DE1923825B2 - Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial und elektrographisches aufzeichnungsmaterial sowie verfahren zur herstellung solcher aufzeichnungsmaterialien - Google Patents
Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial und elektrographisches aufzeichnungsmaterial sowie verfahren zur herstellung solcher aufzeichnungsmaterialienInfo
- Publication number
- DE1923825B2 DE1923825B2 DE19691923825 DE1923825A DE1923825B2 DE 1923825 B2 DE1923825 B2 DE 1923825B2 DE 19691923825 DE19691923825 DE 19691923825 DE 1923825 A DE1923825 A DE 1923825A DE 1923825 B2 DE1923825 B2 DE 1923825B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- recording material
- pores
- photoconductor
- electrically conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 112
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 33
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 8
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 8
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 10 to 25% Chemical compound 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004110 Zinc silicate Substances 0.000 description 1
- GQCYCMFGFVGYJT-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[S] Chemical group [AlH3].[S] GQCYCMFGFVGYJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N [Mg].[Zn] Chemical compound [Mg].[Zn] PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- VAWSWDPVUFTPQO-UHFFFAOYSA-N calcium strontium Chemical compound [Ca].[Sr] VAWSWDPVUFTPQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000007591 painting process Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XSMMCTCMFDWXIX-UHFFFAOYSA-N zinc silicate Chemical compound [Zn+2].[O-][Si]([O-])=O XSMMCTCMFDWXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019352 zinc silicate Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/07—Polymeric photoconductive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
- Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich zum einen auf ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit
einem elektrisch leitenden Schichtträger, einer Schicht aus einem porösen Material mit einer Vielzahl von
relativ gleichmäßig verteilten, von der einen Seite der betreffenden Schicht zu deren anderer Seite hin
untereinander verbundenen Poren und einem Photoleiter. Zum anderen bezieht sich die Erfindung auf ein
elektrcgraphisches Aufzeichnungsmaterial, mit einem elektrisch leitenden Schichtträger und einer Schicht aus
einem porösen Material mit einer Vielzahl von relativ
ίο gleichmäßig verteilten, von der einen Seite der
betreffenden Schicht zu deren anderer Seite hin untereinander verbundenen Poren.
Es ist bereits ein Material für xerographische Zwecke bekannt (DT-AS 1165 407), bestehend aus einem
Ii metallischen Schichtträger und einer photoelektrisch
leitenden Isolierschicht. Bei diesem bekannten Material besteht der Schichtträger aus einem oder mehreren
Metallen, die der anodischen Oxydation zugänglich sind, oder aber der betreffende Schichtträger ist an der
Oberfläche mit solchen Metallen beschichtet. Außerdem besteht bei dem betreffenden Material die photoelektrisch
ieitende isolierschicht aus einer durch anodische Oxydation der metallischen Oberfläche des Schichtträgers
erzeugten Oxydschicht. Die elektrophotographisehen Eigenschaften eines derartigen Materials sind
jedoch nicht zufriedenstellend, wenn man das betreffende Material für die Herstellung von z. B. 100 000 Kopien
verwendet. Dies bedeutet, daß bei Verwendung des betreffenden Materials relativ frühzeitig fur dessen
ίο Ersatz gesorgt werden muß.
Es ist ferner ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial aus einem Schichtträger und einer
photoleitfähigen Schicht bekannt (DT-AS 12 53 050), wobei die photoleitfähige Schicht verteilte Hohlräume
)') aufweist, die in der Größenordnung von 0,005 bis
0,010 mm liegen. Die photoleitfähige Schicht besteht dabei entweder aus einem in einem Bindemittel
verteilten Photoleiter und gegebenenfalls einem Sensibilisatorfarbstoff
oder aus einem organischen filmbildenden Photoleiter. Durch die Poren, die voneinander
getrennt sind, in der photoleitfähigen Schicht wird bei dem bekannten elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterial
zwar eine bedeutende Gewichtsersparnis gegenüber der Verwendung einer homogenen photo-
■r> leitfähigen Schicht erreicht; aufgrund mechanischer
Beanspruchung der photoleitfähigen Schicht, insbesondere durch mechanischen Abrieb, verschlechtern sich
jedoch auch bei diesem bekannten Aufzeichnungsmaterial die elektrophotographischen Eigenschaften.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Weg zu zeigen, wie Aufzeichnungsmaterialien der eingangs
genannten Art auszubilden sind, um auch auf mechanischen Abrieb hin ihre Aufzeichnungseigenschaften
beizubehalten.
■55 Gelöst wird die vorstehend aufgezeigte Aufgabe bei
dem elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterial der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch,
daß das poröse Material aus Aluminiumoxid, Kupferoxid, Magnesiumoxid oder Manganoxid besteht und daß
die Schicht aus dem porösen Material den Photoleiter in den Poren vom Schichtträger bis zur Oberfläche enthält,
ohne daß auf der Oberfläche der Schicht eine zusammenhängende, isolierende Schicht ausgebildet ist.
Zum anderen wird die vorstehend angegebene
hi Aufgabe bei dem elektrographischen Aufzeichnungsmaterial
der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das poröse Material aus Aluminiumoxid,
Kupferoxid, Magnesiumoxid oder Manganoxid
besieht und daß die Schicht aus dem porösen Material
eine isolierende Verbindung in den Poren vom Schichtträger bis zur Oberfläche enthält, ohne daß auf
(W Oberfläche der Schicht eine zusammenhängende isolierende Schicht ausgebildet ist.
Die Erfindung bringt den Vorteil mit sich, daß auf relativ einfache Weise erreicht wird, daß die Aufzeichnungseigenschaften
des Aufzeichnungsmaterials auch nach erheblichem mechanischem Abrieb noch erhalten
geblieben sind, so daß das betreffende Aufzeichnungsmaterial eine längere Lebensdauer besitzt als die bisher
bekannten Auf/eichnungsmateriaiien. Bezüglich der in
dem genannten porösen Material enthaltenen Poren sei bemerkt, daß diese eine solche Größe besitzen, daß auf
einen QuadratzenlimetL'r größenordnungsmäßig IO11
Poren kommen.
Gemäß einer zweckmäßigen Ausgestaltung des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterial gemäß
der Erfindung besteht der Photoleiter aus Schwefel oder Cadmiumsulfid. Hierdurch ergibt sich der Vorteil,
daß besonders günstige elektrophotographise'ne Eigenschaften
bei dem Aufzeichnungsmaterial erreicht werden.
