DE19634202C2 - Halbleitervorrichtung - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1. Eine derartige Halbleitervorrich
tung ist aus der DE 41 30 899 A1 bekannt.
In Fig. 7 ist eine Schnittdarstellung gezeigt, die den Aufbau
eines Leistungsmoduls 200 gemäß dem Stand der Technik dar
stellt. Das Leistungsmodul 200 hat die Funktion, die Leistung
mittels einer Halbleiteranordnung 1 zu steuern.
Ein isolierendes Substrat 2 ist mit Kupferplatten 9A und 9B
auf einer Oberfläche 2a und mit einer Kupferplatte 9c auf
einer Rückseite 2b ausgestattet. Die Halbleiteranordnung 1 ist
mit den Kupferplatten 9a und 9b verbunden. Die Kupferplatten
9a bzw. 9b sind mit Schrauben 42a und 42b über Elektrodenlei
tungsbereiche 5a bzw. 5b verbunden. Die Schrauben 42a und 42b
haben die Funktion von Ausgangsklemmen. Die Kupferplatten 9a
und 9b sind mit den Elektrodenleitungsbereichen 5a und 5b mit
einem Lot 8 verbunden. Für die Elektrodenleitungsbereiche 5a
und 5b wird Kupfer mit hoher Leitfähigkeit verwendet.
Die Kupferplatte 9c ist mit einem Lot 8 an einer Grundplatte
3 befestigt. Die Halbleiteranordnung 1 ist durch das isolie
rende Substrat 2 elektrisch isoliert, so daß ein sicherer Ge
brauch gewährleistet werden kann. Zusätzlich wird Wärme von
der Halbleiteranordnung 1 durch die Grundplatte 3 oder einen
externen Wärmestrahler abgeführt, der an der Grundplatte 3
befestigt ist. Die Grundplatte 3 ist aus Kupfer mit hoher
Wärmeleitfähigkeit hergestellt.
Ein isolierendes Gehäuse 6 umschließt zusammen mit der Grund
platte 3 die Halbleiteranordnung 1, das isolierende Substrat
2 und die Elektrodenleitungsbereiche 5a und 5b. Um die Elek
trodenleitungsbereiche 5a und 5b gegeneinander wirksam elek
trisch zu isolieren, ist der von dem Gehäuse 6 und der Grund
platte 3 umschlossene Raum beispielsweise mit einem isolie
renden Silikongel 7 gefüllt.
Die Grundplatte 3 ist an dem isolierenden Substrat 2 über die
Kupferplatte 9c und das Lot 8 befestigt. Aus diesem Grunde
tritt an der Grundplatte 3 eine Deformation wegen eines Un
terschiedes der Ausdehnungskoeffizienten der entsprechenden
Materialien bei Raumtemperatur nach dem Löten auf. Dadurch
wirkt eine mechanische Spannung auf die Kupferplatte 9c und
die Elektrodenleitungsbereiche 5a und 5b, so daß die Kupfer
platte 9c sich ablöst und die Lebensdauer der Elektrodenlei
tungsbereiche 5a und 5b verkürzt wird.
Um den oben beschriebenen Effekt zu verhindern, ist es mög
lich, vorher eine Deformation an der Grundplatte 3 durch
zuführen, und zwar in der entgegengesetzten Richtung zu der
Deformation, die im Betrieb verursacht werden kann. Es ist
jedoch schwierig, vorher eine Deformation an einer Grund
platte 3 durchzuführen, die eine im Inneren ausgebildete Was
serleitung hat und somit als wassergekühlter Kühlkörper ar
beitet.
