DE69909733T2

DE69909733T2 - Verfahren zur Herstellung positiv arbeitender Druckplatten

Info

Publication number: DE69909733T2
Application number: DE1999609733
Authority: DE
Inventors: Joan Vermeersch; Marc Van Damme; Dirk Kokkelenberg; Bart Braspenninckx
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 1999-02-02
Filing date: 1999-02-02
Publication date: 2004-04-15
Anticipated expiration: 2019-02-03
Also published as: EP1025991A1; JP2000221670A; DE69909733D1; EP1025991B1

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte.
Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte mit verbesserten Druckeigenschaften.
ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden. Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche, die farbabstoßenden Bereiche die Hintergrundbereiche.
Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.
Bei der Herstellung üblicher lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weitverbreitet eingesetzt.
Während der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.
Es sind ebenfalls Druckplatten bekannt, die eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, die bei bildmäßiger Belichtung in den belichteten Bereichen löslich gemacht wird. Während der darauffolgenden Entwicklung werden dann die belichteten Bereiche entfernt. Ein typisches Beispiel für eine solche lichtempfindliche Schicht ist eine Schicht auf Chinondiazidbasis.
Die oberbeschriebenen fotografischen Materialien, die zur Herstellung der Druckplatten verwendet werden, belichtet man in der Regel in einer Kamera durch einen fotografischen Film, der das in einem lithografischen Druckverfahren zu reproduzierende Bild enthält. Eine solche Vorgehensweise ist zwar umständlich und arbeitsaufwendig, andererseits jedoch warten die so erhaltenen Druckplatten mit einer hervorragenden lithografischen Qualität auf.
Es sind denn auch Versuche gemacht worden, um auf den Einsatz eines fotografischen Films im oberbeschriebenen Verfahren verzichten zu können und insbesondere eine Druckplatte direkt auf der Basis von das zu reproduzierende Bild verkörpernden Computerdaten zu erzeugen. Die Empfindlichkeit der obererwähnten lichtempfindlichen Schicht ist aber nicht ausreichend für eine direkte Laserbelichtung. Demnach wurde vorgeschlagen, die lichtempfindliche Schicht mit einer Silberhalogenidschicht zu überziehen. Das Silberhalogenid kann dann direkt unter Rechnersteuerung mittels eines Lasers belichtet werden. Anschließend wird die Silberhalogenidschicht entwickelt und wird auf der lichtempfindlichen Schicht ein Silberbild erhalten. Dieses Silberbild dient dann als Maske während einer vollflächigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht. Nach der vollflächigen Belichtung wird das Silberbild entfernt und die lichtempfindliche Schicht entwickelt. Solch ein Verfahren ist beispielsweise in JP-A 60-61 752 beschrieben, beinhaltet jedoch den Nachteil, daß eine komplexe Entwicklung und zugehörige Entwicklerflüssigkeiten benötigt werden.
In GB 1 492 070 wird ein Verfahren offenbart, in dem eine Metallschicht oder eine Gasruß enthaltende Schicht auf eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird. Diese Metallschicht wird dann mittels eines Lasers ablatiert, wodurch auf der lichtempfindlichen Schicht eine Bildmaske erhalten wird. Die lichtempfindliche Schicht wird dann durch die Bildmaske hindurch einer vollflächigen Ultraviolettbelichtung unterzogen. Nach Entfernung der Bildmaske wird die lichtempfindliche Schicht entwickelt und eine Druckplatte erhalten. Dieses Verfahren beinhaltet aber noch immer den Nachteil, daß die Bildmaske auf umständlichem Wege vor der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden muß.
Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, daß sie vor Licht geschützt werden müssen. Ferner ist auch die Empfindlichkeit hinsichtlich der Lagerbeständigkeit problematisch und weisen sie ein niedrigeres Auflösungsvermögen auf. Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorstufen ab.
So beschreibt zum Beispiel Research Disclosure Nr. 33303, Januar 1992, ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einem Träger eine vernetzte hydrophile Schicht mit thermoplastischen polymeren Teilchen und einem infrarotabsorbierenden Pigment wie z. B. Gasruß enthält. Bei bildmäßiger Belichtung mit einem Infrarotlaser koagulieren die thermoplastischen polymeren Teilchen bildmäßig, wodurch die Oberfläche des Bilderzeugungselements an diesen Bereichen ohne weitere Entwicklung farbanziehend gemacht wird. Als Nachteil dieses Verfahrens gilt die hohe Beschädigungsanfälligkeit der erhaltenen Druckplatte, denn die nicht-druckenden Bereiche können bei Ausübung eines leichten Drucks auf diese Bereiche farbanziehend werden. Außerdem kann die lithografische Leistung einer solchen Druckplatte unter kritischen Bedingungen schwach sein und wird eine solche Druckplatte demnach einen beschränkten lithografischen Druckspielraum aufweisen.
Die US-P 4 708 925 offenbart Bilderzeugungselemente mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Novolakharz und ein Oniumsalz und wahlweise einen IR-Sensibilisator enthält. Nach bildmäßiger Bestrahlung dieses Bilderzeugungselements mit UV-Licht - sichtbarem Licht - oder IR-Licht und einer anschließenden Entwicklungsstufe mit einer wäßrig-alkalischen Flüssigkeit wird eine positivarbeitende oder negativarbeitende Druckplatte erhalten. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach. Es wird kein Waschschritt erwähnt.
