DE69816618T2

DE69816618T2 - Im Wärmeverfahren arbeitendes Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von positiv arbeitenden Druckplatten

Info

Publication number: DE69816618T2
Application number: DE1998616618
Authority: DE
Inventors: Eric Verschueren; Joan Vermeersch; Marc Van Damme; Guido Hauquier; Huub Van Aert
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 1998-10-26
Filing date: 1998-10-26
Publication date: 2004-06-09
Anticipated expiration: 2018-10-27
Also published as: EP0997272B1; JP2000137321A; EP0997272A1; DE69816618D1

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein wärmeempfindliches, mit einer IR-empfindlichen Deckschicht überzogenes Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte.
Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit besseren physikalischen Eigenschaften zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte.
ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden. Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche, die farbabstoßenden Bereiche die Hintergrundbereiche.
Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.
Bei der Herstellung üblicher lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weitverbreitet eingesetzt.
Während der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.
Es sind ebenfalls Druckplatten bekannt, die eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, die bei bildmäßiger Belichtung in den belichteten Bereichen löslich gemacht wird. während der darauffolgenden Entwicklung werden dann die belichteten Bereiche entfernt. Ein typisches Beispiel für eine solche lichtempfindliche Schicht ist eine Schicht auf Chinondiazidbasis.
Die obenbeschriebenen fotografischen Materialien, die zur Herstellung der Druckplatten verwendet werden, belichtet man in der Regel in einer Kamera durch einen fotografischen Film, der das in einem lithografischen Druckverfahren zu reproduzierende Bild enthält. Eine solche Vorgehensweise ist zwar umständlich und arbeitsaufwendig, andererseits jedoch warten die so erhaltenen Druckplatten mit einer hervorragenden lithografischen Qualität auf.
Es sind denn auch Versuche gemacht worden, um auf den Einsatz eines fotografischen Films im obenbeschriebenen Verfahren verzichten zu können und insbesondere eine Druckplatte direkt auf der Basis von das zu reproduzierende Bild verkörpernden Computerdaten zu erzeugen. Die Empfindlichkeit der obenerwähnten lichtempfindlichen Schicht ist aber nicht ausreichend für eine direkte Laserbelichtung. Demnach wurde vorgeschlagen, die lichtempfindliche Schicht mit einer Silberhalogenidschicht zu überziehen. Das Silberhalogenid kann dann direkt unter Rechnersteuerung mittels eines Lasers belichtet werden. Anschließend wird die Silberhalogenidschicht entwickelt und wird auf der lichtempfindlichen Schicht ein Silberbild erhalten. Dieses Silberbild dient dann als Maske während einer vollflächigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht. Nach der vollflächigen Belichtung wird das Silberbild entfernt und die lichtempfindliche Schicht entwickelt. Solch ein Verfahren ist beispielsweise in JP-A 60-61 752 beschrieben, beinhaltet jedoch den Nachteil, daß eine komplexe Entwicklung und zugehörige Entwicklerflüssigkeiten benötigt werden.
In GB 1 492 070 wird ein Verfahren offenbart, in dem eine Metallschicht oder eine Gasruß enthaltende Schicht auf eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird. Diese Metallschicht wird dann mittels eines Lasers ablatiert, wodurch auf der lichtempfindlichen Schicht eine Bildmaske erhalten wird. Die lichtempfindliche Schicht wird dann durch die Bildmaske hindurch einer vollflächigen Ultraviolettbelichtung unterzogen. Nach Entfernung der Bildmaske wird die lichtempfindliche Schicht entwickelt und eine Druckplatte erhalten. Dieses Verfahren beinhaltet aber noch immer den Nachteil, daß die Bildmaske auf umständlichem Wege vor der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden muß.
Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, daß sie vor Licht geschützt werden müssen. Ferner ist auch die Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerbeständigkeit problematisch und weisen sie ein niedrigeres Auflösungsvermögen auf. Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorstufen ab.
So beschreibt zum Beispiel Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem infrarotabsorbierenden Pigment wie z. B. Gasruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren Teilchen bildmäßig, wodurch die Oberfläche des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt die hohe Beschädigungsanfälligkeit der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei Ausübung eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach einen beschränkten lithografischen Druckspielraum aufweisen.
Die US-P 4 708 925 offenbart Bilderzeugungselemente mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator enthält. Nach bildmäßiger Bestrahlung dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht – sichtbarem Licht – oder IR-Licht und einer anschließenden Entwicklungsstufe mit einer wäßrig-alkalischen Flüssigkeit wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
Die US-P 5 340 699 ist nahezu identisch zu der EP-A 625 728, jedoch mit dem Unterschied, daß sie ein Verfahren zum Erhalt eines negativarbeitenden, gegenüber Infrarotlaserlicht empfindlichen Bilderzeugungselements offenbart. Die IR-empfindliche Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach.
In EP-A 678 380 wird weiterhin ein Verfahren offenbart, in dem eine Schutzschicht auf einen gekörnten Metallträger unter einer laserablatierbaren Oberflächenschicht angebracht ist. Bei bildmäßiger Belichtung wird die Oberflächenschicht zusammen mit bestimmten Teilen der Schutzschicht völlig ablatiert. Die Druckplatte wird anschließend mit einer Reinigungsflüssigkeit verarbeitet, um den Rest der Schutzschicht zu entfernen und dadurch die hydrophile Oberflächenschicht freizulegen.
In EP-A 97 200 588.8 wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung lithografischer Druckplatten offenbart, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine Zwischenschicht, die ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält, und eine IR-empfindliche Deckschicht enthält, wobei die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in einer wäßrig-alkalischen Lösung bei Belichtung mit Infrarotstrahlung zunimmt oder abnimmt.
