DE2758210A1 - Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial - Google Patents

Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial

Info

Publication number
DE2758210A1
DE2758210A1 DE19772758210 DE2758210A DE2758210A1 DE 2758210 A1 DE2758210 A1 DE 2758210A1 DE 19772758210 DE19772758210 DE 19772758210 DE 2758210 A DE2758210 A DE 2758210A DE 2758210 A1 DE2758210 A1 DE 2758210A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photosensitive
recording material
compound
layer
material according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19772758210
Other languages
English (en)
Other versions
DE2758210B2 (de
DE2758210C3 (de
Inventor
Werner Dipl Chem Dr Abele
Mario Dipl Chem Dr Grossa
Otto Pilz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont de Nemours Deutschland GmbH
Original Assignee
DuPont de Nemours Deutschland GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DuPont de Nemours Deutschland GmbH filed Critical DuPont de Nemours Deutschland GmbH
Priority to DE19772758210 priority Critical patent/DE2758210A1/de
Priority to GB7849802A priority patent/GB2012444B/en
Priority to FR7836324A priority patent/FR2413687B1/fr
Priority to BE192562A priority patent/BE873080A/xx
Priority to JP16457978A priority patent/JPS54109829A/ja
Publication of DE2758210A1 publication Critical patent/DE2758210A1/de
Publication of DE2758210B2 publication Critical patent/DE2758210B2/de
Priority to US06/137,625 priority patent/US4271260A/en
Application granted granted Critical
Publication of DE2758210C3 publication Critical patent/DE2758210C3/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/117—Free radical

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH
Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EBSSSSSSSSSSSS
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von positiven Reliefbildern.
Es ist bekannt» in der Reproduktionstechnik zur Bildaufzeichnung lichtempfindliche Materialien zu verwenden, deren Löslichkeit sich durch Lichteinwirkung Sndert. Je nachdem* ob an den belichteten Stellen die Löslichkeit erhöht oder verringert wird, erhält man eine positive oder negative Bildaufzeichnung.
Die meisten der bekannten Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern liefern negative Bildaufzeichnungen, während positiv arbeitende Systeme seltener sind.
Ein bekanntes positiv arbeitendes System beruht auf der Lichtzersetzung von o-Chinondiaziden. Die dabei auftretenden Lichtzersetzungsprodukte sind in wässrigen alkalischen Lösungen besser löslich als die Ausgangsverbindungen .
909826/0512
Aus der DT-OS 23 38 223 ist ein positiv arbeitendes photopolymerisierbares Material zur Herstellung von Reliefbildern bekannt geworden, das im wesentlichen aus einem Hexaarylbisimidazol und einem Wasserstoffdonator als Initiatorsystem für eine äthylenisch ungesättigte Verbindung in einem Bindemittel besteht. In einem solchen System muss, um eine positive Bildaufzeichnung erreichen zu können, das Hexaarylbisimidazol in hohem Überschuss über dem Wasserstoffdonator vorliegen. Darüberhinaus ist eine Doppelbelichtung erforderlich, derart, dass zunächst bildmässig mit Strahlung hoher Intensität belichtet wird, dann, nach Entfernung der Kopiervorlage noch eine zweite Belichtung mit Strahlung niederer Intensität vorgenommen wird. Der Nachteil eines solchen Systems ist die zweifache Belichtung mit unterschiedlichen Lichtquellen.
Aus der DT-OS 15 22 498 ist ein ebenfalls positiv arbeitendes Material zur Herstellung von Druckplatten bekannt, das aus einem Hexaarylbisimidazol und einem in verdünnten anorganischen Säuren löslichen Harz besteht. Ein solches System besitzt den Nachteil, dass die durch die Photolyse der Hexaarylbisimidazolverbindung entstehenden Radikale mit den allein anwesenden säurelöslichen Harzen unter Vernetzung reagieren, was die durch die Belichtung bewirkte Lös]ichkeitserhöhung zumindest teilweise wieder aufhebt. Darüberhinaus sind die mittels sauer löslicher Harze aufgebauten Schichten für verschiedene Anwendungsgebiete schlecht geeignet. So müssen zum Beispiel bei der Herstellung gedruckter Schaltungen die Photoresist-Harzschichten den stark sauren Behandlungsbädern zum Ätzen oder Galvanisieren standhalten. Dies wird durch die sauer löslichen Harze ganz erheblich erschwert.
