DE19648728A1 - Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft Halbleiteranordnungen und Verfahren zu
ihrer Herstellung. Dabei geht es darum, Halbleiteranordnungen
zur Verfügung zu haben, die eine Montage mit geringer Dicke
und hoher Dichte ermöglichen.
Fig. 6 zeigt eine Seitenansicht einer herkömmlichen Halblei
teranordnung. Wie aus Fig. 6 ersichtlich, weist die herkömm
liche Halbleiteranordnung eine Vielzahl von integrierten
Halbleiterschaltungen in Gehäusen auf, die nachstehend als
IC-Gehäuse 2 bezeichnet werden und direkt auf der Oberseite
und der Unterseite einer Hauptplatine 1 montiert sind. Das
Bezugszeichen 3 bezeichnet Kontaktflecken, die auf der Ober
seite und der Unterseite der Hauptplatine 1 vorgesehen sind,
um die IC-Gehäuse 2 zu montieren.
Bei den oben beschriebenen herkömmlichen Halbleiteranordnun
gen, bei denen die IC-Gehäuse 2 direkt an der Oberseite und
der Unterseite der Hauptplatine 1 montiert sind, begrenzen
die oberen und unteren Oberflächen der Hauptplatine 1 den
Montageraum, was Schwierigkeiten bereitet, wenn eine hohe
Montagedichte realisiert werden soll. Außerdem bewirken die
IC-Gehäuse 2, die in einer schwimmenden Weise auf der Haupt
platine 1 montiert sind, daß die Dicke bei der Montage hoch
ist, so daß daraus eine geringe Montagedichte resultiert.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, diese Schwie
rigkeiten der Praxis auszuräumen und Halbleiteranordnungen
sowie Verfahren zu ihrer Herstellung anzugeben, mit denen es
möglich ist, die Montage mit reduzierter Dicke und hoher Mon
tagedichte auszuführen.
Gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung wird eine Halblei
teranordnung angegeben, die folgendes aufweist: ein Substrat
mit einer Öffnung sowie integrierte Schaltungen in Gehäusen,
die jeweils einen Gehäusekörper, der der Öffnung gegenüber
liegt, und Leitungen aufweist, welche von dem Gehäusekörper
aus vorstehen und auf dem Substrat am Umfang der Öffnung ab
gestützt und gehalten sind, wobei die integrierten Schaltun
gen in den Gehäusen an der Oberseite und der Unterseite des
Substrats bezüglich der Öffnung angeordnet sind, wobei zumin
dest eines von den Gehäusen mit den integrierten Schaltungen
an der Oberseite und der Unterseite halb in der jeweiligen
Öffnung untergebracht ist.
Da bei einer derartigen Halbleiteranordnung gemäß dem ersten
Aspekt der Erfindung die integrierten Schaltungen in den Ge
häusen an beiden Seiten eines Substrats montiert sind, wobei
zumindest eines der Gehäuse mit den integrierten Schaltungen
an der Oberseite und der Unterseite halb in einer Öffnung des
Substrats untergebracht ist, ist es möglich, die Dicke bei
der Montage zu reduzieren, ohne die Wärmeabstrahlungseigen
schaften zu verringern.
Gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung sind bei der Halb
leiteranordnung die Leitungen vorzugsweise gerade Leitungen.
Damit wird in vorteilhafter Weise erreicht, daß die Gehäuse
in einfacher Weise halb in der jeweiligen Öffnung des Sub
strats untergebracht werden können. Mit anderen Worten, es
wird eine Montage mit reduzierter Dicke ermöglicht, die auch
die Leitungsbearbeitung erleichtert.
Gemäß einem dritten Aspekt der Erfindung weist die Halblei
teranordnung folgendes auf: Anschlüsse für äußere Verbindun
gen, die an der oberen Oberfläche und der unteren Oberfläche
des Substrats vorgesehen sind, wobei entsprechende Anschlüsse
für äußere Verbindungen an der Oberseite und der Unterseite
elektrisch miteinander verbunden sind und elektrisch mit den
Leitungen auf derselben Oberflächenseite verbunden sind; und
Lotbuckel, die auf den Anschlüssen für äußere Verbindungen
auf der einen Oberflächenseite des Substrats vorgesehen sind.
Gemäß diesem dritten Aspekt der Erfindung ermöglichen die
Lotbuckel auf den Anschlüssen für äußere Verbindungen auf der
einen Oberfläche des Substrats, daß die Gehäuse in einfacher
Weise in mehreren Stufen aufeinandergestapelt werden können,
um die Montagedichte zu erhöhen.
Gemäß einem vierten Aspekt der Erfindung ist bei der Halblei
teranordnung eine Vielzahl von Halbleiteranordnungen vorgese
hen, die übereinandergestapelt auf der einen Seite einer
Hauptplatine vorgesehen und mit den Lotbuckeln angeschlossen
und befestigt sind.
