がアリール基の場合、一般に４〜２０個の炭素原子
を有するものが好ましく、アリール基はさらに、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルオキシ基、アルキルメルカプト基、ア
ミノアシル基、カルボアルコキシ基、ニトロ基、スルホ
ニル基、シアノ基又はハロゲン原子などにより置換さて
いてもよい。また、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³がアルキル基を
表す場合には、炭素数１〜２０の飽和又は不飽和の直
鎖、分岐又は脂環のアルキル基を示し、ハロゲン原子、
シアノ基、エステル基、オキシ基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基又はアリール基により置換されていてもよ
い。また、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³がのいずれか２つが結合
して環を形成していてもよく、形成されたシクロアルキ
ル基、又はシクロアルケニル基は、通常３〜８員環であ
り、、好ましくは５又は６員環を表す。

【００４６】一般式（Ｉ）で示されるエノールエーテル
基のうち、好ましいのは、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³のうちひ
とつがメチル基、もしくはエチル基で、残りが水素原子
であるエノールエーテル基であり、更に好ましいのはＲ
¹、Ｒ²、及びＲ³がすべて水素であるビニルエーテル基
である。本発明では２つ以上のエノールエーテル基を含
有する種々の化合物を使用することができるが、これら
は大気圧下で６０℃以上の沸点を有する化合物であり、
ビニルエーテル基をもつ化合物の好ましい化合物として
は、下記一般式（II）又は（III）で示すビニルエーテ
ル化合物が挙げられる。

【００４７】 Ａ−〔−Ｏ−（Ｒ⁴−Ｏ）n−ＣＨ＝ＣＨ₂〕_m （II） Ａ−〔−Ｂ−Ｒ⁴−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ₂〕_m （III)

【００４８】ここで、Ａはｍ価のアルキル基、アリール
基又はヘテロ環基を示し、Ｂは−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨＣ
ＯＯ−又は−ＮＨＣＯＮＨ−を示し、Ｒ⁴は炭素数１〜
１０の直鎖又は分岐のアルキレン基を示し、ｎは０又は
１〜１０の整数、ｍは２〜６の整数を示す。このような
エノールエーテル基を有する化合物としては、例えば、
特開平８−２２０７５２号公報の段落番号〔００３４〕
乃至〔００５１〕に記載される如き化合物を挙げること
ができるが、これに限定されるものではない。

【００４９】本発明に用い得るエノールエーテル基を有
する化合物の代表的なものを以下に例示するが本発明は
これらに制限されるものではない。

【００５０】

【化５】

【００５１】

【化６】

【００５２】このような、分子内に少なくとも２個のエ
ノールエーテル基を有する化合物は１種のみを用いても
よく、２種以上を併用してもよい。第２の記録層中の添
加量としては、第２の記録層全固形分に対し１〜３０重
量％が好ましく、２〜１５重量％がより好ましい。添加
量が１重量％未満であると膜性が低下し、耐刷性が悪く
なる傾向があり、また３０重量％を越えると露光部の現
像性が低下し、ディスクリミネーションが十分得られな
くなる懸念がある。

【００５３】〔（Ｃ）該分子内に少なくとも２個のエノ
ールエーテル基を有する化合物（Ｂ）と反応して架橋構
造を形成可能なアルカリ可溶性樹脂〕（Ｃ）成分（架橋
性アルカリ可溶性樹脂）としては、先に（Ａ）アルカリ
可溶性樹脂として例示した化合物であって、前記成分
（Ｂ）、即ち、分子内に少なくとも２個のエノールエー
テル基を有する化合物と反応し架橋構造を形成可能であ
るものを任意に選択して用いればよい。このような化合
物は、分子内に、先に（Ａ）成分で例示したフェノール
基、スルホンアミド基など如きアルカリ可溶性の官能基
と、エノールエーテルと反応して結合を形成する官能基
とを有する高分子化合物であれば、いずれのものも用い
ることができる。