Gemäß einer zweckmäßigen Ausgestaltung des elektrographischen Aufzeichnungsmaterials der Erfindung
besteht die isolierende Verbindung aus einem härtbaren Epoxidharz. Hierdurch ergibt sich der Vorteil,
daß besonders günstige elektrographische Eigenschaften bei dem Aufzeichnungsmaterial erreicht werden.
Gemäß einer weiteren zweckmäßigen Ausgestaltung to der Erfindung besteht der elektrisch leitende Schichtträger
aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung. Flierdurch ergibt sich der Vorteil eines besonders
leichten Aufbaus für das Aufzeichnungsmaterial.
Zur Herstellung eines elektrophotographischen oder 1">
elektrographischen Aufzeichnungsmaterials gemüß der Erfindung ist es zweckmäßig, ein Verfahren anzuwenden,
bei dem auf einem elektrisch leitenden Schichtträger eine Schicht aus einem porösen Material mit einer
Vielzahl von relativ gleichmäßig verteilten, von der -tu
einen Seite der betreffenden Schicht zu deren anderen Seite hin miteinander verbundenen Poren aufgebracht
wird, und das dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Photoleiter oder eine elektrisch isolierende Verbindung
im Vakuum in die Poren eingebracht und gegebenenfalls t'<
überschüssiger Photoleiter oder überschüssige isolierende Verbindung von der Oberfläche der so erhaltenen
Schicht wieder entfernt wird. Hierdurch ergibt sich der Vorteil, daß ein elektrophotographisches oder elektrographisches
Aufzeichnungsmaterial gemäß der Erfin- so dung unter Ausführung einer relativ geringen Anzahl
von Verfahrensschritten hergestellt werden kann.
Gemäß einer zweckmäßigen Ausgestaltung des vorstehend bezeichneten Verfahrens wird der Photoleiter
oder die elektrisch isolirende Verbindung in die Poren eingedampft. Hierdurch ist in vorteilhafter Weise
eine besonders einfache Herstellungsmöglichkeit für das Aufzeichnungsmaterial erreicht.
Gemäß einer weiteren zweckmäßigen Ausgestaltung des vorstehend bezeichneten Verfahrens wird der M)
Photoleiter oder die elektrisch isolierende Verbindung in die Poren einfließen gelassen. Hierdurch ist es in
vorteilhafter Weise möglich, das Aufzeichnungsmaterial bei relativ niedrigen Temperaturen herstellen zu
können. tv>
Anhand von Zeichnungen wird die Erfindung nachstehend näher erläutert.
F i z. I zeiet schematisch in einem Schnitt den Aufbau
eines für eine Aufzeichnungsmaterial gemäß der Erfindung /ti verwendenden elektrisch leitenden
Schichtträgers aus Aluminium.
F i g. 2 zeigt den in Fig. I dargestellten Schichtträger
nach einer Oxydation seiner einen Oberfläche.
F i g. J zeigt den betreffenden Schichtträger bei einer Evakuierung.
F i g. 4 zeigt die Anlagerung einer Bildmaterialschicht auf dem eine oxydierte Oberfläche aufweisenden
Schichtträger.
Fig. 5 zeigt ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial,
bei dem sich das Bildmaterial in den Mikroporen der evakuierten oxydierten Oberfläche
befindet.
Fig. 6 zeigt ein dem in Fig. 4 dargestellten Aufzeichnungsmaterial ähnliches elektrophotographisches
Aufzeichnungsmaterial, welches nach einer anderen Art hergestellt worden ist.
Anhand der Fig. 1 bis 5 weiden im folgenden die
verschiedenen Schritte zur Herstellung eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials geiiiiiU der
Erfindung erläutert werden. In den Fig. / bis 5 sind
dabei folgende Schichten dargestellt: Die Schicht »S«
stellt einen elektrisch leitenden Schichtträger dar, der
z. B. durch eine Aluminiumplatte gebildet ist und dessen eine Oberfläche »is« für die Schaffung einer Bildfläche
dient. Gegenüber der Oberfläche »is« liegt eine Kontaktfläche »es« des Schichtträgers. Auf der
Oberfläche »is« befindet sich eine Oxidschicht »so«, die auf die betreffende Oberfläche des Schichtträgers «.V«
aufgewachsen oder in sonstiger Weise dort aufgebracht worden ist. Diese Oxidschicht »co» ist nach ihrer
Aufbringung vollständig evakuiert und damit von Luft und anderen Umgebungsstubstanzen befreit worden,
was mit »so-c« bezeichnet ist. Die Schicht »so« wird vorzugsweise durch eine auf dem Schichtträger ».V«
aufgewachsene Oxidschicht dargestellt; sie weist Poren auf, die gleichmäßig über die Bildfläche verteilt sind und
die einen bestimmten, relativ gleichmäßigen mikroskopischen Durchmesser besitzen. Diese Mikroporen
reichen vollständig durch die Schicht »so« hindurch, und zwar bis zu der Oberfläche »is«. Wie noch ersichtlich
werden wird, werden die betreffenden Mikroporen evakuiert und anschließend mit einem als Füllmaterial
zu bezeichnenden Bildmaterial injiziert, wie z. B. einem photoleitfähigen Isolierstoff, und zwar insbesondere mit
Selen. Dieser Füllstoff kann z. B. in die Schicht »so-e« durch Niederschlagung einer Schicht »if« auf die
Oberfläche der Schicht »so-e« (unter Evakuierung
gehalten) eingebettet werden, woraufhin die Schicht »//■«erhitzt oder in sonstiger Weise in die Schicht »so-c«
eingeführt wird, um deren Mikroporen auszufüllen und somit eine photoleitfähige Schicht »soef« (eine
Oxidmatrix, die ein Bildmaterial enthält) zu bilden. Die Schicht »so-ef« weist eine Bildfläche »iso« auf, auf der in
üblicher Weise Bilder gebildet werden können. Es dürfte ersichtlich sein, daß der Widerstand und andere
elektrophotographische Eigenschaften der Oxidschicht bzw. der Schicht »so« und des Füllmaterials bzw. der
Schicht »if« so gewählt sind, daß insgesamt für eine elektrophotographische Aufzeichnung spezifische elektrophotographische
Eigenschaften erzielt werden.