9Θ9826/0512
Die Aufgabe der vorliegenden"Erfindung ist es nun, ein J lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung positiver Reliefbilder anzugeben« das die geschilderten Nachteile nicht aufweist.
Diese Aufgabe wurde gelöst durch ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus einem Schichtträger, einer lichtempfindlichen Schicht und gegebenenfalls Hilfsschichten, wobei die lichtempfindliche Schicht mindestens ein alkalilösliches Bindemittel und ein lichtempfindliches System enthält, dadurch gekennzeichnet, dass das lichtempfindliche System aus
I mindestens einer Dihydropyridinverbindung der allgemeinen Formel:
R H
in der bedeuten:
R = Alkyl, Alkylen, Aryl oder Heteroaryl
R und/oder R_ = Alkyl, vorzugsweise CH oder C2H^
R und/oder R « COOR1, COR1 mit R1 = Alkyl mit 1-11 3 4 C-Atomen
oder CN
und
II mindestens einer Hexaarylbisiinidazolverbindung der allgemeinen Formel:
B-C
C-D
I A
9Θ9826/0512
in der die Reste A, B und D gleiche oder ver- X schiedene, gegebenenfalls substituierte Arylgruppen bedeuten, die sowohl von carbocyclischen als auch von heterocyclischen Verbindungen abgeleitet sein können,
besteht.
Die erfindungsgemässen Dihydropyridinverbindungen können beispielsweise nach Methoden der Hantzsch1sehen Synthese aus einem Mol eines aliphatischen oder aromatischen Aldehyds, einem Mol Ammoniak und 2 Molen eines ß-Ketocarbonsäureesters, eines ß-Ketocarbonsäurenitrils oder eines ß-Diketons hergestellt werden. Bei Verwendung von ß-Aminocrotonsäureestern erübrigt sich der Zusatz von Ammoniak. Näheres siehe: Elderfield. Heterocyclic Compounds, Vol. 1, 195o, Seite 462 sowie Gattermann/ Wieland, Die Praxis des organischen Chemikers, 39. Auflage, 1959, Seite 132 ff. Geeignete Dihydropyridinverbindungen sind in der Tabelle 1 zusammengestellt.
909826/0512
TABELLE 1 R Rl R2 R3 R4 , -COOC2H5
Verb.Nr. -CHg -CH3 -CH3 -COOCH3 -COOCHg
I/l -CHg -CH3 -CH3 -COOC2H5 -COOC2H5
1/2 -CHg -ai3 -CH -COOC4H9
(tert) 		-COOC4H9
(tert)
1/3 -CHg -CH3 -CH3 -CN -CN
1/4 -CHg -CH3 -CH3 -COCHg -COCH3
1/5 -CHg -C2H5 -C2H5 -COOC2H5 -COOC2H5
1/6 -C2H5 -CH3 -CH3 -COOC2H5 -COOC Ης
2 5
1/7 -CgH7 -CH3 -CH3 -COOC2H5 -COOC2H5
1/8 "C11H23
-CH2-Phenyl
-CH=CH-CH3 		ro ro ro -CH3
-CH3
-CH3 		-COOC2H5
-COOC2H5
-COOC2H5 		-COOC2H5
-COOC2H5
-COOC2H5
1/9
I/I ο
i/ii		 -(CH=CH)2-CH3 -CH3 -CH3 -COOC2H5 -COOC2H5
1/12 -Phenyl -CH3 -CH3 -COOC2H5 -COOC2H5
1/13 -CH=CH-Phenyl -CH3 -CH3 -COOCHg -COOCH3
ΙΛ4 -CH=CH-Phenyl -CH3 -CH3 -COOC2H5 -COOC2H5
1/15 -CH=CH-Phenyl
-4-Pyridyl 		-CH3
-CH3 		-CHg
-CHg		 -COOC4H9 -COOC4H9
-COOC2H5 -COOC2H5
1/16
ΙΛ7		 -2-Puryl -CH3 -CHg -COOC2H5
1/18
ORIGINAL INSPECTED
999826/0512
Besonders geeignet erwiesen sich die Verbindungen 1/2, 1/7, 1/8 und Ι/Ίο.