【００５４】エノールエーテルと反応して結合を形成す
る官能基としては、特に制限はないが、好ましくは、構
造の一部に−ＯＨを含む官能基が挙げられ、なかでも、
さらに好ましくは、カルボキシル基、水酸基を挙げるこ
とができる。即ち、先に（Ａ）アルカリ可溶性樹脂で例
示した化合物のうち、フェノール基やカルボン酸基を有
する化合物などは、それ自体が（Ｃ）架橋性アルカリ可
溶性樹脂として使用しうる。架橋性アルカリ可溶性樹脂
の第２の記録層中の添加量としては、第２の記録層全固
形分に対し５０〜９８重量％が好ましく、６０〜９５重
量％がより好ましい。添加量が５０重量％未満であると
膜性が低下し、耐刷性が悪くなる傾向があり、また９８
重量％を越えると感度、画像形成性が低下する傾向があ
るため好ましくない。

【００５５】また、この第２の記録層には、本発明の効
果を損なわない限りにおいて、膜性向上のなどの目的
で、エノールエーテルと反応して結合を形成する官能基
とを有しない、一般的なアルカリ可溶性樹脂（即ち、
（Ａ）成分であって架橋性の官能基を有しない化合物）
を併用することもできる。

【００５６】［（Ｄ）光熱変換剤］本発明に用いられる
光熱変換剤としては、記録に使用する光エネルギー照射
線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域
の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力
レーザーへの適合性の観点から波長７６０ｎｍから１２
００ｎｍに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料
が好ましく挙げられる。

【００５７】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。

【００５８】好ましい染料としては、例えば、特開昭５
８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開
昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等
に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６
９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１
９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５
８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特
開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、
特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１
１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。

【００５９】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。

【００６０】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、
（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。

【００６１】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式（ａ）〜一般式（ｅ）で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
（ａ）で示されるシアニン色素は、本発明の重合性組成
中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定
性、経済性に優れるため最も好ましい。

【００６２】

【化７】

【００６３】一般式（ａ）中、Ｘ¹は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−ＮＰｈ₂、Ｘ²−Ｌ¹又は以下に示す基を表
す。ここで、Ｘ²は酸素原子又は、硫黄原子を示し、Ｌ¹
は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有
する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１〜１２の
炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、
Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを示す。

【００６４】

【化８】

【００６５】Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に、炭素原子
数１〜１２の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安
定性から、Ｒ¹及びＲ²は、炭素原子数２個以上の炭化水
素基であることが好ましく、さらに、Ｒ¹とＲ²とは互い
に結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に
好ましい。

【００６６】Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい
置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が
挙げられる。Ｙ¹、Ｙ²は、それぞれ同じでも異なってい
ても良く、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアル
キルメチレン基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ同じでも
異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原
子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基と
しては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボ
キシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及び
Ｒ⁸は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原
子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料
の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚa^-
は、対アニオンを示す。ただし、Ｒ¹〜Ｒ⁸のいずれかに
スルホ基が置換されている場合は、Ｚa^-は必要ない。好
ましいＺa^-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホ
ン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、
ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールス
ルホン酸イオンである。

【００６７】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平１１−３１０６２
３号明細書の段落番号［００１７］〜［００１９］、特
願２０００−２２４０３１号明細書の段落番号［００１
２］〜［００３８］、特願２０００−２１１１４７号明
細書の段落番号［００１２］〜［００２３］に記載され
たものを挙げることができる。

【００６８】

【化９】

【００６９】

【化１０】

【００７０】

【化１１】

【００７１】

【化１２】

【００７２】

【化１３】

【００７３】前記一般式（ｂ）中、Ｌは共役炭素原子数
７以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Ｚb⁺は対カチオンを示す。好ましい対カチ
オンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニ
ウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチ
オン（Ｎｉ⁺、Ｋ⁺、Ｌｉ⁺）などが挙げられる。Ｒ⁹〜Ｒ
¹⁴及びＲ¹⁵〜Ｒ²⁰は互いに独立に水素原子又はハロゲン
原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択
される置換基、或いは、これらを２つ若しくは３つ組合
せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成してい
てもよい。ここで、前記一般式（ｂ）中、Ｌが共役炭素
原子数７のメチン鎖を表すもの、及び、Ｒ⁹〜Ｒ¹⁴及び
Ｒ¹⁵〜Ｒ²⁰がすべて水素原子を表すものが入手の容易性
と効果の観点から好ましい。