Gemäß diesem vierten Aspekt der Erfindung sind Substrate, die
jeweils mit IC-Gehäusen auf beiden Seiten versehen sind, in
einer mehrstufigen Anordnung auf einer Hauptplatine montiert,
so daß die Montagefläche reduziert und eine Anordnung mit ho
her Dichte realisiert wird. Da weiterhin jedes der Substrate,
das mit den IC-Gehäusen auf beiden Seiten versehen ist, eine
reduzierte Dicke besitzt, können diese Anordnungen in mehre
ren Stufen übereinander mit geringer Dicke stapelförmig mon
tiert werden.
Gemäß einem fünften Aspekt der Erfindung ist bei der Halblei
teranordnung eine Vielzahl von Halbleiteranordnungen auf bei
den Seiten der Hauptplatine übereinandergestapelt vorgesehen
und mit den Lotbuckeln angeschlossen und befestigt. Da die
Substrate, die jeweils mit IC-Gehäusen auf beiden Seiten ver
sehen sind, in mehreren Stufen übereinander an beiden Seiten
der Hauptplatine vorgesehen sind, kann die Montage mit einer
noch größeren Montagedichte realisiert werden, verglichen mit
der einseitigen, mehrstufigen Montage.
Gemäß einem sechsten Aspekt der Erfindung weisen die An
schlüsse für äußere Verbindungen der Halbleiteranordnung
Blindanschlüsse auf, um die Anzahl der Leitungen zu vergrö
ßern.
Wenn gemäß dem sechsten Aspekt der Erfindung die IC-Gehäuse,
die in mehreren Schichten oder Stufen aufeinander zu montie
ren sind, nicht gemeinsam verwendbare Leitungen aufweisen,
dann können die IC-Gehäuse in einer mehrstufigen Anordnung
ohne weiteres montiert werden, wobei man dann eine der nicht
gemeinsam benutzbaren Leitungen mit einer Blindleitung bzw.
einem Blindanschluß verbindet.
Gemäß einem siebenten Aspekt der Erfindung weisen die Blind
anschlüsse der Halbleiteranordnung eine Vielzahl von Blindan
schlüssen auf, die in mindestens einer linearen Anordnung
ausgefluchtet sind, welche verschieden ist von einer linearen
Anordnung, in der die anderen Anschlüsse für äußere Verbin
dungen vorgesehen sind, derart, daß unterschiedliche ausge
fluchtete lineare Anordnungen für die Blindanschlusse einer
seits und die normalen Anschlüsse andererseits vorgesehen
sind.
Gemäß diesem siebenten Aspekt der Erfindung wird in vorteil
hafter Weise erreicht, daß die Halbleiteranordnungen den An
forderungen der Praxis für den Fall genügen, daß eine Viel
zahl von nicht gemeinsam verwendbaren Leitungen vorhanden
ist.
Gemäß einem achten Aspekt der Erfindung sind bei der Halblei
teranordnung die lineare Anordnung von Blindanschlüssen und
die lineare Anordnung von den anderen Anschlüssen für äußere
Verbindungen, die keine Blindanschlüsse sind, in einer ver
setzten Konfiguration ausgebildet. Eine derartige versetzte
Konfiguration ermöglicht es, daß die Zwischenverbindungen in
linearer Form ausgebildet sein können, was den Verdrahtungs
vorgang erleichtert.
Gemäß einem neunten Aspekt der Erfindung ist bei der Halblei
teranordnung das Substrat derart geformt, daß ein Teil des
Substrats, der sich auf der einen Seite oder einem Paar von
gegenüberliegenden Seiten der Öffnung befindet, entfernt ist,
so daß er dort die Öffnung nicht umgibt. Mit einer derartigen
Ausführungsform wird in vorteilhafter Weise erreicht, daß die
Fläche des Substrats um den Betrag des entfernten Teiles des
Substrats reduziert werden kann. Damit wird ein geringerer
Montageraum auf der Hauptplatine benötigt, um die Effizienz
der Montage zu steigern.
Gemäß einem zehnten Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren
zur Herstellung von Halbleiteranordnungen angegeben, mit dem
sich Halbleiteranordnungen hoher Montagedichte realisieren
lassen. In einem ersten Verfahrensschritt wird eine Vielzahl
von Halbleiteranordnungen auf der einen Seite einer Hauptpla
tine aufeinandergestapelt, wobei eutektische oder Hochtempe
ratur-Lotbuckel als Lotbuckel verwendet werden und ein Fluß
mittel oder eine Lötpaste den angrenzenden Bereichen zwischen
den Lotbuckeln und anderen Bereichen zugeführt wird. In einem
zweiten Schritt werden diese Lotbuckel geschmolzen, um die
Vielzahl von Halbleiteranordnungen, die beim ersten Schritt
auf der einen Oberfläche der Hauptplatine aufeinandergesta
pelt worden sind, elektrisch anzuschließen und zu befestigen.
