DE69803819T3

DE69803819T3 - Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial

Info

Publication number: DE69803819T3
Application number: DE69803819.3T
Authority: DE
Inventors: Marc Van Damme; Joan Vermeersch; Geert Deroover
Original assignee: Agfa NV; Eastman Kodak Co
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 1997-10-08
Filing date: 1998-09-16
Publication date: 2018-07-19
Anticipated expiration: 2018-09-17
Also published as: DE69803819D1; JPH11223936A; DE69803819T2

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte unter Verwendung eines wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements mit einer gegenüber IR-Strahlung empfindlichen Deckschicht.
Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte unter Verwendung eines wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements, wobei die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in einem wässrigen Entwickler bei Belichtung geändert wird.
ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden. Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche, die farbabstoßenden Bereiche die Hintergrundbereiche.
Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.
Bei der Herstellung üblicher lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weitverbreitet eingesetzt.
Während der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.
Es sind ebenfalls Druckplatten bekannt, die eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, die bei bildmäßiger Belichtung in den belichteten Bereichen löslich gemacht wird. Während der darauffolgenden Entwicklung werden dann die belichteten Bereiche entfernt. Ein typisches Beispiel für eine solche lichtempfindliche Schicht ist eine Schicht auf Chinondiazidbasis.
Die obenbeschriebenen fotografischen Materialien, die zur Herstellung der Druckplatten verwendet werden, belichtet man in der Regel in einer Kamera durch einen fotografischen Film, der das in einem lithografischen Druckverfahren zu reproduzierende Bild enthält. Eine solche Vorgehensweise ist zwar umständlich und arbeitsaufwendig, andererseits jedoch warten die so erhaltenen Druckplatten mit einer hervorragenden lithografischen Qualität auf.
Es sind denn auch Versuche gemacht worden, um auf den Einsatz eines fotografischen Films im obenbeschriebenen Verfahren verzichten zu können und insbesondere eine Druckplatte direkt auf der Basis von das zu reproduzierende Bild verkörpernden Computerdaten zu erzeugen. Die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht ist aber nicht ausreichend für eine direkte Laserbelichtung. Demnach wurde vorgeschlagen, die lichtempfindliche Schicht mit einer Silberhalogenidschicht zu überziehen. Das Silberhalogenid kann dann direkt unter Rechnersteuerung mittels eines Lasers belichtet werden. Anschließend wird die Silberhalogenidschicht entwickelt und wird auf der lichtempfindlichen Schicht ein Silberbild erhalten. Dieses Silberbild dient dann als Maske während einer vollflächigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht. Nach der vollflächigen Belichtung wird das Silberbild entfernt und die lichtempfindliche Schicht entwickelt. Solch ein Verfahren ist beispielsweise in der JP-A 60-61752 beschrieben, beinhaltet jedoch den Nachteil, dass eine komplexe Entwicklung und zugehörige Entwicklerflüssigkeiten benötigt werden.
In der GB 1 492 070 wird ein Verfahren offenbart, in dem eine Metallschicht oder eine Gasruß enthaltende Schicht auf eine lichtempfindliche Schicht vergossen wird. Diese Metallschicht wird dann mittels eines Lasers ablatiert, wodurch auf der lichtempfindlichen Schicht eine Bildmaske erhalten wird. Die lichtempfindliche Schicht wird dann durch die Bildmaske hindurch einer vollflächigen Ultraviolettbelichtung unterzogen. Nach Entfernung der Bildmaske wird die lichtempfindliche Schicht entwickelt und eine Druckplatte erhalten. Dieses Verfahren beinhaltet aber noch immer den Nachteil, dass die Bildmaske auf umständlichem Wege vor der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden muss.
Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, dass sie vor Licht geschützt werden müssen. Ferner ist auch die Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerbeständigkeit problematisch und weisen sie eine niedrigeres Auflösungsvermögen auf. Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorläufern ab.
So beschreibt zum Beispiel die Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem Infrarotlicht absorbierenden Pigment wie z.B. Gasruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren Teilchen bildmäßig, wodurch die Oberfläche des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt die hohe Beschädigungsanfälligkeit der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei Ausübung eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach einen beschränkten lithografischen Druckspielraum aufweisen.
Die US-P 4 708 925 offenbart Bilderzeugungselemente mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator enthält. Nach bildmäßiger Bestrahlung dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht - sichtbarem Licht oder IR-Licht und einer anschließenden Entwicklungsstufe mit einer wässrig-alkalischen Flüssigkeit wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die US-P 5 340 699 ist nahezu identisch zu der EP-A 625 728 , jedoch mit dem Unterschied, dass sie ein Verfahren zum Erhalt eines negativarbeitenden, gegenüber Infrarotlaserlicht empfindlichen Bilderzeugungselements offenbart. Die IR-empfindliche Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
In der EP-A 678 380 wird weiterhin ein Verfahren offenbart, in dem eine Schutzschicht auf einen gekörnten Metallträger unter einer laserablatierbaren Oberflächenschicht angebracht ist. Bei bildmäßiger Belichtung wird die Oberflächenschicht zusammen mit bestimmten Teilen der Schutzschicht völlig ablatiert. Die Druckplatte wird anschließend mit einer Reinigungsflüssigkeit verarbeitet, um den Rest der Schutzschicht zu entfernen und dadurch die hydrophile Oberflächenschicht freizulegen.
In der GB-A 1 245 924 wird ein Verfahren zur Aufzeichnung von Information offenbart, wobei ein Aufzeichnungsmaterial benutzt wird, das eine wärmeempfindliche Aufzeichnungsschicht mit einer solchen Zusammensetzung enthält, dass die Solubilisierbarkeit eines beliebigen Bereiches der Schicht in einem vorgegebenen Lösungsmittel durch Erwärmung dieses Schichtbereiches gesteigert werden kann, wobei die Schicht informationsmäßig erwärmt wird, um die Information als Unterschied in Solubilisierbarkeit unterschiedlicher Bereiche der Aufzeichnungsschicht im Lösungsmittel aufzuzeichnen, und die ganze Schicht dann mit einem solchen Lösungsmittel in Kontakt gebracht wird, damit die Bereiche der Aufzeichnungsschicht, die in solchem Lösungsmittel löslich oder am löslichsten sind, durch dieses Lösungsmittel entfernt oder durchdrungen werden.
In EP-A 347 245 wird ein Verfahren zur Entwicklungsverarbeitung von vorsensibilisierten Platten zur Verwendung bei der Anfertigung von lithografischen Druckplatten offenbart, wobei die vorsensibilisierte Platte bildmäßig mit Licht belichtet und die so belichtete vorsensibilisierte Platte anschließend mit einem alkalischen Entwickler und einer Nachfüllösung entwickelnd verarbeitet wird, wobei der Entwickler und die Nachfüllösung wässrige Lösungen eines Alkalimetallsilikats sind und das (SiO₂):(M₂O)-Verhältnis der Nachfüllösung (wobei (SiO₂) und (M₂O) die Molverhältnisse von SiO₂ bzw. eines Alkalimetalloxids M₂O sind) zwischen 0,6 und 1,5 liegt.
In der US-P 5 466 557 wird eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung offenbart, die (1) ein Resolharz, (2) ein Novolakharz, (3) eine latente Brönsted-Säure, (4) einen IR-Absorber und (5) Terephthalaldehyd enthält.
In der GB-A 1 155 035 wird ein Verfahren zur Aufzeichnung von Information offenbart, wobei ein Aufzeichnungsmaterial benutzt wird, das eine Schicht mit einem polymeren Material enthält, das bei ausreichender Erwärmung eines beliebigen Bereiches der Schicht in diesem Bereich so modifiziert wird, dass die Löslichkeit dieses Bereiches der Schicht in Wasser oder einem wässrigen Medium abnimmt, wobei eine solche Schicht weiterhin eine oder mehrere Substanzen enthält, die über den ganzen Bereich der Schicht verteilt ist (sind) und durch Belichtung der Schicht mit energiereicher Strahlungsenergie erwärmt wird (werden), wobei die Strahlungsenergie von der (den) besagten Substanz(en) absorbiert wird, und wobei das Material mit energiereicher Strahlungsenergie belichtet wird, die in einem entsprechend der aufzuzeichnenden Information bestimmten Muster über das Material verteilt und zumindest zum Teil von der (den) verteilten Substanz(en) absorbiert wird, so dass im Material ein entsprechendes Wärmemuster erstellt wird, wobei solche Information als Unterschied in Solubilisierbarkeit in Wasser oder einem wässrigen Medium zwischen unterschiedlichen Bereichen der Schicht aufgezeichnet wird.
In der GB-A 1 154 568 wird ein Verfahren zur Aufzeichnung eines grafischen Originals mit kontrastierenden lichtabsorbierenden und lichtdurchlässigen Bereichen offenbart, wobei ein Aufzeichnungsmaterial, das eine trägergestützte Schicht mit als Hauptkomponente Gelatine enthält, deren Wasserlöslichkeit oder Wasserabsorptionsvermögen bei ausreichender Erwärmung der Schicht zunimmt, wobei eine solche Schicht ebenfalls eine oder mehrere, darin verteilte lichtabsorbierende Substanzen enthält, mit der Gelatineschicht in Kontakt mit den lichtabsorbierenden Bereichen des Originals angeordnet und die Gelatineschicht durch das Original hindurch mit Licht belichtet wird, wobei die Lichtintensität und die Dauer der Belichtung so eingestellt werden, dass die Bereiche der Gelatineschicht in Kontakt mit den lichtabsorbierenden Bereichen des Originals im wesentlichen nicht durch die Wärmeleitung von solchen lichtabsorbierenden Bereichen beeinflusst werden, aber wobei die Wasserlöslichkeit oder das Wasserabsorptionsvermögen der anderen Bereiche der Gelatineschicht durch deren Erwärmung gesteigert wird und zwar infolge der Absorption von Kopierlicht durch die lichtabsorbierende(n) Substanz(en) in diesen anderen Bereichen der Gelatineschicht.
Es besteht somit nach wie vor ein Bedarf an einem wärmeempfindlichen bilderzeugenden Element, das einfach anfertigbar ist und während der Belichtung mit Infrarotstrahlung beschränkter oder keiner Ablation unterliegt.
AUFGABEN DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, um unter Verwendung von wärmeempfindlichen, in einfacher Weise anfertigbaren Bilderzeugungselementen lithografische Druckplatten herzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, um unter Verwendung eines wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements, das während der Belichtung mit Infrarotstrahlung beschränkter oder keiner Ablation unterliegt, lithografische Druckplatten herzustellen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, um unter Verwendung eines wärmeempfindlichen, in selektiver, schneller und ökologischer Weise entwickelbaren Bilderzeugungselements positive lithografische Druckplatten mit hervorragenden Druckeigenschaften herzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, um unter Verwendung eines wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements mit hoher Empfindlichkeit gegenüber Infrarotstrahlung positive lithografische Druckplatten herzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, um unter Verwendung eines wärmeempfindlichen, sowohl bei kurzen als auch langen Pixelverweilzeiten durch Laserbelichtung bebilderbaren Bilderzeugungselements positive lithografische Druckplatten herzustellen.
Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.
KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein wie im nachstehenden Anspruch 1 definiertes Verfahren zur Herstellung lithografischer Druckplatten.
In EP-A 823 327 , die den Stand der Technik gemäß Art. 54(3) EPC darstellt, wird zwar ein ähnliches, wie im Anspruch 1 der vorliegenden Erfindung definiertes Verfahren offenbart, nicht behandelt werden jedoch die nachanodischen Behandlungen, die auf den aufgerauten und anodisierten Aluminiumträger angewendet werden. In WO 97/39894 , die ebenfalls den Stand der Technik gemäß Art. 54(3) EPC darstellt, wird ein ähnliches, wie im Anspruch 1 der vorliegenden Erfindung definiertes Verfahren offenbart, nicht erwähnt wird jedoch die Anwesenheit eines amfoteren oder anionischen Tensids im Entwickler.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Wir haben gefunden, dass mittels einer einzelnen Beschichtung in einfacher Weise ein erfindungsgemäßes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement hergestellt werden kann, mit dem in ökologisch akzeptabler Weise ohne oder mit beschränkter Ablation eine hochqualitative lithografische Druckplatte angefertigt werden kann.
Die erfindungsgemäße IR-empfindliche Schicht enthält einen Infrarotlicht absorbierenden Farbstoff und ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-absorbierenden Farbstoffen benutzt werden, bevorzugt jedoch wird der Einsatz eines einzelnen IR-absorbierenden Farbstoffes. Geeignete IR-Farbstoffe sind schon längst bekannt und gehören zu verschiedenen unterschiedlichen chemischen Klassen, z.B. Indoanilinfarbstoffe, Oxonolfarbstoffe, Porphin-Derivate, Anthrachinonfarbstoffe, Merostyrylfarbstoffe, Pyryliumverbindungen und Squarylium-Derivate. Die IR-Farbstoffe, insbesondere solche für Bestrahlung mit einer Laserquelle mit einem Emissionsspektrum von etwa 1060 nm, entsprechen der allgemeinen Formel der deutschen Patentanmeldung DE-4 331 162 und WO95/07822 . Diese allgemeine Formel (I) wird nachstehend dargestellt :
in der :
K zusammen mit einem Gegenion An- Q oder
bedeutet,
wobei :
Q Chlor, Fluor, Brom, Iod, Alkyloxy, Aryloxy, Dialkylamino, Diarylamino, Alkylarylamino, Nitro, Cyan, Alkylsulfonyl, Arylsulfonyl, Heterocyclyl oder einen Anteil gemäß L-S- bedeutet, wobei L eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Heterocyclylgruppe, eine Cyangruppe oder eine substituierte Carbonylgruppe, Thiocarbonylgruppe oder Iminocarbonylgruppe bedeutet, An- ein üblicherweise in der Chemie von kationischen Farbstoffen benutztes Anion oder ein Äquivalent davon bedeutet, B¹ eine Cyangruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Alkyl- oder Arylcarbonylgruppe, oder eine Aminocarbonylgruppe bedeutet, die gegebenenfalls einmal oder zweimal am Stickstoffatom durch eine Alkylgruppe und/oder eine Arylgruppe substituiert ist,
B² eine Arylsulfonylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Heteroarylgruppe bedeutet oder
bedeuten kann, wobei B³ die Nicht-Metallatome zum Vervollständigen eines carbocyclischen oder heterocyclischen Ringes bedeutet,
Ring T durch 1 bis 3 C₁-C₄-Alkylgruppen substituiert sein kann, n = 1 oder 2,
und A¹ und A² den folgenden Kombinationen entsprechen können :