【００７４】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｂ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【００７５】

【化１４】

【００７６】

【化１５】

【００７７】前記一般式（ｃ）中、Ｙ³及びＹ⁴は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Ｍは、共役炭素数５以上のメチン鎖を表す。
Ｒ²¹〜Ｒ²⁴及びＲ²⁵〜Ｒ²⁸は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Ｚ
a^-は対アニオンを表し、前記一般式（ａ）におけるＺa^-
と同義である。

【００７８】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｃ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【００７９】

【化１６】

【００８０】

【化１７】

【００８１】前記一般式（ｄ）中、Ｒ²⁹ないしＲ³¹は各
々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示
す。Ｒ³³及びＲ³⁴は各々独立に、アルキル基、置換オキ
シ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に
０ないし４の整数を示す。Ｒ ²⁹とＲ³⁰、又はＲ³¹とＲ³²
はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またＲ²⁹及び
／又はＲ³⁰はＲ³³と、またＲ³¹及び／又はＲ³²はＲ³⁴と
結合して環を形成しても良く、さらに、Ｒ³³或いはＲ³⁴
が複数存在する場合に、Ｒ³³同士あるいはＲ³⁴同士は互
いに結合して環を形成してもよい。Ｘ²及びＸ³は各々独
立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、
Ｘ²及びＸ³の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基
を示す。Ｑは置換基を有していてもよいトリメチン基又
はペンタメチン基であり、２価の有機基とともに環構造
を形成してもよい。Ｚc^-は対アニオンを示し、前記一般
式（ａ）におけるＺa^-と同義である。

【００８２】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【００８３】

【化１８】

【００８４】

【化１９】

【００８５】前記一般式（ｅ）中、Ｒ³⁵〜Ｒ⁵⁰はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Ｍは２つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、IIＡ、II
IＢ、IVＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。

【００８６】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【００８７】

【化２０】

【００８８】本発明において赤外線吸収剤として使用さ
れる顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協
会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ
出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出
版、１９８４年刊）に記載されている顔料が挙げられ
る。

【００８９】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。

【００９０】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。

【００９１】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。

【００９２】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１
９８６年刊）に記載されている。

【００９３】これらの光熱変換剤である顔料もしくは染
料は、第２の記録層を構成する全固形分に対し０．０１
〜３０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％、染料の
場合特に好ましくは０．５〜１０重量％、顔料の場合特
に好ましくは０．１〜１０重量％の割合で添加すること
ができる。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％
未満であると感度が低くなり、また５０重量％を越える
と記録層の均一性が失われ、耐久性が悪くなる傾向があ
り、いずれも好ましくない。

【００９４】〔（Ｅ）熱酸発生剤〕本発明において用い
られる、熱により分解して酸を発生する熱酸発生剤は、
２００〜５００ｎｍの波長領域の光を照射すること、或
いは、１００℃以上に加熱することにより、酸を発生す
る化合物をいう。前記熱酸発生剤としては、光カチオン
重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の
光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使
用されている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生し
うる、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられ
る。

【００９５】例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅ
ｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７
（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平
４−３６５０４９号等に記載のアンモニウム塩、米国特
許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の
各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、
１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，
２０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開
平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、欧州特
許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３
３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２
号、米国特許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１
１号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同
４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同
２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６
号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号
の各明細書に記載のスルホニウム塩、