In einem dritten Verfahrensschritt wird die Hauptplatine um
gedreht, und es wird eine Vielzahl von Halbleiteranordnungen
auf der anderen Seite der Hauptplatine übereinandergestapelt,
wobei Niedertemperatur-Lotbuckel als Lotbuckel verwendet wer
den und ein Flußmittel oder eine Lötpaste den angrenzenden
Bereichen zwischen den Lotbuckeln und anderen Bereichen zuge
führt wird. In einem vierten Schritt werden dann die zuletzt
aufgebrachten Lotbuckel geschmolzen, um die Vielzahl von
Halbleiteranordnungen, die in dem dritten Schritt auf der an
deren Seite der Hauptplatine übereinandergestapelt worden
sind, elektrisch anzuschließen und zu befestigen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren gemäß dem zehnten Aspekt
der Erfindung ist es so, daß auch in einem Falle, in welchem
die Substrate mit den IC-Gehäusen auf beiden Seiten in mehre
ren Stufen an beiden Seiten der Hauptplatine montiert sind,
verhindert werden kann, daß die Substrate, auch wenn sie
schwer sind, von der Rückseite der Hauptplatine während der
Herstellung abfallen, so daß eine zuverlässige doppelseitige
Montage gewährleistet ist.
Die Erfindung wird nachstehend, auch hinsichtlich weiterer
Merkmale und Vorteile, anhand der Beschreibung von Ausfüh
rungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegenden
Zeichnungen näher erläutert. Die Zeichnungen zeigen in
Fig. 1 eine Draufsicht auf eine Halbleiteranordnung gemäß
einer ersten bevorzugten Ausführungsform der Erfin
dung;
Fig. 2 eine Seitenansicht der Anordnung gemäß Fig. 1;
Fig. 3 eine schematische Seitenansicht einer Halbleiteran
ordnung gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungs
form der Erfindung;
Fig. 4 eine schematische Seitenansicht einer Halbleiteran
ordnung zur Erläuterung einer dritten bevorzugten
Ausführungsform gemäß der Erfindung;
Fig. 5 eine Teildraufsicht auf eine Halbleiteranordnung ge
mäß einer vierten bevorzugten Ausführungsform der Er
findung;
Fig. 6 eine Seitenansicht einer herkömmlichen Halbleiteran
ordnung;
Fig. 7 eine Draufsicht auf eine Halbleiteranordnung gemäß
einer fünften bevorzugten Ausführungsform der Erfin
dung;
Fig. 8 eine Draufsicht auf eine Halbleiteranordnung gemäß
der fünften bevorzugten Ausführungsform der Erfin
dung;
Fig. 9 eine Teildraufsicht auf eine Halbleiteranordnung ge
mäß einer sechsten bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 10 eine Teildraufsicht auf eine Halbleiteranordnung ge
mäß der sechsten bevorzugten Ausführungsform der Er
findung; und in
Fig. 11 eine Seitenansicht zur Erläuterung einer modifizier
ten Halbleiteranordnung gemäß der Erfindung.
Fig. 1 zeigt in der Draufsicht eine Halbleiteranordnung gemäß
einer ersten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung, wäh
rend Fig. 2 eine schematische Seitenansicht einer derartigen
Halbleiteranordnung zeigt. Die Halbleiteranordnung hat ein
Substrat 11. Das Substrat 11 hat zwei Öffnungen 12, die mit
seinen Ober- und Unterseiten in Verbindung stehen. Am Umfang
von jeder Öffnung 12 sind Lötaugen oder allgemein Kontakt
flecken 13 zur Montage von IC-Gehäusen an der Oberseite und
der Unterseite des Substrats 11 vorgesehen. An den Außensei
ten der Kontaktflecken 13 auf der Oberseite und der Unter
seite des Substrats 11 sind Kontaktflecken 14 für äußere An
schlüsse vorgesehen, die als äußere Verbindungsanschlüsse
entsprechend den Kontaktflecken 13 zur Montage der IC-Gehäuse
dienen.
Entsprechende Kontaktflecken der Kontaktflecken 14 für äußere
Anschlüsse und der Kontaktflecken 13 zur Montage des IC-Ge
häuses sind über Zwischenverbindungen 15, die auf dem Sub
strat 11 vorgesehen sind, elektrisch verbunden. Ferner sind
vertikal einander entsprechende Kontaktflecken der Kontakt
flecken 14 für äußere Anschlüsse an der Oberseite und der Un
terseite des Substrats 11 durch Leiter, die beispielsweise in
Durchgangslöchern vorgesehen sind, elektrisch miteinander
verbunden. Auf einer der Oberflächen des Substrats 11, bei
der Ausführungsform gemäß Fig. 2 an der Unterseite, sind Lot
buckel 16 zur Verbindung nach außen auf den Kontaktflecken 14
für äußere Anschlüsse vorgesehen.