(1) Anteile der Formeln (IIIa) und (IIIb) :
in denen : X³, X¹⁰ = O, X⁴, X¹¹ = -CR³⁸ = -CR³⁹, wobei R³⁸ und R³⁹ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder zusammen die zum Vervollständigen eines cycloalifatischen, aromatischen oder heterocyclischen 5- oder 6-gliedrigen Ringes benötigten Nicht-Metallatome bedeuten oder unabhängig voneinander jeweils die zum Vervollständigen eines cycloalifatischen, aromatischen oder heterocyclischen 5- oder 7-gliedrigen Ringes benötigten Nicht-Metallatome bedeuten, und R³, R⁴, R¹⁹ und R²⁰ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine C₁-C₈-Alkylgruppe, eine Arylgruppe, ein Halogenatom, eine Cyangruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Aminocarbonylgruppe, eine Aminogruppe, eine Monoalkylaminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Acyloxygruppe, eine Acylaminogruppe, eine Arylaminogruppe, eine Alkylcarbonylgruppe, eine Arylcarbonylgruppe oder die zum Vervollständigen eines cycloalifatischen, aromatischen oder heterocyclischen 5- oder 7-gliedrigen Ringes benötigten Nicht-Metallatome bedeuten, und R⁴⁷ und R⁵⁰ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Cyangruppe, eine Alkoxycyangruppe oder die zum Vervollständigen eines gesättigten oder ungesättigten 5- bis 7-gliedrigen Ringes benötigten Nicht-Metallatome bedeuten, im ersten Fall zwischen R⁴⁷ und X⁴ bzw. R³, im zweiten Fall zwischen R⁵⁰ und X¹¹ bzw. R¹⁹,
(2) Anteile derselben Formeln (IIIa) und (IIIb) : in denen : X³, X¹⁰ = R⁴⁴N, X⁴, X¹¹ = -CR³⁸ = -CR³⁹, und wobei R³ und R⁴ bzw. R³⁸ und R³⁹ zusammen die zum Vervollständigen eines gegebenenfalls substituierten aromatischen Ringes benötigten Atome bedeuten, und wobei R⁴⁴ eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe oder Arylgruppe oder die zum Vervollständigen eines 5- oder 7-gliedrigen Ringes benötigten Atome bedeutet,
(3) Anteile der Formeln (IVa) und (IVb) :
in denen :
- X⁵ und X¹² unabhängig voneinander jeweils O, S, Se, Te oder R⁴⁴N bedeuten,
- R⁵ bis R¹⁰ und R²¹ bis R²⁶ unabhängig voneinander jeweils eine der oben R³ zugemessenen Bedeutungen haben,
- R⁴⁸ und R⁵¹ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Alkoxycarbonylgruppe bedeuten,
- mit Ausnahme der Verbindungen, bei denen X⁵ und X¹² zusammen R⁴⁴N bedeuten und Q ein Halogenatom bedeutet,
(4) Anteile der Formeln (VIIa) und (VIIb) :
in denen bedeuten :
- R⁶⁰ und R⁶¹ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Cyangruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe oder ein Halogenatom,
- R⁶², R⁶⁴, R⁶⁶ und R⁶⁸ unabhängig voneinander jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe,
- R⁶³, R⁶⁵, R⁶⁷ und R⁶⁹ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe,
- und in denen die Ringe D¹ bis D⁴ unabhängig voneinander jeweils einmal oder mehrmals durch ein Wasserstoffatom, ein Chloratom, ein Bromatom, eine Alkylgruppe oder eine Alkoxygruppe substituiert sein können.