【００９６】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載
のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第３，９
０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開
昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特
開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５
号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２
４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７
０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号に記載の有機
ハロゲン化合物、特開平２−１６１４４５号公報に記載
の有機金属／有機ハロゲン化物、欧州特許第０２９０，
７５０号、同０４６，０８３号、同１５６，５３５号、
同２７１，８５１号、同０，３８８，３４３号、米国特
許第３，９０１，７１０号、同４，１８１，５３１号の
各明細書、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５３−
１３３０２２号に記載のｏ−ニトロベンジル型保護基を
有する光酸発生剤、欧州特許第０１９９，６７２号、同
８４５１５号、同１９９，６７２号、同０４４，１１５
号、同０１０１，１２２号、米国特許第４，６１８，５
６４号、同４，３７１，６０５号、同４，４３１，７７
４号の各明細書、特開昭６４−１８１４３号、特開平２
−２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号に記載の
イミノスルフォネート等に代表される、光分解してスル
ホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５４４号
に記載のジスルホン化合物を挙げることができる。

【００９７】また、これら酸を発生する基又は化合物
を、ポリマーの主鎖若しくは側鎖に導入した化合物も好
適に挙げることができ、例えば、米国特許第３，８４
９，１３７号、独国特許第３，９１４，４０７号の各明
細書、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４
８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１
４６０３７号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６
２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記
載の化合物が挙げられる。さらに、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌ
ｌａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８
０）、Ａ．Ａｂａｄ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ Ｌｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、
Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ，Ｓｏｃ，．（Ｂ），３２９（１９７０）、米国特許
第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号
の各明細書等に記載の、光により酸を発生する化合物も
使用可能である。これらの化合物については、特開平８
−２２０７５２号公報の段落番号〔００５４〕乃至〔０
０８９〕に「酸前駆体」として詳述されており、ここに
記載の化合物もまた、本発明に好適に適用することがで
きる。上述の熱酸発生剤のうち、下記一般式（Ｉ）〜
（Ｖ）で表される化合物が好ましい。

【００９８】

【化２１】

【００９９】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ⁴及びＲ⁵は、同一でも異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。
Ｒ³は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素
数１０以下の炭化水素基又は炭素数１０以下のアルコキ
シ基を表す。Ａｒ¹、Ａｒ²は、同一でも異なっていても
よく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリ
ール基を表す。Ｒ⁶は、置換基を有していてもよい炭素
数２０以下の２価の炭化水素基を表す。ｎは、０〜４の
整数を表す。前記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は、炭素
数１〜１４の炭化水素基が好ましい。

【０１００】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される熱酸
発生剤の好ましい態様は、本発明者らが先に提案した特
願平１１−３２０９９７号明細書段落番号[０１９７]〜
[０２２２]に詳細に記載されている。これらの化合物
は、例えば、特開平２−１０００５４号、特開平２−１
０００５５号に記載の方法により合成することができ
る。

【０１０１】また、（Ｅ）熱酸発生剤として、ハロゲン
化物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げ
ることができ、中でも、下記一般式（ＶＩ）〜（ＶII
I）で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジア
ゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものを好適に挙
げることができる。

【０１０２】

【化２２】

【０１０３】前記一般式（ＶＩ）〜（ＶIII）中、Ｘ
^-は、ハロゲン化物イオン、ＣｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆
^-、ＢＦ₄ ^-又はＲ⁷ＳＯ₃ ^-を表し、ここで、Ｒ⁷は、置換
基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表
す。Ａｒ³、Ａｒ⁴は、それぞれ独立に、置換基を有して
いてもよい炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ⁸、
Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、置換基を有していてもよい炭素数１８以
下の炭化水素基を表す。このようなオニウム塩は、特開
平１０−３９５０９号公報段落番号[００１０]〜[００
３５]に一般式（Ｉ）〜（III）の化合物として記載され
ている。

【０１０４】上述の熱酸発生剤は単独で使用してもよい
し、２種以上を組合わせて使用してもよい。熱酸発生剤
の添加量としては、第２の記録層の全固形分重量に対し
０．１〜２０重量％が好ましく、０．５〜１５重量％が
より好ましく、１〜１０重量％が最も好ましい。前記添
加量が、０．１重量％未満であると、画像が得られない
ことがあり、２０重量％を超えると非画像部に汚れが発
生することがある。