Die EP-A 625 728 offenbart ein Bilderzeugungselement mit einer Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach. Es wird kein Waschschritt erwähnt.
Die US-P 5 340 699 ist nahezu identisch zu der EP-A 625 728, jedoch mit dem Unterschied, daß sie ein Verfahren zum Erhalt eines negativarbeitenden, gegenüber Infrarotlaserlicht empfindlichen Bilderzeugungselements offenbart. Die IR-empfindliche Schicht enthält ein Resolharz, ein Novolakharz, eine latente Brönsted-Säure und eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Die Druckergebnisse einer durch Bestrahlung und Entwicklung dieses Bilderzeugungselements erhaltenen lithografischen Druckplatte sind schwach. Es wird kein Waschschritt erwähnt.
In EP-A 678 380 wird weiterhin ein Verfahren offenbart, in dem eine Schutzschicht auf einen gekörnten Metallträger unter einer laserablatierbaren Oberflächenschicht angebracht ist. Bei bildmäßiger Belichtung wird die Oberflächenschicht zusammen mit bestimmten Teilen der Schutzschicht völlig ablatiert. Die Druckplatte wird anschließend mit einer Reinigungsflüssigkeit verarbeitet, um den Rest der Schutzschicht zu entfernen und dadurch die hydrophile Oberflächenschicht freizulegen. Es wird kein Waschschritt erwähnt.
In EP-A 0 908 306 und EP-A 0 908 304, die dem aktuellen Stand der Technik gemäß Art. 54 (3) EPC entsprechen, wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement offenbart, das aus einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche und einer Deckschicht besteht, wobei die Deckschicht empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung ist, ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringbar ist für einen alkalischen Entwickler, der als SiO₂ dargestellte Silikate enthält.
Aus EP-A 0 950 518 und EP-A 0 950 517 ist bekannt, daß der Unterschied in Löslichkeit bei diesen Platten durch Verwendung von Siloxan-Tensiden gesteigert wird. In der Regel wird die Platte nach der Entwicklungsstufe mit Wasser gespült und anschließend mit einer Gummierlösung verarbeitet, um die gekörnte und eloxierte Aluminiumoberfläche vor chemischen (Oxidation) und mechanischen (Kratzer) Fehlern zu schützen. Es wird kein Einsatz einer Bürste oder eines Tensids in der Waschlösung erwähnt. Zum Erhalt einer hohen Kopienanzahl wird eine solche Platte in einer Einbrennstufe (eine 5 minütige statische Verarbeitung bei 235°C oder eine 2 minütige dynamische Verarbeitung bei 270°C) mit einem Einbrenngummi verarbeitet, wobei die Bildbereiche vernetzt werden und dadurch eine Verbesserung der Haftung der Bildbereiche an der gekörnten und eloxierten Aluminiumoberfläche herbeigeführt wird. In diesem Fall erhebt sich aber das Problem der ungesteuerten nicht-homogenen Farbanziehung, das insbesondere in der Druckanlaufstufe und während des Wiederanlaufs des Druckvorgangs zu beobachten ist.
AUFGABEN DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte mit gesteuerter homogener Farbanziehung bereitzustellen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte mit homogener Farbanziehung in der Druckanlaufstufe und während des Wiederanlaufs des Druckvorgangs bereitzustellen.
Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.
KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte:

– Belichtung mit Infrarotlicht eines Bilderzeugungselements, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht mit einem in einer wäßrig-alkalischen Lösung löslichen Polymer und auf der gleichen Seite der lithografischen Unterlage wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung und undurchdringbar für oder unlöslich in einem alkalischen Entwickler ist, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können, wobei das Bilderzeugungselement ein Siloxan-Tensid enthält,
– Entwicklung des belichteten Bilderzeugungselements mit einer alkalischen Lösung,
– Spülung des entwickelten Bilderzeugungselements mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung,
– Gummierung des entwickelten Bilderzeugungselements mit einer Einbrenngummierlösung,
– Wärmeverarbeitung des gummierten Bilderzeugungselements bei einer Temperatur über 50°C, dadurch gekennzeichnet, daß die Spülung mittels einer Bürste und/oder mit ein Tensid enthaltendem Wasser vorgenommen wird.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Das entwickelte Bilderzeugungselement wird mit einer Bürste vorzugsweise zumindest 2 s lang gespült, besonders bevorzugt zumindest 5 s lang bei einer Temperatur von vorzugsweise zumindest 15°C, besonders bevorzugt zumindest 20°C. Gleichzeitig oder als Alternative dafür wird die Spülung mit einer wäßrigen, ein Tensid enthaltenden Lösung vorgenommen. Als Tensid kommen kationische, anionische, amfotere oder nicht-ionische Tenside in Frage. Bevorzugt wird ein nicht-ionisches Tensid oder ein Perfluoralkyl-Tensid. Die Oberflächenspannung der wäßrigen Lösung beträgt vorzugsweise weniger als 40 mN/m, besonders bevorzugt weniger als 30 mN/m. Die Kontaktzeit zwischen der ein Tensid enthaltenden wäßrigen Lösung und dem entwickelten Bilderzeugungselement beträgt vorzugsweise zumindest 10 s, besonders bevorzugt zumindest 20 s.