Das IC-Gehäuse 17 hat einen Gehäusekörper 18 und gerade Lei
tungen 19, die in Querrichtung von den rechten und linken
Seiten des Gehäusekörpers 18 gerade vorstehen. Der Gehäu
sekörper 18 ist halb in der Öffnung 12 des Substrats 11 un
tergebracht. Das bedeutet, daß etwa die Hälfte des Gehäu
sekörpers 18 in der Öffnung 12 untergebracht ist und die an
dere Hälfte nach außen freiliegt. Die geraden Leitungen 19
sind an entsprechenden Kontaktflecken 13 zur Montage des IC-Ge
häuses befestigt und mit diesen elektrisch verbunden, so
daß sie von dem Substrat 11 an der Peripherie der Öffnung 12
getragen sind. Derartige IC-Gehäuse 17 sind an beiden Seiten,
der Oberseite und der Unterseite, des Substrats 11 für jede
Öffnung 12 vorgesehen.
Das Prozedere für die Installation ist folgendermaßen.
Zunächst einmal werden IC-Gehäuse 17 an der Oberseite des
Substrats 11 positioniert und dann die geraden Leitungen 19
mit der Aufschmelz-Löttechnik an den Kontaktflecken 13 zur
Montage des IC-Gehäuses angelötet. Anschließend wird das Sub
strat 11 umgedreht, und dann werden IC-Gehäuse 17 in gleicher
Weise an der Unterseite des Substrats 11 angelötet.
Gemäß dieser ersten bevorzugten Ausführungsform ermöglicht
die Montage der IC-Gehäuse 17 an beiden Seiten des Substrats
11, bei dem die IC-Gehäuse 17 halb in den Öffnungen 12 des
Substrats 11 untergebracht sind, eine Reduzierung hinsicht
lich der Dicke. Da weiterhin etwa der halbe Gehäusekörper 18
zur Außenseite hin freiliegt, wird das Wärmeabstrahlungsver
mögen fast überhaupt nicht verschlechtert, auch wenn seine
andere Hälfte in der Öffnung 12 untergebracht ist. Ferner er
leichtert die Verwendung von geraden Leitungen 19 die Leiter
verarbeitung. Weiterhin ermöglichen die Lotbuckel 16, die auf
den Kontaktflecken 14 für äußere Anschlüsse auf der einen
Oberfläche des Substrats 11 vorgesehen sind, in einfacher
Weise, daß die Gehäuse in mehreren Schichten oder Etagen auf
einandergestapelt werden können, wie es nachstehend im Zusam
menhang mit bevorzugten Ausführungsformen erläutert ist, um
ihre Montagedichte zu erhöhen.
Fig. 3 zeigt eine schematische Seitenansicht einer Halblei
teranordnung gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung. Diese Halbleiteranordnung weist eine Hauptpla
tine 20 auf. Kontaktflecken 21 zum Montieren eines IC-Ge
häuse-Montagesubstrats sind an der Oberseite der Hauptplatine
20 vorgesehen. Ein Substrat 11, bei dem die IC-Gehäuse 17 an
beiden Seiten montiert sind, wie es im Zusammenhang mit der
ersten bevorzugten Ausführungsform erläutert ist, ist an den
Kontaktflecken 21 über die Lotbuckel 16 befestigt und elek
trisch angeschlossen.
An den Kontaktflecken 14 für äußere Anschlüsse an der Ober
seite der ersten Stapelstufe des Substrats 11 ist ein Sub
strat 11, an dem die IC-Gehäuse 17 an beiden Seiten montiert
sind, wie es im Zusammenhang mit der ersten bevorzugten Aus
führungsform beschrieben ist, mittels der Lotbuckel 16 weiter
befestigt und elektrisch angeschlossen. Auf diese Weise ist
eine Vielzahl von Substraten 11, die jeweils die IC-Gehäuse
17 an beiden Seiten haben, wie es im Zusammenhang mit der er
sten Ausführungsform beschrieben ist, in einer Vielzahl von
Etagen oder Stufen auf der einen Oberfläche der Hauptplatine
20 aufeinandergestapelt und mittels der Lotbuckel 16 ange
schlossen und befestigt.
Der Vorgang zum Befestigen und Verbinden läuft folgendermaßen
ab. Zunächst einmal werden die Substrate 11, welche die IC-Ge
häuse 17 an beiden Seiten haben, die im Zusammenhang mit
der ersten bevorzugten Ausführungsform erläutert worden sind,
in einer mehrstufigen Anordnung auf der Oberseite der Haupt
platine 20 angeordnet. Zu diesem Zeitpunkt wird ein Flußmit
tel oder eine Lötpaste den angrenzenden Bereichen zwischen
den Lotbuckeln 16 und den Kontaktflecken 14 und 21 zugeführt.