Bei dem Leistungsmodul gemäß dem Stand der Technik haben die
Elektrodenleitungsbereiche 5a und 5b die Form einer U-förmi
gen Biegung und sind in einer solchen Weise ausgestaltet, daß
die auf die Elektrodenleitungsbereiche 5a und 5b ausgeübten
mechanischen Spannungen aufgefangen werden können oder daß
eine unterschiedliche Dimensionierung aufgrund der Bearbei
tung absorbiert werden kann. Der Bereich der mechanischen
Spannungen, die absorbiert werden können, ist jedoch der
gleiche wie der innerhalb der Elastizitätsgrenzen eines Mate
rials, aus dem die Elektrodenleitungsbereiche 5a und 5b her
gestellt sind. In jedem Falle ist der obere Grenzwert der me
chanischen Spannung, die von den Elektrodenleitungsbereichen
5a und 5b absorbiert werden kann, die jeweils einzeln ausge
bildet sind, nicht immer hoch.
Um eine Verwerfung oder Deformation zu reduzieren, die durch
eine Differenz der Wärmeausdehnungskoeffizienten der Grund
platte 3 und des isolierenden Substrates 2 hervorgerufen
wird, ist es erwünscht, daß ihre Flächen verkleinert werden.
Dementsprechend ist es notwendig, einen Raum zwischen den
Elektrodenleitungsbereichen 5a und 5b auf dem isolierenden
Substrat 2 zu reduzieren. Da die Form einer U-förmigen Bie
gung verwendet wird, um die mechanische Spannung aufzufangen,
ist es schwierig, einen Zwischenraum L0 zwischen den Elektro
denleitungsbereichen 5a und 5b in der Nähe der Ausgangsklem
men 42a und 42b größer zu machen als den Zwischenraum zwi
schen den Elektrodenleitungsbereichen 5a und 5b auf dem iso
lierenden Substrat 2.
Bei der Struktur gemäß dem Stand der Technik ist es notwen
dig, nahezu den ganzen von dem Gehäuse 6 und der Grundplatte
3 umschlossenen Raum mit einem Gel 7 zu füllen, um die Elek
trodenleitungsbereiche 5a und 5b wirksam gegeneinander zu iso
lieren.
Das Gel 7 ist jedoch teuer, und sein linearer Ausdehnungs
koeffizient ist etwa zehnmal so groß wie der von Kupfer. Des
halb ist es nicht erwünscht, daß eine große Menge des Gels 7
für das Leistungsmodul verwendet wird.
In der DE 41 30 899 A1 ist eine Halbleitervorrichtung
beschrieben, die eine Bodenplatte aufweist, an der eine Lei
terplatte mit mehreren elektrischen Komponenten befestigt ist.
Von der Bodenplatte aus erstrecken sich Seitenwände nach oben,
zwischen denen eine obere Abdeckung vorgesehen ist. Die Sei
tenwände und die Abdeckung sind dabei als separate Teile aus
gebildet. Eine äußere Klemme ist an der oberen Abdeckung befe
stigt, während eine innere Klemme an einer Schaltung angelötet
ist, die auf der Leiterplatte angebracht ist.
Bei dieser herkömmlichen Halbleitervorrichtung ist zwischen
den beiden Klemmen ein Zuführdraht vorgesehen, der sorgfältig
an zwei voneinander getrennten Stellen befestigt werden muß.
Zu diesem Zweck ist die jeweilige Klemme mit einer Brücke aus
gebildet, in welche der Zuführdraht hineingepreßt werden muß.
Alternativ ist die Klemme mit hochgezogenen Abschnitten verse
hen, um die Klemme in einen Schlitz hineinzudrücken und den
Zuführdraht mit der Klemme zu verbinden. Eine derartige Mon
tage ist einerseits zeitaufwendig und andererseits nicht sehr
zuverlässig. Außerdem ist es im Betrieb bei einer derartigen
herkömmlichen Halbleitervorrichtung nicht ohne weiteres mög
lich, durch einen Blick von außen festzustellen, ob der
Zuführdraht einwandfrei angeschlossen ist.
In der JP 5-82693 A ist eine Halbleitervorrichtung angegeben,
bei der eine Litze zwischen einem ersten Elektrodenanschluß
und einem zweiten Elektrodenanschluß vorgesehen und in einem
Silikongel aufgenommen ist. Auf diese Weise können Kräfte, die
auf den Elektrodenanschluß wirken, durch eine Deformation der
Litze absorbiert werden. Aus diesem Grunde ist es dort nicht
erforderlich, den Elektrodenanschluß mit einer S-förmigen
Gestalt zu biegen, um mechanische Belastungen zu absorbieren.
