DE19543555A1

DE19543555A1 - Mit Gummi beschichtete Walze, Kautschukmasse und Vorrichtung für die Herstellung von Bildern

Info

Publication number: DE19543555A1
Application number: DE1995143555
Authority: DE
Inventors: Tetsuo Waku; Hiromitsu Kikuchi; Takeshi Ooishi; Michiharu Yogosawa
Original assignee: Nippon Zeon Co Ltd
Current assignee: Zeon Corp
Priority date: 1994-11-22
Filing date: 1995-11-22
Publication date: 1996-05-23
Also published as: GB9523908D0; KR100369878B1; GB2296244A; KR960017761A; JPH08292640A; GB2296244B; US5733235A; JP3346970B2

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine mit Gummi bedeckte Walze und insbesondere eine mit Gummi bedeckte Walze, die als Entwicklungswalze oder Ladungswalze geeignet ist, die in Kontakt mit einem fotoempfindlichen Element (das ebenfalls als bildtragendes Element oder fotoempfindliche Trommel be zeichnet wird) in einer Vorrichtung zur Herstellung von Bil dern, wie in einer elektrofotografischen Kopier- oder Druck vorrichtung, angeordnet ist. Die Erfindung betrifft weiter hin eine Vorrichtung zur Herstellung von Bildern, die mit einer solchen mit Gummi bedeckten Walze ausgerüstet ist, und eine Kautschukmasse, die für die Herstellung der Gummi schicht der mit Gummi beschichteten Walze geeignet ist.

Als Trockenentwicklungsverfahren in einem elektrofotografi schen Entwicklungssystem sind allgemein Zwei-Komponenten- Entwicklungsverfahren bekannt, bei denen Zwei-Komponenten- Entwickler, die aus einem Träger und einem Toner (Entwick ler), die miteinander vermischt sind, bestehen, verwendet werden, und Ein-Komponenten-Entwicklungsverfahren, bei denen ein magnetischer oder nichtmagnetischer Ein-Komponenten-Ent wickler verwendet wird.

Das Zwei-Komponenten-Entwicklungsverfahren erfordert eine große und komplizierte Vorrichtung zur Erzeugung der Bilder, und weiterhin muß das Mischverhältnis des Trägers zu dem Toner kontrolliert werden. Aus diesem Grund werden Ein-Kom ponenten-Entwicklungsverfahren, bei denen kein Träger erfor derlich ist, in den kürzlich entwickelten kleineren Kopier vorrichtungen und Druckern verwendet. Eines der Ein-Kompo nenten-Entwicklungsverfahren, ein nichtmagnetisches Ein-Kom ponenten-Entwicklungsverfahren, bei dem in der Vorrichtung zur Bilderzeugung kein Magnet verwendet wird, erlaubt die Verkleinerung und Verringerung in den Kosten der Bildher stellungsvorrichtung, die Bildung von Farbbildern und ähn lichem. Daher wurden in den vergangenen Jahren viele Verbes serungen auf diesem technischen Gebiet vorgeschlagen.

In einer Bildherstellungsvorrichtung, wie einer elektrofoto grafischen Kopiervorrichtung, wird ein Bild im allgemeinen über die Stufen Laden, Belichtung, Entwicklung, Übertragung, Fixierung und Reinigung gebildet. Genauer bezeichnet, wird in der Bildherstellungsvorrichtung das Bild über die La dungsstufe, bei der ein fotoempfindliches Element gleich und einheitlich elektrisch geladen wird, die Belichtungsstufe, bei der ein elektrostatisches latentes Bild auf dem fotoemp findlichen Element durch Belichtung erzeugt wird, die Ent wicklungsstufe, bei der das elektrostatische latente Bild zu einem sichtbaren Bild mit einem Entwickler (Toner) entwickelt wird, die Übertragungsstufe, bei der der Toner des fo toempfindlichen Elements auf ein Übertragungsmaterial über tragen wird, die Fixierstufe, bei der der Toner an das Über tragungsmaterial fixiert wird, und die Reinigungsstufe, bei der der Toner, der auf dem fotoempfindlichen Element nach der Übertragungsstufe verbleibt, durch Reinigung entfernt wird, gebildet.

Als Bilderzeugungsvorrichtung, die bei dem nichtmagnetischen Ein-Komponenten-Entwicklungsverfahren verwendet wird, ist beispielsweise eine solche bekannt, wie sie in Fig. 1 dar gestellt ist. Ein fotoempfindliches Element 1, auf dem ein elektrostatisches latentes Bild gebildet wird, und eine Ent wicklungswalze 2 sind so angeordnet, daß sie miteinander in Kontakt kommen. Ein nichtmagnetischer Ein-Komponenten-Ent wickler (Toner) 4 wird in die Entwicklungswalze 2 zur Ent wicklung des latenten Bilds, welches auf dem fotoempfind lichen Element 1 gebildet wurde, in ein sichtbares Bild ein geleitet. Eine Entwicklerbeschickungswalze 6 ist benachbart zu der Entwicklungswalze 2 auf der Seite des Entwicklerbe hälters 5 angeordnet. Die Beschickungswalze 6 rotiert in gleicher Richtung wie die Entwicklungswalze 2, um die Ober fläche der Entwicklungswalze 2 mit dem Toner 4, der in dem Entwicklerbehälter 5 gelagert wird, zu beschichten. Eine Re guliervorrichtung für die Schichtdicke für den Entwickler, die so ausgebildet ist, daß die Schichtdicke des Entwicklers kontrolliert werden kann, wie ein Entwicklungsblatt bzw. -messer 3, ist so angeordnet, daß deren freie Kante in Kon takt unter Druck mit der Oberfläche der Entwicklungswalze 2 steht, wodurch Toner auf die Entwicklungswalze 2 als dünne Schicht mit einheitlicher Dicke aufgebracht wird.

Als solche Bilderzeugungsvorrichtung mit einer solchen Bau art, daß das fotoempfindliche Element und die Entwicklungs walze miteinander in Kontakt kommen, wurden Vorrichtungen verschiedener Typen entwickelt. In den vergangenen Jahren wurde eine Vorrichtung des Patronentyps vielfach verwendet. Unter Tonerpatronen gibt es eine Patrone des Typs, daß eine Entwicklungswalze, ein Entwicklungsmesser und eine Be schickungswalze darin eingearbeitet sind.

Unter den Bildbildungsvorrichtungen unterschiedlicher Typen wurde ein System, bei dem ein fotoempfindliches Element mit einer Beladungswalze beladen wird, besonders beachtet. Bei der Ladungsstufe des fotoempfindlichen Elements wurde die Elektrisierung im allgemeinen durch Koronaentladung durch geführt. Bei dem Elektrisierungssystem durch Koronaentladung besteht die Schwierigkeit, daß gefährliche Substanzen, wie Ozon, erzeugt werden, und zusätzlich besteht die Gefahr, die bei Anwendung von hoher Spannung auftritt, und es treten er höhte Kosten auf. Andererseits wird in einem Elektrisie rungssystem, bei dem die Ladungswalze, wie in Fig. 2 darge stellt, verwendet wird, eine Ladungswalze 16, an die Span nung angelegt wurde, in Kontakt mit einem fotoempfindlichen Element 1 gebracht, um dem fotoempfindlichen Element direkt eine elektrische Ladung zu verleihen, wobei das fotoempfind liche Element mit elektrischer Spannung aufgeladen wird. Ge mäß diesem Elektrisierungssystem wird die Möglichkeit der Erzeugung von Ozon vermieden. Es wurde vorgeschlagen, bei der Übertragungsstufe eine Übertragungswalze 19 zu verwenden und an die Übertragungswalze eine Spannung anzulegen, die eine Polarität entgegengesetzt dem Toner besitzt, so daß ein elektrisches Feld erzeugt wird, wodurch der Toner auf dem fotoempfindlichen Element auf ein Übertragungsmaterial durch elektrostatische Kraft des elektrischen Felds übertragen wird.

Nach der Übertragungsstufe wird der Toner, der auf dem foto empfindlichen Element verbleibt, im allgemeinen mittels einer Reinigungsvorrichtung, wie ein Reinigungsblatt bzw. -messer 7, wie in Fig. 1 dargestellt, entfernt. Andererseits wurde, wie in Fig. 2 dargestellt, ein reinigungsfreies System (Verfahren ohne Reinigung) vorgeschlagen, bei dem auf die Reinigungsstufe verzichtet wird. Bei diesem System wird der Toner, der auf dem fotoempfindlichen Element verbleibt, an die Entwicklungsvorrichtung durch elektrostatische Kraft angezogen, die durch den Unterschied zwischen dem Oberflä chenpotential des geladenen fotoempfindlichen Elements und einer Entwicklungsvorspannung erzeugt wird, wodurch der To ner zurückgewonnen wird. Als Entwicklungsvorrichtung wird eine Vorrichtung mit solcher Bauart verwendet, daß die Ent wicklungswalze 2 in Kontakt mit dem fotoempfindlichen Ele ment 1 kommt. Die Vorspannung wird an die Entwicklungswalze 2 über einen Kernstab angelegt, wodurch eine Wiedergewinnung (Reinigung) des verbleibenden Toners gleichzeitig mit der Entwicklung erfolgt.

Bei einer solchen Bilderzeugungsvorrichtung mit solcher Bau art, daß das fotoempfindliche Element in Kontakt mit der Entwicklungswalze kommt, wird eine mit Gummi beschichtete Walze mit solcher Bauart, daß eine Gummischicht auf der Oberfläche eines walzenartigen Grundmaterials (einer Metall welle bzw. eines Metallschafts oder einer ähnlichen Vorrich tung) gebildet wird, als Entwicklungswalze verwendet. Bei der Bilderzeugungsvorrichtung, bei der eine Ladungswalze verwendet wird, wird eine mit Gummi beschichtete Walze eben falls als Ladungswalze verwendet. Bei einer solcher Bilder zeugungsvorrichtung kommt das fotoempfindliche Element immer in Kontakt mit der mit Gummi beschichteten Walze. Es ist da her erforderlich zu verhindern, daß das fotoempfindliche Element mit der mit Gummi beschichteten Walze kontaminiert wird. Insbesondere bei einer Verkleinerung der Vorrichtung wird ein organisches fotoleitendes fotoempfindliches Ele ment, das im folgenden als "OPC-fotoempfindliches Element" bezeichnet wird, welches leicht kontaminiert wird, verwen det. Dementsprechend ist die Verhinderung der Kontamination ein schwieriges Problem.