Bei der (den) Einbrenngummierlösung(en) kann es sich um wäßrige Lösungen von Natriumdodecylphenoxybenzoldisulfonat, alkylierter Naphthalinsulfonsäure, sulfoniertem Alkyldiphenyloxid, Methylendinaphthalinsulfonsäure, usw. handeln. Weitere Gummierlösungen enthalten eine hydrophile polymere Komponente und eine organische Säurekomponente. Noch weitere Einbrenngummierlösungen enthalten das Kaliumsalz der Hydroxyethylidendiphosphonsäure. Noch weitere Einbrenngummierlösungen enthalten eine Sulfosuccinamatverbindung und Phosphorsäure. Die Säuren oder Salze sind vorzugsweise in einem Verhältnis zwischen 1 und 20 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 2 und 10 Gew.-% in der wäßrigen Gummierlösung enthalten.
Die Deckschicht des Bilderzeugungselements wird ebenfalls als zweite Schicht bezeichnet.
In einer ersten Ausführungsform sind die erste Schicht und die Deckschicht zwei verschiedene Schichten. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung von lithografischen Druckplatten bereitgestellt, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht, die ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält, und auf der gleichen Seite der lithografischen Unterlage wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung ist und undurchdringbar für einen alkalischen Entwickler ist.
Die erfindungsgemäße Deckschicht enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein Bindemittelharz. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt wird aber der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Bevorzugt als IR-Farbstoffe werden IR-Cyaninfarbstoffe. Besonders nutzbare IR-Cyaninfarbstoffe sind Cyaninfarbstoffe mit zwei Indoleningruppen.
Besonders nutzbare infrarotabsorbierende Pigmente sind Gasruß, Metallcarbide, Metallboride, Metallnitride, Metallcarbonitride, Oxide mit einer Bronzestruktur und Oxide mit einer der Bronzefamilie verwandten Struktur, doch ohne den A-Bestandteil, z. B. WO_2,9. Es können gleichfalls leitfähige polymere Dispersionen benutzt werden, wie leitfähige polymere Dispersionen auf der Basis von Polypyrrol oder Polyanilin. Die erzielte lithografische Leistung und insbesondere die erzielte Auflagenfestigkeit hängt von der Wärmeempfindlichkeit des Bilderzeugungselements ab. In dieser Hinsicht hat es sich herausgestellt, daß mit Gasruß sehr gute und günstige Ergebnisse erzielbar sind.
Die IR-absorbierenden Farbstoffe oder Pigmente sind vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 99 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 50 und 95 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, enthalten.
Die Deckschicht kann vorzugsweise als Bindemittel ein wasserunlösliches Polymer wie einen Celluloseester, ein Copolymer aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril, Poly(meth)acrylate, Polyvinylchlorid, Silikonharze usw. enthalten. Bevorzugt als Bindemittel wird Nitrocelluloseharz.
Die Gesamtmenge der Deckschicht variiert vorzugsweise zwischen 0,03 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,05 und 2 g/m².
In der Deckschicht wird bei der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der Deckschicht in einer wäßrig-alkalischen Lösung, in diesem Falle im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler, bewirkt.
In der vorliegenden Erfindung wird die Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit während der bildmäßigen IR-Belichtung dermaßen erhöht, daß die bebilderten Teile während der Entwicklung entfernt werden, ohne die nicht-bebilderten Teile zu solubilisieren und/oder zu beschädigen.
Die Entwicklung mit der wäßrig-alkalischen Lösung erfolgt vorzugsweise innerhalb eines Zeitraums zwischen 5 und 120 s.
Zwischen der Deckschicht und der lithografischen Unterlage liegt in der vorliegenden Erfindung eine erste Schicht vor, die in einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung mit vorzugsweise einem pH zwischen 7,5 und 14 löslich ist. Diese erste Schicht liegt zwar vorzugsweise an der Deckschicht an, jedoch können andere Schichten zwischen die Deckschicht und die erste Schicht eingefügt werden. Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Bindemittel sind vorzugsweise hydrophobe Bindemittel wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. Novolakpolymere, Hydroxystyroleinheiten enthaltende Polymere, carboxylsubstituierte Polymere usw. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 4 007 428, DE-A 4 027 301 und DE-A 4 445 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Polymer ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Weiterhin ist diese in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Diese Schicht ist vorzugsweise thermisch härtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die erste Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure oder ein Benzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders bevorzugt zwischen 5 : 95 und 20 : 80. Die Gesamtmenge der ersten Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
Die erste Schicht und/oder die Deckschicht (ebenfalls zweite Schicht genannt) enthält bzw. enthalten vorzugsweise ein Siloxan-Tensid und wahlweise noch weitere Tenside. Die Tenside können zwar kationische, anionische oder amfotere Tenside sein, sind jedoch vorzugsweise nicht-ionische Tenside. Das Tensid wird ganz besonders bevorzugt aus der Gruppe bestehend aus Perfluoralkyl-Tensiden und Alkylphenyl-Tensiden gewählt. Das Tensid ist vorzugsweise in der Deckschicht enthalten. Die Menge Tensid liegt vorzugsweise zwischen 0,001 und 0,3 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,003 und 0,050 g/m².
Im Bilderzeugungselement, das im erfindungsgemäßen Verfahren benutzt wird, kann die lithografische Unterlage für alle Ausführungsformen ein eloxierter Aluminiumträger sein. Eine besonders bevorzugte lithografische Unterlage ist ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger. Der eloxierte Aluminiumträger kann einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95°C, silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise fernerhin ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäureoder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht erhöhter Temperatur zwischen etwa 30°C und 50°C erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Fernerhin kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, daß eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A 1 084 070, DE-A 4 423 140, DE-A 4 417 907, EP-A 659 909, EP-A 537 633, DE-A 4 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 und US-P 4 458 005.
Nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält die lithografische Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche einen biegsamen Träger, wie z. B. einen Papierträger oder eine Kunststoffolie, der (die) für alle Ausführungsformen mit einer vernetzten hydrophilen Schicht überzogen ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten werden. Letzteres Vernetzungsmittel wird besonders bevorzugt.
Als hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere oder Gemische derselben in Frage, wie zum Beispiel Gelatine, Polyviylpyrrolidon, Stärke oder modifizierte Stärke, Xanthangummi, Carboxymethylcellulose oder modifizierte Carboxymethylcellulose, Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.
Die Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise wenigstens 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt besonders bevorzugt zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, ganz besonders bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.
Eine vernetzte hydrophile Schicht in einer nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Unterlage enthält vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und Porosität der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselsäure benutzt werden. Die kolloidale Kieselsäure kann in Form einer beliebigen handelsüblichen Wasserdispersion von kolloidaler Kieselsäure mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselsäure zugesetzt werden, z. B. Kieselsäure, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von zumindest 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen erhält die Oberfläche der vernetzten hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.
Die Stärke einer vernetzten hydrophilen Schicht in einer nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Unterlage kann zwischen 0,2 μm und 25 μm variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 μm und 10 μm.
Besondere Beispiele für erfindungsgemäß nutzbare geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A 514 490 beschrieben.
Als biegsamer Träger einer lithografischen Unterlage nach dieser Ausführungsform bevorzugt man insbesondere eine Kunststofffolie, z. B. eine substrierte Polyethylenterephthalatfolie, eine substrierte Polyethylennaphthalatfolie, eine Celluloseacetatfolie, eine Polystyrolfolie, eine Polycarbonatfolie usw. Der Kunststofffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.
Besonders bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter Polyesterfilmträger. Zur erfindungsgemäßen Verwendung besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselsäure, wie in EP-A 619 524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselsäure in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m² und 750 mg/m². Weiterhin liegt das Verhältnis von Kieselsäure zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselsäure vorzugsweise wenigstens 300 m²/g, besonders bevorzugt wenigstens 500 m²/g.
In einer zweiten Ausführungsform sind die erste Schicht und die zweite Schicht ein und dieselbe Schicht. In dieser Ausführungsform wird ein wärmeempfindliches Bilderzeugungselement zur Herstellung von lithografischen Druckplatten bereitgestellt, das auf einem lithografischen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche eine Deckschicht enthält, die gegenüber IR-Strahlung empfindlich ist, ein in einer wäßrig-alkalischen Lösung lösliches Polymer enthält und undurchdringbar für oder unlöslich in einem alkalischen Entwickler ist.
Die IR-empfindliche Schicht der vorliegenden Erfindung enthält einen IR-Farbstoff oder ein IR-Pigment und ein in einer wäßrigalkalischen Lösung lösliches Polymer. Es kann zwar ein Gemisch aus IR-Farbstoffen oder IR-Pigmenten benutzt werden, bevorzugt wird aber der Einsatz eines einzelnen IR-Farbstoffes oder IR-Pigments. Als geeignete IR-Farbstoffe und IR-Pigmente sind die in der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung genannten zu nennen.
Die IR-Farbstoffe oder IR-Pigmente werden vorzugsweise in einer Menge zwischen 1 und 60 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 3 und 50 Gewichtsteilen, bezogen auf die Gesamtmenge der IR-empfindlichen Deckschicht, benutzt.
Die in dieser Schicht benutzten alkalilöslichen Polymere sind vorzugsweise hydrophobe und farbanziehende Polymere wie die in herkömmlichen positiv- oder negativarbeitenden PS-Platten verwendet werden, z. B. carboxylsubstituierte Polymere usw. Besonders bevorzugt wird ein Phenolharz wie ein Hydroxystyroleinheiten enthaltendes Polymer oder ein Novolakpolymer. Ganz besonders bevorzugt wird ein Novolakpolymer. Typische Beispiele für diese Polymere sind in DE-A 4 007 425, DE-A 4 027 301 und DE-A 4 445 820 beschrieben. Das in der vorliegenden Erfindung benutzte hydrophobe Polymer ist fernerhin durch Unlöslichkeit in Wasser und durch eine zumindest partielle Löslichkeit/Quellbarkeit in einer alkalischen Lösung und/oder durch eine zumindest partielle Löslichkeit in Wasser bei Kombination mit einem Cosolvens gekennzeichnet.
Weiterhin ist diese IR-empfindliche Schicht vorzugsweise eine gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht. Die Schicht ist fernerhin vorzugsweise thermisch härtbar. Diese vorzugsweise gegenüber sichtbarem Licht und UV-Licht desensibilisierte Schicht enthält keine strahlungsempfindlichen Ingredienzien wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide, Sensibilisatoren usw., die im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 650 nm absorbieren. Auf diese Weise kann eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Druckplatte erhalten werden.
Die IR-empfindliche Schicht enthält vorzugsweise ebenfalls eine niedermolekulare Säure, vorzugsweise eine Carbonsäure, besonders bevorzugt eine Benzoesäure, ganz besonders bevorzugt eine 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure oder ein Benzophenon, besonders bevorzugt Trihydroxybenzophenon.