Als nächstes werden die Lotbuckel 16 geschmolzen, um die
mehrstufig angeordneten Substrate 11 und die Hauptplatine 20
zu verbinden und aneinander zu befestigen.
Gemäß dieser zweiten bevorzugten Ausführungsform ermöglicht
das Anbringen der Substrate 11, die jeweils die IC-Gehäuse 17
an beiden Seiten haben, in einer mehrstufigen Anordnung auf
der Hauptplatine 20 eine Verringerung der Montagefläche und
führt zu einer Realisierung einer hohen Montagedichte. Da
weiterhin die Substrate 11, welche die IC-Gehäuse 17 an bei
den Seiten montiert haben, eine reduzierte Dicke besitzen,
erfordert deren Montage in einer Vielzahl von Stapelstufen
keine große Dicke.
Fig. 4 zeigt eine schematische Seitenansicht einer Halblei
teranordnung gemäß einer dritten bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung. Die Hauptplatine 20 dieser Halbleiteranordnung
hat Kontaktflecken 21, um ein IC-Gehäuse-Montagesubstrat
sowohl an seiner Oberseite als auch an seiner Unterseite zu
montieren. Während die zweite Ausführungsform eine Struktur
zeigt, bei der die Substrate 11 mit den an beiden Seiten mon
tierten IC-Gehäusen 17 gemäß der ersten bevorzugten Ausfüh
rungsform in mehreren Stufen aufeinandergestapelt und nur an
der einen Oberfläche der Hauptplatine angeschlossen und befe
stigt sind, zeigt diese dritte bevorzugte Ausführungsform
eine Struktur, bei der die Substrate 11 mit den an beiden
Seiten montierten IC-Gehäusen 17 gemäß der ersten bevorzugten
Ausführungsform in mehreren Stufen aufeinandergestapelt und
auch mit der anderen Oberfläche der Hauptplatine 20 verbunden
und daran befestigt sind.
Das Verfahren zum Anschließen und Befestigen läuft folgender
maßen ab. Zunächst einmal werden gemäß dem Verfahren der
zweiten bevorzugten Ausführungsform die Substrate 11 mit den
daran montierten IC-Gehäusen 17 jeweils auf beiden Seiten ge
mäß der ersten Ausführungsform auf der einen Oberfläche der
Hauptplatine 20 angeschlossen und befestigt. Zu diesem Zeit
punkt werden eutektische Lote oder Hochtemperatur-Lotbuckel
als Lotbuckel 16a verwendet. Dann wird die Hauptplatine 20
umgedreht.
Anschließend werden gemäß dem anhand der zweiten bevorzugten
Ausführungsform erläuterten Verfahren die Substrate 11 mit
den jeweils an beiden Seiten montierten IC-Gehäusen 17 gemäß
der ersten bevorzugten Ausführungsform ebenfalls in mehreren
Stufen auf der anderen Oberfläche der Hauptplatine 20 befe
stigt und angeschlossen. Zu diesem Zeitpunkt werden Lotbuckel
für niedrige Temperaturen als Lotbuckel 16b verwendet. Damit
wird verhindert, daß die Lotbuckel 16a, die vorher geschmol
zen und befestigt worden sind, erneut schmelzen, wenn die
Lotbuckel 16b geschmolzen werden; damit wird verhindert, daß
die mehrstufigen Anordnungen von Substraten 11 von der Rück
seite der Hauptplatine 20 abfallen, auch wenn sie schwer
sind, so daß eine doppelseitige mehrstufige Montage gewähr
leistet ist.
Gemäß der dritten bevorzugten Ausführungsform wird mit der
Montage der Substrate 11, an denen die IC-Gehäuse 17 an bei
den Seiten montiert sind, in einer mehrstufigen Anordnung auf
beiden Seiten der Hauptplatine 20 eine noch höhere Montage
dichte als bei der zweiten bevorzugten Ausführungsform reali
siert.
Fig. 5 zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Halblei
teranordnung gemäß einer vierten bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung. Diese vierte bevorzugte Ausführungsform ist
effizient und vorteilhaft, wenn IC-Gehäuse 17, die in einer
Vielzahl von Stufen elektrisch angeschlossen sind, einige
Leitungen nicht gemeinsam verwenden können. Bei der Anordnung
gemäß Fig. 5 können bei den IC-Gehäusen 17, die an der Ober
seite und der Unterseite des Substrates 11 montiert sind, die
Leitung 19a des IC-Gehäuses 17 an der Oberseite und die Lei
tung 19b des IC-Gehäuses an der Unterseite nicht gemeinsam
benutzt werden.
Gemäß der vierten bevorzugten Ausführungsform hat das Sub
strat 11 für den Zweck, die nicht gemeinsam verwendbaren Lei
tungen 19 separat zu verdrahten, zusätzliche Kontaktflecken
für äußere Anschlüsse, d. h. Blindkontaktflecken 14a, die an
der Oberseite und der Unterseite vorgesehen sind, um die Lei
tungen 19 zahlenmäßig zu übertreffen. Entsprechende Kontakt
flecken der oberen und unteren Blindkontaktflecken 14a sind
auch elektrisch miteinander verbunden wie die normalen Kon
taktflecken 14 für äußere Anschlüsse. Bei dem Beispiel gemäß
Fig. 5 ist die Leitung 19a des IC-Gehäuses 17 an der Ober
seite elektrisch verbunden mit dem normalen Kontaktfleck 14
für äußere Anschlüsse, und zwar über die Zwischenverbindung
15, und die Leitung 19b des IC-Gehäuses 17 an der Unterseite
ist mit dem Blindkontaktfleck 14a über die Zwischenverbindung
15 elektrisch verbunden.
Gemäß der vierten bevorzugten Ausführungsform ist es möglich,
die IC-Gehäuse in mehreren Stufen zu montieren, wie es in
Fig. 3 oder Fig. 4 dargestellt ist, auch wenn Leitungen vor
handen sind, die nicht gemeinsam verwendbar sind.
Die Fig. 7 und 8 zeigen Draufsichten von Halbleiteranordnun
gen gemäß einer fünften bevorzugten Ausführungsform der Er
findung. Die Halbleiteranordnung gemäß Fig. 7 weist im Unter
schied zu der Halbleiteranordnung gemäß der in Fig. 1 darge
stellten ersten bevorzugten Ausführungsform ein Substrat 11
auf, das so geformt ist, daß ein Teil des Substrates 11, wel
ches sich an der einen Seite (unterer Bereich in Fig. 7) von
jeder der Öffnungen 12 befindet, entfernt ist, so daß es die
Öffnungen 12 dort nicht umgibt.
Die Halbleiteranordnung gemäß Fig. 8 weist im Unterschied zu
der Halbleiteranordnung gemäß der in Fig. 1 dargestellten er
sten bevorzugten Ausführungsform ein Substrat 11 auf, das so
geformt ist, daß Teile des Substrats 11, die sich an einem
Paar von gegenüberliegenden Seiten (oberer und unterer Be
reich in Fig. 8) von jeder der Öffnungen 12 befinden, ent
fernt sind, so daß sie die Öffnungen 12 dort nicht umgeben.
Im übrigen ist der Aufbau der Halbleiteranordnungen gemäß
Fig. 7 und 8 ähnlich dem Aufbau von den Halbleiteranordnungen
gemäß Fig. 1 und 2. Somit können die Halbleiteranordnungen
gemäß Fig. 7 und 8 in einer mehrstufigen Montagekonfiguration
gruppiert werden, wie es in Fig. 3 und 4 dargestellt ist.
Gemäß der fünften bevorzugten Ausführungsform verringert das
teilweise Entfernen des Substrates 11 die Fläche des Sub
strats 11 entsprechend. Dies erfordert dann nur noch einen
kleineren Montageraum auf der Hauptplatine, so daß die Monta
geeffizienz erhöht wird.
Die Fig. 9 und 10 zeigen Teildraufsichten auf Halbleiteran
ordnungen gemäß einer sechsten bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung. Die Halbleiteranordnungen gemäß Fig. 9 und 10
weisen Blindkontaktflecken 14a ähnlich wie bei der vierten
bevorzugten Ausführungsform gemäß Fig. 5 auf. Bei der Halb
leiteranordnung gemäß Fig. 5 sind die Blindkontaktflecken 14a
mit den normalen Kontaktflecken 14 für äußere Anschlüsse in
einer Linie ausgefluchtet.
Hingegen sind die Blindkontaktflecken 14a bei den Halblei
teranordnungen gemäß Fig. 9 und 10 außerhalb der linearen Ma
trix von normalen Kontaktflecken 14 für äußere Anschlüsse 14
ausgefluchtet. Wie sich aus Fig. 9 ergibt, sind die Blindkon
taktflecken 14a unmittelbar neben den normalen Kontaktflecken
14 für äußere Anschlüsse positioniert. Wie sich aus Fig. 10
ergibt, sind die lineare Matrix der Blindkontaktflecken 14a
und die lineare Matrix der normalen Kontaktflecken 14 für äu
ßere Anschlüsse in einer versetzten Konfiguration angeordnet.
Im übrigen ist der Aufbau der Halbleiteranordnungen gemäß
Fig. 9 und 10 ähnlich den Halbleiteranordnungen gemäß Fig. 5.