Es ist weiterhin erforderlich, die Kontaktfläche der Ent wicklungswalze mit dem fotoempfindlichen Element groß zu ma chen, damit die Entwickelbarkeit hoch bleibt. Um dem foto empfindlichen Element gute Ladungseigenschaften zu verlei hen, ist es erforderlich, die Kontaktfläche der Ladungswalze mit dem fotoempfindlichen Element zu vergrößern. Damit die Kontaktfläche größer wird, ist es erforderlich, die Härte dieser mit Gummi beschichteten Walzen zu erniedrigen. Damit die erforderliche Vorspannung an diese mit Gummi beschichte ten Walzen angelegt werden kann, ist es erforderlich, den elektrischen Widerstand der mit Gummi beschichteten Walzen zu erniedrigen. Zusätzlich müssen die mit Gummi beschichte ten Walzen eine niedrige Abhängigkeit des elektrischen Wi derstands von der Umgebung besitzen und einen niedrigen sta bilen elektrischen Widerstand aufweisen. Diese mit Gummi be schichteten Walzen erleiden eine Deformation, bedingt durch den Kontakt mit dem fotoempfindlichen Element. Jedoch muß vermieden werden, daß sie durch diese Deformation permanent deformiert werden. Wie oben beschrieben, müssen die mit Gum mi beschichteten Walzen, welche in Kontakt mit dem fotoemp findlichen Element, wie mit der Entwicklungswalze und der Beladungswalze, verwendet werden, viele Eigenschaften und/oder charakteristische Merkmale aufweisen.

Zur Erfüllung dieser Forderungen für die Entwicklungswalze wurden verschiedene Untersuchungen durchgeführt und ver schiedene Vorschläge gemacht. Beispielsweise wurde vorge schlagen, eine Gummischicht mit einer Kautschukzusammenset zung zu bilden, bei der ein Siliconkautschuk mit hohem elek trischen Widerstand mit Teilchen von leitfähigem Silicon kautschuk compoundiert wird, um den elektrischen Widerstand der Entwicklungswalze auf ihrer Oberfläche zu verringern (offengelegte japanische Patentanmeldung Nr. 251464/1988). Es wurde weiterhin vorgeschlagen, eine Kautschukzusammenset zung zu verwenden, bei der Siliconkautschuk mit Carbon- Black, das mit einem grenzflächenaktiven Mittel behandelt wurde, compoundiert wird (offengelegte japanische Patentan meldung Nr. 255769/1990). Es ist möglich, die Härte der Gum mischicht unter Verwendung des Siliconkautschuks zu er niedrigen. Es ist jedoch schwierig, den elektrischen Wider stand davon ausreichend zu erniedrigen.

Es wird angegeben, daß ein Copolymerkautschuk, der aus Pro pylenoxid (wenn Ethylenoxid im Gemisch verwendet wird, wird es in einer Menge verwendet, die nicht größer ist als die von Propylenoxid), Epichlorhydrin und einem ethylenisch un gesättigten Epoxid besteht (offengelegte japanische Patent anmeldung Nr. 219775), ein Copolymerkautschuk, der aus Pro pylenoxid und Epichlorhydrin besteht (offengelegte japani sche Patentanmeldung Nr. 241578/1989) und ähnlichen Kaut schuken mit niedrigem elektrischen Widerstand und niedriger Härte sind. Jedoch erreichen die Eigenschaften dieser Kaut schuke nicht die Werte, die für mit Gummi beschichtete Wal zen, wie eine Entwicklungswalze und eine Ladungswalze, er forderlich sind. Das Problem der Kontamination des fotoemp findlichen Elements wurde ebenfalls nicht gelöst.

Kürzlich wurde eine Entwicklungswalze vorgeschlagen, die durch Laminierung einer ersten Schicht, die aus einer Zu sammensetzung gebildet wurde, wobei ein Gemisch aus Poly norbornen und einem Ethylen-Propylen-Copolymeren mit Öl und Carbon-Black compoundiert wird, einer zweiten Schicht, die aus einem Copolymerkautschuk aus Ethylenoxid und Epichlor hydrin gebildet wurde, und einer dritten Schicht, die aus einem N-methoxymethylierten Nylonharz gebildet wurde, auf einander laminiert wurden (offengelegte japanische Patent anmeldung Nr. 311871/1990). Jedoch ist eine solche Laminat struktur schwierig herzustellen. Zusätzlich ist bei dem Ver fahren, bei dem der elektrische Widerstand durch Compoundie rung einer großen Menge an leitfähigen Teilchen, wie Carbon- Black, erreicht wird, der Dispersionszustand der leitfähigen Teilchen Variationen unterworfen in Abhängigkeit von den Knetbedingungen. Bei einem solchen Verfahren ist jedoch die Schwierigkeit aufgetreten, daß der elektrische Widerstand der Walze variiert. Die Compoundierung der leitfähigen Teil chen in mehr Material bewirkt, daß die Oberflächenhärte der mit Gummi beschichteten Walze zu hoch wird.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine mit Gummi beschichtete Walze zur Verfügung zu stellen, die nicht irgendein fotoempfindliches Element kontaminiert, de ren elektrischer Widerstand wenig von der Umgebung abhängt, die einen stabilen niedrigen elektrischen Widerstand und eine niedrige Härte besitzt.

Genauer gesagt, liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine mit Gummi beschichtete Walze zur Verfügung zu stellen, die als Entwicklungswalze oder als Ladungswalze, die in Kontakt mit einem fotoempfindlichen Element in einer Bildformungsvorrichtung angeordnet ist, verwendet werden kann, wobei ein elektrostatisches latentes Bild auf dem fo toempfindlichen Element zu einem sichtbaren Bild mit einem Entwickler entwickelt wird.

Erfindungsgemäß soll eine Kautschukmasse für die mit Gummi beschichteten Walzen zur Verfügung gestellt werden, die für die Herstellung einer Oberflächenschicht einer solchen mit Gummi bedeckten Walze geeignet ist.

Erfindungsgemäß soll eine Bilderzeugungsvorrichtung zur Ver fügung gestellt werden, die mit der mit Gummi beschichteten Walze, die die oben beschriebenen Eigenschaften besitzt, ausgerüstet ist.

Die genannten Erfinder haben ausgedehnte Untersuchungen durchgeführt, um die oben erwähnten Schwierigkeiten, die ge mäß dem Stand der Technik auftreten, zu lösen. Als Ergebnis wurde gefunden, daß die obigen Aufgaben gelöst werden können mit einer mit Gummi beschichteten Walze, bei der eine Gummi schicht aus vulkanisiertem Kautschuk gebildet wird, der durch Vulkanisieren eines Kautschukgemisches aus Copolymer kautschuk, der aus einem Alkylenoxid, einem Epihalohydrin und einem ethylenisch ungesättigten Epoxid zusammengesetzt ist, und ungesättigtem Kautschuk erhalten worden ist. Als Vulkanisationsmittel ist ein Vulkanisationsmittel des Schwe feltyps oder ein Peroxid bevorzugt, da dies eine gute Vulka nisationsfähigkeit zeigt und nicht irgendein fotoempfind liches Element kontaminiert.

Die vorliegende Erfindung wurde auf der Grundlage dieser Er kenntnisse zur Vollendung geführt.

Gegenstand der Erfindung ist eine mit Gummi beschichtete Walze mit solcher Struktur, daß eine Gummischicht auf der Oberfläche eines walzenartigen Grundmaterials gebildet wird, die dadurch gekennzeichnet ist, daß die Gummischicht eine Schicht ist, die aus einem Vulkanisat einer Kautschukmasse, die 25 bis 95 Gew.-% Copolymerkautschuk (A), erhalten durch Copolymerisation von 28 bis 70 mol% eines Alkylenoxids, 28 bis 70 mol% eines Epihalohydrins und 2 bis 15 mol% eines ethylenisch ungesättigten Epoxids und 5 bis 75 Gew.-% unge sättigten Kautschuk (B) enthält, hergestellt worden ist.

Gegenstand der Erfindung ist weiterhin eine Bilderzeugungs vorrichtung (oder auch als Vorrichtung zur Herstellung von Bildern bezeichnet) mit solcher Bauart, daß ein fotoempfind liches Element und eine Entwicklungswalze in Kontakt mitein ander angeordnet sind, und wobei ein elektrostatisches la tentes Bild, das auf dem fotoempfindlichen Element gebildet ist, zu einem sichtbaren Bild mit einem nichtmagnetischen Ein-Komponenten-Entwickler, der einheitlich auf der Ober fläche der Entwicklungswalze aufgetragen ist, entwickelt wird, die dadurch gekennzeichnet ist, daß die Entwicklungs walze die oben beschriebene mit Gummi beschichtete Walze ist.

Gegenstand der Erfindung ist weiterhin eine Kautschukzu sammensetzung für mit Gummi beschichtete Walzen, die 100 Ge wichtsteile einer Kautschukkomponente, enthaltend 25 bis 95 Gew.-% Copolymerkautschuk (A), erhalten durch Copolymeri sation von 28 bis 70 mol% Alkylenoxid, 28 bis 70 mol% Epi halohydrin und 2 bis 15 mol% ethylenisch ungesättigtem Epoxid, und 5 bis 75 Gew.-% ungesättigten Kautschuk (B) und 0,1 bis 5 Gewichtsteile Vulkanisationsmittel, bestehend aus einem Vulkanisationsmittel des Schwefeltyps oder einem Per oxid, enthält.

Fig. 1 ist eine Querschnittsansicht und zeigt eine Aus führungsform einer Bilderzeugungsvorrichtung, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann.

Fig. 2 ist eine Querschnittsansicht und zeigt eine andere Ausführungsform einer Bilderzeugungsvorrichtung, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann.

Die Merkmale und Ausführungsformen der vorliegenden Erfin dung werden im folgenden näher erläutert.

Copolymerkautschuk (A)

Der Copolymerkautschuk der Komponente (A), der bei der Durchführung der vorliegenden Erfindung nützlich ist, ist ein Copolymerkautschuk, der durch Copolymerisation von 28 bis 70 mol% Alkylenoxid, 28 bis 70 mol% Epihalohydrin und 2 bis 15 mol% eines ethylenisch ungesättigten Epoxids, bezogen auf die Gesamtmole der Monomeren, erhalten worden ist.

Beispiele für das Alkylenoxid umfassen Ethylenoxid, Propy lenoxid und Butylenoxid. Diese Alkylenoxide können entweder einzeln oder im Gemisch miteinander verwendet werden. Wenn diese Alkylenoxide im Gemisch miteinander verwendet werden, werden Ethylenoxid und Propylenoxid bevorzugt im Gemisch verwendet. Wenn Ethylenoxid (EO) und Propylenoxid (PO) im Gemisch verwendet werden, werden beide Oxide in einem Mol verhältnis (EO : PO) von allgemein 10 : 90 bis 90 : 10 verwendet. Das Molverhältnis von EO : PO kann bevorzugt mindestens 1 be tragen.

Irgendein Copolymerisationsanteil des Alkylenoxids in dem Copolymerkautschuk (A), welches 70 mol% überschreitet, er gibt einen Copolymerkautschuk, der eine hohe Hygroskopizität besitzt oder dessen elektrischer Widerstand stark von der Umgebung abhängt. Andererseits ergeben irgendwelche Anteile unter 28 mol% einen Copolymerkautschuk mit hoher Härte. Es ist im Hinblick auf die praktische Verwendung daher nicht bevorzugt, das Alkylenoxid in irgendeinem Verhältnis außer halb des obigen Bereichs zu verwenden. Der Copolymerisa tionsanteil des Alkylenoxids kann bevorzugt 32 bis 65 mol%, bevorzugter 37 bis 60 mol%, betragen.

Beispiele von Epihalohydrin umfassen Epichlorhydrin, Epi bromhydrin und Epifluorhydrin. Von diesen ist Epichlorhydrin wegen der leichten Verfügbarkeit und ähnlicher Eigenschaften besonders bevorzugt.

Irgendein Copolymerisationsverhältnis des Epihalohydrins in dem Copolymerkautschuk (A), welche 70 mol% überschreitet, ergibt einen Copolymerkautschuk mit hohem elektrischem Wi derstand. Andererseits gibt irgendein Verhältnis unter 28 mol% einen Copolymerkautschuk mit hoher Hygroskopizität oder Abhängigkeit des elektrischen Widerstands von der Umgebung.

Es ist daher im Hinblick auf die praktische Verwendung nicht bevorzugt, Epihalohydrin in irgendeinem Verhältnis außerhalb des obigen Bereichs zu verwenden. Das Copolymerisations verhältnis von Epihalohydrin kann bevorzugt 30 bis 65 mol%, bevorzugter 35 bis 60 mol%, betragen.

Beispiele von ethylenisch ungesättigtem Epoxid umfassen Allylglycidylether, Glycidylmethacrylat, Glycidylacrylat und Butadienmonoxid. Die Einarbeitung des ethylenisch ungesät tigten Epoxids als Comonomeres ermöglicht, daß der Copoly merkautschuk mit einem Vulkanisationsmittel des Schwefeltyps (Schwefel oder ein Schwefeldonor) oder einem Peroxid vulka nisiert werden kann, was einen Copolymerkautschuk mit ver besserter Zersetzungsstabilität bei Erweichen in der Wärme und verbesserter dynamischer Ozonresistenz ergibt. Irgendein Copolymerisationsanteil des ethylenisch ungesättigten Ep oxids in dem Copolymerkautschuk (A), welcher 15 mol% über schreitet, ergibt einen Copolymerkautschuk, der durch Wärme härtung zersetzt wird, wodurch die Kautschukelastizität ver lorengeht und er somit spröde wird. Andererseits ergibt ir gendein Verhältnis unter 2 mol% einen Copolymerkautschuk, der schwierig zu vulkanisieren ist. Außerdem ergibt irgend ein Copolymerisationsverhältnis des ethylenisch ungesättig ten Epoxids außerhalb des obigen Bereichs keine glatte Kaut schukplatte oder es ist schwierig, eine solche Platte herzu stellen. Das Copolymerisationsverhältnis des ethylenisch un gesättigten Epoxids kann bevorzugt 3 bis 10 mol% betragen.

Ungesättigter Kautschuk (B)

Der ungesättigte Kautschuk der Komponente (B), der bei der Durchführung der vorliegenden Erfindung nützlich ist, ist ein Kautschuk mit ungesättigten Bindungen in seinem Molekül. Die Menge der ungesättigten Bindungen in dem Molekül beträgt im allgemeinen 3 bis 500, bevorzugt 5 bis 350, ausgedrückt als Iodzahl. Spezifische Beispiel solcher Kautschuke umfas sen Acrylnitril-Butadien-Copolymerkautschuk (NBR), Ethylen- Propylen-Dien-Terpolymerkautschuk (EPDM), Chloroprenkaut schuk (CR), Acrylnitril-Isopren-Copolymerkautschuk, Acryl nitril-Butadien-Isopren-Terpolymerkautschuk (NBIR), Styrol- Butadien-Copolymerkautschuk (SBR), Butadienkautschuk (BR), Isoprenkautschuk (IR) und teilweise hydrierte Produkte die ser Kautschuke. NBR und das teilweise hydrierte Produkt von NBR (hydriertes NBR) sind besonders bevorzugt. Diese unge sättigten Kautschuke können entweder allein oder im Gemisch davon verwendet werden.

Vulkanisationsmittel (C)

Bei der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, ein Vulka nisationsmittel des Schwefeltyps oder ein Peroxid als Vulka nisationsmittel für die Vulkanisation der Kautschukkomponen te, die den Copolymerkautschuk (A) und den ungesättigten Kautschuk (B) enthält, zu verwenden. Zur Verhinderung der Kontamination des fotoempfindlichen Element der Bildeigen schaften und ähnlicher Eigenschaften ist das Peroxid beson ders bevorzugt. Die Verwendung dieser Vulkanisationsmittel verhindert, daß das fotoempfindliche Element mit der Gummi schicht auf der Oberfläche der mit Gummi beschichteten Walze kontaminiert wird, wobei diese Schicht aus dem vulkanisier ten Kautschuk gebildet ist.

Als Beispiele für Vulkanisationsmittel des Schwefeltyps kön nen Schwefel und Schwefeldonoren genannt werden, die im all gemeinen bei der Vulkanisation von Dienkautschuken verwendet werden. Als Beispiele für Schwefeldonoren können Morpholin disulfid und Thiuramverbindungen, wie Tetramethylthiuram disulfid, verwendet werden. Beispiele für das Peroxid umfas sen Dicumylperoxid, Di-(t-Butylperoxy)diisoproylbenzol, 2,5- Di-t-Butylperoxy-2,5-dimethylhexan und Benzoylperoxid.

Zur Verstärkung der Vulkanisationswirksamkeit des Peroxids kann ein Vernetzungs-Hilfsmittel ebenfalls verwendet werden. Als Vernetzungs-Hilfsmittel ist eine Maleimidverbindung be vorzugt. Spezifische Beispiele davon umfassen Maleimid und Phenylenbismaleimid. Zusätzlich zu den Maleimidverbindungen können auch polyfunktionelle Acryl- oder Methacrylmonomere verwendet werden.

Die Verwendung von Vulkanisationsmitteln außer den Vulkani sationsmitteln des Schwefeltyps und der Peroxide, beispiels weise von Thioharnstoff und Aminverbindungen als Vulkanisa tionsmittel, macht es wahrscheinlich, daß das fotoempfind liche Element mit der vulkanisierten Kauschukschicht der entstehenden mit Gummi beschichteten Walze kontaminiert wird.

Kautschukzusammensetzung

Der Copolymerkautschuk (A) wird in einem Verhältnis von 25 bis 95 Gew.-%, bevorzugt 30 bis 90 Gew.-%, bevorzugter 35 bis 80 Gew.-%, bezogen auf die Kautschukkomponenten [(A) + (B)] verwendet. Der ungesättigte Kautschuk (B) wird in einem Verhältnis von 5 bis 75 Gew.-%, bevorzugt 10 bis 70 Gew.-%, bevorzugter 20 bis 65 Gew.-%, bezogen auf die Kautschukkom ponenten, verwendet. Die Compoundierung des ungesättigten Kautschuks (B) verbessert die Verarbeitbarkeit des compoun dierten Kautschuks wesentlich, beispielsweise wird die Ver knetzeit in großem Ausmaß verkürzt.

Das Vulkanisationsmittel des Schwefeltyps oder das Peroxid, welches als Vulkanisationsmittel verwendet wird, wird in einem Verhältnis von 0,1 bis 5 Gewichtsteilen, bevorzugt 0,2 bis 3 Gewichtsteilen, bevorzugter 0,3 bis 2 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile der Kautschukkomponenten [(A) + (B)] verwendet.

Die erfindungsgemäße Kautschukmasse kann mit üblichen Kaut schuk-Compoundierbestandteilen, wie Mittel zur Verleihung einer Leitfähigkeit, Verstärkungsmaterialien, Füllstoffen und Antioxidantien, je nach Bedarf, compoundiert werden. Die erfindungsgemäße Kautschukmasse kann durch Vermischen aller der oben beschriebenen Komponenten unter Verwendung eines üblicherweise verwendeten Mischers, wie einer Walzenmühle oder eines Banbury-Mischers, hergestellt werden.

Formung und Oberflächenbehandlung der mit Gummi beschich teten Walze

Zur Herstellung eines geformten Gegenstands der gewünschten Form unter Verwendung der erfindungsgemäßen Kautschukzusam mensetzung ist es nur erforderlich, die Kautschukzusammen setzung in eine Form oder ähnliche Vorrichtung zu füllen und im allgemeinen die Form auf 100 bis 250°C zu erhitzen, um die Kautschukzusammensetzung zu vulkanisieren. Zur Formung einer mit Gummi beschichteten Walze ist es nur erforderlich, ein walzenartiges Grundmaterial, wie eine Metallwelle bzw. -achse, als Kernstab in eine Form für eine Walze zu stellen, die Kautschukmasse in die Form zu füllen, so daß eine Walze um den Kernstab gebildet wird, um dann die Form zu erhitzen, um die Kautschukzusammensetzung zu vulkanisieren.

Nach der Vulkanisation und Formung kann die entstehende, mit Gummi beschichtete Walze bevorzugt einer Oberflächenbehand lung unterworfen werden, um den Reibungswiderstand und die Klebrigkeit der Oberfläche zu erniedrigen. Zur Durchführung der Oberflächenbehandlung der mit Gummi beschichteten Walze wird im allgemeinen die Oberfläche auf geeignete Weise mit einem Schleifmittel poliert und dann in folgender Weise be handelt.

Oberflächenbehandlungsverfahren für die mit Gummi beschich tete Walze umfassen die Bestrahlung mit ultraviolettem Licht, die Einwirkung von Ozon, die Anwendung einer reakti ven Siliconverbindung, die Anwendung einer reaktiven Fluor verbindung und ähnliche. Gemäß einer solchen Oberflächenbe handlung kann der Reibungswiderstand der Walzenoberfläche erniedrigt werden, wodurch die Klebrigkeit an das fotoemp findliche Element verringert wird. Als Ergebnis kann die Kontamination des fotoempfindlichen Elements wirksamer ver hindert werden.

Als Beispiel für die Oberflächenbehandlung durch Bestrahlung mit ultraviolettem Licht kann ein Verfahren verwendet wer den, bei dem eine mit Gummi beschichtete Walze, die behan delt werden soll, um eine ultraviolette Lampe (Wellenlänge: 200 bis 450 nm) gedreht wird, um die Walze den ultraviolet ten Strahlen auszusetzen, wobei die Drehung während 1 bis 10 min erfolgt. Beispielsweise kann eine Lampe mit einem Lampen-Output von 80 W/cm und einer Nennleistung von 4000 W bevorzugt als ultraviolette Lampe verwendet werden.

Als Beispiel für die Oberflächenbehandlung durch Einwirkung von Ozon kann ein Verfahren erwähnt werden, bei dem eine mit Gummi beschichtete Walze während etwa 0,5 bis 2 h einer At mosphäre, die Ozon in einer Konzentration von 10 bis 30 pphm (× 10^-8) enthält, bei einer Temperatur von 35 bis 45°C ge halten wird.

Als Beispiel für die Oberflächenbehandlung durch Anwendung der reaktiven Siliconverbindung kann ein Verfahren erwähnt werden, bei dem eine Siliconverbindung, an deren Enden Iso cyanat eingeführt wurde, verwendet wird und wobei die Ober fläche der mit Gummi beschichteten Walze mit einer Lösung mit dieser Siliconverbindung, gelöst in einer Konzentration von etwa 1 bis 10 Gew.-% in einem Lösungsmittel, wie Ethyl acetat, beschichtet wird, und die mit Gummi beschichtete Walze an der Luft getrocknet wird, und dann einer Wärmebe handlung bei etwa 80 bis 120°C während etwa 30 min bis 2 h unterworfen wird.

Als Beispiel für die Oberflächenbehandlung durch Anwendung der reaktiven Fluorverbindung kann ein Verfahren genannt werden, bei dem eine Fluorverbindung, an deren Enden ein Isocyanat eingeführt worden ist, verwendet wird; die Ober fläche der mit Gummi beschichteten Walze wird mit einer Lö sung beschichtet, in der diese Siliconverbindung in einer Konzentration von etwa 1 bis 10 Gew.-% in einem Lösungsmit tel, wie Ethylacetat, gelöst ist, und die mit Gummi be schichtete Walze wird an der Luft getrocknet und dann einer Wärmebehandlung bei etwa 80 bis 120°C während etwa 30 min bis 2 h unterworfen.

Von diesen Oberflächenbehandlungen ist die Behandlung mit Bestrahlung mit ultraviolettem Licht besonders bevorzugt, da die Durchführung einfach ist.

Der elektrische Widerstand (spezifischer Volumenwiderstand) der Gummischicht der erfindungsgemäß mit Gummi beschichteten Walze beträgt im allgemeinen 1 × 10⁵ bis 1 × 10¹¹ X⁻cm, be vorzugt 5 × 10⁶ bis 1 × 10¹⁰ X⁻cm, bei LL-Bedingungen (10°C, 20% relative Feuchte) bei niedriger Temperatur und niedri ger Feuchtigkeit. Wenn dieser elektrische Widerstand zu niedrig ist, läuft die Elektrizität, mit der die Walze gela den ist, aus. Wenn andererseits der elektrische Widerstand zu hoch ist, ist es schwierig, daß der Entwickler (Toner) an der Walze haftet. In beiden Fällen werden die entstehenden sichtbaren Bilder ungenau. Das Verhältnis (a/b) des elektri schen Widerstands (a), gemessen bei LL-Bedingungen, zu elek trischem Widerstand (b), gemessen bei HH-Bedingungen (35°C, 80% relative Feuchte) von hoher Temperatur und hoher Feuch tigkeit soll bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 10 liegen.

Die Hygroskopizität der Gummischicht der erfindungsgemäßen mit Gummi beschichteten Walze beträgt im allgemeinen höch stens 0,7%, bevorzugt höchstens 0,5% und liegt oft im Be reich von 0,1 bis 0,5%.

Die Härte (jeweils Typ Duro A) (JIS K-6253) der Gummischicht der erfindungsgemäßen mit Gummi beschichteten Walze beträgt im allgemeinen 35 bis 65, bevorzugt 40 bis 60, bevorzugter 40 bis 55. Wenn die Härte der Gummischicht zu hoch ist, wird der Kontaktwinkel mit dem fotoempfindlichen Element zu klein, und es besteht weiterhin die Möglichkeit, daß das fo toempfindliche Element beschädigt wird.

Die erfindungsgemäße mit Gummi beschichtete Walze kontami niert das fotoempfindliche Element nicht, selbst wenn sie als Entwicklungswalze oder Ladungswalze in Kontakt mit dem fotoempfindlichen Element in einer Bilderzeugungsvorrichtung verwendet wird, und so werden Bilder mit ausgezeichneten Bildeigenschaften erhalten.

Bilderzeugungsvorrichtung

Die erfindungsgemäße mit Gummi beschichtete Walze ist für die Verwendung als Entwicklungswalze oder Ladungswalze, an geordnet in Kontakt mit dem fotoempfindlichen Element in einer Bilderzeugungsvorrichtung, in der ein auf dem fotoemp findlichen Element gebildetes elektrostatisches latentes Bild zu einem sichtbaren Bild mit einem Entwickler (Toner) entwickelt wird, geeignet.

Als Bilderzeugungsvorrichtung kann eine Bilderzeugungsvor richtung solcher Bauart erwähnt werden, bei der das fotoemp findliche Element und eine Entwicklungswalze in Kontakt mit einander angeordnet sind, und ein elektrostatisches latentes Bild, das auf dem fotoempfindlichen Element gebildet wurde, zu einem sichtbaren Bild mit einem nichtmagnetischen Ein- Komponenten-Entwickler, mit dem die Oberfläche der Entwick lungswalze einheitlich beschichtet ist, entwickelt wird. Beispiele solcher Bilderzeugungsvorrichtungen umfassen die in den Fig. 1 und 2 dargestellten.

Bei der in Fig. 1 dargestellten Bilderzeugungsvorrichtung wird eine Reguliervorrichtung für die Schichtdicke für den Entwickler verwendet, die so angepaßt ist, daß die Schicht dicke des Entwicklers kontrolliert wird. Beispielsweise kann ein Entwicklungsblatt bzw. -messer 3 so angeordnet sein, daß seine freie Kante in Gleitkontakt mit der peripheren Ober fläche der Entwicklungswalze 2 steht. Eine Entwicklerbe schickungswalze 6 kann auf rotierende Weise benachbart zu der Entwicklungswalze 2 angeordnet sein, so daß sie die Ent wicklungswalze unterstützt und verursacht, daß der Toner gut an der peripheren Oberfläche der Entwicklungswalze 2 haftet. Durch die Wirkung der Beschickungswalze 6 und des Entwick lungsblatts bzw. -messers 3 wird der Toner auf die Entwick lungswalze 2 als dünne Schicht einheitlicher Dichte aufge tragen.

Bei einer solchen Bilderzeugungsvorrichtung ist die Entwick lungswalze 2 in rotierender Weise angeordnet, und es wird eine Entwicklungsvorrichtung vorgesehen, die einen Entwick lerbehälter 5, in dem der Toner 4 enthalten ist, umfaßt. Der Toner wird mit einem Rührstab 14 gerührt und einheitlich dispergiert. Die Oberfläche des fotoempfindlichen Elements 1 wird mit Elektrizität durch den Ladungsleiter 9 aufgeladen. Das aufgeladene fotoempfindliche Element 1 wird einem Foto signal oder einem Fotobild 10 aus einer Belichtungsvorrich tung ausgesetzt, wobei ein elektrostatisches latentes Bild auf seiner Oberfläche gebildet wird. Ein Teil des auf die periphere Oberfläche der Entwicklungswalze 2 aufgetragenen Toners wird selektiv auf das fotoempfindliche Element 1 in fixiertem Muster entsprechend dem elektrostatischen latenten Bild, das auf dem fotoempfindlichen Element 1 gebildet wur de, übertragen, wobei ein sichtbares Bild (Tonerbild) auf dem fotoempfindlichen Element 1 gebildet wird. Das so gebil dete sichtbare Bild wird auf ein Übertragungsmaterial 13, wie ein Übertragungspapier, durch den Einfluß eines Ladungs leiters 11 für die Übertragung transferiert, dort mittels eines Verfahrens, wie einem Verbinden durch Schmelzen in der Wärme durch die Fixierrollen 12, fixiert.

Die walzenartige Grundvorrichtung (Kernstab) der Entwick lungswalze 2 kann bevorzugt so gebaut sein, daß eine Vor spannung daran angelegt werden kann. Im Falle der Umkehr entwicklung wird eine Vorspannung mit gleicher Polarität wie die des elektrostatischen latenten Bildes, welches auf dem fotoempfindlichen Element gebildet wurde, angewendet. Das fotoempfindliche Element 1 wird im allgemeinen in Form einer Trommel gebildet. Das Übertragungsmaterial 13 ist beispiels weise Papier oder ein OHP-Film. Nach der Übertragungsstufe wird der Toner, der auf dem fotoempfindlichen Element 1 ver bleibt, durch das Reinigungsblatt bzw. -messer 7 entfernt und in einer Abfall-Tonerbox 8 gesammelt.

Bei der in Fig. 2 dargestellten Bilderzeugungsvorrichtung sind eine Ladungswalze 16 und ein fotoempfindliches Element 1 in Kontakt miteinander angeordnet, so daß an das fotoemp findliche Element 1 über den Kernstab 17 der Ladungswalze aus einer Energiequelle 18 Spannung angelegt werden kann, wodurch die Oberfläche des fotoempfindlichen Elements 1 mit Elektrizität aufgeladen wird. Das fotoempfindliche Element 1 wird mit einer Belichtungsvorrichtung 15 belichtet, wobei ein Laser als Lichtquelle verwendet wird. Dabei wird ein elektrostatisches latentes Bild auf der Oberfläche des auf geladenen fotoempfindlichen Elements 1 gebildet. Dieses elektrostatische latente Bild wird zu einem sichtbaren Bild mit einem Toner, der auf die Entwicklungswalze 2 aufgetragen ist, entwickelt. Dieses sichtbare Bild wird auf ein Übertra gungsmaterial 13 unter Verwendung einer Übertragungswalze 19 übertragen. Spannung mit einer Polarität entgegengesetzt der des Toners wird auf die Übertragungswalze 19 über einen Kernstab 20 der Übertragungswalze 19 aus einer Energiequelle 21 angelegt, so daß zwischen der Übertragungswalze 19 und dem fotoempfindlichen Element 1 ein elektrisches Feld er zeugt wird. Der Toner des fotoempfindlichen Elements 1 wird auf das Übertragungsmaterial 13 durch elektrostatische Kraft dieses elektrischen Feldes übertragen. Nach der Übertra gungsstufe kann der auf dem fotoempfindlichen Element 1 ver bleibende Toner mittels einer Reinigungsvorrichtung entfernt werden. Die in Fig. 2 dargestellte Bilderzeugungsvorrichtung ist jedoch eine Vorrichtung des sog. reinigungsfreien Systems. Bei dem reinigungsfreien System wird der Toner, der nach der Ladungsstufe auf dem fotoempfindlichen Element 1 verbleibt, an die Entwicklungsvorrichtung durch elektrosta tische Kraft angezogen, die durch Differenz zwischen dem Oberflächenpotential des geladenen fotoempfindlichen Ele ments 1 und der Entwicklungsvorspannung erzeugt wird. Die Entwicklungswalze 2 ist so gebaut, daß die Vorspannung an die Entwicklungswalze 2 über ihren Kernstab angelegt werden kann.

Die erfindungsgemäße Bilderzeugungsvorrichtung kann bevor zugt um das fotoempfindliche Element eine Ladungsvorrichtung für die gleichmäßige und einheitliche Aufladung des fotoemp findlichen Elements mit Elektrizität, eine Belichtungsvor richtung (Vorrichtung zur Bildung eines latenten Bildes), die aus einem Laser oder ähnlichem besteht, zum Aufschreiben eines elektrostatischen latenten Bilds auf der Oberfläche des fotoempfindlichen Elements, das einheitlich aufgeladen ist, die oben beschriebene Entwicklungsvorrichtung und eine Übertragungsvorrichtung für die Übertragung des sichtbaren Bilds, das entwickelt wurde, auf ein Übertragungspapier oder ähnlichem, umfassen. Eine Reinigungsvorrichtung für die Ent fernung von überschüssigem Entwickler, der an der Oberfläche des fotoempfindlichen Elements haftet, kann zwischen der Übertragungsvorrichtung und der Ladungsvorrichtung angeord net sein. Die Reinigungsvorrichtung ist im allgemeinen so konstruiert, daß sie ein Messer bzw. ein Blatt oder eine Walze umfaßt. Wenn die Reinigung zur gleichen Zeit wie die Entwicklung erfolgt, ist diese Reinigungsvorrichtung nicht immer erforderlich.

Entwickler

Hinsichtlich des Entwicklers, der bei der erfindungsgemäßen Bilderzeugungsvorrichtung verwendet werden kann, gibt es keine besondere Beschränkung. Im allgemeinen wird jedoch ein nichtmagnetischer Ein-Komponenten-Entwickler verwendet. Ein Entwickler, wie er nachstehend beschrieben wird, ist beson ders bevorzugt.

Ein bevorzugter Entwickler, der in der erfindungsgemäßen Bilderzeugungsvorrichtung verwendet werden kann, ist ein sphärischer bzw. kugeliger nichtmagnetischer Ein-Komponen ten-Entwickler mit solchen physikalischen Eigenschaften, daß der volumendurchschnittlichen Teilchendurchmesser (dv) im Bereich von im allgemeinen 3 bis 15 µm, bevorzugt 5 bis 10 µm liegt, und daß das Verhältnis (dv/dn) des volumen durchschnittlichen Teilchendurchmessers (dv) zu dem zahlen durchschnittlichen Teilchendurchmesser (dn) innerhalb des Bereichs von im allgemeinen 1,0 bis 1,4 liegt. Es ist mehr bevorzugt, daß dieser Entwickler solche physikalischen Eigenschaften besitzt, daß der Quotient (Sc/Sr), erhalten durch Division der Fläche (Sc) eines Kreises unter der An nahme, daß die absolute maximale Länge des Teilchens der Durchmesser ist, durch die reale projizierte Fläche (Sr) des Teilchens erhalten wird, innerhalb eines Bereiches von im allgemeinen 1,0 bis 1,3 liegt, und das Produkt (A×dn×D) aus der spezifischen Oberfläche (A) [m²/g], bestimmt gemäß dem BET-Verfahren, dem zahlendurchschnittlichen Teilchendurch messer (dn) [µm] und dem wahren spezifischen Gewicht (D) in nerhalb des Bereiches von 5 bis 10 liegt und somit im we sentlichen sphärisch ist. Es ist weiterhin bevorzugt, daß der Entwickler solche physikalischen Eigenschaften besitzt, daß das Verhältnis (Q/A) der Ladungsmenge (Q) [µC/g] zu der spezifischen Oberfläche (A) im Bereich von 80 bis 150 liegt. Beispiele für sphärische Entwickler umfassen Toner des Kap seltyps, die einen Kern, bestehend aus einem weichen Harz und eine Umhüllung, bestehend aus einem harten Harz, umfas sen, und gefärbte Toner.

Ein solcher sphärischer nichtmagnetischer Ein-Komponenten- Entwickler kann beispielsweise durch Polymerisation eines innigen Gemisches, welches mindestens ein Vinylmonomeres und mindestens einen Farbstoff enthält, durch Suspensionspolyme risationsverfahren hergestellt werden. Als Beispiel eines spezifischen Suspensionspolymerisationsverfahrens kann ein Verfahren verwendet werden, bei dem ein Gemisch, welches ein Vinylmonomeres, einen Farbstoff und einen Polymerisations initiator, und als mögliche Komponenten verschiedene Arten von Additiven enthält, innigst in einer Kugelmühle oder einer ähnlichen Vorrichtung unter Bildung eines innigen Flüssigkeitsgemisches vermischt wird, und das so erhaltene innige Flüssigkeitsgemisch dann fein in Form von Tröpfchen in Wasser unter hoher Schereinwirkung dispergiert wird, wo bei eine wäßrige Dispersion erhalten wird. Dann wird die Dispersion der Suspensionspolymerisation allgemein bei einer Temperatur von 30 bis 200°C unterworfen.

Es ist weiterhin möglich, in den nichtmagnetischen Ein-Kom ponenten-Entwickler gleichzeitig oder anschließend Zusatz stoffe für die Kontrolle der Ladungseigenschaften, elektri scher Leitfähigkeit, der Fließfähigkeit oder der Adhäsions eigenschaften gegenüber dem fotoempfindlichen Element oder der Fixierwalze zuzugeben. Solche Zusatzstoffe umfassen bei spielsweise Freisetzungs- bzw. Trennmittel, wie Polypropylen mit niedrigem Molekulargewicht, Polyethylen mit niedrigem Molekulargewicht, verschiedene Arten von Wachsen und Sili conöle; und feine anorganische Pulver, wie CarbonBlack-Pul ver, Silicapulver, Aluminiumoxidpulver, Titanoxidpulver, Zinkoxidpulver, Ceroxidpulver und Calciumcarbonatpulver.

Die vorliegende Erfindung besitzt die folgenden Vorteile

Es werden erfindungsgemäß mit Gummi beschichtete Walzen zur Verfügung gestellt, die nicht irgendwelche fotoempfindlichen Elemente kontaminieren, einen stabilen niedrigen elektri schen Widerstand besitzen und deren elektrischer Widerstand von der Umgebung kaum abhängt und die eine niedrige Härte aufweisen. Erfindungsgemäß wird ebenfalls eine Kautschuk masse zur Verfügung gestellt, die für die Herstellung einer Oberflächenschicht solcher mit Gummi beschichteter Walzen verwendet werden kann. Die erfindungsgemäßen mit Gummi be schichteten Walzen können auf geeignete Weise als Entwick lungswalzen und/oder Ladungswalzen in einer Bilderzeugungs vorrichtung verwendet werden, mit der ein nichtmagnetisches Ein-Komponenten-Entwicklungsverfahren durchgeführt wird. Zur Herstellung der erfindungsgemäßen mit Gummi beschichteten Walzen wird eine Kautschukmasse, aus der eine Kautschuk schicht gebildet wurde, insbesondere mit einem Vulkanisa tionsmittel des Schwefeltyps oder mit einem Peroxid vulkani siert. Die Oberflächenbehandlung der Kautschukmasse, nachdem sie zu einer mit Gummi beschichteten Walze geformt wurde, kann wirksam verhindern, daß irgendein fotoempfindliches OPC-Element kontaminiert wird. Die erfindungsgemäße Kaut schukmasse besitzt eine ausgezeichnete Verarbeitbarkeit und trägt somit zur Produktivitätsverbesserung und Energieer sparnis bei.

Die folgenden Beispiele und Vergleichsbeispiele erläutern die Erfindung, ohne sie zu beschränken. Die physikalischen Eigenschaften, wie der elektrische Widerstand, die Feuchtig keitsabsorption (Hygroskopizität), die Härte, die Kontami nation des fotoempfindlichen OPC-Elements, die Bildeigen schaften (Bilddichte, Schleier, Kontamination des fotoemp findlichen OPC-Elements) wurden entsprechend den folgenden Verfahren bestimmt.

<Elektrischer Widerstand<

Eine 2 mm dicke Gummiplatte wurde zwischen Elektroden gehal ten, die mit einem Leitring ausgerüstet waren, und eine Gleichstromspannung von 500 V wurde an die Platte angelegt, und es wurde der elektrische Widerstand gemessen. Die Mes sung erfolgte bei zwei Umgebungsbedingungen von LL-Bedin gungen (10°C, 20% relative Feuchte) mit niedriger Tempera tur und niedriger Feuchtigkeit und HH-Bedingungen (35°C, 80% relative Feuchte) mit hoher Temperatur und hoher Feuch tigkeit. Es ist bevorzugt, daß die Differenz im elektrischen Widerstand zwischen den Werten bei LL-Bedingungen und bei HH-Bedingungen in der Größenordnung von 1 liegt, da die Ab hängigkeit des elektrischen Widerstands von der Umgebung niedrig sein soll.

<Feuchtigkeitsabsorption<

Ein 20 mm breiter und 50 mm langer Streifen wurde aus der 2 mm dicken Gummiplatte ausgestanzt und auf einer Waage auf 0,1 mg genau abgewogen. Danach wurde der Streifen für 72 h einer Umgebung von 35°C und 80% RH gehalten und dann wieder gewogen. Das Inkrement wurde durch das ursprüngliche Gewicht dividiert, und der Quotient wurde mit 100 multipliziert. Die so erhaltene Prozenterhöhung (%) wurde als Maß für die Hygroskopizität verwendet. Die Hygroskopizität sollte so niedrig wie möglich sein.

<Härte<

Die Härte wurde entsprechend dem JIS K-6253-Verfahren be stimmt.

<Kontamination des fotoempfindlichen OPC-Elements<

Ein 20 mm breiter und 50 mm langer Streifen wurde aus einer 2 mm Gummiplatte ausgestanzt, an einem im Handel erhältli chen fotoempfindlichen OPC-Element befestigt und dann drei Wochen in einer Umgebung von 50°C und 80% RH stehengelas sen; danach wurde die Gummiplatte gemäß den folgenden drei Bewertungen dahingehend untersucht, ob das fotoempfindliche OPC-Element kontaminiert war oder nicht:
AA: Keine Kontamination wurde im Verlauf von drei Wochen beobachtet;
A: Keine Kontamination wurde im Verlauf von zwei Wochen beobachtet; und
C: Kontamination wurde beobachtet, bevor zwei Wochen ver gangen waren.

<Bildeigenschaften<

Ein kontinuierliches Drucken erfolgte mit der in Fig. 1 er läuterten Bilderzeugungsvorrichtung, und die Bilddichte, der Grad der Schleierbildung auf dem fotoempfindlichen Element und die Kontamination des fotoempfindlichen OPC-Elements (verursacht durch Bildung eines Films aus dem Entwickler, bedingt durch Adhäsion des Entwicklers an das Reinigungs messer) wurden visuell bewertet.

(1) Bilddichte

Die Bewertung der Bilddichte (ID) erfolgte durch Messung der Dichte "einer schwarzen einfarbigen Fläche" mit dem "Macbeth"-Reflexionsdensitometer.

Die Bildeigenschaften wurden entsprechend den folgenden zwei Bewertungen bewertet:
A: Die Bilddichte war hoch, selbst wenn ein kontinuierli ches Drucken von 20 000 Blättern durchgeführt wurde (die Bilddichte war nicht niedriger als 1,3);
C: das Bild ist unscharf, wenn 20 000 Blätter kontinuier lich gedruckt werden und die Bilddichte wird niedrig (die Bilddichte war niedriger als 1,3).

(2) Grad der Schleierbildung auf dem fotoempfindlichen Ele ment

Der Grad der Schleierbildung wurde entsprechend den fol genden vier Bewertungen bewertet:
AA: Es tritt kein Schleier auf, selbst wenn 30 000 Blätter kontinuierlich gedruckt werden;
A: Es tritt kein Schleier auf, selbst wenn 20 000 Blätter kontinuierlich gedruckt werden;
B: Es tritt Schleier auf, wenn 20 000 Blätter kontinuier lich gedruckt werden, aber er ist nicht auffallend; und
C: Es tritt beachtlicher Schleier auf, wenn 20 000 Blät ter kontinuierlich gedruckt werden, und er ist auffal lend.

(3) Druckfestigkeit

Eine mit Gummi beschichtete Walze wurde gegen ein im Handel erhältliches fotoempfindliches OPC-Element gepreßt und dann insgesamt 3 Wochen in einer Umgebung von 50°C und 80% RH stehengelassen, wobei beobachtet wurde, ob die Deformation der Walze durch das Pressen wieder verschwand oder nicht, nachdem mit dem Pressen aufgehört wurde. Es wurde die Druck festigkeit entsprechend den folgenden drei Bewertungen be wertet:
A: Die Walze erlangte wieder die ursprüngliche Form, selbst nachdem drei Wochen vergangen waren;
A: Die Walze erlangte wieder die ursprüngliche Form, selbst nachdem zwei Wochen vergangen waren;
C: Die Walze konnte die ursprüngliche Form nur schwer wiedererlangen, nachdem zwei Wochen vergangen waren.

(4) Kontamination des fotoempfindlichen OPC-Elements

AA: Es wurde kein Einfluß durch Kontamination des fotoemp findlichen OPC-Elements beobachtet, selbst wenn 30 000 Blätter bedruckt wurden;
A: Es wurde kein Einfluß durch Kontamination des fotoemp findlichen OPC-Elements beobachtet, selbst wenn 20 000 Blätter bedruckt wurden; und
C: Weiße Streifen bedingt durch Kontamination des foto empfindlichen OPC-Elements traten im Verlauf des Druckens von 20 000 Blättern auf.

[Beispiele 1 bis 9 und Vergleichsbeispiele 1 bis 9]

Ethylenoxid, Propylenoxid, Epichlorhydrin und Allylglycidyl ether wurden mit einem Katalysator aus einer organischen Aluminiumverbindung gemäß einem per se bekannten Lösungs- Polymerisationsverfahren polymerisiert, wobei Copolymerkaut schuke mit den entsprechenden Copolymerzusammensetzungen, wie sie in den Tabellen 1 und 2 aufgeführt sind, erhalten wurden.

Zu diesen Copolymerkautschuken wurden ihre entsprechenden ungesättigten Kautschuke, wie in den Tabellen 1 und 2 auf geführt, zugegeben, und Calciumcarbonat wurde zu diesen Kautschukkomponenten in einem Verhältnis von 20 Gewichtstei len pro 100 Gewichtsteile Kautschukkomponente zugegeben. Die entsprechenden Vulkanisationssysteme und andere Additive, die in den Tabellen 1 und 2 aufgeführt sind, wurden zur Her stellung von Kautschukzusammensetzungen zugegeben.

Die Zusammensetzungen der Copolymerkautschuke und die Com poundierungsverhältnisse der einzelnen Bestandteile sind in den Tabellen 1 und 2 angegeben. In den Tabellen 1 und 2 wer den die Zusammensetzungen der Copolymerkautschuke in mol% der individuellen Comonomeren angegeben, und die Mischver hältnisse des Copolymerkautschuks zu dem ungesättigten Kautschuk sind durch Gew.-% der individuellen Kautschukkom ponenten ausgedrückt. Die Compoundierungsverhältnisse der Vulkanisationssysteme und anderer Zusatzstoffe sind als Ge wichtsteile pro 100 Gewichtsteile Kautschukkomponente an gegeben.

Die in den obigen Beispielen und Vergleichsbeispielen erhal tenen Kautschukzusammensetzungen wurden getrennt in einer Walzenmühle unter Bildung von Platten verknetet. Die so ge bildeten Platten wurden bei 150°C während 30 min vulkani siert, wobei vulkanisierte Kautschukplatten 2 mm dick erhal ten wurden. Der elektrische Widerstand, die Feuchtigkeitsab sorption (Hygroskopizität), die Härte, die Kontamination des fotoempfindlichen OPC-Elements und die Druckfestigkeit von jedem der vulkanisierten Kautschukplatten, die so erhalten wurden, wurden entsprechend den oben beschriebenen Verfahren gemessen. Die Ergebnisse der Messung der Knetzeit der ent sprechenden Kautschukzusammensetzungen sind ebenfalls kol lektiv angegeben. Die Ergebnisse sind in den Tabellen 1 und 2 angegeben.

Tabelle 1

(*1) NBR:
Acrylnitril-Butadien-Copolymerkautschuk mit einem Acrylnitrilgehalt von 33 Gew.-% und einer Iodzahl von 280.
(*2) Hydrierter NBR:
Hydrierter Acrylnitril-Butadien-Copolymer kautschuk mit einem Acrylnitrilgehalt von 36 Gew.-% und einer Iodzahl von 28.
(*3) EPDM:
Ethylen-Propylencyclopentadien-Copolymerkaut schuk, Warenzeichen "EPDM 1035", Produkt von Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.
(*4): Chloroprenkautschuk:
Warenzeichen "Chloropren PS-40", Produkt von Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha.
(*5) NBIR:
Acrylnitril-Butadien-Isopren-Copolymer kautschuk, Warenzeichen "DN 1201", Produkt von Nippon Zeon Co., Ltd.
(*6) SBR:
Styrol-Butadien-Copolymerkautschuk, Warenzeichen "Nipol 1500", Produkt von Nippon Zeon Co., Ltd.
(*7) Antioxidans 224:
Polymerisiertes Trimethyldihydrochinolin, Produkt von Ouchi-Shinko Chemical Industrial Co., Ltd.

Tabelle 2

Die unter Verwendung der Kautschukzusammensetzungen der Bei spiele 1 bis 9 erhaltenen vulkanisierten Kautschukplatten variierten nur in der Größenordnung von 1 im elektrischen Widerstand zwischen den LL-Bedingungen und den HH-Bedingun gen, und jede Platte hatte einen mäßigen elektrischen Wider stand. Es ist ebenso sicher zu sagen, daß die Abhängigkeit des elektrischen Widerstands von der Umgebung gering war. Diese vulkanisierten Kautschukplatten besitzen ebenfalls eine niedrige Hygroskopizität und eine mäßige Härte. Bei diesen vulkanisierten Kautschukplatten wurde keine besondere Verunreinigung der fotoempfindlichen OPC-Elemente beobach tet. Die Kautschukzusammensetzungen der Beispiele 1 bis 9 besaßen eine ausgezeichnete Verarbeitbarkeit, was durch die Tatsache demonstriert wurde, daß die Knetzeit, während der die Kautschukmasse ausreichend geknetet werden muß, um die Bildung einer Platte zu ermöglichen, so kurz wie 30 bis 35 min war. Die Kautschukmassen der Beispiele 1 bis 9 erge ben noch bessere Kautschukmassen, wenn Ethylenoxid und Pro pylenoxid gemeinsam im Copolymerkautschuk (A) verwendet werden. Die verschiedenen Eigenschaften der Massen sind dann verbessert.

Wenn Massen der Copolymerkautschuke außerhalb des Bereichs des Copolymerkautschuks (A) gemäß der vorliegenden Erfindung (Vergleichsbeispiele 1 bis 8) und wenn Kautschukmassen, die keinen ungesättigten Kautschuk (B) enthalten (Vergleichsbei spiel 9), verwendet werden, werden die folgenden in Einzel heiten beschriebenen Ergebnisse erhalten. Diese Beispiele zeigen, daß sie für die praktische Verwendung als Entwick lungswalzen ungeeignet sind.

Bei der Platte von Vergleichsbeispiel 1, bei dem ein Copoly merkautschuk mit solcher Zusammensetzung verwendet wurde, daß Epichlorhydrin in einer Menge von mehr als 70 mol% vor handen war, waren der elektrische Widerstand und die Abhän gigkeit des elektrischen Widerstands von der Umgebung sehr hoch, und weiterhin war die Härte ebenfalls sehr hoch. Bei Vergleichsbeispiel 2, bei dem der Copolymerkautschuk mit einer Zusammensetzung verwendet wurde, bei der Ethylenoxid in einer Menge von über 70 mol% vorhanden war, waren die Ab hängigkeit des elektrischen Widerstands von der Umgebung und die Hygroskopizität hoch. Bei Vergleichsbeispiel 3, bei dem ein Copolymerkautschuk mit einer Zusammensetzung verwendet wurde, bei dem die Alkylenoxid-Comonomeren in einer Menge von über 70 mol% enthalten waren, unterschieden sich die elektrischen Widerstandswerte stark zwischen den LL-Bedin gungen und den HH-Bedingungen. Bei Vergleichsbeispiel 4, bei dem ein Copolymerkautschuk mit einer solchen Zusammensetzung verwendet wurde, daß kein Allylglycidylether vorhanden war, konnte keine glatte vulkanisierte Kautschukplatte erhalten werden. Bei Vergleichsbeispiel 5, bei dem ein Copolymerkaut schuk mit einer Zusammensetzung verwendet wurde, daß 17 mol% Allylglycidylether vorhanden waren, konnte eine glatte Kaut schukplatte nicht erhalten werden. Die Bewertung der Eigen schaften erfolgte daher bei den Vergleichsbeispielen 4 und 5 nicht. In den Vergleichsbeispielen 6 bis 8, bei denen das Vulkanisationssystem ein Thioharnstoff- oder Aminsystem war, wurde eine Kontamination des fotoempfindlichen OPC-Elements mit der vulkanisierten Kautschukplatte beobachtet. Bei Ver gleichsbeispiel 9, bei dem kein gesättigter Kautschuk (B) zugegeben wurde, besaß die Kautschukzusammensetzung eine schlechte Verarbeitbarkeit, was durch die Knetzeit demon striert wurde, da die Kautschukzusammensetzung, um die Bil dung einer Platte zu ermöglichen, so lange wie 70 min ver knetet werden mußte.

[Beispiel 10]

Es wurden verschiedene Oberflächenbehandlungsversuche mit den vulkanisierten Kautschukplatten, die aus der Kautschuk masse von Beispiel 2 hergestellt wurden, durchgeführt.

Nachdem die vulkanisierte Kautschukplatte mit einer Schleif- bzw. Poliervorrichtung auf eine Oberflächenrauheit von höchstens 20 µm poliert worden war, wurde die so polierte vulkanisierte Kautschukplatte ultravioletten Strahlen wäh rend 2 min aus einer Ultraviolettlampe (Wellenlänge: etwa 280 nm) mit einem Lampen-Output von 80 W/cm und einer Nenn leistung von 4 kW 12 cm entfernt von der Platte ausgesetzt.

Eine Form für eine Walze, in die ein Kernstab vorab einge setzt worden war, wurde mit der Kautschukmasse von Beispiel 2 beschickt, und dann wurde die Kautschukmasse bei 155°C während 30 min vulkanisiert, wobei eine mit Gummi beschich tete Walze erhalten wurde. Nachdem die Oberfläche dieser mit Gummi beschichteten Walze auf eine Oberflächenrauheit von höchstens 20 µm poliert worden war, wurde die so polierte, mit Gummi beschichtete Walze ultravioletten Strahlen während 2 min aus einer Ultraviolettenlampe (Wellenlänge: etwa 280 nm) mit einem Lampen-Output von 80 W/cm und einer Nenn leistung von 4 kW 12 cm entfernt von der mit Gummi beschich teten Walze ausgesetzt. Die Bestrahlung mit ultraviolettem Licht erfolgte, während die mit Gummi beschichtete Walze um die Lampe gedreht wurde.

Nach der Bestrahlung mit ultraviolettem Licht wurde eine Entwicklungswalze in der Bilderzeugungsvorrichtung, die bei einem nichtmagnetischen Ein-Komponenten-Entwicklungsverfah ren verwendet wurde, durch die so behandelte, mit Gummi be schichtete Walze ersetzt, und dann wurden die Bildeigen schaften der Walze (Bilddichte, Grad der Schleierbildung auf dem fotoempfindlichen Element, Kontamination des fotoemp findlichen OPC-Elements) und dergleichen mit einem im we sentlichen sphärischen, nichtmagnetischen Ein-Komponenten- Entwickler mit solchen physikalischen Eigenschaften, daß der volumendurchschnittliche Teilchendurchmesser (dv) 7 µm be trug, das Verhältnis (dv/dn) des volumendurchschnittlichen Teilchendurchmesser (dv) zu dem zahlendurchschnittlichen Teilchendurchmesser (dn) 1,1 betrug, der Quotient (Sc/Sr), erhalten durch Division der Fläche (Sc) des Kreises unter der Annahme, daß die absolute Länge des Teilchens der Durch messer ist, durch die reale projizierte Fläche (Sr) des Teilchens 1,08 betrug, das Produkt (A×dn×D) von der spezifi schen Oberfläche (A) [m²/g], bestimmt gemäß dem BET-Verfah ren, von dem zahlendurchschnittlichen Teilchendurchmesser (dn) [µm] und von dem wahren spezifischen Gewicht (D) 7 be trug und das Verhältnis (Q/A) der Ladungsmenge (Q) [µC/g] zu der spezifischen Oberfläche (A) 105 betrug, bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 angegeben.

[Beispiel 11]

Eine Kautschukplatte und eine leitfähige Walze wurden auf gleiche Weise, wie in Beispiel 10 beschrieben, erhalten, ausgenommen, daß die Bestrahlungsbehandlung mit ultravio lettem Licht in Beispiel 10 zu der folgenden Ozonbehandlung geändert wurde.

Ozonbehandlung: Die vulkanisierte Kautschukplatte wurde 1 h einer Atmosphäre, welche Ozon in einer Konzentration von etwa 20 pphm (× 10^-8) enthielt, bei einer Temperatur von 40°C stehengelassen.

[Beispiel 12]

Eine Kautschukplatte und eine leitfähige Walze wurden auf gleiche Weise, wie in Beispiel 10 beschrieben, erhalten, ausgenommen, daß die Behandlung durch Bestrahlung mit ultra violettem Licht von Beispiel 10 zu der folgenden Anwendung einer reaktiven Siliconverbindung verändert wurde.

Anwendung der reaktiven Siliconverbindung: Eine 10%ige Lö sung in Ethylacetat der Siliconverbindung, zu der ein Iso cyanat zugegeben worden war, wurde auf die Oberfläche der vulkanisierten Kautschukplatte aufgetragen, und die Kaut schukplatte wurde an der Luft getrocknet und dann der Wär mebehandlung bei 100°C während 1 h unterworfen.

[Beispiel 13]

Eine Kautschukplatte und eine leitfähige Walze wurden auf gleiche Weise, wie in Beispiel 10 beschrieben, behandelt, ausgenommen, daß die Behandlung durch Bestrahlung mit ultra violettem Licht von Beispiel 10 zu der folgenden Anwendung einer reaktiven Fluorverbindung geändert wurde.

Anwendung der reaktiven Fluorverbindung: Eine 10%ige Lösung in Ethylacetat der Fluorverbindung, zu der ein Isocyanat zu gegeben worden war, wurde auf die Oberfläche der vulkani sierten Kautschukplatte aufgetragen, und die Kautschukplatte wurde an der Luft getrocknet und dann einer Wärmebehandlung bei 100°C während 1 h unterworfen.

Die entsprechenden vulkanisierten Kautschukplatten, die den verschiedenen Oberflächenbehandlungen unterworfen worden wa ren, wurden getrennt an der Oberfläche eines fotoempfind lichen OPC-Elements zur Bewertung der Neigung, um das foto empfindliche Element zu kontaminieren, angebracht. Wurde eine nichtbehandelte vulkanisierte Kautschukplatte verwen det, so wurde am 18. Tag eine geringe Kontamination des fo toempfindlichen OPC-Elements beobachtet. Wenn die vulkani sierten Kautschukplatten, die den entsprechenden Oberflä chenbehandlungen unterworfen worden waren, getrennt verwen det wurden, wurde keine Oberflächenkontamination des foto empfindlichen OPC-Elements beobachtet, selbst nachdem drei Wochen nach der Anbringung vergangen waren. Sowohl bei der nichtbehandelten, mit Gummi bedeckten Walze als auch bei den behandelten, mit Gummi bedeckten Walzen war die Bilddichte zu Beginn des Druckens, selbst nachdem 20 000 Blätter be druckt waren, gleich (Bilddichte: A), und es wurde kaum ein Schleier beobachtet (Grad des Schleiers auf dem fotoempfind lichen Element: A). Zusätzlich wurde kaum eine Oberflächen kontamination des fotoempfindlichen OPC-Elements beobachtet, wenn eine nichtbehandelte, mit Gummi beschichtete Walze ver wendet wurde (Kontamination des fotoempfindlichen OPC-Ele ments: A). Wenn die mit Gummi beschichteten Walzen, die Oberflächenbehandlungen unterworfen worden waren, getrennt verwendet wurden, wurde in allen Fällen keine Oberflächen kontamination beobachtet (Kontamination des fotoempfind lichen OPC-Elements: A).

[Beispiele 14 bis 18]

Kautschukplatten und leitende Walzen wurden auf gleiche Wei se, wie in Beispiel 10 beschrieben, erhalten, ausgenommen, daß die in Beispiel 10 verwendete Kautschukmasse so geändert wurde, daß Kautschukmassen mit den entsprechenden Rezeptu ren, wie in Tabelle 3 angegeben, verwendet wurden. Die Er gebnisse ihrer Bewertung sind in Tabelle 3 angegeben.

Tabelle 3

Aus den obigen Ergebnissen folgt, daß die Entwicklungswalze, die aus den jeweiligen mit Gummi beschichteten erfindungsge mäßen Walzen besteht, das fotoempfindliche Element nicht kontaminiert, einen niedrigen elektrischen stabilen Wider stand besitzt, eine niedrige Abhängigkeit des elektrischen Widerstands von der Umgebung und eine niedrige Härte be sitzt.

Claims

1. Mit Gummi beschichtete Walze solcher Struktur, daß auf der Oberfläche eines walzenartigen Grundmaterials eine Gum mischicht gebildet worden ist, dadurch gekenn zeichnet, daß die Gummischicht eine Schicht ist, die aus einem Vulkanisat einer Kautschukmasse gebildet wor den ist, welche 25 bis 95 Gew.-% Copolymerkautschuk (A), er halten durch Copolymerisation von 28 bis 70 mol% Alkylen oxid, 28 bis 70 mol% Epihalohydrin und 2 bis 15 mol% ethy lenisch ungesättigten Epoxid, und 5 bis 75 Gew.-% ungesät tigten Kautschuk (B) enthält.

2. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkylenoxid minde stens eines ist, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Ethylenoxid und Propylenoxid.

3. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Epihalohydrin Epi chlorhydrin ist.

4. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das ethylenisch unge sättigte Epoxid mindestens eine Verbindung ist, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Allylglycidylether, Glycidyl methacrylat, Glycidylacrylat oder Butadienmonoxid.

5. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Copolymerkautschuk (A) durch Copolymerisation von 28 bis 70 mol% mindestens eines Alkylenoxids, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Ethylenoxid und Propylenoxid, 28 bis 70 mol% Epichlorhydrin und 2 bis 15 mol% ethylenisch ungesättigtem Epoxid, ausge wählt aus der Gruppe, bestehend aus Allylglycidylether, Glycidylmethacrylat, Glycidylacrylat und Butadienmonoxid, erhalten worden ist.

6. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der ungesättigte Kaut schuk (B) eine Iodzahl von 3 bis 500 besitzt.

7. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der ungesättigte Kaut schuk (B) mindestens ein ungesättigter Kautschuk ist, aus gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Acrylnitril-Butadien- Copolymerkautschuk, Ethylen-Propylen-Dien-Terpolymerkaut schuk, Chloroprenkautschuk, Acrylnitril-Isopren-Copolymer kautschuk, Acrylnitril-Butadien-Isopren-Terpolymerkautschuk, Styrol-Butadien-Copolymerkautschuk, Butadienkautschuk, Iso prenkautschuk und teilweise hydrierten Produkten dieser Kautschuke.

8. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der ungesättigte Kaut schuk (B) ein Acrylnitril-Butadien-Copolymerkautschuk oder ein teilweise hydriertes Produkt davon ist.

9. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die aus dem Vulkanisat der Kautschukmasse gebildete Schicht eine Schicht ist, die aus vulkanisiertem Kautschuk gebildet worden ist, der durch Vulkanisation der Kautschukmasse mit einem Vulkanisations mittel des Schwefeltyps oder einem Peroxid erhalten worden ist.

10. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gummischicht einer Oberflächenbehandlung durch ultraviolette Bestrahlung, der Einwirkung von Ozon, der Anwendung einer reaktiven Silicon verbindung oder der Anwendung einer reaktiven Fluorverbin dung unterworfen worden ist.

11. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Kautschukschicht der Oberflächenbehandlung nach ihrer Polierung unterworfen wor den ist.

12. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklungswalze in Kontakt mit dem fotoempfindlichen Element in einer Bild erzeugungsvorrichtung, in der ein elektrostatisches latentes Bild auf dem fotoempfindlichen Element zu einem sichtbaren Bild mit einem Entwickler entwickelt wird, angeordnet ist.

13. Mit Gummi beschichtete Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Ladungswalze in Kontakt mit dem fotoempfindlichen Element in einer Bilder zeugungsvorrichtung angeordnet ist, bei der ein elektro statisches latentes Bild auf dem fotoempfindlichen Element zu einem sichtbaren Bild mit einem Entwickler entwickelt wird.

14. Bilderzeugungsvorrichtung solcher Bauart, daß ein foto empfindliches Element und eine Entwicklungswalze in Kontakt miteinander angeordnet sind, und wobei ein elektrostatisches latentes Bild, das auf dem fotoempfindlichen Element gebil det wurde, zu einem sichtbaren Bild mit einem nichtmagneti schen Ein-Komponenten-Entwickler, der einheitlich auf der Oberfläche der Entwicklungswalze aufgetragen worden ist, entwickelt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklungswalze aus einer mit Gummi beschichteten Walze besteht, die durch Bildung auf der Oberfläche eines walzenartigen Materials, einer Schicht aus einem Vulkanisat einer Kautschukzusammensetzung, welche 25 bis 95 Gew.-% Co polymerkautschuk (A), erhalten durch Copolymerisation von 28 bis 70 mol% Alkylenoxid, 28 bis 70 mol% Epihalohydrin und 2 bis 15 mol% ethylenisch ungesättigtem Epoxid, und 5 bis 75 Gew.-% ungesättigten Kautschuk (B) enthält, gebildet worden ist.

15. Bilderzeugungsvorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Bilderzeugungs vorrichtung ebenfalls mit einer Ladungswalze ausgerüstet ist, die in Kontakt mit dem fotoempfindlichen Element zu sammen mit der Entwicklungswalze angeordnet ist, und wobei die Ladungswalze aus der mit Gummi beschichteten Walze be steht.

16. Kautschukmasse für mit Gummi beschichtete Walzen, ent haltend 100 Gewichtsteile einer Kautschukkomponente, welche 25 bis 95 Gew.-% Copolymerkautschuk (A), erhalten durch Co polymerisation von 28 bis 70 mol% Alkylenoxid, 28 bis 70 mol% Epihalohydrin und 2 bis 15 mol% ethylenisch ungesät tigtem Epoxid, und 5 bis 75 Gew.-% ungesättigten Kautschuk (B) enthält, und 0,1 bis 5 Gew.-% eines Vulkanisationsmit tels, bestehend aus einem Vulkanisationsmittel des Schwefel typs oder einem Peroxid.