【０１０５】塗布、乾燥後に得られる第２の記録層塗布
量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．
０５〜３．０ｇ／ｍ²が好ましく、０．１〜１．０ｇ／
ｍ²がさらに好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、
見かけの感度は大になるが、記録層の皮膜特性は低下す
る。

【０１０６】〔その他の成分〕本発明においてポジ型記
録層を形成するにあたっては、更に必要に応じて、種々
の添加剤を添加することができる。これらの添加剤は、
第１の記録層、及び／又は第２の記録層に必要に応じて
使用される。例えば、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド
化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エス
テル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではア
ルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低下さ
せる物質を併用することは、特に第２の記録層におい
て、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で
は、好ましい。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、ア
ンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スル
ホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げ
る事ができる。

【０１０７】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平５−１５８２３０
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Co
nf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、
J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5)、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ，
1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同410,
201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444
号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,60
4,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J.
V. Crivello et al, Macromorecules,10(6), 1307 (19
77)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem.Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム
塩、C. S. Wen et al, Teh,Proc.Conf. Rad. Curing AS
IA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等
があげられる。オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩
が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩とし
ては特開平５−１５８２３０号公報記載のものがあげら
れる。

【０１０８】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。

【０１０９】好適なキノンジアジド類としてはｏ−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個の
ｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、ｏ−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるｏ−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」（John Wiley & Sons. Inc.)第３３９〜３５２頁に
記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させ
たｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号公
報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジ
アジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，
２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロ
ール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,12
0 号及び同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノ
ン−（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナ
フトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸ク
ロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエス
テルも好適に使用される。

【０１１０】さらにナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−
４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−96
575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、特
公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481
号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、同
第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものをあげることができる。

【０１１１】ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは印刷版材料全固形分に対し、１〜５０重量％、更
に好ましくは５〜３０重量％、特に好ましくは１０〜３
０重量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。

【０１１２】ｏ−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは１〜５０重量％、更に好ましくは
５〜３０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％であ
る。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させるこ
とが好ましい。

【０１１３】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−
エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４′，４″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４′，
３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，５′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平２
−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的に
は、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−
１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の画像形成材
料中に占める割合は、０．０５〜２０重量％が好まし
く、より好ましくは０．１〜１５重量％、特に好ましく
は０．１〜１０重量％である。

【０１１４】また、本発明に係る記録層塗布液中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６
２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公
報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０
５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合
物、特開平１１−２８８０９３号公報に記載されている
ようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することが
できる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビ
タントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリ
ド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙
げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル
−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ
−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名
「アモーゲンＫ」：第一工業（株）製）等が挙げられ
る。シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサン
とポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好まし
く、具体例として、(株)チッソ社製、ＤＢＥ−２２４，
ＤＢＥ−６２１，ＤＢＥ−７１２，ＤＢＰ−７３２，Ｄ
ＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ Ｇｌｉｄｅ
１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙
げることが出来る。上記非イオン界面活性剤及び両性界
面活性剤の印刷版材料中に占める割合は、０．０５〜１
５重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％
である。

【０１１５】本発明における記録層中には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記
載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５
３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３
６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６
４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せ
を挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。

【０１１６】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント
化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレ
ット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン
（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２
９３２４７号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、０．
０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜３重量％の割合
で記録層中に添加することができる。更に本発明に係る
記録層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するた
めに可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポ
リエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸
ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フ
タル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブ
チル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフ
ルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及
びポリマー等が用いられる。

【０１１７】また、これら以外にも、エポキシ化合物、
ビニルエーテル類、さらには、特開平８−２７６５５８
号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール
化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物、及び、本発明者らが先に提案した特開平１１−１６
０８６０号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する
架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することがで
きる。