Nachstehend folgt eine Liste ganz besonders bevorzugter Subklassen dieser allgemeinen Formel (I) :

- Verbindungen der Formel (XXI) :
- Verbindungen der Formel (XXIII) :
- Verbindungen der Formel (XXV) :
- Verbindungen der Formel (XXVII) :
- Verbindungen der Formel (XXIX) :

In den Formeln dieser Subklassen haben R¹, R², R¹⁷ und R¹⁸ dieselbe Bedeutung wie R³, entsprechen B¹, B², die anderen R-Symbole, T und die D-Symbole den obigen Definitionen und bedeutet α 0 oder 1.
Gewisse spezifische Infrarotlicht absorbierende Farbstoffe (IRD) der allgemeinen Formel (I) oder gemäß einer der obendefinierten bevorzugten Subklassen, die zur Bestimmung spezifischer spektraler Eigenschaften gewählt werden, werden nachstehend aufgelistet. Jedem IRD-Farbstoff wird eine Bezugsnummer zugeordnet, die dessen Identifikation in den nachfolgenden Tabellen der Beschreibung und Beispiele dient :
Weitere geeignete, aus dem aktuellen Stand der Technik bekannte Farbstoffe, die bei der experimentellen Prüfung spektraler Parameter einbezogen werden, entsprechen den folgenden Formeln :
IRD-14 ist ein unter dem Namen CYASORB IR165 bekanntes Handelsprodukt, das von American Cyanamid Co, Glendale Protective Technologie Division, Woodbury, New York, vertrieben wird. IRD-14 ist ein Gemisch aus zwei Teilen der molekularen nicht-ionischen Form (IRD-14a) und drei Teilen der ionischen Form (IRD-14b), die folgenden Formeln entsprechen :
Andere bevorzugte IR-Farbstoffe, insbesondere solche für Bestrahlung mit einer Laserquelle mit einem Emissionsspektrum von etwa 830 nm, entsprechen den nachstehenden allgemeinen Formeln :

in denen :

X und X' unabhängig voneinander jeweils O oder S bedeuten,
R⁷⁰ bis R⁷⁴ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten,
R⁷⁰ zusammen mit R⁷², R⁷² zusammen mit R⁷⁴, R⁷¹ zusammen mit R⁷³,
R⁷⁰ zusammen mit R⁷² und R⁷⁴ einen carbocyclischen Ring bilden können,
R⁷² ebenfalls ein Halogenatom, NR⁸⁸R⁸⁹ (R⁸⁸ und R⁸⁹ bedeuten unabhängig voneinander jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe oder können einen (hetero)cyclischen Ring bilden), PR⁸⁸R⁸⁹, Ester-COOR⁹² (R⁹² bedeutet eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe) oder eine Barbitursäuregruppe (mit gegebenenfalls substituierten N-Atomen) bedeuten kann,
R⁷¹ oder R⁷³ -OCOR⁹³ bedeuten können, wobei R⁹³ eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeutet.
R⁷⁷ zusammen mit R⁷⁸, R⁷⁸ zusammen mit R⁷⁹, R⁷⁹ zusammen mit R⁸⁰,
R⁸¹ zusammen mit R⁸², R⁸² zusammen mit R⁸³ und R⁸³ zusammen mit R⁸⁴ einen anellierten, gegebenenfalls mit einer Carbonsäuregruppe, einem Ester oder einer Sulfogruppe substituierten Benzoring bilden können.
R⁷⁸, R⁷⁹, R⁸² und R⁸³ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, ein Halogenatom, einen Ester, eine Carbonsäuregruppe, eine Amidgruppe, eine Aminogruppe, eine Nitrilgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe oder eine Sulfogruppe bedeuten können,
R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷ und R⁸⁸ unabhängig voneinander jeweils eine Alkylgruppe bedeuten können und R⁸⁵ zusammen mit R⁸⁶ und R⁸⁷ zusammen mit R⁸⁸ einen cyclischen (Spiro)ring bilden können,
R⁷⁵ und R⁷⁶ unabhängig voneinander jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, -C_nH_2nSO₃M (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 2 und 4 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOM (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOR⁹⁴ (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und R⁹⁴ eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe) oder -L1-CONHSO₂R⁹⁵ (L1 bedeutet -C_nH_2n-, wobei n eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 bedeutet, und R⁹⁵ bedeutet eine Alkylgruppe oder Arylgruppe) bedeuten,

R⁹⁶ und R¹⁰² eine Alkylgruppe oder Arylgruppe, -C_nH_2nSO₃M (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 2 und 4 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOM (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOR¹⁰³ (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und R¹⁰³ eine Alkylgruppe oder Arylgruppe) oder -L1-CONHSO₂R¹⁰⁴ (L1 bedeutet -C_nH_2n-, wobei n eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 bedeutet, und R¹⁰⁴ bedeutet eine Alkylgruppe oder Arylgruppe) bedeuten,
R⁹⁷, R⁹⁸ R¹⁰⁰ und R¹⁰¹ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten können,
R⁹⁷ zusammen mit R⁹⁸ und R¹⁰⁰ zusammen mit R¹⁰¹ einen anellierten Benzoring bilden können, und
R⁹⁸ ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, ein Halogenatom, einen Ester oder -SO2R¹⁰⁵ (R¹⁰⁵ bedeutet eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe) bedeuten kann,

R¹⁰⁶, R¹⁰⁷, R¹⁰⁸ und R¹⁰⁹ unabhängig voneinander jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, -C_nH_2nSO₃M (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 2 und 4 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOM (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOR¹¹⁷ (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und R¹¹⁷ eine Alkylgruppe oder Arylgruppe) oder -L1-CONHSO₂R¹¹⁸ (L1 bedeutet -C_nH_2n-, wobei n eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 bedeutet, und R¹¹⁸ bedeutet eine Alkylgruppe oder Arylgruppe) bedeuten können,
R¹¹⁰, R¹¹¹, R¹¹² und R¹¹³ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten,
R¹¹⁴, R¹¹⁵ und R¹¹⁶ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten und
R¹¹⁵ ein Halogenatom, einen Ester oder -SO₂R¹¹⁹ (R¹¹⁹ bedeutet eine

Alkylgruppe oder eine Arylgruppe) bedeutet,
in der :

R¹²⁰, R¹²¹, R¹²², R¹²³, R¹²⁴, R¹²⁵, R¹²⁶ und R¹²⁷ unabhängig voneinander jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, -C_nH_2nSO₃M (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 2 und 4 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOM (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOR¹³¹ (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und R¹³¹ eine Alkylgruppe oder Arylgruppe) oder -L1-CONHSO₂R¹³² (L1 bedeutet -C_nH_2n-, wobei n eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 bedeutet, und R¹³² bedeutet eine Alkylgruppe oder Arylgruppe) bedeuten können, R¹²⁰ zusammen mit R¹²¹, R¹²² zusammen mit R¹²³, R¹²⁴ zusammen mit R¹²⁵ und R¹²⁶ zusammen mit R¹²⁷ einen cyclischen Ring bilden können,
R¹²⁸, R¹²⁹ und R¹³⁰ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten können und R¹²⁹ ein Halogenatom, einen Ester oder -SO2R¹³³ (R¹³³ bedeutet eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe) bedeuten können,

R¹³⁴, R¹³⁷, R¹³⁸ und R¹⁴¹ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten können,
R¹³⁴ zusammen mit R¹³⁵ und R¹⁴¹ zusammen mit R¹⁴⁰ einen carbocyclischen Ring bilden können,
R¹³⁵ zusammen mit R¹³⁶ und R¹³⁹ zusammen mit R¹⁴⁰ einen carbocyclischen Ring bilden können,
R¹³⁵, R¹³⁶, R¹³⁹ und R¹⁴⁰ unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, -C_nH_2nSO₃M (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 2 und 4 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion) oder -C_nH_2nCOOM (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion) bedeuten können,

R¹⁴², R¹⁴³, R¹⁴⁴ und R¹⁴⁵ unabhängig voneinander jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, -C_nH_2nSO₃M (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 2 und 4 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOM (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und M bedeutet H oder ein positiv geladenes Gegenion), -C_nH_2nCOOR¹⁴⁶ (n bedeutet eine ganze Zahl zwischen 1 und 5 und R¹⁴⁶ eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe) oder -L1-CONHSO₂R¹⁴⁷ (L1 bedeutet -C_nH_2n-, wobei n eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 bedeutet, und R¹⁴⁷ bedeutet eine Alkylgruppe oder Arylgruppe), bedeuten, und
R¹⁴² zusammen mit R¹⁴³ und R¹⁴⁴ zusammen mit R¹⁴⁵ einen cyclischen Ring bilden können.

Das Ladungsvorzeichen der Farbstoffe kann durch ein (intermolekulares oder intramolekulares) Gegenion ausgeglichen werden.
Die IR-Farbstoffe sind vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 60 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 3 und 50 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, enthalten.
Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Polymere sind vorzugsweise hydrophobe und farbanziehende Polymere, wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z.B. carboxylsubstituierte Polymere usw. Besonders bevorzugt wird ein Phenolharz wie Polyvinylphenol oder ein Novolakpolymer. Ganz besonders bevorzugt wird ein Novolakpolymer. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 4 007 428 , DE-A 4 027 301 und DE-A 4 445 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Polymer ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und eine zumindest partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch eine zumindest partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Weiterhin ist diese IR-empfindliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist fernerhin vorzugsweise thermisch härtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht oder UV-Licht desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die IR-empfindliche Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure, oder ein Benzophenon, besonders bevorzugt Trihydroxybenzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder Benzophenon und dem Polymer in der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2:98 und 40:60, besonders bevorzugt zwischen 5:95 und 30:70. Die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
Bei bildmäßiger Belichtung wird ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der IR-empfindlichen Schicht im erfindungsgemäßen wässrigen Entwickler, der SiO₂ und M₂O in einem Molverhältnis von 0,5 bis 1,5 und einem SiO₂-Verhältnis von 0,5 Gew.-% bis 5 Gew.-% enthält, hervorgerufen.
Im Bilderzeugungselement der vorliegenden Erfindung ist der lithografische Träger ein elektrochemisch aufgerauter und anodisierter Aluminiumträger, der einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen worden ist. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z.B. 95°C, silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise fernerhin ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht erhöhter Temperatur zwischen etwa 30°C und 50°C erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Fernerhin kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, dass eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A 1 084 070 , DE-A 4 423 140 , DE-A 4 417 907 , EP-A 659 909 , EP-A 537 633 , DE-A 4 001 466 , EP-A 292 801 , EP-A 291 760 und US-P 4 458 005 .
Die erfindungsgemäße bildmäßige Belichtung ist eine bildmäßige Abtastbelichtung unter Verwendung eines im Infrarotbereich (IR) oder nahen Infrarotbereich, d.h. im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1.500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden. Die Belichtung des Bilderzeugungselements kann mit Lasern mit sowohl einer kurzen als einer langen Pixelverweilzeit vorgenommen werden. Bevorzugt werden Laser mit einer Pixelverweilzeit zwischen 0,005 µs und 20 µs.
Nach der bildmäßigen Entwicklung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement durch Spülung mit einer wässrig-alkalischen Lösung entwickelt. Als wässrig-alkalische Lösungen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung verwendet man solche, die zum Entwickeln herkömmlicher positivarbeitender vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt werden und vorzugsweise einen pH zwischen 11,5 und 14 aufweisen. Somit werden die bebilderten Teile der Deckschicht, deren Durchdringbarkeit in der wässrig-alkalischen Lösung während der Belichtung erhöht ist, entfernt, wodurch eine positivarbeitende Druckplatte erhalten wird.
In der vorliegenden Erfindung ist auch die Zusammensetzung des benutzten Entwicklers von größter Bedeutung.
Demnach sind zum Erzielen einer Entwicklungsverarbeitung, die über einen langen Zeitraum stabil ist, Qualitäten wie die Stärke des Alkalis und das Verhältnis der Silikate im Entwickler besonders wichtig. Unter solchen Bedingungen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung gefunden, dass nur unter Verwendung des Entwicklers mit der obigen Zusammensetzung eine Schnellverarbeitung bei hoher Temperatur möglich ist, die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung niedrig ist und eine stabile Entwicklungsverarbeitung über einen langen Zeitraum von zumindest 3 Monaten ohne Ersetzen des Entwicklers vorgenommen werden kann.
Die Entwickler und die Nachfüllösungen für den Entwickler, die in der vorliegenden Erfindung benutzt werden, sind vorzugsweise wässrige Lösungen, die als Hauptbestandteil Alkalimetallsilikate und Alkalimetallhydroxide der Formel MOH oder deren Oxid der Formel M₂O enthalten, wobei der Entwickler SiO₂ und M₂O in einem Molverhältnis zwischen 0,5 und 1,5 enthält. Als Alkalimetallsilikate werden zum Beispiel Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat und Natriummetasilikat bevorzugt. Als Alkalimetallhydroxide werden andererseits Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler können gleichzeitig andere alkalische Mittel enthalten. Beispiele für solche anderen alkalischen Mittel sind anorganische alkalische Mittel wie Ammoniumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und Ammoniumcarbonat, und organische alkalische Mittel wie Mono-, Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Di- oder Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di- oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Tetramethylammoniümhydroxid.
Von großer Bedeutung in der vorliegenden Erfindung ist das Molverhältnis [SiO₂] / [M₂O] im Entwickler, das in der Regel zwischen 0,6 und 1,5, vorzugsweise zwischen 0,7 und 1,3 liegt. Liegt das Molverhältnis unter 0,6, ist eine merkliche Streuung der Wirkung zu beobachten, während bei einem Molverhältnis von mehr als 1,5 eine Schnellentwicklung schwierig zu erhalten wird und die lichtempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen wahrscheinlich nicht völlig gelöst oder entfernt werden kann. Zudem liegt das SiO₂-Verhältnis im Entwickler und in der Nachfüllösung vorzugsweise zwischen 1 und 4 Gew.-%. Solche Beschränkung des SiO₂-Verhältnisses ermöglicht es, in stabiler Weise lithografische Druckplatten mit guten Endqualitäten zu erhalten, sogar wenn über einen langen Zeitraum eine große Menge von erfindungsgemäßen Druckplatten verarbeitet wird.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird als Entwickler eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilikats mit einem Molverhältnis [SiO₂] / [M₂O] zwischen 1,0 und 1,5 und einem SiO₂-Verhältnis zwischen 1 und 4 Gew.-% benutzt. In diesem Falle muss selbstverständlich eine Nachfüllösung benutzt werden, deren alkalische Stärke größer oder gleich der alkalischen Stärke des benutzten Entwicklers ist. Um die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung zu beschränken, ist es vorteilhaft, dass das Molverhältnis [SiO₂] / [M₂O] der Nachfüllösung kleiner oder gleich dem Molverhältnis [SiO₂] / [M₂O] des Entwicklers ist oder das SiO₂-Verhältnis hoch ist, wenn das Molverhältnis des Entwicklers dem Molverhältnis der Nachfüllösung gleich ist.
In den in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwicklern und Nachfüllösungen können je nach Bedarf gleichzeitig organische Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser bei 20°C von nicht mehr als 10 Gew.-% benutzt werden. Beispiele für solche organischen Lösungsmittel sind Carbonsäureester wie Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat und Butyllevulinat, Ketone wie Ethylbutylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole wie Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolbenzylether, Ethylenglycolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol und Methylamylalkohol, alkylsubstituierte aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol, halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Methylendichlorid und Monochlorbenzol. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder kombiniert benutzt werden. Erfindungsgemäß wird Benzylalkohol besonders bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel werden dem Entwickler oder der Nachfüllösung für den Entwickler in der Regel in einer Höchstmenge von 5 Gew.-% und vorzugsweise 4 Gew.-% zugesetzt.
Zwecks der Verbesserung von deren Entwicklungseigenschaften kann in den erfindungsgemäß verwendeten Entwicklern und Nachfüllösungen gleichzeitig ein Tensid benutzt werden. Beispiele für solche Tenside sind u.a. Salze von Schwefelsäureestern mit höherem Alkohol (C₈ ~ C₂₂) wie Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Teepol B-81 (Handelsname von Shell Chemicals Co., Ltd.) und Dinatriumalkylsulfate, Salze von Phosphorsäureestern mit alifatischem Alkohol wie Natriumsalz von Cetylalkoholphosphat, Alkylarylsulfonsäuresalze wie Natriumsalz von Dodecylbenzolsulfonat, Natriumsalz von Isopropylnapthalinsulfonat, Natriumsalz von Dinaphthalindisulfonat und Natriumsalz von Metanitrobenzolsulfonat, Sulfonsäuresalze von Alkylamiden wie C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na und Sulfonsäuresalze von zweibasigen alifatischen Säureestern wie Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat. Diese Tenside können allein oder kombiniert benutzt werden. Besonders bevorzugt werden Sulfonsäuresalze. Diese Tenside können in einer in der Regel nicht über 5 Gew.-%, vorzugsweise nicht über 3 Gew.-% hinauskommenden Menge verwendet werden.
Der im Verfahren der vorliegenden Erfindung benutzte Entwickler enthält ein anionisches oder amfoteres Tensid, wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat und N-Tetradecyl-N,N-dihydroxythylbetain, wie offenbart in JN-A-50-51324. Zur Verbesserung der Entwicklungsstabilität der in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwickler und Nachfüllösungen können gleichzeitig die nachstehenden Verbindungen verwendet werden.
Beispiele für solche Verbindungen sind neutrale Salze wie NaCl, KCl und KBr, wie in JN-A-58-75 152 beschrieben, Chelatbildner wie EDTA und NTA, wie in JN-A 58 190 952 ( US-A 4 469 776 ) beschrieben, Komplexe wie [Co(NH₃)₆]Cl₃, wie in JN-A 59 121 336 ( US-A 4 606 995 ) beschrieben, ionisierbare Verbindungen von Elementen der Gruppe IIa, IIIa oder IIIb des Periodensystems, wie die in JN-A 55 25 100 beschriebenen, Tetramethyldecyndiol, wie in US-A 4 374 920 beschrieben, nicht-ionische Tenside wie in JN-A 60 213 943 beschrieben, kationische Polymere wie quaternäre Methylchloridprodukte von p-Dimethylaminomethylpolystyrol, wie in JN-A 55 95 946 beschrieben, amfotere Polyelektrolyte wie ein Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat, wie in JN-A 56 142 528 beschrieben, anorganische Reduktionssalze wie Natriumsulfit, wie in JN-A 57 192 952 ( US-A 4 467 027 ) beschrieben, und alkalilösliche Mercaptoverbindungen oder Thioetherverbindungen wie Thiosalicylsäure, Cystein und Thioglycolsäure, anorganische Lithiumverbindungen wie Lithiumchlorid, wie in JN-A 58 95 444 beschrieben, organische Lithiumverbindungen wie Lithiumbenzoat, wie in JN-A 50 34 442 beschrieben, Si, Ti oder ähnliche Substanzen enthaltende Organometall-Tenside, wie in JN-A 59 75 255 beschrieben, Organobor-Verbindungen, wie in JN-A 59 84 241 ( US-A 4 500 625 ) beschrieben, quaternäre Ammoniumsalze wie Tetraalkylammoniumoxide, wie in EP-A 101 010 beschrieben, und Bakterizide wie Natriumdehydroacetat, wie in JN-A 63 226 657 beschrieben.
Im Verfahren zur Entwicklungsverarbeitung der vorliegenden Erfindung kann ein beliebiges Mittel zum Zuführen einer Nachfüllösung für Entwickler benutzt werden. Beispiele für solche bevorzugten Verfahren sind ein Verfahren, in dem eine Nachfüllösung mit zeitlichen Unterbrechungen oder kontinuierlich als Funktion der Menge von verarbeiteten PS-Platten und der Zeit zugeführt wird, wie in JN-A-55-115 039 ( GB-A-2 046 931 ) beschrieben, ein Verfahren, in dem ein Sensor angeordnet wird, um das Ausmaß nachzuweisen, in dem die lichtempfindliche Schicht im mittleren Bereich einer Entwicklungszone gelöst wird, und die Nachfüllösung proportional zum nachgewiesenen Ausmaß der Herauslösung der lichtempfindlichen Schicht zugeführt wird, wie in JN-A-58-95 349 ( US-A 4 537 496 ) beschrieben, und ein Verfahren, in dem der Impedanzwert eines Entwicklers ermittelt und der ermittelte Impedanzwert durch einen Rechner verarbeitet wird, um die Zuführung einer Nachfüllösung durchzuführen, wie in GB-A 2 208 249 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Druckplatte kann ebenfalls in Form einer nahtlosen Büchse als Druckplatte in einem Druckzyklus eingesetzt werden. Bei dieser Anwendung wird die Druckplatte mittels eines Lasers in zylindrischer Form zusammengelötet. Diese zylindrische Druckplatte, deren Durchmesser dem Durchmesser der Drucktrommel gleich ist, wird auf die Drucktrommel geschoben, anstatt auf herkömmlichem Wege als in herkömmlicher Weise angefertigte Druckplatte auf der Druckpresse angeordnet zu werden. Genauere Angaben über Büchsenplatten finden sich in „Grafisch Nieuws“, 15, 1995, Seite 4 bis 6.
Nach der Entwicklung eines bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements mit einer wässrig-alkalischen Lösung und Trocknung kann die erhaltene Druckplatte ohne weitere Verarbeitung als Druckplatte eingesetzt werden. Allerdings kann die Druckplatte zum Verbessern der Dauerhaftigkeit noch bei einer Temperatur zwischen 200°C und 300°C über einen Zeitraum von 30 Sekunden bis 5 Minuten eingebrannt werden. Das Bilderzeugungselement kann ebenfalls einer vollflächigen Nachbelichtung mit UV-Strahlung unterzogen werden, um das Bild zu härten und somit die Auflagenhöhe der Druckplatte zu steigern.
Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile und Prozentsätze bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.
BEISPIELE
BEISPIEL 1 : positivarbeitende Thermoplatte auf der Basis eines alkalilöslichen Bindemittels
Herstellung des lithografischen Trägers
Eine 0,20 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wässrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50°C entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35°C und einer Stromdichte von 1.200 A/m² in einer wässrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauwert Ra von 0,5 µm zu erhalten.
Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wässrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60°C geätzt und anschließend 30 s bei 25°C mit entmineralisiertem Wasser gespült.
Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45°C, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m² etwa 300 s in einer wässrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m² Al₂O₃ enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, anschließend mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, mit einer Polyvinylphosphonsäure enthaltenden Lösung und dann mit einer Aluminiumtrichlorid enthaltenden Lösung nachverarbeitet, danach mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20°C gespült und getrocknet.
Herstellung der IR-empfindlichen Schicht
Die IR-empfindliche Schicht wird aus einer 4,65 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (60/40) in einer Nassschichtstärke von 30 µm aufgetragen. Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 10% der IR-Farbstoff-Verbindung I und 90% Alnovol PN 430™.
Dieses Material wird mit einem GERBER C42T™-Innentrommel-Druckplattenbelichter bei 12.000 TpM und 2.540 dpi bebildert. Die Leistungsstärke des Lasers in der Bildebene beträgt 4 W. Nach der IR-Belichtung ist kein Schichtschaden zu beobachten, die möglicherweise infolge Ablation entstanden sein könnte.
Nach der Belichtung entwickelt man das Material in einer alkalischen Entwicklerlösung (EP 26-Entwickler von Agfa), wobei die IR-belichteten Bereiche sehr schnell gelöst werden, wodurch eine positivarbeitende Platte erhalten wird.
Diese Platte wird in eine Heidelberg GTO 46-Druckpresse eingespannt und mit einer herkömmlichen Druckfarbe (K+E) und einem herkömmlichen Feuchtwasser (Rotamatic) in einem Druckzyklus eingesetzt. Es werden Kopien guter Qualität erhalten, d.h. keine Schaumbildung in den IR-belichteten Teilen und eine gute Farbanziehung in den unbelichteten Teilen.
BEISPIEL 2 : positivarbeitende Thermoplatte auf der Basis eines alkalilöslichen Bindemittels
Es wird ein lithografischer Träger angefertigt, wie es in Beispiel 1 beschrieben wird.
Die IR-empfindliche Schicht wird aus einer 4,65 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (60/40) in einer Nassschichtstärke von 30 µm aufgetragen. Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 4,7% der IR-Farbstoff-Verbindung II, 78,1% Alnovol PN 430™ und 17,2% Trihydroxybenzophenon.
Dieses Material wird mit einem GERBER C42T™-Innentrommel-Druckplattenbelichter bei 12.000 TpM und 2.540 dpi bebildert. Die Leistungsstärke des Lasers in der Bildebene beträgt 4 W. Nach der IR-Belichtung ist kein Schichtschaden zu beobachten, die möglicherweise infolge Ablation entstanden sein könnte.
Nach der Belichtung entwickelt man das Material in einer alkalischen Entwicklerlösung (EP 26-Entwickler von Agfa), wobei die IR-belichteten Bereiche sehr schnell gelöst werden, wodurch eine positivarbeitende Platte erhalten wird.
Diese Platte wird in eine Heidelberg GTO 46-Druckpresse eingespannt und mit einer herkömmlichen Druckfarbe (K+E) und einem herkömmlichen Feuchtwasser (Rotamatic) in einem Druckzyklus eingesetzt. Es werden Kopien guter Qualität erhalten, d.h. keine Schaumbildung in den IR-belichteten Teilen und eine gute Farbanziehung in den unbelichteten Teilen.
BEISPIEL 3 : positivarbeitende Thermoplatte auf der Basis eines alkalilöslichen Bindemittels
Es wird ein lithografischer Träger angefertigt, wie es in Beispiel 1 beschrieben wird.
Die IR-empfindliche Schicht wird aus einer 4,65 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (60/40) in einer Nassschichtstärke von 30 µm aufgetragen. Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 9,1% der IR-Farbstoff-Verbindung II, 74,5% Alnovol PN 430™ und 16,4% Trihydroxybenzophenon.
Dieses Material wird mit einem GERBER C42T™-Innentrommel-Druckplattenbelichter bei 12.000 TpM und 2.540 dpi bebildert. Die Leistungsstärke des Lasers in der Bildebene beträgt 4 W. Nach der IR-Belichtung ist kein Schichtschaden zu beobachten, die möglicherweise infolge Ablation entstanden sein könnte.
Nach der Belichtung entwickelt man das Material in einer alkalischen Entwicklerlösung (EP 26-Entwickler von Agfa), wobei die IR-belichteten Bereiche sehr schnell gelöst werden, wodurch eine positivarbeitende Platte erhalten wird.
Diese Platte wird in eine Heidelberg GTO 46-Druckpresse eingespannt und mit einer herkömmlichen Druckfarbe (K+E) und einem herkömmlichen Feuchtwasser (Rotamatic) in einem Druckzyklus eingesetzt. Es werden Kopien guter Qualität erhalten, d.h. keine Schaumbildung in den IR-belichteten Teilen und eine gute Farbanziehung in den unbelichteten Teilen.

Claims

Ein Verfahren zur Herstellung lithografischer Druckplatten, das folgende Schritte umfasst : a) Herstellung eines wärmeempfindlichen bilderzeugenden Elements, bestehend aus : (i) einem elektrochemisch angerauten und anodisierten Aluminiumträger, dessen Oberfläche zur Verbesserung ihrer hydrophilen Eigenschaften durch einen der folgenden Schritte verarbeitet worden ist : - Verarbeitung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur oder - Verarbeitung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Phosphatlösung oder - Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäurelösung, einer Citratlösung oder einer Bicarbonatlösung, oder - Verarbeitung der Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, und (ii) einer Deckschicht, die keine Fotosäure enthält, empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung ist, ein in einer wässrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringlich für einen alkalischen, SiO₂ und M₂O in einem Molverhältnis von 0,5 bis 1,5 und einem SiO₂-Gewichtsverhältnis von 0,5 bis 5 Gew.-% enthaltenden Entwickler ist, b) bildmäßige Belichtung des wärmeempfindlichen bilderzeugenden Elements mit Infrarotstrahlung, c) Entwicklung des bildmäßig belichteten wärmeempfindlichen bilderzeugenden Elements mit dem alkalischen Entwickler, so dass die belichteten Bereiche der Deckschicht gelöst werden und die nicht-belichteten Bereiche der Deckschicht ungelöst bleiben, dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht einen Infrarot-Farbstoff aus der Gruppe bestehend aus Indoanilinfarbstoffen, Cyaninfarbstoffen, Merocyaninfarbstoffen, Oxonolfarbstoffen, Porphin-Derivaten, Anthrachinonfarbstoffen, Merostyrylfarbstoffen, Pyriliumverbindungen, Diphenylverbindungen, Triphenylazoverbindungen und Squarylium-Derivaten enthält, und dadurch gekennzeichnet, dass der Entwickler ferner ein anionisches oder amfoteres Tensid enthält.
Verfahren zur Herstellung lithografischer Druckplatten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das in der gegenüber Infrarotstrahlung empfindlichen Schicht enthaltene Polymer ein hydrophobes Polymer ist.
Verfahren zur Herstellung lithografischer Druckplatten nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche Schicht eine gegenüber sichtbarem Licht und Ultraviolettlicht unempfindlich gemachte Schicht ist.
Verfahren zur Herstellung lithografischer Druckplatten nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die gegenüber Infrarotstrahlung empfindliche Schicht wärmehärtend ist.