Bei der herkömmlichen Anordnung gemäß der JP 5-82693 sind
keine Maßnahmen vorhanden, mit denen ein flexibler Leiter in
einfacher und zuverlässiger Weise montiert werden kann. Es ist
dort auch nicht möglich, im Betrieb mit einem Blick
festzustellen, ob ein derartiger Leiter, der als Litze
ausgebildet ist, einwandfrei angeschlossen ist.
Die DE 37 34 067 A1 beschreibt eine Halbleitervorrichtung, bei
der mehrere Anschlußplatten unter Verwendung von Isolierplat
ten übereinandergelegt sind, wobei die Anschlußplatten paral
lel mit den Halbleiterlementen liegen und zueinander verscho
ben sind. Das Problem, wie mechanische Belastungen von Elek
trodenpaaren aufgefangen werden können, ist dort nicht behan
delt. Es geht dort primär um die Zielrichtung, zwischen den
Elektroden von Halbleiterpastillen und äußeren Enden der
Anschlußleiter die Induktivitäten klein zu machen und auch
möglichst gleich große Induktivitäten an den entsprechenden
Stellen zu erzeugen.
Die DE 43 30 070 A1 gibt ein Halbleitermodul an, das
Kühlplatten und eine Isolierplatte aufweist, welche unter
Halbleiterchips laminiert sind. Die Dicke der
Trägerbasisplatte soll dabei eine bestimmte Mindestdicke im
Verhältnis zur Isolierplatte aufweisen. Dabei geht es um das
Problem, die Wärmeermüdungs-Lebensdauer von Lötschichten
auszugleichen und die Lebensdauer des gesamten
Halbleitermoduls zu verlängern. Die Frage der einfachen, aber
dennoch zuverlässigen Montage von Elektrodenpaaren, welche
starken mechanischen Belastungen ausgesetzt sind, ist dort
nicht behandelt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Halbleitervor
richtung der eingangs genannten Art anzugeben, bei der sich
die flexiblen Leiter bei Elektrodenpaaren, die starken mecha
nischen Belastungen ausgesetzt sind, in einfacher, aber zuver
lässiger Weise montieren lassen, wobei der Verbindungszustand
dieser Leiter im Betrieb in einfacher Weise überprüfbar ist.
Die erfindungsgemäße Lösung besteht darin, eine Halbleitervor
richtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 auszubilden. Vor
teilhafte Weiterbildungen der erfindungsgemäßen Halbleitervor
richtung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Mit der erfindungsgemäßen Halbleitervorrichtung wird die Auf
gabe in zufriedenstellender Weise gelöst. Durch die spezielle
Anordnung der horizontalen Bereiche der ersten Elektroden und
der zweiten Elektroden können diese in einfacher Weise über
die flexiblen Leitern miteinander verbunden werden, und zwar
durch die Öffnung in dem Deckel des Gehäuses. Ferner kann ggf.
eine mit der Zeit auftretende Verbindungsfehlfunktion durch
die Öffnung hindurch leicht von der Außenseite her festge
stellt werden.
Mit den Merkmalen des Anspruchs 2 wird erreicht, daß die Halb
leitervorrichtung widerstandsfähig gegenüber Stößen oder einem
Aufprall beim Drahtbonden ist, das durchgeführt wird, wenn die
ersten und zweiten Elektroden mit dem Leiter miteinander ver
bunden werden. Das Verstärkungsteil bildet dabei eine Abstüt
zung, so daß horizontale Bereiche erhalten werden, die sich
mit einer guten Produktivität herstellen lassen und die wider
standsfähig gegenüber Stößen sind.