Die sechste bevorzugte Ausführungsform bietet die nachstehend
beschriebenen Vorteile zusätzlich zu dem oben beschriebenen
Vorteil der vierten bevorzugten Ausführungsform. Genauer ge
sagt, wenn es eine Vielzahl von Leitungen gibt, die nicht ge
meinsam von den oberen und unteren Oberflächen verwendet wer
den können, dann begrenzt die Anzahl der einzigen linearen
Anordnung von Kontaktflecken gemäß Fig. 5 die Anzahl von
Blindkontaktflecken 14a auf eine kleine Anzahl, so daß die
Erfordernisse der Praxis nicht in hinreichendem Maße erfüllt
werden.
In einem solchen Falle ermöglicht das Vorsehen der linearen
Anordnung oder Matrix von Blindkontaktflecken 14a neben der
linearen Anordnung oder Matrix von normalen Kontaktflecken 14
für äußere Anschlüsse, also die Anordnung von zwei linearen
Anordnungen oder Matrizen von Kontaktflecken gemäß Fig. 9 und
10, daß eine größere Anzahl von Blindkontaktflecken 14a zur
Verfügung steht, so daß die Erfordernisse der Praxis in aus
reichendem Maße berücksichtigt sind.
Um die Anzahl von den vorzusehenden Blindkontaktflecken 14a
zu erhöhen, sollte die Anzahl von linearen Anordnungen von
Blindkontaktflecken 14a vergrößert werden, mit anderen Wor
ten, die Blindkontaktflecken 14a sollten in drei oder mehr
Reihen angeordnet sein. Ferner ermöglicht die versetzte An
ordnung der Blindkontaktflecken gemäß Fig. 10, daß die Zwi
schenverbindungen 15 eine lineare Form haben können, was den
Verdrahtungsvorgang erleichtert.
Die Gestalt der Leitungen 19 ist nicht auf gerade Leitungen
beschränkt. Es ist lediglich erforderlich, daß die Leitungen
so geformt sind, daß der Gehäusekörper 18 halb in der jewei
ligen Öffnung 12 des Substrates 11 untergebracht ist, wenn
die Leitungen 19 auf dem Substrat 11 abgestützt sind. Damit
wird eine Reduzierung der Dicke realisiert, ohne die Wärmeab
strahlung zu beeinträchtigen.
Der Ausdruck "halb untergebracht" hat im Rahmen der vorlie
genden Erfindung die Bedeutung eines generellen Konzeptes,
das nicht nur den Fall umfaßt, in welchem der Gehäusekörper
18 in der jeweiligen Öffnung 12 des Substrates 11 etwa zur
Hälfte untergebracht ist, sondern auch diejenigen Fälle, wo
ein beliebiger Anteil des Gehäusekörpers in dieser Öffnung 12
untergebracht ist. Wenn nur ein Teil des Gehäusekörpers 18
aus der Öffnung 12 heraus vorsteht und freiliegt, so trägt
dies zu einer Reduzierung der Dicke der Gesamtanordnung bei,
ohne die Wärmeabstrahlung ernstlich zu verringern.
Bei den oben beschriebenen Ausführungsformen sind weiterhin
beide Gehäusekörper 18 an der Unterseite und der Oberseite
des Substrates 11 in der jeweiligen Öffnung 12 halb unterge
bracht. Es kann jedoch auch nur der eine Gehäusekörper 18,
beispielsweise der Gehäusekörper 18 an der Unterseite der An
ordnung gemäß Fig. 11 halb in der Öffnung 12 untergebracht
sein. Da in einem solchen Falle die Dicke des Substrats 11,
die es ermöglicht, daß der eine der Gehäusekörper 18 in der
Öffnung 12 halb untergebracht wird, ausreichend ist, kann das
Substrat 11 relativ dünn sein.
Im allgemeinen ist es bekannt, daß ein Randabstand zwischen
dem Ende des Substrats und einem Leitungsmuster auf dem Sub
strat proportional zu der Dicke des Substrats 11 ist, und
zwar hinsichtlich der Zuverlässigkeit während der Bearbeitung
der äußeren Gestalt des Substrats. Bei der Ausführungsform
der Halbleiteranordnung gemäß Fig. 11 sorgt somit das relativ
dünne Substrat für den kürzeren Randabstand, so daß es mög
lich ist, eine Reduzierung der Größe der Anordnung zu errei
chen.
Auch wenn die beschriebenen Ausführungsformen Fälle zeigen,
in denen die Leitungen 19 von den gegenüberliegenden beiden
Seiten des Gehäusekörpers 18 vorstehen, kann die vorliegende
Erfindung in ähnlicher Weise auch in denjenigen Fällen Anwen
dung finden, in denen diese Leitungen von vier Seiten vorste
hen, wobei dies bei der fünften Ausführungsform nur mit Ein
schränkungen gilt.