【０１１８】本発明の画像形成材料は、上記２層の記録
層を適当な支持体上に形成してなるものであり、平版印
刷版原版、カラープルーフ、ディスプレイ材料などのさ
まざまな用途に適用し得るが、特に赤外線レーザ露光に
よるダイレクト製版可能なヒートモード対応平版印刷版
原版として有用である。以下に、本発明の画像形成材料
を平版印刷版原版を適用する例を挙げて、具体的な態様
について説明する。本発明に係る平版印刷版原版は第１
の記録層、第２の記録層塗布液や保護層などの所望の層
の塗布液用成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗
布することにより製造することができる。また、目的に
応じて、保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同
様にして形成することができる。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メ
トキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテ
ート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメト
キシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テト
ラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン
等をあげることができるがこれに限定されるものではな
い。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、
好ましくは１〜５０重量％である。

【０１１９】第１の記録層は、水不溶性且つアルカリ可
溶性樹脂及び所望により光熱変換剤を含有する。この第
１の記録層を形成後にその上部に第２の記録層を形成す
るものである。先に述べたように、第１の記録層中のア
ルカリ可溶性樹脂と第１の記録層中の架橋性アルカリ可
溶性樹脂とは、同じものを使用することができるが、第
１の記録層と第２の記録層とが隣接して設けられる場合
に両者の界面部分で相溶し、界面が明確でなくなること
による効果の低下を抑制するため、第２の記録層の塗布
時に既に形成されている第１の記録層が溶解されないよ
うに、第１の記録層に用いられるアルカリ可溶性樹脂と
第２の記録層に用いられる架橋性アルカリ可溶性樹脂と
は、塗布溶剤に対する溶解性が異なるものを選択して用
いることが好ましい。

【０１２０】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。本発明における記録層中には、塗布性を良
化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９
５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、画像形成
層全固形分中０．０１〜１重量％、さらに好ましくは
０．０５〜０．５重量％である。

【０１２１】〔支持体〕本発明に使用される支持体とし
ては、必要な強度と可撓性とを有し、寸度的に安定な板
状物であれば特に制限なく用いることができ、例えば、
紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板
（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチック
フィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上
記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、
もしくはプラスチックフィルム等が挙げられる。本発明
に係る支持体としては、特に平版印刷版原版に使用する
場合、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ま
しく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価である
アルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、
微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムが
ラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムで
もよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ
素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、
ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元
素の含有量は高々１０重量％以下である。本発明におい
て特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムである
が、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難
であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。こ
のように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組
成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材
のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発
明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍ
ｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４
ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【０１２２】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。

【０１２３】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ²より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７
１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２
８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同
第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。

【０１２４】本発明の画像形成材料は、支持体上に２層
の記録層を設けたものであるが、必要に応じて第１の記
録層と支持体との間に下塗層を設けることができる。下
塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエ
チレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有
してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキル
リン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩など
のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる
が、２種以上混合して用いてもよい。

【０１２５】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％
であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５
０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは
２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、２〜２００ｍｇ／ｍ²が適
当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²である。上
記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²より大きくて
も同様である。

【０１２６】上記のようにして作成された本発明の画像
形成材料を適用したポジ型平版印刷版原版は、通常、像
露光、現像処理を施される。像露光に用いられる光線の
光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光
源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好まし
い。

【０１２７】本発明の平版印刷版の現像液及び補充液と
しては従来より知られているアルカリ水溶液が使用でき
る。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機
アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ
剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは２
種以上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤
の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ
酸塩の成分である酸化珪素ＳｉＯ₂とアルカリ金属酸化
物Ｍ₂Ｏの比率と濃度によって現像性の調節が可能とな
るためであり、例えば、特開昭５４−６２００４号公
報、特公昭５７−７４２７号に記載されているようなア
ルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。

【０１２８】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のＰＳ版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進
や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性
を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオ
ン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があ
げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハ
イドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸など
の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に
有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもで
きる。上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印
刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラ
ビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明の画像記録材料を印刷版として使用する場合
の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用
いることができる。