Mit den Merkmalen des Anspruchs 3 wird in vorteilhafter Weise
erreicht, daß der Abstand hinsichtlich der Isolierung der
Elektrodenleitungsbereiche voneinander wesentlich vergrößert
werden kann. Wenn für die Isolierung ein Gel verwendet wird,
so ist eine kleine Menge eines derartigen Gels ausreichend.
Mit den Merkmalen des Anspruchs 4 wird in vorteilhafter Weise
erreicht, daß der Zwischenraum zwischen den zweiten Elektroden
vergrößert wird, was sich vorteilhaft auf die Isolierung zwi
schen ihnen auswirkt. Ein Gel ist zur Überdeckung dieses
Bereiches nicht erforderlich. Da der Zwischenraum zwischen den
ersten Elektroden reduziert werden kann, läßt sich die Größe
des isolierenden Substrates ebenfalls verringern. Daher können
mechanische Spannungen in ihrer Entstehung unterbunden werden,
die sonst durch die Deformation hervorgerufen werden, welche
auf der Differenz von Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem
isolierenden Substrat und der wärmeabstrahlenden Platte ent
stehen können.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Beschreibung von
Ausführungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegen
den Zeichnungen näher erläutert. Die Zeichnungen zeigen in
Fig. 1 eine Schnittansicht der Struktur einer Halbleitervor
richtung gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 2 eine perspektivische Darstellung zur Erläuterung der
Struktur der Halbleitervorrichtung gemäß der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 3 eine Vorderansicht zur Erläuterung der Struktur der
Halbleitervorrichtung gemäß der ersten Ausführungs
form der Erfindung;
Fig. 4 eine Schnittansicht zur Erläuterung der Struktur der
Halbleitervorrichtung gemäß der ersten Ausführungs
form der Erfindung;
Fig. 5 eine Schnittansicht zur Erläuterung eines Teils der
Halbleitervorrichtung gemäß einer zweiten Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 6 eine Schnittansicht zur Erläuterung der Struktur ei
ner Halbleitervorrichtung gemäß einer dritten Ausfüh
rungsform der Erfindung; und in
Fig. 7 eine Schnittansicht zur Erläuterung der Struktur ei
nes Leistungsmoduls gemäß dem Stand der Technik.
Fig. 1 zeigt eine Schnittansicht zur Erläuterung der Struktur
eines Leistungsmoduls 101, wobei es sich um eine Halbleiter
vorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung
handelt. Das Leistungsmodul 101 hat die Funktion, die Lei
stung mit einer Halbleiteranordnung 1 zu steuern. Fig. 2
zeigt eine perspektivische Darstellung zur Erläuterung der
Struktur des Leistungsmoduls 101, teilweise mit Wegbrechungen
und wobei die Grundplatte 3 weggelassen ist.
Kupferplatten 9a und 9b sind auf einer Oberfläche 2a eines
isolierenden Substrates 2 ausgebildet. Beispielsweise wird
Kupfer durch Ätzen oder dergleichen in ein Muster oder eine
Konfiguration gebracht, so daß die Kupferplatten 9a und 9b
gebildet werden. Eine Kupferplatte 9c ist an einer Rückseite
2b des isolierenden Substrates 2 vorgesehen.
Die Halbleiteranordnung 1 hat eine Rückseite, die mittels ei
nes Lotes 8 an der Kupferplatte 9a befestigt ist, und eine
Oberfläche, die mit der Kupferplatte 9b elektrisch verbunden
ist.
Erste Elektroden 51a und 51b sind mit Lot 8 an den Kupfer
platten 9a bzw. 9b befestigt und elektrisch mit ihnen verbun
den.
Die Grundplatte 3 ist an der Rückseite 2b des isolierenden
Substrates 2 über die Kupferplatte 9c mit Lot 8 befestigt.
Die elektrische Isolierung kann für die Halbleiteranordnung 1
mit dem isolierenden Substrat 2 gewährleistet werden, während
Wärme von der Halbleiteranordnung 1 über die Grundplatte 3
abgestrahlt werden kann.
Fig. 3 zeigt eine Vorderansicht zur Erläuterung der Struktur
eines wassergekühlten Kühlkörpers 31, der als Grundplatte 3
verwendet werden kann. Fig. 4 zeigt eine Schnittansicht zur
Erläuterung eines Schnittes längs der Linie IV-IV in Fig. 3.
Ein Wasserkanal 32 ist in dem wassergekühlten Kühlkörper 31
vorgesehen. Die bevorzugten Ausführungsformen, die nachste
hend beschrieben sind, haben eine derartige Struktur, die
auch in einem Falle Verwendung finden kann, in welchem eine
Verwindung oder Deformation schwer zu verarbeiten ist.
Ein Gehäuse 6 weist einen Deckel 6a, welcher der Grundplatte 3
gegenüberliegt, und eine Seitenwand 6b auf und besitzt Iso
liereigenschaften. Außerdem umschließt das Gehäuse 6 zusammen
mit der Grundplatte 3 die Halbleiteranordnung 1, das isolie
rende Substrat 2 und die ersten Elektroden 51a und 51b.
Zweite Elektroden 52a und 52b sind an dem Deckel 6a des Gehäu
ses 6 mit Muttern 41a und 41b sowie Schrauben 42a und 42b be
festigt. Die Schrauben 42a und 42b haben die Funktion von
Ausgangsklemmen. Die Muttern 41a und 41b sind an einem kon
vexen Bereich 63 befestigt, der an dem Deckel 6a vorgesehen
ist. Beispielsweise sind Löcher in dem konvexen Bereich 63
vorgesehen, in welche die Muttern 41a und 41b eingesetzt wer
den, so daß die oben beschriebene Befestigung durchgeführt
werden kann.
Gemäß der Erfindung ist jeder der Elektrodenleitungsbereiche
zur Verbindung der Kupferplatten 9a und 9b mit den Schrauben
42a und 42b als Ausgangsklemmen nicht als einteilige Struktur
ausgebildet, sondern hat jeweils drei Teile. Beispielsweise
ist die Schraube 42a mit der Kupferplatte 9a über die erste
Elektrode 51a, die zweite Elektrode 52a und einen Draht 10a
verbunden, um die erste Elektrode 51a und zweite Elektrode
52a miteinander zu verbinden. In gleicher Weise ist die
Schraube 42b mit der Kupferplatte 9b über die erste Elektrode
51b, die zweite Elektrode 52b und einen Draht 10b verbunden,
um die erste Elektrode 51b und zweite Elektrode 52b miteinan
der zu verbinden. Die Drähte 10a und 10b sind flexibel und
bestehen beispielsweise aus Aluminium. Die Drähte 10a und 10b
üben die oben beschriebene Verbindung beispielsweise über
Drahtbondinganschlüsse oder dergleichen aus.
Somit weist der Elektrodenleitungsbereich eine Vielzahl von
Elementen auf. Insbesondere werden flexible Drähte verwendet.
Infolgedessen kann die elektrische Verbindung gewährleistet
werden, und der obere Grenzwert der Absorption von mechani
schen Beanspruchungen, die zwischen den Schrauben 42a, 42b
und den Kupferplatten 9a, 9b wirken, kann erhöht werden. Ge
nauer gesagt, auch wenn eine Verwerfung oder Deformation der
Grundplatte 3 hervorgerufen wird durch eine Differenz der
Ausdehnungskoeffizienten zwischen der Grundplatte 3 und dem
isolierenden Substrat 2, so treten, verglichen mit dem Stand
der Technik, selten Risse oder Brüche im Lot 8 oder dem iso
lierenden Substrat 2 auf.