Bevor zu einzelnen Ausführungsbeispielen eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials gemäß
der Erfindung übergegangen wird, sei zunächst eine allgemeine Einrührung bezüglich der Materialien
gegeben, die im vorliegenden Fall verwendbar sind. In diesem Zusammenhang sei zunächst bemerkt, daß die
Auswahl der Materialien in gewissem Maße von der
jeweils beabsichtigten Anwendung des clcktrophotographischcn Aufzcichnungsmaterials abhängt und ebenso
von dem angewandten Herstellungsverfahren. Der Schichtträger 5(F-" i g. 1) soll z. B im allgemeinen sowohl
als elektrischer Leiter als auch als mechanischer Träger für die photoleitfähigc Schicht dienen; das Bildmaterial
(der Füllstoff) soll so ausgewählt sein, daß ein elektrostatisches Bild unter den gegebenen Bedingungen
entwickelt werden kann (beispielsweise xcrographisch,
rein elektrostatisch, usw.); die dielektrische Matrix der photolcilfähigcn Schicht soll als mechanischer
Schul/ dienen, und zwar beispielsweise dadurch, daß sie gewissermaßen eine Gehäusematrix für die
gleichmäßig verteilten Bildmaterial-Mikroporen darstellt und das Bildmaterial in den Mikroporcn
mechanisch schützt. Die betreffende dielektrische Matrix soll im übrigen hierfür mechanisch und chemisch
ausreichend stabil sein und geeignete elektrische Eigenschaften (beispielsweise dielektrische Eigenschaften)
aufweisen, um die Bilderzeugung nicht zu stören. Schließlich soll das betreffende Material die Bereiche, in
denen sich das Bildmaterial befindet elektrisch isolieren. Es dürfte einzusehen sein, daß die betreffenden
Materialien haftend und verträglich sein müssen. Dies bedeutet, daß das Bildmaterial in der !.agc sein muß,
genügend an der dielektrischen Matrix (den Mikroporcn) zu haften, und daß andererseits die dielektrische
Matrix an der Oberfläche des Schichtträgers anhaften muß.
Durch das Verfahren zur Herstellung des clcktrophotogiaphischen
Aufzcichnungsmalerials ist insbesondere eine spezifische Auswahl der Materialien erforderlich.
So ist es z. B. grundsätzlich erwünscht (aus Gründen der Einfachheil halber, verbesserten Durchführbarkeit,
usw.). die dielektrische Matrix durch Anodisicrung der Schichttägcroberflächc (oder durch ähnliche Prozesse)
herzustellen; deshalb muß für den Schichtträger ein Metall ausgewählt werden, das selbst für diesen Prozess
geeignet ist und das darüber hinaus, wenn es anodisiert ist, talsächlich eine geeignete dielektrische Matrix
liefert, welche die gewünschten elektrostatischen Eigenschaften, Strukturen, wie Dicke besitzt. In diesem
Zusammehang sei darauf hingewiesen, daß die bekannten Verfahren zur Anodisierung von Aluminium sich
hier als besonders gut anwendbar zeigen. Andererseits kann eine poröse dielektrische Matrix direkt auf die
Oberfläche eines elektrisch leitenden Schichtträgers aufgebracht werden, beispielsweise durch Befestigung
einer porösen keramischen Platte oder durch sogenanntes Sintci'iuifstäubcn keramischer Oxide auf Metall, oder
in anderer Weise, so daß auf dem betreffenden Schichtträger ein poröser dielektrischer Film gebildet
wird. Es kann andererseits jedoch von Vorteil sein, die dielektrische Matrix getrennt von dem Schichtträger
herzustellen und dann diese Matrix mit dem Schichtträger zu vereinen. Es hat sich /.. B. gezeigt, daß man einen
dünnen, porösen, dielektrischen Streifen, z. B. eine Keramikplatte, die bis zu der gewünschten Porösität
geätzt wird, herstellen und dann auf die Oberfläche eines geeigneten elektrisch leitenden Schichtträgers
aufbringen bzw. befestigen kann, woraufhin die Poren der beireffenden Keramikplatte mit Bildmaterial gefüllt
werden, und zwar entweder vor oder nach dcrBefcstigung.
Fs kann aber auch von Vorteil sein, eine nicht poröse dielektrische Schicht auf einem Schichtträger
bzw. der Oberfläche eines Schicht Irakers herzustellen
(beispielsweise durch Behandlung der betreffenden Oberfläche des Schichträgcrs oder durch Anbringen
eines getrennten dielektrischen Streifens) und dann durch Ätzen Poren herzustellen (die vollständig durch
die dielektrische Schicht sich hindurchziehen).
ί In entsprechender Weise sind die Eigenschaften des zu verwendenden Bildmaterials abhängig von der Auswahl des Materials der Trägerschicht, des Materials der dielektrischen Matrix und der Herstellungsverfahren, bzw. die Wahl des Bildmaterials beeinflußt die Wahl
ί In entsprechender Weise sind die Eigenschaften des zu verwendenden Bildmaterials abhängig von der Auswahl des Materials der Trägerschicht, des Materials der dielektrischen Matrix und der Herstellungsverfahren, bzw. die Wahl des Bildmaterials beeinflußt die Wahl
in des Trägermaterial, des Materials der dielektrischen
Matrix und die Hcrstcllvcrfahrcn. So kann z. B., wie dies in F i g. 4 und 5 gezeigt ist, das Bildmaterial zunächst
über einer (entleerten) porösen dielektrischen Schicht liegen, woraufhin eine Dampfimprägnicrung vorgenominen
wird, beispielsweise durch Erwärmen. Daber soll das ausgewählte Material für die dielektrische Matrix
durch die aufzuwendende Wärme unbeeinflußt bleiben.