In EP-A 97 203 129.8 und EP-A 97 203 132.2 wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselements offenbart, das aus einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche und einer Deckschicht besteht, wobei die Deckschicht empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung ist, ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringbar ist für einen alkalischen Entwickler, der als SiO₂ dargestellte Silikate enthält.
Die drei letztbeschriebenen wärmeempfindlichen Bilderzeugungselemente beinhalten aber den Nachteil eines geringen physikalischen und chemischen Widerstandes. Das Bereitstellen von wärmeempfindlichen Bilderzeugungselementen, die einer wie bei den drei letztgenannten wärmeempfindlichen Bilderzeugungselementen beschriebenen geeigneten Verarbeitung unterzogen werden, zugleich aber mit einem verbesserten physikalischen und chemischen Widerstand aufwarten, ist ein hochgeschätztes Ziel.
AUFGABEN DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement mit einem großen Entwicklungsspielraum zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte bereitzustellen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein hochauflösendes wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte bereitzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das mit einem verbesserten physikalischen und chemischen Widerstand aufwartet, bereitzustellen.
Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.
KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, wobei das Bilderzeugungselement auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht mit einem in einer wäßrig-alkalischen Lösung löslichen Polymer und auf der gleichen Seite der lithografischen Unterlage wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung und undurchdringbar für einen alkalischen Entwickler ist, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht zumindest ein Blockcopolymer in einer Menge zwischen 0,5 und 500 mg/m² enthält.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Die Deckschicht wird ebenfalls als zweite Schicht bezeichnet. Die Deckschicht eines erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements enthält zumindest ein Blockcopolymer.
Geeignete Blockcopolymere sind Polystyrolblockcopolymere des folgenden Typs: Polystyrol-Polyisopren-Blockcopolymere, lineare oder verzweigte Blockcopolymere aus Styrol, Butadien und Styrol und Blockcopolymere aus Styrol, Ethylen, Butylen und Styrol, die chemisch modifiziert, z. B. mit Maleinsäure, sein können.
Weitere geeignete Blockcopolymere sind Flüssigcopolymere wie Copolymere des Ethylens mit Butylen mit einer Hydroxylfunktionalität (Tg 63°C), heterotelechelische Polymere mit z. B. einem Poly(ethylen/butylen) mit einer endständigen Hydroxylfunktionalität an einer Seite und einer Polyisoprenendfunktionalität an der anderen Seite (Tg 60°C) und das Polymer mit der epoxidierten Form des Polyisoprenteils (Tg 53°C).
Weitere Blockcopolymere sind Polyethylenoxid enthaltende Blockcopolymere wie ein Polystyren-Polyethylenoxid-Blockcopolymer, in dem die Polyethylenoxidseite mit einer Endgruppe wie Sulfonat modifiziert sein kann, Polymethylmethacrylat-Polyethylenoxid-Blockcopolymere, neutralisierte Polymethylmethacrylat-Polymethylacrylsäure und ein Polybutylmethacrylat-Polyethylenoxid-Copolymer.
Infolge der Verschiedenheit an Molekulargewichten können diese Polymere flüssig, halbfest oder fest sein. Diese Produkte können ebenfalls als Dispersionen in einer Flüssigkeit wie Wasser oder einem anderen Lösungsmittel benutzt werden.
Die Deckschicht enthält wahlweise ebenfalls Trialkylsilane, Aminoalkylsilane, Aminoalkylalkoxysilane wie 3-Aminopropyltriethoxysilan, 3-Aminopropyltrimethoxysilan und 3-(2-Aminoethylamino)propyltrimethoxysilan, Alkoxysilane, Glycidyletheralkoxysilane, alkoxysilanmodifizierte Polyethylenamine, modifizierte Alkoxysilane mit Mercaptogruppen und Isocyanatalkyltrialkoxysilane. niese Mittel werden vorzugsweise in einer Menge zwischen 5 und 30 mol-%, bezogen auf das Blockcopolymer, benutzt.
Die Deckschicht enthält vorzugsweise auch eine Epoxyverbindung und einen Härter.
In einer ersten Ausführungsform sind die erste Schicht und die Deckschicht zwei verschiedene Schichten. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung von lithografischen Druckplatten bereitgestellt, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht, die ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält, und auf der gleichen Seite der lithografischen Unterlage wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung ist und undurchdringbar für einen alkalischen Entwickler ist.
Die erfindungsgemäße Deckschicht enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein Bindemittelharz. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt wird aber der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Bevorzugt als IR-Farbstoffe werden IR-Cyaninfarbstoffe. Besonders nutzbare IR-Cyaninfarbstoffe sind Cyaninfarbstoffe mit zwei Indoleningruppen.
Besonders nutzbare infrarotabsorbierende Pigmente sind Gasruß, Metallcarbide, Metallboride, Metallnitride, Metallcarbonitride, Oxide mit einer Bronzestruktur und Oxide mit einer der Bronzefamilie verwandten Struktur, doch ohne den A-Bestandteil, z. B. WO_2,9. Es können gleichfalls leitfähige polymere Dispersionen benutzt werden, wie leitfähige polymere Dispersionen auf der Basis von Polypyrrol oder Polyanilin. Die erzielte lithografische Leistung und insbesondere die erzielte Auflagenfestigkeit hängt von der Wärmeempfindlichkeit des Bilderzeugungselements ab. In dieser Hinsicht hat es sich herausgestellt, daß mit Gasruß sehr gute und günstige Ergebnisse erzielbar sind.