Es ist erwünscht, daß die Bereiche der ersten Elektroden 51a,
51b und der zweiten Elektroden 52a, 52b, die über die Drähte
10a und 10b miteinander verbunden sind, horizontal, d. h. par
allel zu der Grundplatte 3 verlaufen. Es ist weiterhin er
wünscht, daß der Bereich des Deckels 6a des Gehäuses 6, der
oberhalb der horizontalen Bereiche vorgesehen ist, eine Öff
nung 61 besitzt. Der Grund ist der, daß es möglich ist, die
zweiten Elektroden 52a und 52b am Deckel 6a des Gehäuses 6
vorher zu befestigen und das Gehäuse 6 auf die Grundplatte 3
zu setzen, an der die ersten Elektroden 51a und 51b bereits
befestigt worden sind, um durch die Öffnung 61 hindurch die
Drahtbonding-Verbindung herzustellen, so daß die Montagear
beiten in effizienter Weise durchgeführt werden können.
Außerdem macht die Installation der Öffnung 61 es möglich,
die Verbindungszustände zwischen den ersten Elektroden 51a,
51b, den zweiten Elektroden 52a, 52b und den Drähten 10a, 10b
von außen zu erkennen, so daß eine mit der Zeit auftretende
Fehlfunktion, wie zum Beispiel ein Ablösen von Drähten, ein
Durchschmelzen oder dergleichen leicht festgestellt werden
kann.
Es ist wünschenswert, daß die erste Elektroden 51a und 51b
Rücken an Rücken zueinander angeordnet sind, wie es in Fig. 1
dargestellt ist. Es ist nicht erforderlich, eine U-Gestalt zu
verwenden, um wie beim Stand der Technik eine Entlastung von
mechanischen Spannungen zu erzielen. Infolgedessen ist eine
gefaltete Formgebung oder Konfiguration nicht erforderlich,
so daß ein Abstand L1 zwischen den zweiten Elektroden 52a und
52b größer gewählt werden kann als ein Abstand zwischen den
ersten Elektroden 51a und 51b an dem isolierenden Substrat 2.
Mit anderen Worten, die ersten Elektroden 51a und 51b können
besser gegeneinander isoliert werden, während zugleich die
Fläche reduziert wird, die für das isolierende Substrat 2 er
forderlich ist.
Dementsprechend können Verwerfungen und Deformationen der
Grundplatte 3 reduziert werden, und auch die Menge des erfor
derlichen Gels 7 kann verringert werden. Eine Menge an Gel 7
ist erforderlich, um die horizontalen Bereiche der zweiten
Elektroden 52a und 52b darin einzubetten oder einzutauchen.
Die Verwendung einer kleinen Menge von Gel 7 ist ausreichend,
so daß verhindert werden kann, daß mechanische Beanspruchun
gen und Spannungen auftreten, wobei zugleich die Herstel
lungskosten reduziert werden können.
Fig. 5 ist eine Schnittansicht zur Erläuterung der Umgebung
eines verbesserten Leistungsmoduls 101 als Halbleitervorrich
tung gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. Die
horizontalen Bereiche der ersten Elektrode 51a und der zwei
ten Elektrode 52a, die mit einem Draht 10a miteinander ver
bunden sind, sind mit Abstützungsbereichen 53a bzw. 54a ver
stärkt. Infolgedessen kann die Widerstandsfähigkeit gegenüber
stoßartigen Belastungen vergrößert werden, welche bei dem
Bonden des Drahtes 10a auftreten. Somit kann eine automati
sche Verbindung mit einem Drahtbonder hergestellt werden.
Es ist erwünscht, daß der Abstützungsbereich 54a mit einem
Gehäuse 6 integriert ist, wie es in Fig. 5 dargestellt ist.
Der Grund ist der, daß die Produktivität gesteigert werden
kann, wenn man es mit einem Fall vergleicht, in welchem ein
Abstützungsmaterial separat angebracht wird. Aus dem gleichen
Grunde ist es erwünscht, daß der Abstützungsbereich 53a aus
einem Formharz gebildet ist, das mit der ersten Elektrode 51a
integriert ist.
Es versteht sich von selbst, daß es erwünscht ist, daß derar
tige Abstützungsbereiche auch an der ersten Elektrode 51b und
der zweiten Elektrode 52b vorgesehen sind.
Fig. 6 zeigt eine Schnittansicht zur Erläuterung der Struktur
eines Leistungsmoduls 102, die eine Halbleitervorrichtung ge
mäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung ist. Vergli
chen mit dem Leistungsmodul 101 ist das Leistungsmodul 102
dahingehend verbessert, daß ein Vorsprung 62 an dem Deckel 6a
des Gehäuses 6 vorgesehen ist.
Der Vorsprung 62 ist zwischen den ersten Elektroden 51a und
51b eingesetzt, die einander benachbart vorgesehen sind. Aus
diesem Grunde können die Abstände zwischen den ersten und
zweiten Elektroden 51a, 52a sowie den ersten und zweiten
Elektroden 51b, 52b unter dem Aspekt der elektrischen Isolie
rung bis zu der Spitze des Vorsprunges 62 effektiv größer ge
macht werden.
Demensprechend ist eine gewisse Menge des Gels 7 erforder
lich, um die Spitze des Vorsprunges 62 einzutauchen. Hin
sichtlich der Menge des Gels 7 können bessere Wirkungen er
zielt werden als im Zusammenhang mit der ersten Ausführungs
form.
Claims (4)
1. Halbleitervorrichtung, die folgendes aufweist:
eine Wärme abstrahlende Platte (3), die als Grundplatte dient;
eine Halbleiteranordnung (1), deren Wärme von der Wärme abstrahlenden Platte (3) aus abgestrahlt wird;
ein isolierendes Substrat (2), das eine erste Seite (2a) mit einem Schaltungsmuster, auf dem die Halb leiteranordnung (1) angeordnet ist, und eine zweite Seite (2b) aufweist, die mit der die Wärme abstrah lenden Platte (3) in Kontakt steht;
ein isolierendes Gehäuse (6), das die Halbleiteranordnung (1) zusammen mit der Wärme abstrahlenden Platte (3) umschließt; und
mindestens einen Elektrodenleitungsbereich, der mit der Halbleiteranordnung (1) über das Schaltungs muster verbunden ist und das Gehäuse (6) durch setzt, wobei der mindestens eine Elektrodenleitungs bereich jeweils
eine erste Elektrode (51a, 51b), die an dem Schal tungsmuster befestigt und elektrisch mit diesem ver bunden ist;
eine zweite Elektrode (52a, 52b), die an dem Deckel (6a) des Gehäuses (6) befestigt ist; und
einen Leiter (10a, 10b) aufweist, der flexibel ist und die jeweilige erste Elektrode (51a, 51b) mit der jeweiligen zweiten Elektrode (52a, 52b) elektrisch verbindet,
wobei die erste Elektrode (51a, 51b) und die zweite Elektrode (52a, 52b) jeweils einen horizontalen Bereich in der Nähe des Leiters (10a, 10b) aufwei sen,
dadurch gekennzeichnet,
daß die horizontalen Bereiche der ersten Elektroden (51a, 51b) und der zweiten Elektroden (52a, 52b) etwa in gleicher Höhe nebeneinander mit einem Abstand von dem isolierenden Substrat (2) angeordnet sind
und daß oberhalb der horizontalen Bereiche der ersten und zweiten Elektroden (51a, 51b; 52a, 52b) eine Öffnung (61) in dem Deckel (6a) des Gehäuses (6) ausgebildet ist, durch die hindurch die flexi blen Leiter (10a, 10b) auf den horizontalen Berei chen der einander gegenüberliegenden ersten und zweiten Elektroden (51a, 51b; 52a, 52b) montiert sind.
eine Wärme abstrahlende Platte (3), die als Grundplatte dient;
eine Halbleiteranordnung (1), deren Wärme von der Wärme abstrahlenden Platte (3) aus abgestrahlt wird;
ein isolierendes Substrat (2), das eine erste Seite (2a) mit einem Schaltungsmuster, auf dem die Halb leiteranordnung (1) angeordnet ist, und eine zweite Seite (2b) aufweist, die mit der die Wärme abstrah lenden Platte (3) in Kontakt steht;
ein isolierendes Gehäuse (6), das die Halbleiteranordnung (1) zusammen mit der Wärme abstrahlenden Platte (3) umschließt; und
mindestens einen Elektrodenleitungsbereich, der mit der Halbleiteranordnung (1) über das Schaltungs muster verbunden ist und das Gehäuse (6) durch setzt, wobei der mindestens eine Elektrodenleitungs bereich jeweils
eine erste Elektrode (51a, 51b), die an dem Schal tungsmuster befestigt und elektrisch mit diesem ver bunden ist;
eine zweite Elektrode (52a, 52b), die an dem Deckel (6a) des Gehäuses (6) befestigt ist; und
einen Leiter (10a, 10b) aufweist, der flexibel ist und die jeweilige erste Elektrode (51a, 51b) mit der jeweiligen zweiten Elektrode (52a, 52b) elektrisch verbindet,
wobei die erste Elektrode (51a, 51b) und die zweite Elektrode (52a, 52b) jeweils einen horizontalen Bereich in der Nähe des Leiters (10a, 10b) aufwei sen,
dadurch gekennzeichnet,
daß die horizontalen Bereiche der ersten Elektroden (51a, 51b) und der zweiten Elektroden (52a, 52b) etwa in gleicher Höhe nebeneinander mit einem Abstand von dem isolierenden Substrat (2) angeordnet sind
und daß oberhalb der horizontalen Bereiche der ersten und zweiten Elektroden (51a, 51b; 52a, 52b) eine Öffnung (61) in dem Deckel (6a) des Gehäuses (6) ausgebildet ist, durch die hindurch die flexi blen Leiter (10a, 10b) auf den horizontalen Berei chen der einander gegenüberliegenden ersten und zweiten Elektroden (51a, 51b; 52a, 52b) montiert sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die horizontalen Bereiche der ersten und zweiten Elek
troden (51a, 51b; 52a, 52b) mit einem Verstärkungsteil
(53a, 54a) an der der Öffnung (61) gegenüberliegenden Seite
abgestützt sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß der mindestens eine Elektrodenleitungsbereich eine Vielzahl von Elektrodenleitungsbereichen aufweist
und daß das Gehäuse (6) einen isolierenden Vorsprung (62) aufweist, der sich von dem Deckel (6a) des Gehäuses (6) zu der Wärme abstrahlenden Platte (3) hin zwischen der Viel zahl von Elektrodenleitungsbereichen erstreckt, die einan der benachbart vorgesehen sind.
daß der mindestens eine Elektrodenleitungsbereich eine Vielzahl von Elektrodenleitungsbereichen aufweist
und daß das Gehäuse (6) einen isolierenden Vorsprung (62) aufweist, der sich von dem Deckel (6a) des Gehäuses (6) zu der Wärme abstrahlenden Platte (3) hin zwischen der Viel zahl von Elektrodenleitungsbereichen erstreckt, die einan der benachbart vorgesehen sind.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß der mindestens eine Elektrodenleitungsbereich eine Vielzahl von Elektrodenleitungsbereichen aufweist,
daß die ersten Elektroden (51a, 51b), die einander benach bart vorgesehen sind, mit ihren einander gegenüberliegenden Rücken relativ zueinander angeordnet sind
und daß ein Zwischenraum zwischen den zweiten Elektroden (52a, 52b), welche den jeweiligen ersten Elektroden (51a, 51b) entsprechen, größer ist als ein Zwischenraum zwischen den ersten Elektroden (51a, 51b).
daß der mindestens eine Elektrodenleitungsbereich eine Vielzahl von Elektrodenleitungsbereichen aufweist,
daß die ersten Elektroden (51a, 51b), die einander benach bart vorgesehen sind, mit ihren einander gegenüberliegenden Rücken relativ zueinander angeordnet sind
und daß ein Zwischenraum zwischen den zweiten Elektroden (52a, 52b), welche den jeweiligen ersten Elektroden (51a, 51b) entsprechen, größer ist als ein Zwischenraum zwischen den ersten Elektroden (51a, 51b).
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