Wie bereits angedeutet, kann die dielektrische Matrix
auf einer Oberfläche des elektrisch leitenden Schichtträ-
2(i gcrs auch durch Niederschlagung eines entsprechenden
dielektrischen Materials (z. B. durch Bestäubung, Bcdämpfung
oder in sonstiger Weise) gebildet werden. Es ist aber auch möglich, die dielektrische Matrix als
getrennten Streifen aus einem dielektrischen Materia zu bilden, und diesen Streifen dann an dem Schichtträger
zu befestigen. Obwohl des vorteilhafter ist, die Matrixeigcnschaftcn, wie z. B. die Porosität, durch
Steuerung der Herstellung festzulegen, wie beispielsweise während der Anodisicrung von Aluminium
3n können in entsprechender Weise die beiden Stufer voneinander getrennt ausgeführt werden. Dabei können
die Porosität und ähnliche Eigenschaften getrenni bestimmt werden, und zwar entweder vor der
Oxydation (beispielsweise durch vorheriges Bilden vor
J5 Vertiefungen in dem Schichtträger), während der
Oxydation (beispielsweise durch Maskierung mikroskopischer Porenstellcn und durch danach erfolgendes
»nicht poröses« Niederschlagen) oder nach det Oxydation (beispielsweise dadurch, daß eine Ätzung
durch einen nicht porösen dielektrischen Niederschlag vorgenommen wird). Wird daher die dielektrische
Matrix aus einem dünnen keramischen Plättchen (odci aus einem porösen plastischen Film, wie z. B. aus
porösem Nylon, usw.) mit bestimmten dielektrischer Eigenschaften, mit gleichmäßiger und vollständige!
Porosität innerhalb des Plattenquerschnitts und dichter Verteilung der durch Mikroporen gebildeten Porer
(beispielsweise in der Größenordnung von 1 Billior Poren auf 1 cm2) hergestellt, so kann das betreffende
Keramikplättchen über eine Pumpenmündung innerhalb eines Glockengefäßcs oder einer anderen Evakuierungskammer
gelegt werden, um die Mikroporer auszupumpen, sie zu evakuieren und um Bildmateria
auf die so bearbeitete Oberfläche des Kcramikplättchcns aufzubringen. Das betreffende Bildmaterial wire
sodann in die Mikroporen injiziert (z. B. inprägniert) und zwar derart, daß die gewünschte dielektrische
photolcitfähige Schicht gebildet wird, die von den elektrisch leitenden Schichtträger getrennt ist. Ir
wi entsprechender Weise kann auch ein clcktriscl
leitender Schichtträger separat gebildet werden, bei spiclswcisc durch Niederschlagung von Metall auf dci
einen Seite des genannten Keramikplättchcns, dcsser Mikroporcn mit dem Bildmaterial gefüllt sind. Die
ι·' Niederschlagung kann z. B. durch einen Plattierungs
Vorgang erfolgen. Daraufhin kann die betreffendt metallisierte Plättchcnobcrflächc an einer Leiterplatte
oder an anderer Stelle angelötet, angeschweißt oder ir
sonstiger Weise dort befestigt weiden. In entsprechender
Weise kann gegebenenfalls ein metallischer Schichtträger mit bestimmter hoher Porosität ausgewählt
oder hergestellt werden, wobei auf die eine Oberfläche dieses Schicht trägers ein ähnliches poröses ■>
dielektrisches Oxid niedergeschlagen (als Matrix mit einem l'orcnsystcm) werden kann. Schließlich können
die so gebildeten, mit dielektrischen Material und mit Metall gefüllten Poren lccrgcpumpt und mit einem
Bildmaterial gefüllt werden, woraufhin auf die andere κι Oberfläche des Schichtträgers eine durchgehende
elektrisch leitende Platte befestigt wird.
Als Materialien für den elektrisch leitenden Schichtträger, der im wesentlichen eine glatte ebene oder
gekrümmte Oberfläche aufweist, kommt eine Anzahl \·> von Metallen in F-'ragc.
Hierfür geeignete oxydierbare Metalle sind u.a. Aluminium, Magnesium, Mangan, Kupfer oder Kupfersulfid.
In den meisten !'allen kann es ausreichen, die
eine Oberfläche des jeweiligen Schichtlrägers zu oxydieren, wie z. B. durch Anodisierung. Unter bestimmten
Bedingungen kann man auch mit leitfähigem Material bedeckte Dielektrika verwenden, wie z. B. mit
Aluminium überzogenes Glas, metallisierte Kunststoffe oder ähnliches. Im allgemeinen kann der elektrisch
leitende Schichtträger als Basisfläche für einen elektrophotographischen Prozeß dienen; er besitzt einen
ausreichend hohen Widerstand von z.B. IO6 oder
WOhm ■ cm.
Das Material für die dielektrische Matrix, für dessen w
Auswahl entsprechende Bedingungen zu beachten sind, wie sie vorstehend aufgezeigt worden sind, muß im
allgemeinen ein guter elektrischer Isolator sein. Der spezifische Widerstand des betreffenden Materials muß
höher sein als der des Bildmaterials und z. B. in der Jr>
Größenordnung von 10l2Ohm · cm liegen. Im Übrigen
soll das betreffende Material mechanisch hart und inert sein, damit es bei eventueller Beanspruchung oder
Umgebungskorrosion unbeschädigt bleibt und das in ihm enthaltene Bildmaterial schützt. Im übrigen muß das 4<i
betreffende Material so ausgewählt sein daß es sich nicht von dem elektrisch leitenden Schichtträger beim
Gebrauch von dem elektrisch leitenden Schichtträger beim Gebrauch ablöst (dies heißt, daß u. a. entsprechende
Wärmeausdehnungskoeffizienten zu beachten sind). "tr>
Bezüglich der Härte, die das erwähnte Material besitzen soll, sei noch bemerkt, daß diese nicht so hoch sein soll,
daß durch die dielektrische Matrix eine Beschädigung von Bildaufnahmeeinrichtungen (beispielsweise Papier)
oder Bürsten erfolgt. Ferner sei in diesem Zusammen- w hang noch bemerkt, daß das Material der dielektrischen
Matrix in dem Fall, daß es erwünscht ist, dieses einem leichten Abrieb bzw. einer leichten Abnutzung auszusetzen,
fest genug sein muß, um sich nicht zu verformen oder zu fließen. Würde eine solche Verformung oder ein r>r>
solches Fließen auftreten, so könnten die Mikroporcn und das in diesen enthaltenen Bildmaterial geschlossen
bzw. zerstört werden.
Als Bildmaterial kann im vorliegenden Fall praktisch jedes elektrophotographisches Bildmaterial bekannter wi
Art verwendet werden, sofern es mil den Materialien für den Schichtträger und die dielektrische Matrix verträglich
ist und sofern es außerdem mit dem jeweils benutzten llcrstellvorgang und der jeweils vorgesehenen
elektrostatischen Bilderzeugung verträglich ist. Will <>r>
man z. B. die xcrographischc Art der clcktrophotogra· phischcn Aufzeichnung anwenden, so sollte als Bildmaterial
/weckmäDigcrwcisc ein phololeitcndes Bildmaterial verwendet werden, welches einen verhältnismäßig
hohen Dunkclwiderstand (beispielsweise in der Größenordnung des Widerstands des Materials der dielektrischen
Matrix oder oberhalb von etwa ICObm · cm,
insbesondere etwa 10" Ohm · cm) und einen wesentlich geringeren Bclichtungswiderstand (beispielsweise in der
Größenordnung von 104 oder 10'Ohm · cm, wenn mit
Licht entwickelt wird) aufweist. Derartige photoleitcnde Materialien können theoretisch dadurch gekennzeichnet
werden, daß sie Elektronen im nicht lcilfähigen Energieniveau (im sogenannten Valenzband) haben, die
aktivierbar sind durch Belichtung zu einem unterschiedlichen Encrgienivau (Leitfähigkeitsband), wobei eine
elektrische Ladung frei wird und unter dem vorhandenen elektrischen Feld wandert (in der Größenordnung
von 10'V/cm oder bei einem noch höheren Wert). Klassische xerographische Bildmaterialien umfassen im
allgemeinen die Sulfide von Zink, Quecksilber, Antimon, Arsen, Indium, Cadmium und Calcium-Strontium, Selen,
die Selenide von Cadmium Cadmium, Gallium und Arsen, die Oxide von Zink, Blei, Quecksilber, Titan,
Zink-Magnesium, oder andere Materialien, wie ζ. Β Zinktitanat, Zinksilikat, usw. Gewöhnliche photoleitendc
Materialien, die bei der Xerographie verwendet werden, sind solche Metallionen enthaltende anorganische
Verbindungen, die als »Phosphore« bezeichnet werden. Ein guter elektrostatischer, bilderzeugender
Rezeptor geht mit der dieleketrischen Matrix keine Reaktion ein, klebt aber gegebenenfalls an ihr fest und
dient vorzugsweise als Füllstoff. Beispielsweise können gewöhnliche photoresistive Materialien in bestimmten
Fällen verwendet werden.
An Hand von Beispielen wird die Erfindung nachstehend näher erläutert.
Eine Aluminiumplattc (jede handelsübliche Legierung) wird am Band in einem üblichen, wässrigen,
schwefelsauren und Oxalsäuren Anodisierungsbad oxydiert, das in der Lage ist, eine gleichmäßige poröse
Aluminiumoxidauflage bis zu einer Stärke von etwa 0,025 mm auf einem Teil der als Bildfläche dieser Platte
auszunutzenden Oberfläche zu erzeugen. Diese Oxidauflage kann, wenn es erwünscht ist, mit jeder üblichen
Farbe gefärbt sein. Die betreffende Oxidauflage wird anschließend in destilliertem Wasser gut gewaschen,
damit sämtliche Reste des Anodisierungsbades und andere (einschließlich aller Reste in den Poren der
Oxidauflage) entfernt werden. Danach wird die betreffende Oxidauflage gut getrocknet und in einen
Behälter eingebracht, woraufhin auf ihr eine Schicht aus kolloidalem Schwefel aufgebracht wird, so daß der als
Bildfläche auszunutzende Bereich der betreffenden Oxidauflagc bedeckt ist. Dabei wird ein Gramm
Schwefel auf etwa 30 bis 35 cm2 Oberfläche verwendet. Das Schwcfel-Aluminium-Gebilde wird anschließend in
einen Evakuicrungsofcn eingebracht, der bis etwa 1-nim-Hg-Säulc evakuiert wird. Danach wird der Ofen
angeheizt, damit der Inhalt auf etwa 135"C erwärmt wird, so daß eine geringe Menge Sehwcfeldampf für die
Imprägnierung der in der Aluminiumoxiduuflage befindlichen
Mikroporen erzeugt wird, und zwar bei Unterdruck. Dieser Vorgang wird etwa 3 bis 4 Stunden
lang oder noch länger ausgeführt; der betreffende Vorgang kann als »Dampfimprägnierung« des Schwefels
in die Mikroporen der eine dielektrische Matrix darstellenden Aluminiumoxidauflage bezeichnet werden.
Nach dem Abkühlen des Ofens ist das clektropho-
tographische Aufzeichnungsmaterial fertig; es besteht aus dem elektrisch leitenden Aluminium-Schichiträger
mit der darauf befindlichen photoleitfühigen Schicht, welche durch die genannte poröse Aluininiunioxidauflage
gebildet ist. Die Poren der durch die Aluminiumoxidauflage gebildeten dielektrischen Matrix sind gewissermaßen
wenigstens auf ihrer Grundfläche mit einem Schwefelfilm oder mit seinen Reaktionsprodukten
bedeckt (beispielsweise Aluminiumoxid oder ähnliches), wobei ein sehr dünner Film den Porengrund und die
Kanten bedeckt. Diese Filme sind gewissermaßen viel dünner als das Dielektrikum; sie füllen die Mikroporen
nicht aus (obwohl weder ihre Struktur noch theoretische Überlegungen dies bis jetzt erklären lassen). Die als
Bildfläche auszunutzende Oberfläche des vorliegenden elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials soll
gut gewaschen werden mit Reinigungwasser oder mit einer »nicht polaren« Lösung, um Kondensate oder
andere geringe Verunreinigungen zu entfernen. Die von der dielektrischen Matrix voneinander getrennten
Schwefel-»Säulen« haben »Electretw-Eigenschaften; sie können als »Quasi-Electrete« bezeichnet werden.
Das entstandene elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial zeigt vorteilhafte Eigenschaften der oben
beschriebenen Art. Wird das betreffende Aufzeichnungsmaterial mit einem Bild aufgeladen, so zeigt sich
ein Ladungsverlust von z.B. etwa 1%; dies bedeutet, daß das clektrophotographische Bild sehr gut erhalten
bleibt.
Eine als elektrisch leitender Schichtträger zu verwendende Aluminiumträgerplatte wird anodisiert,
gereinigt und getrocknet wie im Beisp.el 1. Der für die
Bildfläche bestimmte Bereich der Oxidauflage wird danach mit einem Epoxydharz bedeckt, das mit einem
Katalysator aus einem niedrig viskosen Harz, das üblicherweise bei Härtungskomponenien zur Bindung
von .Schaltungsplatte usw. verwendet wird, versetzt ist. Die Aluminiumträgerplatte wird sodann in einen
Vakuumofen eingebracht, der auf 1 mm Hg-Säule evakuiert und derart erhitzt wird, daß der Inhalt auf
etwa 1400C erwärmt ist. Unter diesen Bedingungen wird die Aluminiumträgerplatte etwa 10 Minuten in
dem Ofen belassen. Anschließend wird der Ofen abgekühlt und wieder auf Atmosphärendruck gebracht,
wobei die Alumiumträgerplatte in diesem Ofen solange verbleibt, bis das genannte Harz ausgehärtet ist (etwa
1,5 Stunden oder langer). Die Aluminiunilrägerplatte
wird danach aus dem Ofen herausgenommen, und ihre mit dem genannten Harz bedeckte Bildfläche wird
gleichmäßig bis auf die Oxidschicht heruntergearbeilet. Dabei wird der gesamte Kunststoff oberhalb dieser
harten Oberfläche entfernt. Ein Teil des mit dem genannten Harz gefüllten Oxides kann ebenfalls
abgeschliffen werden, um eine galite Oberfläche zu erhalten, sofern dies erwünscht ist. Die Sehwindungseigenschaften
und andere elektrophotographische Eigenschaften des so hergestellten elektrophotographischen
Aiifzeichnungsmatcrials sind mit entsprechenden Eigenschaften
des nach Beispiel I hergestellten elektrophotographischen Aufzeichniingsmaterials vergleichbar. Dies
bedeutet, daß auch hier auf dem elektrisch leitenden Schichtträger eine dielektrische Matrix mit Mikroporen
gebildet ist, in welchen ein Bildmaterial abgelagert ist.
Anders als bei der in Beispiel I beschriebenen Verfahrensweise, die als Dampfimprägnieningsverfahlenswcise
bezeichnet werden mag, erfolgt hier die Einlagerung des Bildmaterials in den Mikroporen durch
eine einfache mechanische (beispielsweise kapillaraktive) Methode, wobei die Füllstoffflüssigkeit die aus den
Mikroporen entfernte Atmosphäre ersetzt. Dabei muß > beachtet werden, daß die Mikroporen vollständig
evakuiert werden und daß keine Lufteinschlüsse zurückbleiben, da durch solche Lufteinschlüsse die
Qiiersehniltsintegrität der Bildmateria!-»Säulen« unterbrochen
würde. Andere ähnliche elektrostatisch ver-
Hi trägliche Harze oder andere organische Materialien
können in entsprechender Weise verwendet werden (derartige Materialien sind in den Beispielen J und 4
angegeben). Es hat sich in diesem Zusammenhang gezeigt, daß bestimmte, scheinbar gleiche organische
ir> Materialien unbefriedigende elektrophotograpische
Eigenschaften liefern, wenn sie als Füllstoffe, d. h. für die Einlagerung in den Mikroporen verwendet werden. So
liefern Paraffin und Carnauba-Wachs unbefriedigende Ergebnisse (wegen sehr schlechter Oberflächenverluste
.1O und schlechter Bildrasterung); ähnliches gilt für
bestimmte öle. Selbstverständlich können Stoffe mit guter Leitfähigkeit (geringer Widerstand), wie Glyzerin,
nicht verwendet werden. Offensichtlich sind eine geringe Viskosität und die Fähigkeit, in die Mikroporen
2~> (durch Kapillarkräfte) einzudringen, wesentliche Bedingungen,
wobei die Molekülgröße geringer ist als der Porendurchmesser). Andere ähnliche Materialien können
im allgemeinen als Füllstoffe für diese Einlagerungsart verwendet werden, wie z. B. andere niedrig viskose,
ι» nichtleitende Stoffe. Solche nichtleitenden Stoffe
(Dielektrika) können auch bei der Dampfimprägnierung verwendet werden, sofern sie ausreichend flüchtig sind
unter den vorhandenen Bedingungen, wie z. B. Cadmiumsulfid oder ähnliche Photoleiter.
)· Das nach dem betrachteten Beispiel 2 hergestellte
elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde durch Abschleifen der gewissermaßen mit Widerständen
gefüllten Bildfläche bis herunier zur Oberfläche des elektrisch leitenden Schichtträgers, also des Aluminium-
4i) trägers, stufenweise getestet, wobei die elektrophotographische
Wirksamkeit jeweils geprüft wurde. Die Ergebnisse zeigten, daß das photoresistive Bildmaterial
stets in einem ausnutzbaren, elektrophotographisch aktiven Ausmaß vorhanden war, und zwar im
t> wesentlichen über den gesamten Bereich bis herunter
zur der Oberfläche des elektrische leitenden Schichtträgers hin. Dies zeigt deutlich, daß das photoresistive
Bildmaterial vollständig über den gesamten Querschnitt der dielektrischen Matrix eingebettet zu sein scheint
'>u und die Mikroporen darin ausfüllt (oder zumindest die
Randbereiche der Mikroporen), und zwar im wesentlichen vollständig.
j5 Der Herstellvorgang gemäß Beispiel 2 wird wiederholt,
wobei das Epoxidharz durch ein lichthärlbares Harz ersetzt wurde.
tu) Der Hersteilvorgang beinäß Beispiel 2 wird wiederholt, wobei ein Methacrylat ein anderer geeigneter
Polyester als Bildmaterial bzw. Füllstoff verwendet wird, und zwar in der Art, in der das Epoxidharz gemäß
Beispiel 2 verwendet worden ist.
bi Es dürfte einzusehen sein, daß auch aus anderen
Materialien bestehende elektrisch leitende Schichtträger in ähnlicher Weise unter Lieferung von Mikroporen
oxydiert werden können, wie z. B. Magnesium, Kupfer
oder Mangan. Rs kann dabei besonders vorteilhaft sein,
einen oxydierten, elektrisch leitenden Schichtträger herzustellen, und /war dadurch, daß z. B. eine Aluminiumlegierungsplatte
verwendet wird, die in geeigneter Weise oxydiert werden kann.
Der Herstellvorgang gemäß Beispiel I wird wiederholt, jedoch unter Verwendung einer handelsüblichen
anodischen Oxidschicht einer als elektrisch leitender Schichtträger dienenden Aluminiumplatte für die
Bildung einer dielektrischen Bildfläche. Dabei wird im einzelnen eine dicke, harte anodische Schicht ausgewählt
(in der Größenordnung von einigen I lundertsteln eines Millimeters), die vorzugsweise offenporig ist, weil
dies eine größere Menge an einzulagerndem Bildmaterial erfordert. Es sei jedoch bemerkt, daß auch eine
Schicht mit gewissermaßen geschlossenen Poren b/w. Mikroporen verwendet werden kann. Zur Erzielung
einer derartigen Oxidschicht ist eine Anodisierung der
erwähnten Aluminiumplattc in einem Bad erforderlich, welches eine große Menge Schwefelsäure (z. B. 10 bis
25%, zuweilen zusammen mit Oxalsäure oder anderen Zusätzen) erfordert bei vergleichsweise geringer Temperatur
(z. B. —7 bis + IO°C) und relativ hoher .Stromdichte (eine typische Anodisierungsgeschwindigkeit
ergibt bei einer Aufwachsrate von 0,025 mm in 15 bis 40 min insgesamt eine Gesamtdicke von 0,15 bis
0,4 mm). Die betreffende Anodisierung kann bei den meisten Aluminiumlegierungen angewandt werden
(solche mit mehr als einigen Prozent Kupfer oder Silicium sind meist ungeeignet), wie z. B. die üblichen
schmiedbaren Legierungen und die Barrenlcgierungen. Beim Ablauf der Anodisierung entfallen praktisch 50%
auf Dicken/.unahme und 50% auf einen Oberfläehenangriff. Dies bedeutet, daß eine Schicht von 0,05 mm Dicke
nur eine Dickenzunahme des Schichtträgers von 0,025 mm ergibt. Auf diese Weise ist auf dem elektrisch
leitenden .Schichtträger eine dielektrische Matrix gebildet, in der giößenordniingsmäßig eine Billion
Poren bzw. Mikroporen auf einen Quadrat/entimeter
kommen. Rir solche Oberflächenbereiche des elektrisch "> leitenden Schichtträgers, die nicht anodisiert werden
sollen, erfolgt eine Abdeckung; die betreffenden Bereiche können für die Herstellung von Ansihlußkontakten
vorgesehen sein. Die Korrosionsfestigkeit, die mechanische Härte und die elektrischen Isolalionsei-
ii) genschaften (bei Durchbruchsspannungen in der Größenordnung
von einigen 1000 Volt Gleichspannung) eines derart iinodisierten elektrisch leitenden Schichtträgers
sind als sehr gut für die Verwendung als elektrophotographisches \uf/.eichniing.smjlerial geeig-
Γι net.
Der I lerstellvorgang gemäß Beispiel *> wird wieder
holt, wobei jedoch die dielektrische Oxidniairix mit dein
j» Epoxydharz, gemäß Beispiel 2 gefüllt wird. Die hierdurch
erzielten elektrophotogruphisehen Eigenschuften sind genauso befriedigend wie die bei dem elektropho
tographischen Aufzeichnungsmaterial gemäß Beispiel 5 erzielten Eigenschaften.
r> Abschließend sei noch bemerkt, daß durch die Ablagerung des Bildmaterials in den Mikroporen des
dielektrischen Materials dieses und der unter diesem befindliche elektrisch leitende Schichtträger \or einer
Korrosion geschützt sind. Außerdem ist durch die
ic Aiisfüllun.:: der Mikroporen durch ein Bildmaterial
verhindert, daß die durch eine Oxidschicht gebildete dielektrische Matrix weiter wächst. Überdies sei noch
bemerkt, daß man durch die Auswahl der einzelnen Materialien für das elektrophotographische Auf/eich-
t) nungsmaterial und der zu dessen Herstellung benut/len
Verfahrensschritie die elektrostatischen Eigenschuften dieses Aufzeichiiungsmatcrials entsprechend wählen
kann.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (8)
1. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
mit einem elektrisch leitenden Schichtträger, einer Schicht aus einem porösen Material mit einer
Vielzahl von gleichmäßig verteilten, von der einen Seite der betreffenden Schicht zu deren anderer
Seite hin untereinander verbundenen Poren und einem Photoleiter, dadurch gekennzeichnet,
daß das poröse Material aus Aluminiumoxid, Kupferoxid, Magnesiumoxid oder Manganoxid besteht
und daß die Schicht aus dem porösen Material den Photoleiter in den Poren vom Schichtträger bis
zur Oberfläche enthält, ohne daß auf der Oberfläche der Schicht eine zusammenhängende, isolierende
Schicht ausgegebildet ist.
2. Elektrographisches Aufzeichnungsmaterial mit einem elektrisch leitenden Schichtträger und einer
Schicht aus einem porösen Material mit einer Vielzahl von gleichmäßig verteilten, von der einen
Seite der betreffenden Schicht zu deren anderer Seite hin untereinander verbundenen Poren, dadurch
gekennzeichnet, daß das poröse Material aus Aluminiumoxid, Kupferoxid, Magnesiumoxid oder
Manganoxid besteht und daß die Schicht aus dem porösen Material eine isolierende Verbindung in den
Poren vom Schichtträger bis zur Oberfläche enthält, ohne daß auf der Oberfläche der Schicht eine
zusammenhängende isolierende Schicht ausgebildet ist.
3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoleiter aus
Schwefel oder Cadmiumsulfid besteht.
4. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die isolierende Verbindung
aus einem härtbaren Epoxydharz besteht.
5. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der elektrisch leitende
Schichtträger aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung besteht.
6. Verfahren zur Herstellung eines elektrophotographischen oder elektrographischen Aufzeichnungsmaterials
nach einem der Ansprüche I bis 5, bei dem auf einen elektrisch leitenden Schichträger
eine Schicht aus einem porösen Material mit einer Vielzahl von gleichmäßig verteilten, von der einen
Seite der betreffenden Schicht zu deren anderen Seite hin untereinander verbundenen Poren aufgebracht
wird, dadurch gekennzeichnet, daß ein Photoleiter oder eine elektrisch isolierende Verbindung
im Vakuum in die Poren eingebracht und gegebenenfalls überschüssiger Photoleiter oder
überschüssige isolierende Verbindung von der Oberfläche der so erhaltenen Schicht wieder
entfernt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoleiter oder die elektrisch
isolierende Verbindung in die Poren eingedampft wird.
8.Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß der Photoleiter oder die elektrisch isolierende Verbindung in die Poren einfließen
gelassen wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US72822468A | 1968-05-10 | 1968-05-10 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1923825A1 DE1923825A1 (de) | 1969-11-27 |
DE1923825B2 true DE1923825B2 (de) | 1978-01-26 |
DE1923825C3 DE1923825C3 (de) | 1978-09-21 |
Family
ID=24925937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19691923825 Granted DE1923825B2 (de) | 1968-05-10 | 1969-05-09 | Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial und elektrographisches aufzeichnungsmaterial sowie verfahren zur herstellung solcher aufzeichnungsmaterialien |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3615405A (de) |
JP (1) | JPS4910707B1 (de) |
DE (1) | DE1923825B2 (de) |
GB (1) | GB1267244A (de) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2132764A1 (de) * | 1971-07-01 | 1973-01-18 | Bayer Ag | Mittel zur selektiven unkrautbekaempfung in rueben |
DE2204509C3 (de) * | 1972-02-01 | 1981-12-03 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Aufzeichnungsträger für Registriergeräte |
JPS5098327A (de) * | 1973-12-25 | 1975-08-05 | ||
US4123271A (en) * | 1974-01-22 | 1978-10-31 | Mita Industrial Company, Limited | Alkali metal dichromate as memory resistance improver for zinc oxide photoconductors in electrostatic photography |
US4075013A (en) * | 1976-09-13 | 1978-02-21 | Ward Anthony T | Electrophotochemical preparation of selenium photoconductive members |
JPS55116034U (de) * | 1979-02-02 | 1980-08-15 | ||
JPS56129931U (de) * | 1980-03-03 | 1981-10-02 | ||
US4413049A (en) * | 1980-06-30 | 1983-11-01 | Dennison Manufacturing Company | Anodized electrostatic imaging surface |
DE3132355C2 (de) * | 1981-08-17 | 1986-01-16 | Rüdiger 2121 Kirchgellersen Thenhausen | Abdeckstreifen aus Gummi für den Übergang von gelenkigen Verbindungen zwischen Boden und Klappen von Transportfahrzeugen |
US4496236A (en) * | 1982-02-05 | 1985-01-29 | Dennison Manufacturing Company | Anodized electrostatic imaging surface |
US4518468A (en) * | 1983-02-22 | 1985-05-21 | Dennison Manufacturing Company | Process for making electrostatic imaging surface |
WO1984003366A1 (en) * | 1983-02-22 | 1984-08-30 | Dennison Mfg Co | Anodized electrostatic imaging surface |
US4587191A (en) * | 1984-01-05 | 1986-05-06 | Futures C, Inc. | Collapsible photoreceptive sheet including a high concentration of voids |
US4705696A (en) * | 1984-09-27 | 1987-11-10 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Method of making a lithographic printing plate, printing plates made by the method, and the use of such printing plates to make lithographic prints |
DE3616607A1 (de) * | 1985-05-17 | 1986-11-20 | Ricoh Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Lichtempfindliches material fuer die elektrophotographie |
DE3619432A1 (de) * | 1986-06-10 | 1987-12-17 | Komatsu Mfg Co Ltd | Verfahren zur herstellung eines elektrophotographischen photosensors |
US4864331A (en) * | 1986-10-22 | 1989-09-05 | Markem Corporation | Offset electrostatic imaging process |
US4770964A (en) * | 1986-12-23 | 1988-09-13 | Xerox Corporation | Magnetic imaging member and fabrication process therefor |
JPH03109569A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体及びその製造方法 |
JPH05273778A (ja) * | 1991-10-16 | 1993-10-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 誘電体ドラム及びこれを用いた静電記録装置 |
DE4239391C2 (de) * | 1991-11-27 | 1996-11-21 | Electro Chem Eng Gmbh | Gegenstände aus Aluminium, Magnesium oder Titan mit einer mit Fluorpolymeren gefüllten Oxidkeramikschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
JP3406191B2 (ja) * | 1997-07-15 | 2003-05-12 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体基板および電子写真用感光体 |
US6410197B1 (en) * | 1998-09-18 | 2002-06-25 | Lexmark International, Inc. | Methods for treating aluminum substrates and products thereof |
-
1968
- 1968-05-10 US US728224A patent/US3615405A/en not_active Expired - Lifetime
-
1969
- 1969-05-01 GB GB1267244D patent/GB1267244A/en not_active Expired
- 1969-05-09 DE DE19691923825 patent/DE1923825B2/de active Granted
- 1969-05-10 JP JP44035690A patent/JPS4910707B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3615405A (en) | 1971-10-26 |
DE1923825A1 (de) | 1969-11-27 |
GB1267244A (de) | 1972-03-15 |
DE1923825C3 (de) | 1978-09-21 |
JPS4910707B1 (de) | 1974-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1923825C3 (de) | ||
EP1430489B1 (de) | Elektrokeramisches bauelement mit mehreren kontaktflächen | |
DE2623592C2 (de) | Festelektrolyt-Kondensator und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2052424C3 (de) | Verfahren zum Herstellen elektrischer Leitungsverbindungen | |
DE2806395C2 (de) | Festelektrolyt-Kondensator | |
DE2149303A1 (de) | Halbleiter-Speichervorrichtung | |
DE112010003143T5 (de) | Halbleitervorrichtung, Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung, und Anzeigevorrichtung | |
DE3211637A1 (de) | Gegenelektrode fuer eine elektrochrome anzeigevorrichtung | |
DE2621920A1 (de) | Verfahren zur herstellung von photoelementen | |
DE1621761A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kornschichten,insbesondere ein Korn dicken Schichten in einem Fuellstoff | |
DE2828355A1 (de) | Photoelektrisch leitfaehiges element mit einer sperrschicht aus aluminiumhydroxyoxid | |
DE1589727A1 (de) | Elektrischer Kondensator und Verfahren zur Herstellung von elektrischen Kondensatoren | |
DE2016211C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung | |
DE2349233C3 (de) | Matrix aus photoleitenden Zellen | |
DE2559978C2 (de) | Verfahren zur Regenerierung einer Anode | |
DE2715242A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer kathode | |
DE1772461C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern | |
DE1771127A1 (de) | Brennstoffzellenelektrode und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE972845C (de) | Mehrschichtfolie zur Herstellung gedruckter Schaltungen oder gedruckter Schaltelemente | |
DE2434455A1 (de) | Akustischer bildwandler | |
DE843786C (de) | Verfahren zum Herstellen von Metallgegenstaenden mit widerstandsfaehigem UEberzug | |
DE2532971B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines' Trocken-Elektrolytkondensators | |
AT146302B (de) | Aktivierte Glühkathode. | |
DE10026257A1 (de) | Elektrisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE102020128412A1 (de) | Verbinder und verfahren zu dessen herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |