DE19521470A1 - Datenausgabepuffer - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft einen Datenausgabepuffer und
insbesondere einen solchen, der die Entwicklung eines
unerwünschten Sperr- oder Latch-up-Effektes verhindern kann,
indem ein N-Mulden-Schutzring vorgesehen ist, so daß die vom
Drain eines NMOS-Transistors injizierten
Minoritätsladungsträger den N⁺-Aufnahmebereich eines PMOS-
Transistors nicht erreichen können.
Im allgemeinen ist ein Datenausgabepuffer mit einem CMOS-
Transistor versehen,der einen NMOS-Transistor und einem PMOS-
Transistor umfaßt. Wenn vom Drain des NMOS-Transistors
injizierte Minoritätsladungsträger zum N⁺-Aufnahmebereich
gelangen, um eine Vorspannung an die N-Mulde anzulegen, in
der der PMOS-Transistor ausgebildet ist, und die Anzahl der
Minoritätsladungsträger, die den N⁺-Aufnahmebereich der N-
Mulde erreichen groß ist, wird ein bipolarer Transistor, der
parasitär existiert, eingeschaltet und hierdurch ein
unerwünschter Sperreffekt hervorgerufen.
Ein Datenausgabepuffer mit einem herkömmlichen CMOS-
Transistor wird anhand von Fig. 1 und 2 nachfolgend
beschrieben.
Fig. 1 zeigt das Layout des Datenausgabepuffers und Fig. 2
eine quergeschnittene Ansicht längs der Linie X-X′ in Fig. 1.
Eine P-Mulde 2 und eine N-Mulde 3 sind in einem P-dotierten
Substrat 1 ausgebildet, wobei die P-Mulde 2 gegenüber der N-
Mulde 3 isoliert ist. Ein NMOS-Transistor ist in der P-Mulde
2 und ein PMOS-Transistor in der N-Mulde 3 vorgesehen. Ein
erster N-Mulden-Schutzring 4A ist um der P-Mulde 2 und ein
zweiter N-Mulden-Schutzring 4B um der N-Mulde 3 ausgebildet.
Der NMOS-Transistor besteht aus einer Gateelektrode 21 und
ersten und zweiten N⁺-Bereichen 22 und 23, die mit einer
Quellen- bzw. Drainelektrode verbunden sind. Der erste N⁺-
Bereich 22 ist mit einer geerdeten Spannungsquelle Vss und
der zweite N⁺-Bereich 23 mit einem Dateneingabe- und
-ausgabekontaktierungsflecken (Daten I/O-Flecken) 5 verbunden.
Der PMOS-Transistor besteht aus einer Gateelektrode 31 und
ersten und zweiten P⁺-Bereichen 32, 33, die mit einer
Quellen- bzw. Drainelektrode verbunden sind. Ein erster
Aufnahmebereich 34 zum Anlegen einer Vorspannung Vcc an die
N-Mulde 3 ist nahe dem zweiten P⁺-Bereich 33 vorgesehen. Der
erste P⁺-Bereich 32 ist mit dem Dateneingabe- und
-ausgabeflecken 5 verbunden, und die Vorspannung Vcc liegt am
zweiten P⁺-Bereich 33 und ersten N⁺-Aufnahmebereich 34 an.
Ein zweiter und ein dritter N⁺-Aufnahmebereich 41A und 41B
zum Anlegen der Vorspannung Vcc sind in den ersten und
zweiten N-Mulden-Schutzringen 4A bzw. 4B ausgebildet. Die
Vorspannung Vcc liegt an dem zweiten und dritten N⁺-
Aufnahmebereich 41A und 41B an. In der Zeichnung betreffen
die Bezugszeichen 6 und 7 eine Isolierschicht bzw. einen
Metalleiter.
Beim Betrieb eines Datenausgabepuffers mit dem vorerwähnten
Aufbau werden die Minoritätsladungsträger, die von dem
zweiten N⁺-Bereich 23, d. h. einem Drain des NMOS-Transistors
injiziert wurden, im ersten und zweiten N-Mulden-Schutzring
4A und 4B eingefangen. Einige der Minoritätsladungsträger
können sich jedoch zum ersten N⁺-Aufnahmebereich der N-Mulde
3 bewegen.
Wenn die vom zweiten N⁺ -Bereich 23 injizierten
Minoritätsladungsträger nicht vollständig vom ersten und
zweiten N-Mulden-Schutzring 4A bzw. 4B abgefangen werden und
zum ersten N⁺-Aufnahmebereich 34 zum Anlegen der Vorspannung
an die N-Mulde 3 gelangen, in der der PMOS-Transistor
ausgebildet ist, wird der parasitär existierende bipolare
Transistor eingeschaltet, was einen Sperreffekt hervorruft.
Folglich wird die Zuverlässigkeit der Vorrichtung hierdurch
beeinträchtigt.
Ein Ziel der Erfindung ist die Schaffung eines
Datenausgabepuffers, der eine Vorrichtung mit verbesserter
Zuverlässigkeit ermöglicht, indem das Auftreten eines
Sperreffektes, wie er durch die Bewegung von
Minoritätsladungsträgern hervorgerufen werden kann, die von
einem NMOS-Transistor in einen N⁺-Aufnahmebeereich zum
Anlegen der Vorspannung an eine N-Mulde des PMOS-Transistors
injiziert werden, verhindert wird.
Zur Lösung dieses Zieles wird auf den Patentanspruch 1
verwiesen.
Der Datenausgabepuffer nach der Erfindung zeichnet sich
demzufolge durch das Vorsehen eines N-Mulden-Schutzringes
aus, der die Bewegung der Minoritätsladungsträger unterbricht
und weitreichend zwischen einer P-Mulde und einer N-Mulde auf
einem Substrat ausgebildet ist.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand einer Ausführungsform
und der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 den Layout eines Datenausgabepuffers
herkömmlicher Bauart,
Fig. 2 eine quergeschnittene Ansicht längs der
Schnittlinie X-X′ in Fig. 1,
Fig. 3 den Layout eines Datenausgabepuffers nach der
Erfindung, und
Fig. 4 eine quergeschnittene Ansicht längs der
Schnittlinie X-X′ in Fig. 3.
Fig. 3 zeigt das Layout eines erfindungsgemäß aufgebauten
Datenausgabepuffers, und Fig. 4 ist eine quergeschnittene
Ansicht längs der Schnittlinie X-X′ in Fig. 3.
Der Datenausgabepuffer nach der Erfindung besteht aus
folgenden Teilen: einem MNOS-Transistor (N-Kanal-MOS) mit
einem Anschluß, der mit einer geerdeten Spannungsquelle Vss
verbunden ist, während der andere Anschluß mit einem
Dateneingabe- und -ausgabekontaktierungsfleck verbunden ist;
einem PMOS-Transistor (P-Kanal-MOS) mit einem Anschluß, der
mit einer Vorspannungsquelle Vcc verbunden ist, während der
andere Anschluß mit dem Dateneingabe- und
-ausgabekontaktierungsfleck verbunden ist; und einem N-Mulden-
Schutzring, der zwischen dem NMOS-Transistor und dem PMOS-
Transistor vorgesehen ist, um die Bewegung von
Minoritätsladungsträgern zu unterbrechen.
Der wichtigste Teil des Datenausgabepuffers nach der
Erfindung ist der N-Mulden-Schutzring zur Unterbrechung der
Bewegung der Minoritätsladungsträger. Daher wird die
Erfindung im Detail unter Konzentration auf den N-Mulden-
Schutzring nachfolgend erläutert, während die Beschreibung
der übrigen Aufbauteile weggelassen wird, da diesbezüglich
auf die Beschreibung der Fig. 1 und 2 Bezug genommen werden
kann.
Nach Fig. 3 und 4 ist bei dem Datenausgabepuffer nach der
Erfindung der N-Mulden-Schutzring 4 zwischen der P-Mulde 2
und der N-Mulde 3 vorgesehen und in einem bestimmten Abstand
von der N-Mulde 2 und der P-Mulde 3 getrennt. Daher wird sein
Bereich vergrößert.
D.h. der N-Mulden-Schutzring 4 hat keine geteilte Struktur
wie der erste und zweite N-Mulden-Schutzring 4A und 4B gemäß
Fig. 1 und 2, sondern stellt eine großflächig erweiterte und
integrierte Struktur dar. Folglich werden die
Minoritätsladungsträger, die sich vom zweiten N⁺-Bereich 23
zum ersten N⁺-Aufnahmebereich 34 des PMOS-Transistors
bewegen, vollständig im N-Mulden-Schutzring 4 eingefangen, so
daß das Auftreten eines unerwünschten Sperreffektes
verhindert wird.
Ferner sind bei dem herkömmlichen Datenausgabepuffer der
zweite und der dritte N⁺-Aufnahmebereich 41A und 41B, die die
Vorspannung Vcc anlegen, im ersten bzw. zweiten N-Mulden-
Schutzring 4A bzw. 4B ausgebildet. Bei der Erfindung jedoch
ist der N-Mulden-Schutzring 4 als ein integrierter Ring
ausgebildet und ein N⁺-Aufnahmebereich 41, der die
Vorspannung Vcc anlegt, längs der Innenseite des N-Mulden-
Schutzringes 4 vorgesehen.
Wie zuvor beschrieben, ist erfindungsgemäß der N-Mulden-
Schutzring weiträumig zwischen der P- und N-Mulde ausgebildet
und von diesen Mulden in einem bestimmten Abstand getrennt,
so daß die vom Drain des NMOS-Transistors zum
Aufnahmebereich des PMOS-Transistors übergehenden
Minoritätsladungsträger vollständig vom N-Mulden-Schutzring
abgefangen werden, was die Entwicklung eines unerwünschten
Sperreffektes verhindert. Folglich wird die Zuverlässigkeit
der Vorrichtung verbessert.
Obgleich die Erfindung anhand einer bevorzugten
Ausführungsform mit einem gewissen Maß an Spezialisierung
beschrieben wurde, versteht es sich, daß der Fachmann anhand
der gegebenen Lehre Änderungen an der Konstruktion sowie der
Kombination und der Anordnung der Teile vornehmen kann, ohne
daß vom Wesen der Erfindung dadurch abgewichen wird.
Claims (4)
1. Datenausgabepuffer, gekennzeichnet durch
einen NMOS-Transistor, der auf einer P-Mulde eines P- dotierten Substrates ausgebildet ist und einen ersten und zweiten N⁺-Bereich, die mit einer Quellen- bzw. Drainelektrode verbunden sind, und eine Gateelektrode umfaßt;
einen PMOS-Transistor, der in einer N-Mulde des P-dotierten Substrates ausgebildet ist und einen ersten und zweiten P⁺ Bereich, die mit einer Quellen- bzw. Drainelektrode verbunden sind, und eine Gateelektrode umfaßt;
einen Dateneingabe- und -ausgabekontaktierungsflecken, der mit dem zweiten N⁺-Bereich des NMOS-Transistors und dem ersten P⁺-Bereich des PMOS-Transistors verbunden ist; und
einen N-Mulden-Schutzring, der zwischen der P-Mulde und der N-Mulde vorgesehen ist und in einem bestimmten Abstand von der P-Mulde und der N-Mulde getrennt ist.
einen NMOS-Transistor, der auf einer P-Mulde eines P- dotierten Substrates ausgebildet ist und einen ersten und zweiten N⁺-Bereich, die mit einer Quellen- bzw. Drainelektrode verbunden sind, und eine Gateelektrode umfaßt;
einen PMOS-Transistor, der in einer N-Mulde des P-dotierten Substrates ausgebildet ist und einen ersten und zweiten P⁺ Bereich, die mit einer Quellen- bzw. Drainelektrode verbunden sind, und eine Gateelektrode umfaßt;
einen Dateneingabe- und -ausgabekontaktierungsflecken, der mit dem zweiten N⁺-Bereich des NMOS-Transistors und dem ersten P⁺-Bereich des PMOS-Transistors verbunden ist; und
einen N-Mulden-Schutzring, der zwischen der P-Mulde und der N-Mulde vorgesehen ist und in einem bestimmten Abstand von der P-Mulde und der N-Mulde getrennt ist.
2. Datenausgabepuffer nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der N-Mulden-Schutzring einen N⁺-
Aufnahmebereich umfaßt, um an den N-Mulden-Schutzring eine
Vorspannung anzulegen.
3. Datenausgabepuffer nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der N⁺-Aufnahmebereich längs der
Innenseite des N-Mulden-Schutzringes ausgebildet ist.
4. Datenausgabepuffer nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der erste N⁺-Bereich mit einer geerdeten
Spannungsquelle verbunden ist, und daß der zweite P⁺-Bereich
und der erste N⁺-Aufnahmebereich mit einer Vorspannungsquelle
verbunden sind.
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