【０１２９】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。

【０１３０】本発明に係る平版印刷版原版においては、
画像露光し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又は
ガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部（例
えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など）がある場合
には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このよ
うな消去は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載
されているような消去液を不必要画像部に塗布し、その
まま所定の時間放置したのちに水洗することにより行な
う方法が好ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報
に記載されているようなオプティカルファイバーで導か
れた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方
法も利用できる。

【０１３１】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１
−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３
１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。

【０１３２】整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８
ｇ／ｍ²（乾燥重量）が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー（たとえば富士写真フイルム（株）より販
売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３０
０」）などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好まし
い。

【０１３３】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。

【０１３４】

【実施例】以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明
するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されな
い。 （実施例１〜１８） 〔基板の作製〕厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質
１０５０）をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに２０％硝酸
に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約３ｇ／ｍ ²であった。次にこの板を７
％硫酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ²で３ｇ／
ｍ²の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、珪酸ナトリウム２．５重量％水溶液で３０℃で
１０秒処理し、下記下塗り液１を塗布し、塗膜を８０℃
で１５秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は
１５ｍｇ／ｍ²であった。

【０１３５】 ＜下塗り液１＞ ・分子量２．８万の下記共重合体 ０．３ｇ ・メタノール １００ｇ ・水 １ｇ

【０１３６】

【化２３】

【０１３７】〔共重合体１の合成〕攪拌後、冷却管及び
滴下ロートを備えた５００ｍｌ三ツ口フラスコにメタク
リル酸３１．０ｇ（０．３６モル）、クロロギ酸エチル
３９．１ｇ（０．３６モル）及びアセトニトリル２００
ｍｌを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。
この混合物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．３６モ
ル）を約１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下
終了後、氷水浴をとり去り、室温下で３０分間混合物を
攪拌した。

【０１３８】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴
にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水１リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍ
ｌでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりＮ−（ｐ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた
（収量４６．９ｇ）。

【０１３９】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た２０ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド４．６１ｇ（０．０１
９２モル）、メタクリル酸エチル２．５８ｇ（０．０２
５８モル）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５
モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−
アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド４．６１
ｇ、メタクリル酸メチル２．５８ｇ、アクリロニトリル
０．８０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及び「Ｖ−
６５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール４０ｇを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リットルに
この水を攪拌しながら投入し、３０分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
１５ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの特定の共重合体１の重量平均分
子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５４，００
０であった。

【０１４０】［平版印刷版原版の作成］得られた基板に
以下の記録層塗布液１を塗布し、１３０℃で１分間乾燥
して、第１の記録層（下部記録層）を形成した。乾燥後
の塗布量は１．３ｇ／ｍ²であった。 ＜記録層塗布液１＞ ・前記共重合体１ ０．７５ｇ ・赤外線吸収剤１（光熱変換剤：下記構造） ０．０２ｇ ・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００２ｇ ・テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０５ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを１−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 ０．０１５ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０２ｇ ・γ−ブチロラクトン ８ｇ ・メチルエチルケトン ７ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ７ｇ

【０１４１】

【化２４】

【０１４２】その後、以下の記録層塗布液２を塗布し、
１１０℃で５分間乾燥して、第２の記録層（上部記録
層）を形成し、実施例１〜１８の平版印刷版原版を得
た。乾燥後の記録層塗布液の合計塗布量は１．８ｇ／ｍ
²であった。 ＜記録層塗布液２＞ ・アルカリ可溶性樹脂（表中にバインダーと記載） （表１に記載の化合物） ０．８ｇ ・光熱変換剤（表１に記載の化合物） ０．０３ｇ ・熱酸発生剤（表１に記載の化合物） ０．０５ｇ ・エノールエーテル基を有する化合物(エノールエーテル化合物） （表１に記載の化合物） ０．０８ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを１−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 ０．０１５ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、 大日本インキ化学工業（株）製） ０．０２ｇ ・メチルエチルケトン １０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ

【０１４３】

【表１】

【０１４４】

【化２５】

【０１４５】

【化２６】

【０１４６】

【化２７】

【０１４７】（比較例１）前記第１の記録層に用いる記
録層塗布液１のみを用いて、乾燥後の塗布量が１．８ｇ
／ｍ²となるように塗布、乾燥し、記録層塗布液１のみ
による単層構造の記録層を形成した他は、上記実施例と
同様にして平版印刷版原版を得た。

【０１４８】（比較例２）実施例１において第２の記録
層に用いた記録層塗布液を用いて、乾燥後の塗布量が
１．８ｇ／ｍ²となるように塗布、乾燥し、記録層塗布
液２のみによる単層構造の記録層を形成した他は、上記
実施例と同様にして平版印刷版原版を得た。

【０１４９】〔平版印刷版原版の評価〕得られた各平版
印刷版原版を下記方法で評価を行った。評価結果を下記
表２に示す。 （１．感度）得られた平版印刷版原版を、トレンドセッ
ター３２４４（クレオ社製）を用いて露光し、ＤＴ−１
（１：８水希釈液）を用いて現像を行った。このとき露
光量を変えて露光し、同一現像条件下で露光部が十分に
現像される最低露光量を感度と定義した。数値が小さい
ほど感度が高いと評価する。 （２．耐傷性）耐傷性評価は、脱脂綿による擦り試験に
よって行った。脱脂綿を用いて画像形成層の表面を一定
の力で擦り、脱脂綿擦りを行った未露光部が除去されて
しまう擦り回数で耐傷性を判定した。本評価において
は、５サンプルで試験を行い、その平均擦り回数を採用
した。

【０１５０】（３．現像ラチチュード）トレンドセッタ
ー３２４４（クレオ社製）を用いて１８８ｍＪ／ｃｍ²
の露光量で露光した平版印刷版原版を、前記ＤＴ−１現
像液の原液を適宜希釈し、電導度（ｍＳ：ミリジーメン
ス）を調節した現像液によって現像したとき、露光部が
充分に除去される電導度と、未露光部が膜減りを起こす
ぎりぎりの電導度とを測定し、それらの電導度の差（電
導度幅）を現像ラチチュードの指針とした。その差が大
きいものほど現像ラチチュードに優れると判定する。

【０１５１】

【表２】

【０１５２】表２に示すとおり、本発明の画像形成材料
を適用した実施例の各平版印刷版原版は、現像ラチチュ
ード及び耐傷性を高い水準で維持しながら、高感度化を
実現していることが分かる。一方、アルカリ可溶性樹脂
と光熱変換剤とを主成分とする記録層を有する比較例１
の平版印刷版原版は高感度で記録可能ではあるが、耐傷
性が低く、現像ラチチュードにも劣っており、アルカリ
可溶性樹脂と強い相互作用を形成しうるエノールエーテ
ル基を有する化合物と熱酸発生剤とを含有する記録層を
設けた比較例２の平版印刷版原版は、耐傷性には優れる
ものの、感度が劣っており、また、１８８ｍＪ／ｃｍ²
の露光量で露光した場合、この現像条件では残膜が発生
し、良好な画像が得られなかった。

【０１５３】

【発明の効果】本発明によれば、溶解性ディスクリミネ
ーションに優れたヒートモードポジ型の画像形成材料を
提供することができ、この画像形成材料は、赤外線レー
ザを用いたダイレクト製版可能であり、感度及び現像に
よる画像形成時のラチチュードに優れ、耐傷性が改良さ
れ、コントラストに優れた画像の形成が可能なポジ型平
版印刷版原版に有用である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、（Ａ）水不溶性且つアルカ
   リ可溶性樹脂を含有する第１の記録層と、（Ｂ）分子内
   に少なくとも２個のエノールエーテル基を有する化合
   物、（Ｃ）該成分（Ｂ）と反応して架橋構造を形成可能
   な、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）光熱変換
   剤、及び、（Ｅ）熱酸発生剤を含有する第２の記録層
   と、を順次形成してなる画像形成材料。
2. 【請求項２】 前記第１の記録層に、さらに、（Ｄ）光
   熱変換剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の
   画像形成材料。