Claims (10)
1. Halbleiteranordnung, umfassend
- - ein Substrat (11) mit einer Öffnung (12); und
- - integrierte Schaltungen in Gehäusen (17), die jeweils einen Gehäusekörper (18), der der Öffnung (12) gegen überliegt, und Leitungen (19) aufweisen, die von dem Gehäusekörper (18) aus vorstehen und auf dem Substrat (11) am Umfang der Öffnung (12) abgestützt sind, wobei die integrierten Schaltungen in Gehäusen (17) an der Oberseite und der Unterseite des Substrats (11) bezüg lich der Öffnung (12) angeordnet sind, wobei zumindest eine von den integrierten Schaltungen in Gehäusen (17) an der Oberseite und der Unterseite halb in der Öffnung (12) untergebracht ist.
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Leitungen (19) gerade Leitungen sind.
3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 oder 2,
gekennzeichnet durch
- - Anschlüsse (14) für äußere Verbindungen, die auf der Oberseite und der Unterseite des Substrats (11) ange ordnet sind und mit den Leitungen (19) auf der jeweili gen Oberflächenseite elektrisch verbunden sind, wobei entsprechende Anschlüsse für die äußere Verbindung an der Oberseite und der Unterseite elektrisch miteinander verbunden sind, und
- - Lotbuckel (16), die auf den Anschlüssen (14) für äußere Verbindungen auf der einen Oberflächenseite des Sub strats (11) vorgesehen sind.
4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Vielzahl von Halbleiteranordnungen auf der einen
Seite einer Hauptplatine (20) aufeinandergestapelt und
mit den Lotbuckeln (16) verbunden und befestigt sind.
5. Halbleiteranordnung nach Anspruch 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Vielzahl von Halbleiteranordnungen übereinander
gestapelt auf beiden Seiten der Hauptplatine (20) ange
ordnet und mit den Lotbuckeln (16) verbunden und befe
stigt sind.
6. Halbleiteranordnung nach einem der Ansprüche 3 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Anschlüsse (14) für äußere Verbindungen einen
Blindanschluß (14a) aufweisen, um die Anzahl der Leitun
gen (19) zu vergrößern.
7. Halbleiteranordnung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Blindanschluß (14a) eine Vielzahl von Blindan
schlüssen (14) aufweist, die in mindestens einer linearen
Anordnung ausgefluchtet sind, die sich von einer linearen
Anordnung unterscheiden, in der die von den Blindan
schlüssen (14a) verschiedenen Anschlüsse (14) für äußere
Verbindungen ausgefluchtet sind.
8. Halbleiteranordnung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß die lineare Anordnung von Blindanschlüssen (14a) und
die lineare Anordnung der von den Blindanschlüssen (14a)
verschiedenen Anschlüssen (14) für äußere Verbindungen in
einer versetzten Konfiguration ausgebildet sind.
9. Halbleiteranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Substrat (11) so geformt ist, daß ein Teil des
Substrats (11), der sich an der einen Seite oder an einem
Paar von gegenüberliegenden Seiten der Öffnung (12) be
findet, entfernt ist, so daß er dort die Öffnung (12)
nicht umgibt.
10. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung nach
einem der Ansprüche 1 bis 9,
gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
- - einen ersten Schritt, bei dem eine Vielzahl von Halb leiteranordnungen auf der einen Seite einer Hauptpla tine (20) übereinandergestapelt werden, wobei eutekti sche oder Hochtemperatur-Lotbuckel als Lotbuckel (16) verwendet werden und ein Flußmittel oder eine Lötpaste den angrenzenden Bereichen zwischen den Lotbuckeln (16) und anderen Bereichen zugeführt wird,
- - einen zweiten Schritt, bei dem die Lotbuckel (16) ge schmolzen werden, um die Vielzahl von Halbleiteranord nungen, die bei dem ersten Schritt auf der einen Ober fläche der Hauptplatine (20) aufeinandergestapelt wor den sind, anzuschließen und zu befestigen,
- - einen dritten Schritt, bei dem die Hauptplatine (20) umgedreht wird und eine Vielzahl von Halbleiteranord nungen auf der anderen Seite der Hauptplatine (20) übereinandergestapelt werden, wobei Niedertemperatur- Lotbuckel als Lotbuckel (16) verwendet werden und ein Flußmittel oder eine Lötpaste den angrenzenden Berei chen zwischen den Lotbuckeln (16) und anderen Bereichen zugeführt wird, und
- - einen vierten Schritt, bei dem die Lotbuckel (16) ge schmolzen werden, um die Vielzahl von Halbleiteranord nungen anzuschließen und zu befestigen, die bei dem dritten Schritt auf der anderen Seite der Hauptplatine (20) aufeinandergestapelt worden sind.
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