Ein typisches Herstellungsbeispiel für eine Dihydropyridinverbindung (Verbindung Nr. 1/3 der Tabelle 1) ist nachfolgend beschrieben:
In einem mit Eis gekühlten Dreihalskolben werden unter Rühren 11,5 ml Acetaldehyd, 65 ml Acetessigsäure -tert,-butylester und loo ml Äthanol gemischt und unter weiterem Rühren und Kühlen 24 ml 25%-ige wässrige Ammoniaklösung zugetropft. Dabei soll die Temperatur 35°C nicht überschreiten. Nach vollendeter Zugabe wird 1/2 Std. weitergerührt und dann 6 Std. am Rückfluss gekocht. Das nach dem Abkühlen ausgefallene Dihydropyridin wird aus Äthanol umkristallisiert. Ausbeute 38,5 g. Schmelzpunkt 162 - 163°c.
HexaaryIbisimidazolverbindungen gemäss der Erfindung sind in der DT-PS 1 3oo ol3 beschrieben. Von den dort genannten Verbindungen erwiesen sich die in der Tabelle 2 genannten HexaaryIbisimidazole als besonders geeignet.
TABELLE 2
U/2 U/3 11/4
-Phenyl
-2-Chlorphenyl
-2-Chlorphenyl
-Phenyl
-Phenyl
-3-Methoxyphenyl
-2-Methoxyphenyl -Phenyl
-Phenyl -Phenyl
-3-Methoxyphenyl
-Phenyl
OFHQiNAL INSPECTED
909826/0512
* 9"
Die Mengen der in der lichtempfindlichen Schicht enthaltenen,) vorstehend beschriebenen Hauptbestandteile können je nach dem Verwendungszweck in weiten Grenzen schwanken. Mengenbereiche, die zu besonders guten Ergebnissen führen, sind 5 - 3o% Dihydropyridinverbindung und Io - 5o% Hexaarylbisimidazolverbindung.
Die im Rahmen der Erfindung brauchbaren Bindemittel können aus der Gruppe der alkalilöslichen Polymeren ausgewählt werden. Geeignet sind zum Beispiel: Acrylsäure- beziehungsweise Methacrylsäure-Polymere beziehungsweise deren copolymerisate mit anderen geeigneten Monomeren, wie zum Beispiel Acrylsäureestern oder anderen Acrylderivaten. Vinylverbindungen, wie Vinyläthern, Vinylacetaten oder deren Verseifungsprodukte, Styrol, Vinylpyrrolidon, Butadien und verwandten Monomeren; Copolymerisate von Maleinsäureanhydrid, Maleinsäure, Maleinsäurehalbestern, -halbamiden und Derivate verwandter Verbindungen wie zum Beispiel Itakonsäure, mit geeigneten Monomeren wie zum Beispiel Styrol, Äthylen, Vinylacetat usw.;
Polystyrolsulfonsäure beziehungsweise deren Copolymerisate; Cellulosederivate wie zum Beispiel Carboxymethylcellulose, Cellulosephthalat oder -succinat; Alginsäure und deren Derivate.
Geeignet sind ferner Phenol-Formaldehydharze, die unter der Bezeichnung Novolake bekannt sind.
Als besonders vorteilhafte Bindemittel zur Herstellung der erfindungsgemässen Materialien haben sich Copolymere aus Maleinsäureanhydrid oder Maleinsäurehalbestern mit Styrol erwiesen.
Ausser den genannten Bestandteilen können die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Schichten gegebenenfalls weitere Zusätze enthalten, wie zum Beispiel Sensibilisatoren, Stabilisatoren, Farbstoffe, Pigmente, Mattierungsmittel, Weichmacher, Giesshilfsmittel oder andere. Als Sensibilisator hat sich Michler's Keton als besonders brauchbar erwiesen.
8Θ9826/0512
Eine grosse Anzahl von transparenten oder opaken Materialien kommt als Träger für die lichtempfindlichen Schichten in Frage. Genannt seien beispielsweise: Papiere, gegebenenfalls barytiert, Pappe, Metallfolien zum Beispiel aus Aluminium, Kupfer, Stahl usw., Holz, Glas, Folien oder Faservliese aus natürlichen oder synthetischen Polymeren wie zum Beispiel Polyamiden, Kautschuk, Polyäthylen oder -propylen, linearen Polyestern, zum Beispiel Polyethylenterephthalat, Cellulose, Celluloseestern, Polyvinylchlorid oder dessen Mischpolymerisaten, Polyacrylnitril usw.
Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Reliefschichten sind für eine Vielzahl von Verwendungszwecken geeignet. Genannt seien positiv arbeitende Druckplatten der verschiedensten Art, zum Beispiel für den Offsetdruck oder den Hochdruck, positiv arbeitende Photoresistschichten, zum Beispiel für die Herstellung gedruckter Schaltungen oder Kopierfilme für die Herstellung positiver Kontaktkopien. In letzterem Fall enthalten die lichtempfindlichen Schichten Farbstoffe oder Pigmente.
Eine besondere Schutzfolie über der lichtempfindlichen Schicht, die vor dem Entwicklungsvorgang abgezogen werden müsste, ist grundsätzlich nicht erforderlich. Sie kann jedoch, sofern gewürscht, zur Vermeidung von Verletzungen der lichtempfindlichen Schicht angebracht werden. Auch können auf dem Schichtträger, falls erforderlich, noch weitere, nicht lichtempfindliche Schichten, zum Beispiel eine lichthofverhindernde Schicht angeordnet werden.
In einer besonderen Ausfuhrungsform zur Herstellung von Kopierfilmen, kann zum Beispiel der in der lichtempfindlichen Schicht enthaltene Farbstoff beziehungsweise das Pigment ganz oder teilweise in einer separaten Schicht zwischen dem Schichtträger und der lichtempfindlichen Schicht untergebracht werden.
9Θ9826/051 2
Die Bestandteile der lichtempfindlichen Schicht werden / in der Regel als Lösung in flüchtigen Lösungsmitteln nach bekannten Methoden aufgetragen und anschliessend getrocknet. Geeignete Lösungsmittel sind zum Beispiel Methylenchlorid« Essigsäureäthylester, Aceton usw. Andere Aufbringungsverfahren, ohne Verwendung von Lösungsmitteln, wie Kalandrieren Extrudieren oder ähnliche sind grundsätzlich ebenfalls möglich.
Die Konzentration der nicht flüchtigen Bestandteile der Giesslösung kann in weiten Grenzen schwanken. Sie hängt vom Giessverfahren und der für die verschiedenen Anwendungszwecke gewünschten Schicht-beziehungsweise Reliefdicke ab.
Zur Herstellung der Bilder wird das lichtempfindliche Material mit Lichtquellen, die eine an ultraviolettem Licht reiche Strahlung aussenden, zum Beispiel Quecksilberdampflampen, Xenonlampen und dergleichen hinter einer Vorlage belichtet. Das belichtete Material wird dann durch Auswaschen der belichteten Bildteile entwickelt. Zum Auswaschen werden bevorzugt wässrig alkalische Lösungen verwendet, die als geeignete Alkalien, zum Beispiel Alkalicarbonate, Borate und Alkalihydroxyde sowie die bekannten Carbonat-, Borat- und Phosphat-Puffersysteme enthalten können. Die Auswaschlösungen können ferner oberflächenaktive Substanzen enthalten.
Die nachfolgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
ORIGINAL INSPECTED
819826/0512
BEISPIEL 1
Eine Giesslösung nachfolgender Zusammensetzung:
Io g Phenolformaldehydharz (Alnovol ) 2 g Verbindung 1/3 der Tabelle I 2 g Verbindung II/3 der Tabelle II
o.2 g eines blauen Triarylmethanfarbstoffes (Viktoriareinblau FGA )
75 ml Methylenchlorid/Aceton (9:1 Vol. Tl.)
wird auf eine Aluminium-platte, wie sie zur Herstellung von Offsctdruckplatten verwendet wird, aufgetragen. Die Platte wird dann hinter einer Vorlage 12o s mit einer Quecksilberdampflampe (looo Watt) im Abstand von 6o cm belichtet. Anschliessend wird die Platte mit einer wässrigen, o.2 normalen NaOH Lösung entwickelt (9o s, 2o C) und mit Wasser gespült, wobei die belichteten Bildteile ausgewaschen werden. Man erhält eine positiv arbeitende Offsetdruckplatte von hoher Lebensdauer.
BEISPIEL 2
Eine Giesslösung nachfolgender Zusammensetzung:
Io g Copolymerisat Acrylsäureäthylester/ Methacrylsäuremethylester/Acrylsäure (55/4Ο/5 Mol.%), mittleres Molekulargewicht 26oooo
4 g Verbindung 1/17 der Tabelle I 4 g Verbindung I1/2 der Tabelle II o.5 g Michler's Keton
75 ml Methylenchlorid/Aceton (9:1 Vol.Tl.)
wird auf eine Aluminium-platte, wie sie zur Herstellung von Offsetdruckplatten verwendet wird, aufgetragen.
9 0-9 826/0512
Die Platte wird danrt#ttiftter *?lftt*f VtJrla'ge 9o s mit einer Quecksilberdampflampe (looo Watt) im Abstand von 60 cm belichtet. Anschliessend wird die Platte mit einer Lösung folgender Zusammensetzung behandelt (80 s, 25°C):
2 g Kaliumcarbonat 1 g Kaliumhydrogencarbonat 97 g Wasser
und anschliessend mit Wasser gespült, wobei die belichteten Bildanteile ausgewaschen werden.
Man erhält eine positiv arbeitende Offsetdruckplatte von hoher Lebensdauer.
BEISPIEL 3
Eine Giesslösung nachfolgender Zusammensetzung:
3.5 g Copolymerisat Styrol / Maleinsäureanhydrid (5o/5o Mol %)
l.o g Copolymerisat Acrylsäureäthylester/ Methacrylsäuremethylester/Acrylsäure (55/4o/15 Mol %), mittleres Molekulargewicht 26ooo
1.5 g Verbindung 1/2 der Tabelle I 3.5 g Verbindung Il/2 der Tabelle II
l.o g Polyäthylenoxyd, mittleres Molekulargewicht 15oo
75 ml Methylenchlorid/Methanol (9:1 Vol. Tl.)
wird auf einen Polyäthylenglykolterephthalatschicht· träger aufgetragen.
9Θ9826/0512
Dieses Material wird mit der Schichtseite auf eine Kupferleiterplatte, wie sie zur Herstellung gedruckter Schaltungen verwendet wird, auflaminiert und hinter einer Vorlage 60 s mit einer Quecksilberdampflampe (looo Watt) im Abstand von 80 cm belichtet. Nach der Entfernung der Polyesterfolie wird die Platte mit einer Lösung folgender Zusammensetzung behandelt (60 s, 24 C) :
2 g Kaliumcarbonat
1 g Kaliumhydrogencarbonat
und anschliessend mit Wasser gesprüht, wobei die belichteten Bildanteile ausgewaschen werden. Die Platte wird anschliessend in üblicher Weise mit einer wässrigen Perrichloridlösung von 48 Be geätzt und die verbliebene Resistschicht durch Behandlung mit einer o.5 normalen Natronlauge entfernt.
Man erhält ein positives metallisches Leiterbahnbild.
BEISPIEL 4
Eine Giesslösung nachfolgender Zusammensetzung:
9.5 g Copolymerisat Acrylsäureüthylester/ Methacrylsäuremethylester/Acrylsäure (55/40/5 Mol. %), mittleres Molekulargewicht 26000
7·ο g copolymerisat Styrol/ Maleinsäureanhydrid (5o/5o Mol. %)
4»og Verbindung 1/2 der Tabelle I 4.0 g Verbindung II/2 der Tabelle II 2.5 g Kohlenstoff Pigment
75 ml Methylenchlorid
wird auf eine Unterlage aus Polyäthylenglykolterephthalat aufgetragen.
OWGINAL INSPECTED 9 9-9 826/0512
Der Film wird dann hinter einer Strich-"oder Rastervorlage 5o s mit einer Quecksilberdampflampe (looo Watt) im Abstand von 80 cm belichtet. Anschliessend wird der Film mit
einer Lösung folgender Zusammensetzung entwickelt ;
(25 s, 35°C) : !
2.8 g Kaliumcarbonat
0.6 g Kaliumhydrogencarbonat j
96.6 g Wasser
und anschliessend mit Wasser gesprüht, wobei die belichteten Bildteile ausgewaschen werden.
Man erhält eine positive Schwärzweisskopie der verwendeten Vorlage.
BEISPIEL 5
Eine Giesslösung nachfolgender Zusammensetzung:
25 g partiell verestertes Copolymerisat Styrol/Maleinsäureanhydrid
(5o/5o Mol. %), erhältlich als SMA 17352 der Firma ARCO Chem. Co.
5 g Verbindung i/l der Tabelle I Io g Verbindung II/4 der Tabelle II loo ml Aceton
wird auf eine Polypropylenunterlage aufgetragen.
Dieser Film wird mit der Schichtseite auf eine aus 5o% eines partiell veresterten Styrol/Maleinsäureanhydrid Copolymerisats und 5o% des schwarzen Farbstoffes Zaponechtschwarz RE bestehende Schicht, die sich auf einem Polyäthylenterephthalatträger befindet, auflaminiert.
OWQINA INSPECTED
989826/0512
Dieses Material wird durch die Polypropylenfolie '
hinter einer Strich- oder Rastervorlage I2o s mit einer Quecksilberdampflampe (looo Watt) im Abstand von 80 cm belichtet. Anschliessend wird der Film, nach Entfernung der Polypropylenfolie mit einer Lösung folgender Zusammensetzung entwiqkelt (3o s, 2o°C):
1.5 g Natriumcarbonat (wasserfrei O.5 g Natriumhydrogencarbonat 98.ο g Wasser ;
und anschliessend mit Wasser gespült, wobei an den belichteten Bildstellen die lichtempfindliche Schicht sowie die darunter liegende schwarze Schicht ausgewaschen werden.
Man erhält eine positive Schwarzweisskopie der verwendeten Vorlage.
ORIGINAL
9*9826/0512

Claims (7)

PATENTANS PRÜCHE
1. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von positiven Reliefbildern, bestehend aus einem Schichtträger, einer lichtempfindlichen Schicht und gegebenenfalls Hilfsschichten, wobei die lichtempfindliche Schicht mindestens ein alkalilösliches Bindemittel und ein lichtempfindliches System enthält, dadurch gekennzeichnet, dass das lichtempfindliche System aus
I mindestens einer Dihydropyridinverbindung der allgemeinen Formel:
RH ■
in der bedeuten:
R = Alkyl, Alkylen, Aryl oder Heteroaryl
R und/oder R_ = Alkyl, vorzugsvjeise CH oder C9H
1-2 j * ->
R und/oder R = COOR1, COR1 mit R1 = Alkyl mit 1-11 3 4 C-Atorcen
oder CN
und
II mindestens einer Hexaarylbisiinidazolverbindung der allgemeinen Formel:
B-C
C-D
I A
^89826/0512
1 2
ORIGINAL INSPECTED
in der die Reste A, B und D gleiche oder verschiedene, ggfs. substituierte Arylgruppen bedeuten, die sowohl von carbocyclischen als auch von heterocyclischen Verbindungen abgeleitet sein können,
besteht
2. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Dihydropyridinverbindung die Verbindung 1/2 oder 1/7 oder 1/8 oder i/lo ist.
3. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Hexaarylbisimidazolverbindung die Verbindung II/l oder II/2 oder II/3 oder II/4 ist.
4. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach
nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Schicht zusätzlich einen Sensibilisator enthält.
5. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Sensibilisator Michler's Keton ist.
6. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Schicht einen Farbstoff oder ein Pigment enthält.
7. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Farbstoff oder das Pigment ganz oder zum Teil in einer nicht lichtempfindlichen Hilfsschicht untergebracht ist, die zwischen dem Schichtträger und der lichtempfindlichen Schicht angeordnet ist.
989826/0512
DE19772758210 1977-12-27 1977-12-27 Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial Granted DE2758210A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19772758210 DE2758210A1 (de) 1977-12-27 1977-12-27 Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
GB7849802A GB2012444B (en) 1977-12-27 1978-12-22 Photosensitive elements for use in preparing positive elements for use in preparing positive images
FR7836324A FR2413687B1 (fr) 1977-12-27 1978-12-26 Systemes photosensibles positifs sans argent contenant des dihydropyridines et des photo-oxydants
BE192562A BE873080A (fr) 1977-12-27 1978-12-27 Systemes photosensibles positifs sans argent contenant des dihydropyridines et des photooxydants
JP16457978A JPS54109829A (en) 1977-12-27 1978-12-27 Light sensitive element
US06/137,625 US4271260A (en) 1977-12-27 1980-04-07 Positive nonsilver washout systems containing dihydropyridines and photooxidants

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19772758210 DE2758210A1 (de) 1977-12-27 1977-12-27 Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2758210A1 true DE2758210A1 (de) 1979-06-28
DE2758210B2 DE2758210B2 (de) 1980-01-03
DE2758210C3 DE2758210C3 (de) 1980-09-11

Family

ID=6027401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19772758210 Granted DE2758210A1 (de) 1977-12-27 1977-12-27 Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4271260A (de)
JP (1) JPS54109829A (de)
BE (1) BE873080A (de)
DE (1) DE2758210A1 (de)
FR (1) FR2413687B1 (de)
GB (1) GB2012444B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10326324A1 (de) * 2003-06-11 2005-01-05 Kodak Polychrome Graphics Gmbh 1,4-Dihydropyridin-Sensibilisator enthaltende strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3023247C2 (de) * 1980-06-21 1982-09-02 Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE3048490C2 (de) * 1980-12-22 1982-09-02 Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
US4448873A (en) * 1982-03-18 1984-05-15 American Hoechst Corporation Negative working diazo contact film
US4668604A (en) * 1982-04-22 1987-05-26 E.I. Du Pont De Nemours And Company Positive-working photosensitive elements containing crosslinked beads and process of use
JPS5945303A (ja) * 1982-09-07 1984-03-14 Nippon Oil & Fats Co Ltd 高感度光開始剤組成物
DE3717036A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
US6143471A (en) * 1998-03-10 2000-11-07 Mitsubishi Paper Mills Limited Positive type photosensitive composition
US20060154169A1 (en) * 2003-06-11 2006-07-13 Hans-Joachim Timpe Radiation-sensitive compositions comprising a 1,4-dihydropyridine sensitizer and imageable elements based thereon
KR20120104450A (ko) * 2011-03-08 2012-09-21 (주)엘지하우시스 웨이퍼 가공 필름용 점착제 조성물

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522498C3 (de) * 1966-05-17 1978-09-07 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Vorsensibilisierte Druckplatte
US3782951A (en) * 1972-07-31 1974-01-01 Du Pont Photopolymerizable compositions capable of yielding reverse images
DE2242106A1 (de) * 1972-08-26 1974-03-21 Agfa Gevaert Ag Lichtempfindliches photographisches material
US4017313A (en) * 1974-09-30 1977-04-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive composition containing a leuco dye, a photosensitizer, an aromatic aldehyde and a secondary or tertiary amine and the use thereof in a direct-print process

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10326324A1 (de) * 2003-06-11 2005-01-05 Kodak Polychrome Graphics Gmbh 1,4-Dihydropyridin-Sensibilisator enthaltende strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente
DE10326324B4 (de) * 2003-06-11 2007-02-08 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Lithographiedruckplatten-Vorläufer mit 1,4-Dihydropyridin-Sensibilisator enthaltender Beschichtung, Verfahren zum Bebildern und Bebilderte Lithographiedruckplatte

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5644416B2 (de) 1981-10-19
GB2012444A (en) 1979-07-25
FR2413687A1 (fr) 1979-07-27
JPS54109829A (en) 1979-08-28
FR2413687B1 (fr) 1987-08-21
DE2758210B2 (de) 1980-01-03
GB2012444B (en) 1982-05-19
US4271260A (en) 1981-06-02
DE2758210C3 (de) 1980-09-11
BE873080A (fr) 1979-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2718130C2 (de) lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE2352139C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2027467C3 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2039861C3 (de) Photopolymensierbare Kopier masse
DE3120052A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
EP0374705A2 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE2944866A1 (de) Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE3048502A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE2331377A1 (de) Lichtempfindliche kopierschicht
DE2758210C3 (de)
EP0003804B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch, das einen Monoazofarbstoff enthält
DE1522458A1 (de) Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
DE2751060C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2507548A1 (de) Lichtempfindliche lithographische druckplatte
DE2558813C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch mit synergistischem Initiatorsystem
DE3540480A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
DE2723613C2 (de)
DE2850585A1 (de) Photopolymerisierbares gemisch
DE3118884A1 (de) Verfahren zur herstellung von reliefkopien
DE3232620A1 (de) 10-phenyl1-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
DE2733005C3 (de) Lichtempfindliche Masse
US4737445A (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing said composition
DE1597784A1 (de) Druckplatte mit photoaktiver Schicht
DE1298414B (de) Lichtempfindliches Gemisch
EP0413216A2 (de) Photopolymerisierbares Schichtübertragungsmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
OAP Request for examination filed
OD Request for examination
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee