DE19521470B4 - Datenausgabepuffer - Google Patents
Datenausgabepuffer Download PDFInfo
- Publication number
- DE19521470B4 DE19521470B4 DE19521470A DE19521470A DE19521470B4 DE 19521470 B4 DE19521470 B4 DE 19521470B4 DE 19521470 A DE19521470 A DE 19521470A DE 19521470 A DE19521470 A DE 19521470A DE 19521470 B4 DE19521470 B4 DE 19521470B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- well
- region
- output buffer
- data output
- trough
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Datenausgabepuffer,
umfassend:
einen NMOS-Transistor, der in einer P-Mulde (2) eines P-dotierten Substrates (1) ausgebildet ist und aus einem ersten und zweiten N+-Bereich (22,23), die mit einem Source- bzw. Drainanschluss verbunden sind, und einer Gateelektrode (21) besteht;
einen PMOS-Transistor, der in einer N-Mulde (3) des P-dotierten Substrates ausgebildet ist und aus einem ersten und zweiten P+-Bereich (32,33), die mit einem Source- bzw. Drainanschluss verbunden sind, und einer Gateelektrode (31) besteht;
einen Dateneingabe- und -ausgabekontaktflecken (5), der mit dem zweiten N+-Bereich (23) des NMOS-Transistors und dem ersten P+-Bereich (32) des PMOS-Transistors verbunden ist; und
einen N-dotierten, Mulden-förmigen Schutzring (4) mit einer grossflächig erweiterten und integrierten Struktur zwischen der P-Mulde und der N-Mulde, der in einem bestimmten Abstand sowohl von der P-Mulde als N-Mulde steht, wobei
der Mulden-förmige Schutzring die P- und N-Mulde umgibt.
einen NMOS-Transistor, der in einer P-Mulde (2) eines P-dotierten Substrates (1) ausgebildet ist und aus einem ersten und zweiten N+-Bereich (22,23), die mit einem Source- bzw. Drainanschluss verbunden sind, und einer Gateelektrode (21) besteht;
einen PMOS-Transistor, der in einer N-Mulde (3) des P-dotierten Substrates ausgebildet ist und aus einem ersten und zweiten P+-Bereich (32,33), die mit einem Source- bzw. Drainanschluss verbunden sind, und einer Gateelektrode (31) besteht;
einen Dateneingabe- und -ausgabekontaktflecken (5), der mit dem zweiten N+-Bereich (23) des NMOS-Transistors und dem ersten P+-Bereich (32) des PMOS-Transistors verbunden ist; und
einen N-dotierten, Mulden-förmigen Schutzring (4) mit einer grossflächig erweiterten und integrierten Struktur zwischen der P-Mulde und der N-Mulde, der in einem bestimmten Abstand sowohl von der P-Mulde als N-Mulde steht, wobei
der Mulden-förmige Schutzring die P- und N-Mulde umgibt.
Description
- Die Erfindung betrifft einen Datenausgabepuffer und insbesondere einen solchen, der das Auftreten eines unerwünschten Sperr- oder Latch-up-Effektes verhindern kann.
- Im allgemeinen ist ein Datenausgabepuffer mit einem CMOS-Transistor versehen, der einen NMOS-Transistor und einem PMOS-Transistor umfasst. Wenn vom Drain des NMOS-Transistors injizierte Minoritätsladungsträger zum N+-Aufnahmebereich gelangen, um eine Vorspannung an die N-Mulde anzulegen, in der der PMOS-Transistor ausgebildet ist, und die Anzahl der Minoritätsladungsträger, die den N+-Aufnahmebereich der N-Mulde erreichen, gross ist, wird ein bipolarer Transistor, der parasitär existiert, geschaltet und hierdurch ein unerwünschter Sperreffekt hervorgerufen.
- Ein Datenausgabepuffer mit einem herkömmlichen CMOS-Transistor wird anhand von
1 und2 nachfolgend beschrieben. -
1 zeigt das Layout des Datenausgabepuffers und2 eine quergeschnittene Ansicht längs der Linie X-X' in1 . - Eine P-Mulde
2 und eine N-Mulde3 sind in einem P-dotierten Substrat1 ausgebildet, wobei die P-Mulde2 gegenüber der N-Mulde3 isoliert ist. Ein NMOS-Transistor ist in der P-Mulde2 und ein PMOS-Transistor in der N-Mulde3 vorgesehen. Ein erster N-dotierter, Mulden-förmiger Schutzring (nachfolgend als N-Mulden-Schutzring bezeichnet)4A ist um der P-Mulde2 und ein zweiter N-Mulden-Schutzring4B um der N-Mulde3 ausgebildet. Der NMOS-Transistor besteht aus einer Gateelektrode21 und ersten und zweiten N+-Bereichen22 und23 , die Source bzw. Drain bilden. Der erste N+-Bereich22 ist mit einer geerdeten Spannungsquelle Vss und der zweite N+-Bereich23 mit einem Dateneingabe- und -ausgabekontaktflecken (Daten I/O-Flecken)5 verbun den. Der PMOS-Transistor besteht aus einer Gateelektrode31 und ersten und zweiten P+-Bereichen32 ,33 , die Source bzw. Drain bilden. Ein erster N+-Aufnahmebereich34 zum Anlegen einer Vorspannung Vcc an die N-Mulde3 ist nahe dem zweiten P+-Bereich33 vorgesehen. Der erste P+-Bereich32 ist mit dem Dateneingabe- und -ausgabeflecken5 verbunden. Die Vorspannung Vcc liegt am zweiten P+-Bereich33 und ersten N+-Aufnahmebereich34 an. Ein zweiter und ein dritter N+-Aufnahmebereich41A und41B zum Anlegen der Vorspannung Vcc sind in den ersten und zweiten N-Mulden-Schutzringen4A bzw.4B ausgebildet. Die Vorspannung Vcc liegt an dem zweiten und dritten N+-Aufnahmebereich41A und41B an. In der Zeichnung betreffen die Bezugszeichen6 und7 eine Isolierschicht bzw. einen Metalleiter. - Beim Betrieb eines Datenausgabepuffers mit dem vorerwähnten Aufbau werden die Minoritätsladungsträger, die von dem zweiten N+-Bereich
23 , d.h. einem Drain des NMOS-Transistors injiziert wurden, im ersten und zweiten N-Mulden-Schutzring4A und4B eingefangen. Einige der Minoritätsladungsträger können sich jedoch zum ersten N+-Aufnahmebereich der N-Mulde3 bewegen. - Wenn die vom zweiten N+-Bereich
23 injizierten Minoritätsladungsträger nicht vollständig vom ersten und zweiten N-Mulden-Schutzring4A bzw.4B abgefangen werden und zum ersten N+-Aufnahmebereich34 zum Anlegen der Vorspannung an die N-Mulde3 gelangen, in der der PMOS-Transistor ausgebildet ist, wird der parasitär existierende bipolare Transistor geschaltet, was einen Sperreffekt hervorruft. Dadurch wird die Zuverlässigkeit der Vorrichtung beeinträchtigt. Dabei ist es grundsätzlich bekannt (WO84/01241A1), einen Schutzring einer P-Mulde zwischen dem NMOS in dem PMOS vorzusehen, der von der P-Mulde beabstandet ist. Bei einer ebensolchen Anordnung, wie sie aus der JP05347386A bekannt ist, kann ein gemeinsamer Ausgangsanschluss für Φout an jeweils einen Source/Drain-Bereich des NMOS und PMOS angeschlossen sein. - Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines Datenausgabepuffers, der mit verbesserter Zuverlässigkeit betrieben werden kann, indem das Auftreten eines Sperreffektes, wie er durch die Bewegung von Minoritätsladungsträgern hervorgerufen werden kann, die von einem NMOS-Transistor in einen N+-Aufnahmebeereich zum Anlegen der Vorspannung an eine N-Mulde des PMOS-Transistors injiziert werden, verhindert wird.
- Zur Lösung dieser Aufgabe wird auf den Patentanspruch 1 verwiesen. Der Datenausgabepuffer nach der Erfindung zeichnet sich durch das Vorsehen eines N-Mulden-Schutzringes aus, der die Bewegung der Minoritätsladungsträger unterbricht und mit grossflächiger Struktur zwischen einer P-Mulde und einer N-Mulde auf einem Substrat ausgebildet ist.
- Die Erfindung wird nachfolgend anhand einer Ausführungsform und der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
-
1 den Layout eines Datenausgabepuffers herkömmlicher Bauart, -
2 eine quergeschnittene Ansicht längs der Schnittlinie X-X' in1 , -
3 den Layout eines Datenausgabepuffers nach der Erfindung, und -
4 eine quergeschnittene Ansicht längs der Schnittlinie X-X' in3 . -
3 zeigt das Layout eines erfindungsgemäss aufgebauten Datenausgabepuffers, und4 ist eine quergeschnittene Ansicht längs der Schnittlinie X-X' in3 . - Der Datenausgabepuffer nach der Erfindung besteht aus folgenden Teilen: einem MNOS-Transistor (N-Kanal-MOS) mit einem Anschluss, der mit einer geerdeten Spannungsquelle Vss verbunden ist, während der andere Anschluss mit einem Dateneingabe- und -ausgabekontaktierungsfleck verbunden ist; einem PMOS-Transistor (P-Kanal-MOS) mit einem Anschluss, der mit einer Vorspannungsquelle Vcc verbunden ist, während der andere Anschluss mit dem Dateneingabe- und -ausgabekontaktfleck verbunden ist; und einem N-Mulden- Schutzring, der zwischen dem NMOS-Transistor und dem PMOS-Transistor vorgesehen ist, um die Bewegung von Minoritätsladungsträgern zu unterbrechen.
- Der wichtigste Teil des Datenausgabepuffers nach der Erfindung ist der N-Mulden-Schutzring zur Unterbrechung der Bewegung der Minoritätsladungsträger. Daher wird die Erfindung im Detail unter Konzentration auf den N-Mulden-Schutzring nachfolgend erläutert, während die Beschreibung der übrigen Aufbauteile weggelassen wird, da diesbezüglich auf die Beschreibung der
1 und2 Bezug genommen werden kann. - Nach
3 und4 ist bei dem Datenausgabepuffer nach der Erfindung der N-Mulden-Schutzring4 zwischen der P-Mulde2 und der N-Mulde3 vorgesehen und in einem bestimmten Abstand von der N-Mulde2 und der P-Mulde3 angeordnet Daher wird sein Bereich vergrössert. - D.h, der N-Mulden-Schutzring
4 hat keine geteilte Struktur wie der erste und zweite N-Mulden-Schutzring4A und4B gemäss1 und2 , sondern stellt eine grossflächig erweiterte und integrierte Struktur dar. Folglich werden die Minoritätsladungsträger, die sich vom zweiten N+-Bereich23 zum ersten N+-Aufnahmebereich34 des PMOS-Transistors bewegen, vollständig im N-Mulden-Schutzring4 eingefangen, so dass das Auftreten eines unerwünschten Sperreffektes verhindert wird. - Ferner sind bei dem herkömmlichen Datenausgabepuffer der zweite und der dritte N+-Aufnahmebereich
41A und41B , die die Vorspannung Vcc anlegen, im ersten bzw. zweiten N-Mulden-Schutzring4A bzw.4B ausgebildet. Bei der Erfindung jedoch ist der N-Mulden-Schutzring4 als ein integrierter Ring ausgebildet und ein N+-Aufnahmebereich41 , der die Vorspannung Vcc anlegt, längs der Innenseite des N-Mulden-Schutzringes4 vorgesehen. - Wie zuvor beschrieben, ist erfindungsgemäss der N-Mulden-Schutzring weiträumig zwischen der P- und N-Mulde ausgebildet und von diesen Mulden in einem bestimmten Abstand vorgesehen, so dass die vom Drain des NMOS-Transistors zum N+-Aufnahmebereich des PMOS-Transistors übergehenden Minoritätsladungsträger vollständig vom N-Mulden-Schutzring abgefangen werden, was die Entwicklung eines unerwünschten Sperreffektes verhindert. Folglich wird die Zuverlässigkeit der Vorrichtung verbessert.
Claims (4)
- Datenausgabepuffer, umfassend: einen NMOS-Transistor, der in einer P-Mulde (
2 ) eines P-dotierten Substrates (1 ) ausgebildet ist und aus einem ersten und zweiten N+-Bereich (22 ,23 ), die mit einem Source- bzw. Drainanschluss verbunden sind, und einer Gateelektrode (21 ) besteht; einen PMOS-Transistor, der in einer N-Mulde (3 ) des P-dotierten Substrates ausgebildet ist und aus einem ersten und zweiten P+-Bereich (32 ,33 ), die mit einem Source- bzw. Drainanschluss verbunden sind, und einer Gateelektrode (31 ) besteht; einen Dateneingabe- und -ausgabekontaktflecken (5 ), der mit dem zweiten N+-Bereich (23 ) des NMOS-Transistors und dem ersten P+-Bereich (32 ) des PMOS-Transistors verbunden ist; und einen N-dotierten, Mulden-förmigen Schutzring (4 ) mit einer grossflächig erweiterten und integrierten Struktur zwischen der P-Mulde und der N-Mulde, der in einem bestimmten Abstand sowohl von der P-Mulde als N-Mulde steht, wobei der Mulden-förmige Schutzring die P- und N-Mulde umgibt. - Datenausgabepuffer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Mulden-förmige Schutzring (
4 ) einen N+-Aufnahmebereich (34 ) umfasst, um an den Mulden-förmigen Schutzring eine Vorspannung anzulegen. - Datenausgabepuffer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der N+-Aufnahmebereich (
34 ) entlang einer Innenseite des Mulden-förmigen Schutzringes (4 ), die sich durch eine Aussparung im Mulden-förmigen Schutzring für die P- oder N-Mulde ergibt, ausgebildet ist. - Datenausgabepuffer nach Anspruch 1, dadurch gekennezeichnet, dass der erste N+-Bereich (
22 ) mit einer geerdeten Spannungswelle (Vss) verbunden ist, und dass der zweite P+-Bereich (33 ) und der erste N+-Aufnahmebereich (34 ) mit einer Vorspannungsquelle verbunden sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940013500A KR0131373B1 (ko) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 반도체 소자의 데이터 출력버퍼 |
KR94-13500 | 1994-06-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19521470A1 DE19521470A1 (de) | 1995-12-21 |
DE19521470B4 true DE19521470B4 (de) | 2006-02-16 |
Family
ID=19385345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19521470A Expired - Fee Related DE19521470B4 (de) | 1994-06-15 | 1995-06-13 | Datenausgabepuffer |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5675170A (de) |
JP (1) | JP3049198B2 (de) |
KR (1) | KR0131373B1 (de) |
DE (1) | DE19521470B4 (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100307554B1 (ko) | 1998-06-30 | 2001-11-15 | 박종섭 | Esd 소자를 구비하는 반도체장치 |
US6190954B1 (en) | 1999-01-11 | 2001-02-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Robust latchup-immune CMOS structure |
KR100391153B1 (ko) * | 2001-03-12 | 2003-07-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치의 레이아웃 방법 |
CN1522489A (zh) * | 2001-06-29 | 2004-08-18 | ��к������ʽ���� | 频率混合电路 |
US20050085028A1 (en) * | 2003-10-21 | 2005-04-21 | International Business Machines Corporation | Method and structure to suppress external latch-up |
JP4824385B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2011-11-30 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1984001241A1 (en) * | 1982-09-20 | 1984-03-29 | Semi Processes Inc | Cmos integrated circuit with guard bands for latch-up protection |
US5473183A (en) * | 1992-02-21 | 1995-12-05 | Sony Corporation | Semiconductor device of a first conductivity type which has a first well of a second conductivity type formed therein and a second well of the first conductivity type formed in the first well and a pair of MOSFET formed in the first and second wells |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5238890A (en) * | 1975-09-23 | 1977-03-25 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
JPS61144846A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-02 | Toshiba Corp | 大規模集積回路装置 |
JPS61208863A (ja) * | 1985-03-14 | 1986-09-17 | Toshiba Corp | Cmos半導体装置 |
JPH0654797B2 (ja) * | 1986-08-06 | 1994-07-20 | 日産自動車株式会社 | Cmos半導体装置 |
JPH0241456U (de) * | 1988-09-09 | 1990-03-22 | ||
US5216294A (en) * | 1989-05-31 | 1993-06-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Data output buffer using a junction field effect transistor |
JP2965783B2 (ja) * | 1991-07-17 | 1999-10-18 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US5416351A (en) * | 1991-10-30 | 1995-05-16 | Harris Corporation | Electrostatic discharge protection |
US5406513A (en) * | 1993-02-05 | 1995-04-11 | The University Of New Mexico | Mechanism for preventing radiation induced latch-up in CMOS integrated circuits |
-
1994
- 1994-06-15 KR KR1019940013500A patent/KR0131373B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-06-07 US US08/476,597 patent/US5675170A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-09 JP JP7143042A patent/JP3049198B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-13 DE DE19521470A patent/DE19521470B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1984001241A1 (en) * | 1982-09-20 | 1984-03-29 | Semi Processes Inc | Cmos integrated circuit with guard bands for latch-up protection |
US5473183A (en) * | 1992-02-21 | 1995-12-05 | Sony Corporation | Semiconductor device of a first conductivity type which has a first well of a second conductivity type formed therein and a second well of the first conductivity type formed in the first well and a pair of MOSFET formed in the first and second wells |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP 05347383 A, engl. Abstr. u. Fig. 1-8 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR0131373B1 (ko) | 1998-04-15 |
US5675170A (en) | 1997-10-07 |
KR960002788A (ko) | 1996-01-26 |
JPH08162539A (ja) | 1996-06-21 |
JP3049198B2 (ja) | 2000-06-05 |
DE19521470A1 (de) | 1995-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102004041831B4 (de) | Integriertes Schaltkreisbauelement mit E/A-ESD-Schutzzelle | |
DE19518549C2 (de) | MOS-Transistor getriggerte Schutzschaltung gegen elektrostatische Überspannungen von CMOS-Schaltungen | |
DE69631940T2 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE19518550C2 (de) | Eingangsschutzschaltung für eine MOS-Einrichtung | |
DE102008036834B4 (de) | Diodenbasiertes ESE-Konzept für Demos-Schutz | |
DE102007006853B4 (de) | ESD-Schutzvorrichtung und elektrische Schaltung mit derselben | |
DE19533958A1 (de) | Kondensatorpaar-Schutzschaltung gegen elektrostatische Entladung | |
DE69934874T2 (de) | Scr bauteil mit niedriger schwell- und haltespannung für esd schutz | |
DE10216015A1 (de) | Überspannungsschutzschaltung | |
EP0691683B1 (de) | Integrierte Schaltung mit Schutzstruktur | |
EP0396553B1 (de) | Integrierte schaltung mit ''latch-up''-schutzschaltung in komplementärer mos-schaltungstechnik | |
DE2904812C2 (de) | Halbleiterspeichereinrichtung in MOS-Technologie | |
DE19521470B4 (de) | Datenausgabepuffer | |
DE19712834B4 (de) | Schutzschaltung und Schaltung für eine Halbleiter-Auf-Isolator-Vorrichtung | |
DE69733513T2 (de) | Integrierte Schaltung mit einem Kondensator | |
DE4327290C2 (de) | Integrierte Halbleiterschaltung | |
EP0750343B1 (de) | Bank von Schmelzsicherungen mit ESD-Schutz | |
EP0656659B1 (de) | ESD-Schutzstruktur für integrierte Schaltungen | |
DE19637013A1 (de) | Treiberschaltung | |
DE10297292T5 (de) | Verbesserung der Auslösung eines ESD-NMOS durch die Verwendung einer N-Unterschicht | |
EP0379199B1 (de) | ESD-Schutzstruktur | |
DE10204847A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE19629511C2 (de) | Schutzschaltung gegen elektrostatische Entladungen | |
DE102016124590B4 (de) | Halbleiterchip | |
DE10241168B4 (de) | Analoge Eingangsauswahlschaltung zum Schutz gegen negative Überspannung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: H01L 27/092 |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: HOEFER & PARTNER, 81543 MUENCHEN |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20140101 |