Die IR-absorbierenden Farbstoffe oder Pigmente sind vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 99 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 50 und 95 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, enthalten.
Die Deckschicht kann vorzugsweise als Bindemittel ein wasserunlösliches Polymer wie einen Celluloseester, ein Copolymer aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril, Poly(meth)acrylate, Polyvinylchlorid, Silikonharze usw. enthalten. Bevorzugt als Bindemittel wird Nitrocelluloseharz.
Die Gesamtmenge der Deckschicht variiert vorzugsweise zwischen 0,03 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,05 und 2 g/m².
In der Deckschicht wird bei der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in einer wäßrig-alkalischen Lösung, in diesem Falle im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler, bewirkt.
In der vorliegenden Erfindung wird die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit während der bildmäßigen IR-Belichtung dermaßen erhöht, daß die bebilderten Teile während der Entwicklung entfernt werden, ohne die nicht-bebilderten Teile zu solubilisieren und/oder zu beschädigen.
Die Entwicklung mit der wäßrig-alkalischen Lösung erfolgt vorzugsweise innerhalb eines Zeitraums zwischen 5 und 120 s.
Zwischen der Deckschicht und der lithografischen Unterlage liegt in der vorliegenden Erfindung eine erste Schicht vor, die in einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung mit vorzugsweise einem pH zwischen 7,5 und 14 löslich ist. Diese erste Schicht liegt zwar vorzugsweise an der Deckschicht an, jedoch können andere Schichten zwischen die Deckschicht und die erste Schicht eingefügt werden. Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Bindemittel sind vorzugsweise hydrophobe Bindemittel wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. Novolakpolymere, Hydroxystyroleinheiten enthaltende Polymere, carboxylsubstituierte Polymere usw. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 4 007 428, DE-A 4 027 301 und DE-A 4 445 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Polymer ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Weiterhin ist diese in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Diese Schicht ist vorzugsweise thermisch härtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die erste Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure oder ein Benzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 20 : 80. Die Gesamtmenge der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
Die erste Schicht und/oder die Deckschicht (ebenfalls zweite Schicht genannt) enthält bzw. enthalten vorzugsweise ein Tensid. Das Tensid kann zwar ein kationisches, anionisches oder amfoteres Tensid sein, ist jedoch vorzugsweise ein nicht-ionisches Tensid. Das Tensid wird ganz besonders bevorzugt aus der Gruppe bestehend aus Perfluoralkyl-Tensiden, Alkylphenyl-Tensiden und besonders bevorzugt polyethermodifizierten Polysiloxan-Tensiden gewählt. Das Tensid ist vorzugsweise in der Deckschicht enthalten. Die Menge Tensid liegt vorzugsweise zwischen 0,001 und 0,3 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,003 und 0,050 g/m².
Im Bilderzeugungselement der vorliegenden Erfindung kann die lithografische Unterlage für alle Ausführungsformen ein eloxierter Aluminiumträger sein. Eine besonders bevorzugte lithografische Unterlage ist ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger. Der eloxierte Aluminiumträger kann einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95°C, silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise fernerhin ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht erhöhter Temperatur zwischen etwa 30°C und 50°C erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Fernerhin kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, daß eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A 1 084 070, DE-A 4 423 140, DE-A 4 417 907, EP-A 659 909, EP-A 537 633, DE-A 4 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 und US-P 4 458 005.
Nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält die lithografische Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche einen biegsamen Träger, wie z. B. einen Papierträger oder eine Kunststoffolie, der (die) für alle Ausführungsformen mit einer vernetzten hydrophilen Schicht überzogen ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten werden. Letzteres Vernetzungsmittel wird besonders bevorzugt.
Als hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere oder Gemische derselben in Frage, wie zum Beispiel Gelatine, Polyvinyl pyrrolidon, Stärke oder modifizierte Stärke, Xanthangummi, Carboxymethylcellulose oder modifizierte Carboxymethylcellulose, Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere in Frage. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.
Die Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise wenigstens 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.
Eine vernetzte hydrophile Schicht in einer nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Unterlage enthält vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und Porosität der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselsäure benutzt werden. Die kolloidale Kieselsäure kann in Form einer beliebigen handelsüblichen Wasserdispersion von kolloidaler Kieselsäure mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselsäure zugesetzt werden, z. B. Kieselsäure, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von zumindest 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen erhält die Oberfläche der vernetzten hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.
Die Stärke einer vernetzten hydrophilen Schicht in einer nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Unterlage kann zwischen 0,2 μm und 25 μm variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 μm und 10 μm.
Besondere Beispiele für erfindungsgemäß nutzbare geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A 514 490 beschrieben.
Als biegsamer Träger einer lithografischen Unterlage nach dieser Ausführungsform bevorzugt man insbesondere eine Kunststofffolie, z. B. eine substrierte Polyethylenterephthalatfolie, eine substrierte Polyethylennaphthalatfolie, eine Celluloseacetatfolie, eine Polystyrolfolie, eine Polycarbonatfolie usw. Der Kunststofffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.
Besonders bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter Polyesterfilmträger. Zur erfindungsgemäßen Verwendung besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselsäure, wie in EP-A 619 524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselsäure in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m² und 750 mg/m². Weiterhin liegt das Verhältnis von Kieselsäure zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselsäure vorzugsweise zumindest 300 m²/g, besonders bevorzugt zumindest 500 m²/g.
In einer zweiten Ausführungsform sind die erste Schicht und die zweite Schicht ein und dieselbe Schicht. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung von lithografischen Druckplatten bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine Deckschicht enthält, die gegenüber IR-Strahlung empfindlich ist, ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringbar für einen alkalischen Entwickler ist.
Die IR-empfindliche Schicht der vorliegenden Erfindung enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt wird aber der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Als geeignete IR-Farbstoffe und IR-Pigmente sind die in der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung genannten zu nennen.
Die IR-Farbstoffe oder IR-Pigmente werden vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 60 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 3 und 50 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, benutzt.
Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Polymere sind vorzugsweise hydrophobe und farbanziehende Polymere wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. carboxylsubstituierte Polymere usw. Besonders bevorzugt wird ein Phenolharz wie ein Hydroxystyroleinheiten enthaltendes Polymer oder ein Novolakpolymer. Ganz besonders bevorzugt wird ein Novolakpolymer. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 4 007 428, DE-A 4 027 301 und DE-A 4 445 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Polymer ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und durch eine zumindest partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch eine zumindest partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Weiterhin ist diese IR-empfindliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist fernerhin vorzugsweise thermisch härtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die IR-empfindliche Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt eine 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure oder ein Benzophenon, besonders bevorzugt Trihydroxybenzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 30 : 70. Die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
Die Deckschicht enthält vorzugsweise ein Tensid. Das Tensid kann zwar ein kationisches, anionisches oder amfoteres Tensid sein, ist jedoch vorzugsweise ein nicht-ionisches Tensid. Das Tensid wird ganz besonders bevorzugt aus der Gruppe bestehend aus Perfluoralkyl-Tensiden, Alkylphenyl-Tensiden und besonders bevorzugt Polysiloxan-Tensiden wie Polysiloxanpolyethern, Polysiloxancopolymeren, alkylarylmodifizierten Methylpolysiloxanen und acylierten Polysiloxanen gewählt. Die Menge Tensid liegt vorzugsweise zwischen 0,001 und 0,3 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,003 und 0,050 g/m².
In der IR-empfindlichen Schicht wird während der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der IR-empfindlichen Schicht im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler bewirkt.
Zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement bildmäßig belichtet und entwickelt.
Die erfindungsgemäße Belichtung ist eine bildmäßige Abtastbelichtung unter Verwendung eines vorzugsweise im Infrarotbereich oder nahen Infrarotbereich, d. h, im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1.500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden. Die Belichtung des Bilderzeugungselements kann mit Lasern mit sowohl kurzer als langer Pixelverweilzeit vorgenommen werden. Bevorzugt werden Laser mit einer Pixelverweilzeit zwischen 0,005 μs und 20 μs.
Nach der bildmäßigen Entwicklung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement durch Spülung mit einer wäßrig-alkalischen Lösung entwickelt. Als wäßrig-alkalische Lösungen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung verwendet man solche, die zum Entwickeln herkömmlicher positivarbeitender vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt werden, vorzugsweise SiO₂ als Silikate enthalten und vorzugsweise einen pH zwischen 11,5 und 14 aufweisen. Dabei werden die bebilderten Teile der Deckschicht, deren Durchdringbarkeit in der wäßrig-alkalischen Lösung infolge der Belichtung gesteigert ist, entfernt, wodurch eine positivarbeitende Druckplatte erhalten wird.
In der vorliegenden Erfindung ist auch die Zusammensetzung des benutzten Entwicklers von größter Bedeutung.
Demnach sind zum Erzielen einer Entwicklungsverarbeitung, die über einen langen Zeitraum stabil ist, Qualitäten wie die Stärke des Alkalis und das Verhältnis der Silikate im Entwickler besonders wichtig. Unter solchen Bedingungen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung gefunden, daß nur unter Verwendung des Entwicklers mit obiger Zusammensetzung eine Schnellverarbeitung bei hoher Temperatur möglich ist, die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung niedrig ist und eine stabile Entwicklungsverarbeitung über einen langen Zeitraum von zumindest 3 Monaten ohne Ersetzen des Entwicklers vorgenommen werden kann.
Die Entwickler und die Nachfüllösungen für den Entwickler, die in der vorliegenden Erfindung benutzt werden, sind vorzugsweise wäßrige Lösungen, die als Hauptbestandteil Alkalimetallsilikate und Alkalimetallhydroxide der Formel MOH oder deren Oxid der Formel M₂O enthalten, wobei der Entwickler SiO₂ und M₂O in einem Molverhältnis zwischen 0,5 und 1,5 und SiO₂ in einem Verhältnis zwischen 0,5 und 5 Gew.-% enthält. Als Alkalimetallsilikate werden zum Beispiel Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat und Natriummetasilikat bevorzugt. Als Alkalimetallhydroxide werden andererseits Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler können gleichzeitig andere alkalische Mittel enthalten. Beispiele für solche anderen alkalischen Mittel sind u. a. anorganische alkalische Mittel wie Ammoniumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und Ammoniumcarbonat, und organische alkalische Mittel wie Mono-, Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Di- oder Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di- oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Tetramethylammoniumhydroxid. Von großer Bedeutung in der vorliegenden Erfindung ist das Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] im Entwickler, das in der Regel zwischen 0,6 und 1,5, vorzugsweise zwischen 0,7 und 1,3 liegt. Liegt das Molverhältnis unter 0,6, ist eine merkliche Streuung der Wirkung zu beobachten, während bei einem Molverhältnis von mehr als 1,5 eine Schnellentwicklung schwierig zu erhalten wird und die lichtempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen wahrscheinlich nicht völlig gelöst oder entfernt werden kann. Darüber hinaus liegt das SiO₂-Verhältnis im Entwickler und in der Nachfüllösung vorzugsweise zwischen 1 und 4 Gew.-%. Solche Beschränkung des SiO₂-Verhältnisses ermöglicht es, in stabiler Weise lithografische Druckplatten mit guten Endqualitäten zu erhalten, sogar wenn über einen langen Zeitraum eine große Menge von erfindungsgemäßen Druckplatten verarbeitet wird.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird als Entwickler eine wäßrige Lösung eines Alkalimetallsilikats mit einem Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] zwischen 1,0 und 1,5 und einem SiO₂-Verhältnis zwischen 1 und 4 Gew.-% benutzt. In diesem Falle muß selbstverständlich eine Nachfüllösung benutzt werden, deren alkalische Stärke größer oder gleich der alkalischen Stärke des benutzten Entwicklers ist. Um die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung zu beschränken, ist es vorteilhaft, daß das Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] der Nachfüllösung kleiner oder gleich dem Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] des Entwicklers ist oder das SiO₂-Verhältnis hoch ist, wenn das Molverhältnis des Entwicklers dem Molverhältnis der Nachfüllösung gleich ist.
In den in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwicklern und Nachfüllösungen können je nach Bedarf gleichzeitig organische Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser bei 20°C von nicht mehr als 10 Gew.-% benutzt werden. Beispiele für solche organischen Lösungsmittel sind Carbonsäureester wie Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat und Butyllevulinat, Ketone wie Ethylbutylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole wie Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolbenzylether, Ethylenglycolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol und Methylamylalkohol, alkylsubstituierte aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol, halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Methylendichlorid und Monochlorbenzol. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder kombiniert benutzt werden.
Erfindungsgemäß wird Benzylalkohol besonders bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel werden dem Entwickler oder der Nachfüllösung für den Entwickler in der Regel in einer Höchstmenge von 5 Gew.-% und vorzugsweise 4 Gew.-% zugesetzt.
Zwecks der Verbesserung von deren Entwicklungseigenschaften kann in den erfindungsgemäß verwendeten Entwicklern und Nachfülllösungen gleichzeitig ein Tensid benutzt werden. Beispiele für solche Tenside sind u. a. Salze von Schwefelsäureestern mit höherem Alkohol (C₈ ~ C₂₂) wie Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Teepol B-81 (Handelsname von Shell Chemicals Co., Ltd.) und Dinatriumalkylsulfate, Salze von Phosphorsäureestern mit alifatischem Alkohol wie Natriumsalz von Cetylalkoholphosphat, Alkylarylsulfonsäuresalze wie Natriumsalz von Dodecylbenzolsulfonat, Natriumsalz von Isopropylnapthalinsulfonat, Natriumsalz von Dinaphthalindisulfonat und Natriumsalz von Metanitrobenzolsulfonat, Sulfonsäuresalze von Alkylamiden wie C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na und Sulfonsäuresalze von zweibasigen alifatischen Säureestern wie Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat. Diese Tenside können allein oder kombiniert benutzt werden. Besonders bevorzugt werden Sulfonsäuresalze. Diese Tenside können in einer in der Regel nicht über 5 Gew.-%, vorzugsweise nicht über 3 Gew.-% hinauskommenden Menge verwendet werden.
Zur Verbesserung der Entwicklungsstabilität der in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwickler und Nachfüllösungen können gleichzeitig die nachstehenden Verbindungen verwendet werden.
Beispiele für solche Verbindungen sind neutrale Salze wie NaCl, KCl und KBr, wie in JN-A 58 75 152 beschrieben, Chelatbildner wie EDTA und NTA, wie in JN-A 58 190 952 (US-A 4 469 776) beschrieben, Komplexe wie [Co(NH₃)₆]C₁₃, wie in JN-A 59 121 336 (US-A 4 606 995) beschrieben, ionisierbare Verbindungen von Elementen der Gruppe IIa, IIIa oder IIIb des Periodensystems, wie die in JN-A 55 25 100 beschriebenen, anionische oder amfotere Tenside wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat und N-Tetradecyl-N,N-dihydroxythylbetain, wie in JN-A 50 51 324 beschrieben, Tetramethyldecyndiol, wie in US-A 4 374 920 beschrieben, nicht-ionische Tenside wie in JN-A 60 213 943 beschrieben, kationische Polymere wie quaternäre Methylchlorid-Produkte von p-Dimethylaminomethylpolystyrol, wie in JN-A 55 95 946 beschrieben, amfotere Polyelektrolyte wie ein Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat, wie in JN-A 56 142 528 beschrieben, anorganische Reduktionssalze wie Natriumsulfit, wie in JN-A 57 192 952 (US-A 4 467 027) beschrieben, und alkalilösliche Mercaptoverbindungen oder Thioetherverbindungen wie Thiosalicylsäure, Cystein und Thioglycolsäure, anorganische Lithiumverbindungen wie Lithiumchlorid, wie in JN-A 58 95 444 beschrieben, organische Lithiumverbindungen wie Lithiumbenzoat, wie in JN-A 50 34 442 beschrieben, Si, Ti oder ähnliche Substanzen enthaltende Organometall-Tenside, wie in JN-A 59 75 255 beschrieben, Organobor-Verbindungen, wie in JN-A 59 84 241 (US-A 4 500 625) beschrieben, quaternäre Ammoniumsalze wie Tetraalkylammoniumoxide, wie in EP-A 101 010 beschrieben, und Bakterizide wie Natriumdehydroacetat, wie in JN-A 63 226 657 beschrieben.
Im erfindungsgemäßen Entwicklungsverarbeitungsverfahren kann ein beliebiges Mittel zum Zuführen einer Nachfüllösung für Entwickler benutzt werden. Beispiele für solche bevorzugten Verfahren sind ein Verfahren, in dem eine Nachfüllösung mit zeitlichen Unterbrechungen oder kontinuierlich als Funktion der Menge von verarbeiteten PS-Platten und der Zeit zugeführt wird, wie in JN-A-55-115 039 (GB-A-2 046 931) beschrieben, ein Verfahren, in dem ein Sensor angeordnet wird, um das Ausmaß nachzuweisen, in dem die lichtempfindliche Schicht im mittleren Bereich einer Entwicklungszone gelöst wird, und die Nachfüllösung proportional zum nachgewiesenen Ausmaß der Herauslösung der lichtempfindlichen Schicht zugeführt wird, wie in JN-A-58-95 349 (US-A 4 537 496) beschrieben, und ein Verfahren, in dem der Impedanzwert eines Entwicklers ermittelt und der ermittelte Impedanzwert durch einen Rechner verarbeitet wird, um die Zuführung einer Nachfüllösung zu steuern, wie in GB-A 2 208 249 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Druckplatte kann ebenfalls in Form einer nahtlosen hülsenförmigen Druckplatte in einem Druckzyklus eingesetzt werden. Bei dieser Anwendung wird die Druckplatte mittels eines Lasers zu einer zylindrischen Form zusammengelötet. Diese zylindrische Druckplatte, deren Durchmesser dem Durchmesser der Drucktrommel gleich ist, wird auf die Drucktrommel geschoben, anstatt auf herkömmlichem Wege als in herkömmlicher Weise angefertigte Druckplatte auf der Druckpresse angeordnet zu werden. Genauere Angaben über hülsenförmige Druckplatten finden sich in "Grafisch Nieuws", Herausgeber Keesing, 15, 1995, Seite 4 bis 6.
Nach der Entwicklung eines bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements mit einer wäßrig-alkalischen Lösung und Trocknung kann die erhaltene Druckplatte ohne weitere Verarbeitung als Druckplatte eingesetzt werden. Allerdings kann die Druckplatte zum Verbessern der Dauerhaftigkeit noch bei einer Temperatur zwischen 200°C und 300°C über einen Zeitraum von 30 Sekunden bis 5 Minuten eingebrannt werden. Das Bilderzeugungselement kann ebenfalls einer vollflächigen Nachbelichtung mit UV-Strahlung unterzogen werden, um das Bild zu härten und somit die Auflagenhöhe der Druckplatte zu steigern.
Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile und Prozentsätze bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.
BEISPIEL 1 (vergleichendes Beispiel)
Herstellung der lithografischen Unterlage
Eine 0,30 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wäßrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50°C entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35°C und einer Stromdichte von 1.200 A/m² in einer wäßrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra von 0,5 μm zu erhalten.
Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wäßrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60°C geätzt und anschließend 30 s bei 25°C mit entmineralisiertem Wasser gespült.
Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45°C, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m² etwa 300 s in einer wäßrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m2 Al₂O₃ enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, dann mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, anschließend zuerst mit einer Polyvinylphosphonsäure enthaltenden Lösung und dann mit einer Aluminiumtrichlorid enthaltenden Lösung nachverarbeitet, dann mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20°C gespült und getrocknet.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf die obenbeschriebene lithografischen Unterlage vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM (erhältlich von Clariant, Deutschland) und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure. Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,735 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM (beide Dispersionsmittel werden von Zeneca Specialities, GB, vertrieben), 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM (beide Polysiloxan-Tenside werden von Tego, Deutschland, vertrieben).
BEISPIEL 2 (vergleichendes Beispiel)
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,2720 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m² des IR-Absorptionsmittels ST798^TM (2-(2-(2-Chlor-3-(2-dihydro-1,1,3-trimethyl-2H-benzo(e)indol-2-yliden)-ethyliden)-1-cyclohexen-1-yl)-ethenyl)-1,1,3-trimethyl-1H-benzo(e)indolium-4-methylbenzolsulfonat), 12,4 mg/m² FLEXO-BLAU 630^TM 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
ST798 ist erhältlich von Synthon Wolfen, Deutschland, und FLEXO-BLAU 630 von BASF, Ludwigshafen, Deutschland.
BEISPIEL 3
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 55 mg/m² KRATON D^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
KRATON D ist ein Blockcopolymer aus Styrol und Isopren, das von Shell Chemicals vertrieben wird.
BEISPIEL 4
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 55 mg/m² CARIFLEX TR 1102^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
CARIFLEX TR 1102 ist ein Blockcopolymer aus Styrol, Butadien und Styrol, das von Shell Chemicals vertrieben wird.
BEISPIEL 5
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 45,0 mg/m² CARIFLEX TR1102^TM, 10 mg/m² 3-Mercaptotrimethoxysilan, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
CARIFLEX TR 1102 ist ein Blockcopolymer aus Styrol, Butadien und Styrol, das von Shell Chemicals vertrieben wird.
BEISPIEL 6 (vergleichendes Beispiel)
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 6,40 mg/m² EPI-REZ 3510 W-60^TM, 48,00 mg/m² Jeffamine XTJ-234^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
EPI-REZ 3510 W-60 ist eine wasserlösliche Dispersion eines flüssigen Epoxyharzes auf der Basis von Bisphenol A, die von Shell Chemicals vertrieben wird. Jeffamine XTJ-234 ist eine Polyetherhauptkette mit endständiger Aminogruppe mit einem Molekularverhältnis PO/EO von 8/49 und einem Molekulargewicht von etwa 3000. Jeffamine XTJ-234 wird von Huntsman Corporation vertrieben.
BEISPIEL 7
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 6,40 mg/m² EPI-REZ 3510 W-60^TM, 48,00 mg/m² Jeffamine XTJ-234^TM, 0,64 mg/m² KRATON D 1184CS, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
BEISPIEL 8
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 10,31 mg/m² Eurepox 7001/75X^TM, 5,07 mg/m² Euredur 115^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
EUREPOX 7001/75 ist ein Epoxyharz auf der Basis von Bisphenol A, das von Witco GmbH vertrieben wird. EUREDUR 115 ist ein Polyaminamid, das von Witco GmbH, Deutschland, vertrieben wird.
BEISPIEL 9
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 10,31 mg/m² Eurepox 7001/75X^TM, 5,07 mg/m² Euredur 115^TM, 5,07 mg/m² KRATON Liquid L2203, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
KRATON Liquid L2203 ist ein Copolymer aus Ethylen und Butylen mit einer bis-Hydroxylfunktionalität, das von Shell Chemicals vertrieben wird.
BEISPIEL 10
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 10,31 mg/m² Eurepox 7001/75X^TM, 5,07 mg/m² Euredur 115^TM, 5,07 mg/m² KRATON Liquid L1302, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 4107^TM.
KRATON Liquid L1302 ist ein von Shell Chemicals vertriebenes heterotelechelisches Blockcopolymer mit einer primären Hydroxylfunktionalität an einem Ende des Polymers und einer Polyisoprenfunktionalität am anderen Ende des Polymers.
BEISPIEL 11
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 10,31 mg/m² Eurepox 7001/75X^TM, 5,07 mg/m² Euredur 115^TM, 20,36 mg/m² KRATON Liquid EKP-207, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
KRATON Liquid EKP-207 ist ein von Shell Chemicals vertriebenes heterotelechelisches Blockcopolymer mit einer primären Hydroxylfunktionalität an einem Ende des Polymers und einer epoxidierten Polyisoprenfunktionalität am anderen Ende des Polymers.
BEISPIEL 12
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,2345 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 55,00 mg/m² VP SE1010A^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 4107^TM.
VP SE1010A ist ein Polystyrol-Polyethylen-Blockcopolymer mit einer Sulfonatendgruppe, das von Shell Chemicals vertrieben wird.
BEISPIEL 13
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,5720 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m² des IR-Absorptionsmittels ST798^TM (2-(2-(2-Chlor-3-(2-dihydro-1,1,3-trimethyl-2H-benzo(e)indol-2-yliden)-ethyliden)-1-cyclohexen-1-yl)-ethenyl)-1,1,3-trimethyl-1H-benzo(e)indolium-4-methylbenzolsulfonat), 12,4 mg/m² FLEXO-BLAU 630^TM, 60,0 mg/m² VP SE1010A^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
ST798 ist erhältlich von Synthon Wolfen, Deutschland, und FLEXO-BLAU 630 von BASF, Ludwigshafen, Deutschland.
BEISPIEL 14
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 55,00 mg/m² SE0720^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
SE0720 ist ein von Th. Goldschmidt AG vertriebenes Polystyrol-Polyethylenoxid-Blockcopolymer.
BEISPIEL 15
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,4220 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m2 des IR-Absorptionsmittels ST798^TM (2-(2-(2-Chlor-3-(2-dihydro-1,1,3-trimethyl-2H-benzo(e)indol-2-yliden)-ethyliden)-1-cyclohexen-1-yl)-ethenyl)-1,1,3-trimethyl-1H-benzo(e)indolium-4-methylbenzolsulfonat), 12,4 mg/m² FLEXO-BLAU 630^TM, 30,0 mg/m² SE0720^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
BEISPIEL 16
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 55,00 mg/m² ME1010^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
ME1010 ist ein Polymethylmethacrylat-Polyethylenoxid-Blockcopolymer, das von Th. Goldschmidt AG vertrieben wird.
BEISPIEL 17
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,4220 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m² des IR-Absorptionsmittels ST798^TM (2-(2-(2-Chlor-3-(2-dihydro-1,1,3-trimethyl-2H-benzo(e)indol-2-yliden)-ethyliden)-1-cyclohexen-1-yl)-ethenyl)-1,1,3-trimethyl-1H-benzo(e)indolium-4-methylbenzolsulfonat), 12,4 mg/m² FLEXO-BLAU 630^TM, 30 mg/m² ME1010^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
BEISPIEL 18
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,4220 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m² des IR-Absorptionsmittels ST798^TM (2-(2-(2-Chlor-3-(2-dihydro-1,1,3-trimethyl-2H-benzo(e)indol-2-yliden)-ethyliden)-1-cyclohexen-1-yl)-ethenyl)-1,1,3-trimethyl-1H-benzo(e)indolium-4-methylbenzolsulfonat), 12,4 mg/m² FLEXO-BLAU 630^TM, 30 mg/m² MA1007^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
MA1007 ist ein mit KOH neutralisiertes Polymethylmethacrylat-Polymethacrylsäure-Blockcopolymer, das von Th. Goldschmidt AG vertrieben wird.
BEISPIEL 19
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 1,0095 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 115 mg/m² Gasruß, 55,00 mg/m² BE1010^TM, 11,5 mg/m² Nitrocellulose, 2,1 mg/m² SOLSPERSE 5000^TM, 11,3 mg/m² SOLSPERSE 28000^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
BE1010 ist ein Polybutylmethacrylat-Polyethylenoxid-Blockcopolymer, das von Th. Goldschmidt AG vertrieben wird.
BEISPIEL 20
Man verwendet die gleiche Unterlage wie im vergleichenden Beispiel 1.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf den in Beispiel 1 beschriebenen lithografischen Träger vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/ Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM und 12% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die TR-empfindliche Schicht aus einer 0,4220 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 35 mg/m² des IR-Absorptionsmittels ST798^TM (2-(2-(2-Chlor-3-(2-dihydro-1,1,3-trimethyl-2H-benzo(e)indol-2-yliden)-ethyliden)-1-cyclohexen-1-yl)-ethenyl)-1,1,3-trimethyl-1H-benzo(e)indolium-4-methylbenzolsulfonat), 12,4 mg/m² FLEXO-BLAU 630^TM, 30 mg/m² BE1010^TM, 2,0 mg/m² TEGO WET 265^TM und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410^TM.
Ankratzen des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Die obenerwähnten Materialien des vergleichenden Beispiels 1 und der Beispiele 2 bis 20 werden in einem Standardtest angekratzt. Bei dieser Probe wird das Bilderzeugungselement mit Nadeln bei einer Geschwindigkeit von 96 cm/Min. unter präzise eingestellter Belastung angekratzt. Die Nadeln sind des Robin-Typs mit einem Radius von 1,5 mm. Es werden mit folgenden Belastungen 15 Kratzer angebracht 57 – 85 – 114 – 142 – 170 – 113 – 169 – 225 – 282 – 338 – 400 – 600 – 800 – 1000 und 1200 mN.
Nach Anbringen der 15 Kratzer wird das Material belichtet.
Belichtung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
All die obengenannten Materialien werden mit einem Creo 3244TM-Außentrommelbelichter bei 263 mJ/cm² und 2400 dpi bebildert.
Entwicklung des bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements
Nach Belichtung des Bilderzeugungselements wird das Element in einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung entwickelt. Diese Entwicklung erfolgt bei einer Geschwindigkeit von 1 m/Min. bei 25°C in einem mit OZASOL EP26^TM (OZASOL EP26 ist erhältlich von Agfa) und Wasser im Spülbereich und OZASOL RC795^TM-Gummi im Gummierbereich gefüllten Technigraph NPX-32-Entwicklungsgerät.
Die erhaltenen Druckplatten haben ein intaktes Bild ohne Ätzfehler.
Die mit Gasruß sensibilisierten Materialien entwickelt man in einer verdünnten Lösung des Entwicklers, die durch Zugabe von 20 Teilen Wasser zu 80 Teilen EP26 erhalten wird.
Prüfung des chemischen Widerstands
Auf die Bildebene und die Rasterebene gießt man einen Tropfen von 40 μl einer 30%igen wäßrigen Isopropanollösung. Nach 10 Minuten wird der Tropfen mit einem Baumwolltupfer entfernt. Dieser Vorgang wird mit einer 40%igen und 50%igen wäßrigen Isopropanollösung wiederholt.
Auswertung der lithografischen Qualität des Materials
Die Druckplatten werden zum Drucken in eine Heidelberg GTO46-Druckpresse eingespannt, wobei eine herkömmliche Druckfarbe (K + E) und herkömmliches Feuchtwasser (Rotamatic) benutzt werden. Die Abzüge werden in Bezug auf Schaumbildung in den IR-belichteten Bereichen und eine gute Farbanziehung in den Nicht-Bildbereichen ausgewertet.
Auswertung der Kratzfestigkeit auf den Abzügen
Die Schadenbreite der 15 eventuellen Kratzer wird gemessen und die Kratzer in Tabelle 1 mit einer Ziffer bewertet.
Tabelle 1
Die Summe aller gegebenen Ziffern ergibt die Kratzfestigkeit des Materials. Je niedriger der Wert, desto besser die Kratzfestigkeit.
Auswertung des chemischen Widerstands
Auf den Abzügen werden die 6 mit den Tropfen befeuchteten Stellen optisch auf Bildschaden überprüft. Eine schadenfreie Stelle wird mit Ziffer 0 bewertet. Ziffer 4 deutet auf ein völlig gewischtes Bild. Die Summe der 6 Bewertungsziffern ergibt eine Ziffer zwischen 0 und 24, die den chemischen Widerstand darstellt. Je höher dieser Wert, desto niedriger der chemische Widerstand.
Ergebnisse
Druckqualität OK bedeutet: keine sichtbare Schaumbildung auf Nicht-Bildbereichen und gute Farbanziehung.
Aus den Ergebnissen von Tabelle 2 ist ersichtlich, daß alle erfindungsgemäßen Beispiele eine bessere Kratzfestigkeit aufweisen als die vergleichenden Beispiele und daß die erfindungsgemäßen Beispiele einen besseren chemischen Widerstand aufweisen als die entsprechenden vergleichenden Beispiele.

Claims

Ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, wobei das Bilderzeugungselement auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht mit einem in einer wäßrig-alkalischen Lösung löslichen Polymer und auf der gleichen Seite der lithografischen Unterlage wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung und undurchdringbar für einen alkalischen Entwickler ist, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht zumindest ein Blockcopolymer in einer Menge zwischen 0,5 und 500 mg/m² enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Blockcopolymer Polystyrolsegmente enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Blockcopolymer eine Polyethylen-Polybutylen-Hauptkette enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Blockcopolymer eine Hydroxylfunktion enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht zumindest eine Verbindung mit einer Epoxyfunktion und einen Härter enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Blockcopolymer ein Polyethylenoxidsegment enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymer Polystryrolsegmente enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymer Polyalkylmethacrylatsegmente enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymer Polymethylmethacrylatsegmente und neutralisierte Polymethacrylsäuresegmente enthält.
Wärmeempfindliches Bilderzeugungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 9, das zusätzlich ein Trialkylsilan enthält.