Das Verhältnis zwischen der Gesamtmenge der niedermolekularen Säure oder des Benzophenons und dem Polymer in der IR-empfindlichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 2 : 98 und 40 : 60, besonders Bevorzugt zwischen 5 : 95 und 30 : 70. Die Gesamtmenge der IR-empfind lichen Schicht variiert vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,3 und 2 g/m².
Die Deckschicht enthält ein Siloxan-Tensid und wahlweise noch ein weiteres Tensid. Das Tensid kann zwar ein kationisches, ein anionisches oder ein amfoteres Tensid sein, ist jedoch besonders bevorzugt ein nicht-ionisches Tensid. Das Tensid wird ganz besonders bevorzugt aus der Gruppe bestehend aus Perfluoralkyl-Tensiden und Alkylphenyl-Tensiden gewählt. Die Menge Tensid liegt vorzugsweise zwischen 0,001 und 0,3 g/m², besonders bevorzugt zwischen 0,003 und 0,050 g/m².
In der IR-empfindlichen Schicht wird während der bildmäßigen Belichtung ein Unterschied in Durchdringbarkeit und/oder Solubilisierbarkeit der IR-empfindlichen Schicht im erfindungsgemäßen alkalischen Entwickler bewirkt.
Zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement bildmäßig belichtet und entwickelt.
Die erfindungsgemäße bildmäßige Belichtung ist eine bildmäßige Abtast-Belichtung unter Verwendung eines im Infrarotbereich oder nahen Infrarotbereich, d. h. im Wellenlängenbereich zwischen 700 und 1.500 nm, emittierenden Lasers. Ganz besonders bevorzugt sind im nahen Infrarotbereich emittierende Laserdioden. Die Belichtung des Bilderzeugungselements kann mit Lasern mit sowohl kurzer als langer Pixelverweilzeit vorgenommen werden. Bevorzugt werden Laser mit einer Pixelverweilzeit zwischen 0,005 μs und 20 μs.
Nach der bildmäßigen Entwicklung wird das wärmeempfindliche Bilderzeugungselement durch Spülung mit einer wäßrig-alkalischen Lösung entwickelt. Als wäßrig-alkalische Lösungen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung verwendet man solche, die zum Entwickeln herkömmlicher positivarbeitender vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt werden, vorzugsweise SiO₂ als Silikate enthalten und vorzugsweise einen pH zwischen 11,5 und 14 aufweisen. Dabei werden die bebilderten Teile der Deckschicht, deren Durchdringbarkeit in der wäßrig-alkalischen Lösung infolge der Belichtung gesteigert ist, entfernt, wodurch eine positivarbeitende Druckplatte erhalten wird.
In der vorliegenden Erfindung ist auch die Zusammensetzung des benutzten Entwicklers von größter Bedeutung.
Demnach sind zum Erzielen einer Entwicklungsverarbeitung, die über einen langen Zeitraum stabil ist, Qualitäten wie die Stärke des Alkalis und das Verhältnis der Silikate im Entwickler besonders wichtig. Unter solchen Bedingungen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung gefunden, daß nur unter Verwendung des Entwicklers mit obiger Zusammensetzung eine Schnellverarbeitung bei hoher Temperatur möglich ist, die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung niedrig ist und eine stabile Entwicklungsverarbeitung über einen langen Zeitraum von zumindest 3 Monaten ohne Ersetzen des Entwicklers vorgenommen werden kann.
Die Entwickler und die Nachfüllösungen für den Entwickler, die in der vorliegenden Erfindung benutzt werden, sind vorzugsweise wäßrige Lösungen, die als Hauptbestandteil Alkalimetallsilikate und Alkalimetallhydroxide der Formel MOH oder deren Oxid der Formel M₂O enthalten, wobei der Entwickler SiO₂ und M₂O in einem Molverhältnis zwischen 0,5 und 1,5 und SiO₂ in einem Verhältnis zwischen 0,5 und 5 Gew.-% enthält. Als Alkalimetallsilikate werden zum Beispiel Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat und Natriummetasilikat bevorzugt. Als Alkalimetallhydroxide werden andererseits Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendeten Entwickler können gleichzeitig andere alkalische Mittel enthalten. Beispiele für solche anderen alkalischen Mittel sind u. a. anorganische alkalische Mittel wie Ammoniumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und Ammoniumcarbonat, und organische alkalische Mittel wie Mono-, Di- oder Triethanolamin, Mono-, Di- oder Trimethylamin, Mono-, Dioden Triethylamin, Mono- oder Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono-, Di- oder Triisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Tetramethylammoniumhydroxid.
Von großer Bedeutung in der vorliegenden Erfindung ist das Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] im Entwickler, das in der Regel zwischen 0,6 und 1,5, vorzugsweise zwischen 0,7 und 1,3 liegt. Liegt das Molverhältnis unter 0,6, ist eine merkliche Streuung der Wirkung zu beobachten, während bei einem Molverhältnis von mehr als 1,5 eine Schnellentwicklung schwierig zu erhalten wird und die lichtempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen wahrscheinlich nicht völlig gelöst oder entfernt werden kann. Darüber hinaus liegt das SiO₂-Verhältnis im Entwickler und in der Nachfüllösung vorzugsweise zwischen 1 und 4 Gew.-%. Solche Beschränkung des SiO₂-Verhältnisses ermöglicht es, in stabiler Weise lithografische Druckplatten mit guten Endqualitäten zu erhalten, sogar wenn über einen langen Zeitraum eine große Menge von erfindungsgemäßen Druckplatten verarbeitet wird.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird als Entwickler eine wäßrige Lösung eines Alkalimetallsilikats mit einem Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] zwischen 1,0 und 1,5 und einem SiO₂-Verhältnis zwischen 1 und 4 Gew.-% benutzt. In diesem Falle muß selbstverständlich eine Nachfüllösung benutzt werden, deren alkalische Stärke größer oder gleich der alkalischen Stärke des benutzten Entwicklers ist. Um die Menge der zuzuführenden Nachfüllösung zu beschränken, ist es vorteilhaft, daß das Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] der Nachfüllösung kleiner oder gleich dem Molverhältnis [SiO₂]/[M₂O] des Entwicklers ist oder das SiO₂-Verhältnis hoch ist, wenn das Molverhältnis des Entwicklers dem Molverhältnis der Nachfüllösung gleich ist.
In den in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwicklern und Nachfüllösungen können je nach Bedarf gleichzeitig organische Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser bei 20°C von nicht mehr als 10 Gew.-% benutzt werden. Beispiele für solche organischen Lösungsmittel sind Carbonsäureester wie Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat und Butyllevulinat, Ketone wie Ethylbutylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole wie Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolbenzylether, Ethylenglycolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbinol, n-Amylalkohol und Methylamylalkohol, alkylsubstituierte aromatische Kohlenwasserstoffe wie Xylol und halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Methylendichlorid und Monochlorbenzol. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder kombiniert benutzt werden. Erfindungsgemäß wird Benzylalkohol besonders bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel werden dem Entwickler oder der Nachfüllösung für den Entwickler in der Regel in einer Höchstmenge von 5 Gew.-% und vorzugsweise 4 Gew.-% zugesetzt.
Zwecks der Verbesserung von deren Entwicklungseigenschaften kann in den erfindungsgemäß verwendeten Entwicklern und Nachfülllösungen gleichzeitig ein Tensid benutzt werden. Beispiele für solche Tenside sind u. a. Salze von Schwefelsäureestern mit höherem Alkohol (C₈-C₂₂) wie Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Teepol B-81 (Handelsname von Shell Chemicals Co., Ltd.) und Dinatriumalkylsulfate, Salze von Phosphorsäureestern mit alifatischem Alkohol wie Natriumsalz von Cetylalkoholphosphat, Alkylarylsulfonsäuresalze wie Natriumsalz von Dodecylbenzolsulfonat, Natriumsalz von Isopropylnapthalinsulfonat, Natriumsalz von Dinaphthalindisulfonat und Natriumsalz von Metanitrobenzolsulfonat, Sulfonsäuresalze von Alkylamiden wie C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na und Sulfonsäuresalze von zweibasigen alifatischen Säureestern wie Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat. Diese Tenside können allein oder kombiniert benutzt werden. Besonders bevorzugt werden Sulfonsäuresalze. Diese Tenside können in einer in der Regel nicht über 5 Gew.-%, vorzugsweise nicht über 3 Gew.-% hinauskommenden Menge verwendet werden.
Zur Verbesserung der Entwicklungsstabilität der in der vorliegenden Erfindung benutzten Entwickler und Nachfüllösungen können gleichzeitig die nachstehenden Verbindungen verwendet werden.
Beispiele für solche Verbindungen sind neutrale Salze wie NaCl, KCl und KBr, wie in JN-A 58 75 152 beschrieben, Chelatbildner wie EDTA und NTA, wie in JN-A 58 190 952 (US-A 4 469 776) beschrieben, Komplexe wie [Co(NH₃)₆]C₁₃, wie in JN-A 59 121 336 (US-A 4 606 995) beschrieben, ionisierbare Verbindungen von Elementen der Gruppe IIa, IIIa oder IIIb des Periodensystems, wie die in JN-A 55 25 100 beschriebenen, anionische oder amfotere Tenside wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat und N-Tetradecyl-N,N-dihydroxythylbetain, wie in JN-A 50 51 324 beschrieben, Tetramethyldecyndiol, wie in US-A 4 374 920 beschrieben, nicht-ionische Tenside wie in JN-A 60 213 943 beschrieben, kationische Polymere wie quaternäre Methylchlorid-Produkte von p-Dimethylaminomethylpolystyrol, wie in JN-A 55 95 946 beschrieben, amfotere Polyelektrolyte wie ein Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat, wie in JN-A 56 142 528 beschrieben, anorganische Reduktionssalze wie Natriumsulfit, wie in JN-A 57 192 952 (US-A 4 467 027) beschrieben, und alkalilösliche Mercaptoverbindungen oder Thioetherverbindungen wie Thiosalicylsäure, Cystein und Thioglycolsäure, anorganische Lithiumverbindungen wie Lithiumchlorid, wie in JN-A 58 95 444 beschrieben, organische Lithiumverbindungen wie Lithiumbenzoat, wie in JN-A 50 34 442 beschrieben, Si, Ti oder ähnliche Substanzen enthaltende Organometall-Tenside, wie in JN-A 59 75 255 beschrieben, Organobor-Verbindungen, wie in JN-A 59 84 241 (US-A 4 500 625) beschrieben, quaternäre Ammoniumsalze wie Tetraalkylammoniumoxide, wie in EP-A 101 010 beschrieben, und Bakterizide wie Natriumdehydroacetat, wie in JN-A 63 226 657 beschrieben.
Im erfindungsgemäßen Entwicklungsverarbeitungsverfahren kann ein beliebiges Mittel zum Zuführen einer Nachfüllösung für Entwickler benutzt werden. Beispiele für solche bevorzugten Verfahren sind ein Verfahren, in dem eine Nachfüllösung mit zeitlichen Unterbrechungen oder kontinuierlich als Funktion der Menge von verarbeiteten PS-Platten und der Zeit zugeführt wird, wie in JN-A-55-115 039 (GB-A-2 046 931) beschrieben, ein Verfahren, in dem ein Sensor angeordnet wird, um das Ausmaß nachzuweisen, in dem die lichtempfindliche Schicht im mittleren Bereich einer Entwicklungszone gelöst wird, und die Nachfüllösung proportional zum nachgewiesenen Ausmaß der Herauslösung der lichtempfindlichen Schicht zugeführt wird, wie in JN-A-58-95 349 (US-A 4 537 496) beschrieben, und ein Verfahren, in dem der Impedanzwert eines Entwicklers ermittelt und der ermittelte Impedanzwert durch einen Rechner verarbeitet wird, um die Zuführung einer Nachfüllösung durchzuführen, wie in GB-A 2 208 249 beschrieben.
Nach der Entwicklung eines bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements mit einer wäßrig-alkalischen Lösung wird die Druckplatte vorzugsweise mit Wasser gespült und mit einer Einbrenngummierlösung verarbeitet. Zum Verbessern der Dauerhaftigkeit wird die Druckplatte bei einer Temperatur über 50°C, vorzugsweise über 100°C und besonders bevorzugt zwischen 200°C und 300°C über einen Zeitraum von zumindest 30 Sekunden, besonders bevorzugt zwischen 1 und 10 Minuten, eingebrannt.
Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile und Prozentsätze bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.
BEISPIEL 1 (und vergleichendes Beispiel)
Herstellung der lithografischen Unterlage
Eine 0,30 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wäßrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50°C entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35°C und einer Stromdichte von 1.200 A/m² in einer wäßrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra von 0,5 μm zu erhalten.
Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wäßrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60°C geätzt und anschließend 30 s bei 25°C mit entmineralisiertem Wasser gespült.
Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45°C, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m² etwa 300 s in einer wäßrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m² Al₂O₃ enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, dann mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, anschließend zuerst mit einer Polyvinylphosphonsäure enthaltenden Lösung und dann mit einer Aluminiumtrichlorid enthaltenden Lösung nachverarbeitet, dann mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20°C gespült und getrocknet.
Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Auf die obenbeschriebene lithografische Unterlage vergießt man zunächst in einer Naßschichtstärke von 14 μm eine Schicht aus einer 8,6 gew.-%igen Lösung in Tetrahydrofuran/Methoxypropanol (Verhältnis 55/45). Die so erhaltene Schicht enthält 88% ALNOVOL SPN452^TM (erhältlich von Clariant, Deutschland) und 20% 3,4,5-Trimethoxybenzoesäure.
Auf diese Schicht vergießt man dann in einer Naßschichtstärke von 20 μm die IR-empfindliche Schicht aus einer 0,31 gew.-%igen Lösung in Methylethylketon/Methoxypropanol (Verhältnis 50/50). Diese Schicht wird zumindest 80 s lang bei einer Temperatur von zumindest 120°C getrocknet.
Die so erhaltene IR-empfindliche Schicht enthält 30 mg/m² des IR-Absorbers I, 17,5 mg/m² FLEXO-BLAU 630, 2,0 mg/m² TEGO WET 265 und 5,0 mg/m² TEGO GLIDE 410 (beide Siloxan-Tenside werden von Goldschmitt, Deutschland, vertrieben). FLEXO-BLAU 630^TM ist erhältlich von BASF, Ludwigshafen, Deutschland.
IR-Absorber I
Belichtung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements
Das Material wird mit einem Außentrommel-Plattenbelichter Creo 3244 Trendsetter^TM bei 130 mJ/cm² und 2.400 dpi bebildert. Entwicklung und Drucken mit dem bildmäßig belichteten Element
Die Entwicklung des belichteten Materials erfolgt in einem Autolith PN 85CE^TM-Entwicklungsgerät, das im Entwicklerbereich mit einem (von Agfa vertriebenen) wäßrig-alkalischen Positiventwickler EP 26^TM und im Spülbereich mit Wasser gefüllt ist, wobei das Material im Spülbereich mit einer Molton-Bürste und im Gummierbereich mit einer (von Agfa vertriebenen) Ozasol RC 515^TM-Einbrenngummierlösung verarbeitet wird. Die Verarbeitungsgeschwindigkeit beträgt 0,96 m/Min. und die Temperatur des Entwicklers 25°C. Nach der Verarbeitung wird die erhaltene Platte 2 Minuten lang bei 270°C nachgebrannt, um eine hohe Auflagenhöhe zu erzielen.
Dieses Material wird in einem Druckzyklus in eine mit einem Dahlgren^TM-Feuchtwerk ausgestattete GTO 52^TM-Presse eingespannt, wobei Rotamatic^TM-Feuchtwasser und K + E Skinnex^TM-Magentadruckfarbe verwendet werden.
Dieses Experiment wird 5 mal (Exp. 1.1 bis 1.5) wiederholt. Alle 5 erhaltenen Platten warten über die ganze Plattenoberfläche mit einer guten Gummispreitung und Gummideckung auf (ebenfalls auf den Bildbereichen) und beim Druck sind keine Probleme bezüglich ungleichmäßiger Farbaufnahme (d. h. eine ungesteuerte Farbtrennung über die Plattenoberfläche) zu beobachten.
Ein vergleichendes Experiment wird ohne Bürste im Spülbereich durchgeführt. 8 Platten werden entwickelt (Exp. 2.1 bis 2.8) und bei der Mehrzahl der ohne Bürste im Spülbereich entwickelten Platten ist eine ungleichmäßige Spreitung und Deckung des Einbrenngummis auf den Bildbereichen zu beobachten. Ein gutes Ergebnis ist als Zufall zu betrachten.
Die Ergebnisse dieser Experimente sind in Tabelle 1 aufgelistet.
Tabelle 1
BEISPIEL 2 (und vergleichendes Beispiel)
Für die Herstellung der lithografischen Unterlage, die Herstellung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungselements und die Belichtung des wärmeempfindlichen Bilderzeugungsmaterials wird wie in Beispiel 1 beschrieben vorgegangen.
Das belichtete Material wird in einem im Entwicklerbereich mit einem wäßrig-alkalischen Positiventwickler EP 26^TM und im Spülbereich mit Wasser gefüllten Technigraph NPX32^TM-Entwicklungsgerät (ohne Bürste, d. h. keine mechanische Verarbeitung im Spülbereich) entwickelt, wobei das Material im Gummierbereich mit einem Ozasol RC 515^TM-Einbrenngummi verarbeitet wird. Die Verarbeitungsgeschwindigkeit beträgt 1 m/Min. und die Temperatur des Entwicklers 25°C. Nach der Verarbeitung wird das belichtete Bilderzeugungselement 5 Minuten lang bei 230°C eingebrannt, um eine hohe Auflagenhöhe zu erzielen. Dieses Material wird in einem Druckzyklus in eine mit einem Dahlgren^TM-Feuchtwerk ausgestattete GTO 52^TM-Presse eingespannt, wobei Rotamatic^TM-Feuchtwasser und K + E Skinnex^TM-Magentadruckfarbe verwendet werden.
Dieses Experiment wird zweimal wiederholt. Beide erhaltenen Platten weisen über all die Bildbereiche eine schlechte Gummispreitung und eine schlechte Gummideckung auf und beim Druck führen diese Phänomene zu Problemen bezüglich ungleichmäßiger Farbaufnahme, d. h. einer ungesteuerten Farbtrennung über die Plattenoberfläche.
Es wird ein Experiment durchgeführt, in dem im Spülbereich statt Wasser eine wäßrige Akypo OP-80^TM-Tensid-Lösung (Akypo OP-80^TM ist ein Handelsname für ein anionisches Polyglycol-Tensid von Chemy, Deutschland) mit einer Oberflächenspannung von 20 mN/m verwendet wird.
Bei diesem Experiment weisen beide Platten eine gleichmäßige Spreitung und Deckung des Einbrenngummis auf den Bildbereichen auf und sind keine Probleme bezüglich ungleichmäßiger Farbaufnahme, d. h. einer ungesteuerten Farbtrennung über die Plattenoberfläche, zu beobachten.

Claims

Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte – Belichtung mit Infrarotlicht eines Bilderzeugungselements, das auf einer lithografischen Unterlage mit einer hydrophilen Oberfläche eine erste Schicht mit einem in einer wäßrigalkalischen Lösung löslichen Polymer und auf der gleichen Seite der lithografischen Unterlage wie die erste Schicht eine Deckschicht enthält, die empfindlich gegenüber Infrarotstrahlung und undurchdringbar für oder unlöslich in einem alkalischen Entwickler ist, wobei die erste Schicht und die Deckschicht ein und dieselbe Schicht sein können, wobei das Bilderzeugungselement ein Siloxan-Tensid enthält, – Entwicklung des belichteten Bilderzeugungselements mit einer alkalischen Lösung, – Spülung des entwickelten Bilderzeugungselements mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung, – Gummierung des entwickelten Bilderzeugungselements mit einer Einbrenngummierlösung, – Wärmeverarbeitung des gummierten Bilderzeugungselements bei einer Temperatur über 50°C, dadurch gekennzeichnet, daß die Spülung mittels einer Bürste und/oder mit ein Tensid enthaltendem Wasser vorgenommen wird.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das ein Tensid enthaltende Wasser eine Oberflächenspannung von weniger als 40 nM/m aufweist.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das ein Tensid enthaltende Wasser eine Oberflächenspannung von weniger als 30 nM/m aufweist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Tensid ein nicht-ionisches Tensid ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Tensid eine Perfluoralkyl-Verbindung ist.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bürste eine Drehbürste ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Bilderzeugungselement zumindest eine alkalilösliche, Novolak enthaltende Schicht enthält.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die lithografische Unterlage ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß bei der Entwicklung mit einer alkalischen Lösung die belichteten Bereiche gelöst werden und die nicht belichteten Bereiche unverändert bleiben.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalische Lösung ein Alkalimetallsilikat enthält.