JP3406191B2 - 電子写真用感光体基板および電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体基板および電子写真用感光体Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真用感光体
に使用する、表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有する
アルミニウム製の電子写真用感光体基板およびそれを用
いた電子写真用感光体に関する。
に使用する、表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有する
アルミニウム製の電子写真用感光体基板およびそれを用
いた電子写真用感光体に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真の技術は従来から複写機の分野
で発展を遂げ、最近ではレーザープリンターなどにも応
用され、従来のインパクトプリンターとは比較にならな
いほど高画質、高速、静粛性を誇り、現在の記録装置の
ほとんどに使用されている。これらの装置で使用される
電子写真用感光体は導電性基板表面に光導電層を設けて
形成される。光導電層の材料としては、有機材料を使用
したものが主流で、その中でも、現在では基板上に下引
層（ＵＣＬ）、電荷発生層（ＣＧＬ）、電荷輸送層（Ｃ
ＴＬ）を順次積層した機能分離積層型構造が一般的であ
る。基板の表面に塗布する第１層の下引層の材料として
はポリアミド系やメラミン系を代表とする樹脂系材料を
使用するタイプと、アルミニウム基板の表面に陽極酸化
皮膜（以下「皮膜」と略記する）を形成させるタイプの
２種類に分けられるが、高温高湿環境下における信頼性
では後者の方が一般的に有利である。
で発展を遂げ、最近ではレーザープリンターなどにも応
用され、従来のインパクトプリンターとは比較にならな
いほど高画質、高速、静粛性を誇り、現在の記録装置の
ほとんどに使用されている。これらの装置で使用される
電子写真用感光体は導電性基板表面に光導電層を設けて
形成される。光導電層の材料としては、有機材料を使用
したものが主流で、その中でも、現在では基板上に下引
層（ＵＣＬ）、電荷発生層（ＣＧＬ）、電荷輸送層（Ｃ
ＴＬ）を順次積層した機能分離積層型構造が一般的であ
る。基板の表面に塗布する第１層の下引層の材料として
はポリアミド系やメラミン系を代表とする樹脂系材料を
使用するタイプと、アルミニウム基板の表面に陽極酸化
皮膜（以下「皮膜」と略記する）を形成させるタイプの
２種類に分けられるが、高温高湿環境下における信頼性
では後者の方が一般的に有利である。
【０００３】通常、光導電層の材料として有機材料を使
用した有機感光体は、感光体材料を溶剤に溶解または分
散させた塗布液槽中に基板を浸漬させ、塗布するという
湿式塗布で成膜されるのが一般的である。感光体の品質
は塗布膜の均一性および無欠陥性が要求されるが、中で
も塗布膜の均一性は基板表面の状態（均一性）に大きく
依存し、湿式による場合は特に顕著である。
用した有機感光体は、感光体材料を溶剤に溶解または分
散させた塗布液槽中に基板を浸漬させ、塗布するという
湿式塗布で成膜されるのが一般的である。感光体の品質
は塗布膜の均一性および無欠陥性が要求されるが、中で
も塗布膜の均一性は基板表面の状態（均一性）に大きく
依存し、湿式による場合は特に顕著である。
【０００４】皮膜を表面に形成させた基板を使用する場
合、陽極酸化処理後に行う封孔処理後の表面状態が感光
体そのものの品質をほぼ決定することが明らかになって
いる。ここでいう表面状態とは表面の塗れ性が均一であ
ることであり、皮膜の表面が全表面にわたって均一な塗
れ性でなければならない。この塗れ性が不均一な場合、
感光層、特には電荷発生層の膜厚が不均一となり、塗布
むらを生じて、結果的に印字評価時に「濃度むら」が生
じたりして、不具合になることが明らかになっている。
合、陽極酸化処理後に行う封孔処理後の表面状態が感光
体そのものの品質をほぼ決定することが明らかになって
いる。ここでいう表面状態とは表面の塗れ性が均一であ
ることであり、皮膜の表面が全表面にわたって均一な塗
れ性でなければならない。この塗れ性が不均一な場合、
感光層、特には電荷発生層の膜厚が不均一となり、塗布
むらを生じて、結果的に印字評価時に「濃度むら」が生
じたりして、不具合になることが明らかになっている。
【０００５】一方、感光層を塗布する前に表面に酸化物
やイオンが残留していると「黒点」や「かぶり」の画像
欠陥の原因となるため、アルカリや酸による洗浄を行い
これを除去しているが、皮膜の封孔状態が悪い場合は洗
浄工程における汚れの除去効率が悪く、「黒点」や「か
ぶり」の原因となる場合が多い。この限界を決める目安
としてアドミッタンス値（Ｙ２０）があり、調査によれ
ばこの値が７０μＳ以下であることが望ましいというこ
とが明らかとなっている。アドミッタンス値（Ｙ２０）
を下げるには、より高温で長時間の封孔処理が必要であ
り、７０μＳ以下にするには少なくとも８０℃で１０分
間以上の処理が必要である。なお、ここでいうアドミッ
タンス値（Ｙ２０）は、ＪＩＳ Ｈ８６８３−１９７９
による膜厚２０μｍ換算値である。
やイオンが残留していると「黒点」や「かぶり」の画像
欠陥の原因となるため、アルカリや酸による洗浄を行い
これを除去しているが、皮膜の封孔状態が悪い場合は洗
浄工程における汚れの除去効率が悪く、「黒点」や「か
ぶり」の原因となる場合が多い。この限界を決める目安
としてアドミッタンス値（Ｙ２０）があり、調査によれ
ばこの値が７０μＳ以下であることが望ましいというこ
とが明らかとなっている。アドミッタンス値（Ｙ２０）
を下げるには、より高温で長時間の封孔処理が必要であ
り、７０μＳ以下にするには少なくとも８０℃で１０分
間以上の処理が必要である。なお、ここでいうアドミッ
タンス値（Ｙ２０）は、ＪＩＳ Ｈ８６８３−１９７９
による膜厚２０μｍ換算値である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】様々な調査の結果、陽
極酸化処理後に行う封孔処理後の皮膜の表面状態のう
ち、特に表面の微細構造の変化が塗れ性に影響を与えて
いることが明らかとなった。一般的に陽極酸化処理直後
の表面形態は六角柱の微細なセル構造になっており、そ
の中心部に１００Å程度の細孔が存在する。この細孔を
塞ぐ処理を封孔処理といい、沸騰水や蒸気中で皮膜を水
和反応させて膨潤させることにより塞いだり、あるいは
酢酸ニッケル溶液を使用して、皮膜の水和反応と酢酸ニ
ッケルの加水分解による水酸化ニッケルの充填との併用
によって塞ぐのが一般的である。
極酸化処理後に行う封孔処理後の皮膜の表面状態のう
ち、特に表面の微細構造の変化が塗れ性に影響を与えて
いることが明らかとなった。一般的に陽極酸化処理直後
の表面形態は六角柱の微細なセル構造になっており、そ
の中心部に１００Å程度の細孔が存在する。この細孔を
塞ぐ処理を封孔処理といい、沸騰水や蒸気中で皮膜を水
和反応させて膨潤させることにより塞いだり、あるいは
酢酸ニッケル溶液を使用して、皮膜の水和反応と酢酸ニ
ッケルの加水分解による水酸化ニッケルの充填との併用
によって塞ぐのが一般的である。
【０００７】ところが、いずれの処理でも水和反応によ
る皮膜の成長が、水平方向と同時に垂直方向（皮膜厚方
向）に編み目状に異常成長して、表面が平滑にはならな
いことの結果として、特に浸漬塗布法による感光層の塗
れ性に影響を与え、しかも高温で処理をした場合にはそ
の影響が特に顕著であることが判明した。さらに、編み
目状の封孔処理が面全体で均一でなく、ムラも発生しや
すかった。
る皮膜の成長が、水平方向と同時に垂直方向（皮膜厚方
向）に編み目状に異常成長して、表面が平滑にはならな
いことの結果として、特に浸漬塗布法による感光層の塗
れ性に影響を与え、しかも高温で処理をした場合にはそ
の影響が特に顕著であることが判明した。さらに、編み
目状の封孔処理が面全体で均一でなく、ムラも発生しや
すかった。
【０００８】そこで本発明の目的は、アドミッタンス値
（Ｙ２０）７０μＳ以下を実現し、かつ皮膜の垂直方向
の成長を抑制して、均一かつ平滑で塗れ性の高い表面を
高い封孔度で有する電子写真用感光体基板およびそれを
用いた電子写真用感光体を提供することにある。
（Ｙ２０）７０μＳ以下を実現し、かつ皮膜の垂直方向
の成長を抑制して、均一かつ平滑で塗れ性の高い表面を
高い封孔度で有する電子写真用感光体基板およびそれを
用いた電子写真用感光体を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、従来の封孔処理剤に特
定の界面活性剤等を添加することにより、皮膜の垂直方
向の成長が抑制され、均一かつ平滑で塗れ性の表面を高
い封孔度で得ることができることを見出し、本発明を完
成するに至った。
を解決すべく鋭意検討した結果、従来の封孔処理剤に特
定の界面活性剤等を添加することにより、皮膜の垂直方
向の成長が抑制され、均一かつ平滑で塗れ性の表面を高
い封孔度で得ることができることを見出し、本発明を完
成するに至った。
【００１０】即ち、本発明の第一の発明は、表面にアル
ミニウム陽極酸化皮膜を有するアルミニウム製の電子写
真用感光体基板において、該アルミニウム陽極酸化皮膜
の形成処理後の封孔処理剤にリン酸エステル系界面活性
剤を添加して封孔処理が施されていることを特徴とする
ものである。
ミニウム陽極酸化皮膜を有するアルミニウム製の電子写
真用感光体基板において、該アルミニウム陽極酸化皮膜
の形成処理後の封孔処理剤にリン酸エステル系界面活性
剤を添加して封孔処理が施されていることを特徴とする
ものである。
【００１１】本発明の第二の発明は、表面にアルミニウ
ム陽極酸化皮膜を有するアルミニウム製の電子写真用感
光体基板において、該アルミニウム陽極酸化皮膜の形成
処理後の封孔処理剤にナフタレンスルホン酸系ホルムア
ルデヒド縮合物を添加して封孔処理が施されていること
を特徴とするものである。
ム陽極酸化皮膜を有するアルミニウム製の電子写真用感
光体基板において、該アルミニウム陽極酸化皮膜の形成
処理後の封孔処理剤にナフタレンスルホン酸系ホルムア
ルデヒド縮合物を添加して封孔処理が施されていること
を特徴とするものである。
【００１２】本発明の第三の発明は、表面にアルミニウ
ム陽極酸化皮膜を有するアルミニウム製の電子写真用感
光体基板において、該アルミニウム陽極酸化皮膜の形成
処理後の封孔処理剤にビスフェノールＡスルホン酸系ホ
ルムアルデヒド縮合物を添加して封孔処理が施されてい
ることを特徴とするものである。
ム陽極酸化皮膜を有するアルミニウム製の電子写真用感
光体基板において、該アルミニウム陽極酸化皮膜の形成
処理後の封孔処理剤にビスフェノールＡスルホン酸系ホ
ルムアルデヒド縮合物を添加して封孔処理が施されてい
ることを特徴とするものである。
【００１３】また、本発明は、前記電子写真用感光体基
板が用いられていることを特徴とする電子写真用感光体
に関する。
板が用いられていることを特徴とする電子写真用感光体
に関する。
【００１４】具体的には、純水封孔処理および酢酸ニッ
ケル封孔処理のいずれにおいてもリン酸エステル系界面
活性剤を適量添加することにより、高温で封孔処理して
も平滑な表面状態とアドミッタンス（Ｙ２０）を７０μ
Ｓ以下の封孔処理皮膜にすることが可能で、良好な塗液
の塗れ性および印字品質を得ることができる。また、リ
ン酸エステル系界面活性剤の代わりに、ナフタレンスル
ホン酸系ホルムアルデヒド縮合物またはビスフェノール
Ａスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物を適量添加して
も同様の効果を得ることができる。
ケル封孔処理のいずれにおいてもリン酸エステル系界面
活性剤を適量添加することにより、高温で封孔処理して
も平滑な表面状態とアドミッタンス（Ｙ２０）を７０μ
Ｓ以下の封孔処理皮膜にすることが可能で、良好な塗液
の塗れ性および印字品質を得ることができる。また、リ
ン酸エステル系界面活性剤の代わりに、ナフタレンスル
ホン酸系ホルムアルデヒド縮合物またはビスフェノール
Ａスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物を適量添加して
も同様の効果を得ることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の電子写真用感光体
基板およびそれを用いた電子写真用感光体について具体
的に説明する。本発明の電子写真用感光体基板は、アル
ミニウムの陽極酸化皮膜形成後の封孔処理をリン酸エス
テル系界面活性剤、ナフタレンスルホン酸系ホルムアル
デヒド縮合物またはビスフェノールＡスルホン酸系ホル
ムアルデヒド縮合物を適量用いて適正に行うことにより
得られる。
基板およびそれを用いた電子写真用感光体について具体
的に説明する。本発明の電子写真用感光体基板は、アル
ミニウムの陽極酸化皮膜形成後の封孔処理をリン酸エス
テル系界面活性剤、ナフタレンスルホン酸系ホルムアル
デヒド縮合物またはビスフェノールＡスルホン酸系ホル
ムアルデヒド縮合物を適量用いて適正に行うことにより
得られる。
【００１６】次に、前記電子写真用感光体基板を用いた
本発明の電子写真用感光体の具体的構成を説明する。感
光体には、一般的に負帯電機能分離積層型感光体、正帯
電機能分離積層型感光体、さらに正帯電単層型感光体が
あるが、ここでは本発明の好適形態である負帯電機能分
離積層型感光体を例にとり具体的に説明する。
本発明の電子写真用感光体の具体的構成を説明する。感
光体には、一般的に負帯電機能分離積層型感光体、正帯
電機能分離積層型感光体、さらに正帯電単層型感光体が
あるが、ここでは本発明の好適形態である負帯電機能分
離積層型感光体を例にとり具体的に説明する。
【００１７】図１に示す負帯電機能分離積層型感光体に
おいては、導電性基体１上に積層された下引層２上にさ
らに感光層５が積層されている。かかる感光層５は電荷
発生層３上に電荷輸送層４が積層されてなり、電荷発生
層と電荷輸送層とに分離した機能分離型である。
おいては、導電性基体１上に積層された下引層２上にさ
らに感光層５が積層されている。かかる感光層５は電荷
発生層３上に電荷輸送層４が積層されてなり、電荷発生
層と電荷輸送層とに分離した機能分離型である。
【００１８】導電性基体１は感光体の電極としての役目
と同時に他の各層の支持体としての役目も持っており、
円筒状、板状、フィルム状のいずれでもよいアルミニウ
ム基板である。このアルミニウム基板は表面に前記アル
ミニウム陽極酸化皮膜を有する。
と同時に他の各層の支持体としての役目も持っており、
円筒状、板状、フィルム状のいずれでもよいアルミニウ
ム基板である。このアルミニウム基板は表面に前記アル
ミニウム陽極酸化皮膜を有する。
【００１９】電荷発生層３は有機光導電性物質を真空蒸
着するか、または有機光導電性物質の粒子を樹脂バイン
ダー中に分散させた材料を塗布して形成され、光を受容
して電荷を発生する。電荷発生層３は、その電荷発生効
率が高いことと同時に、発生した電荷の電荷輸送層４へ
の注入性が重要で、電場依存性が少なく、低電場でも注
入の良いことが望ましい。かかる電荷発生層に用いる電
荷発生物質として、下記に具体例Ｉ−１〜４ として示すような各種フタロシアニン化合物、アゾ化合
物、多環キノン化合物、およびこれらの誘導体を用いる
ことができる。
着するか、または有機光導電性物質の粒子を樹脂バイン
ダー中に分散させた材料を塗布して形成され、光を受容
して電荷を発生する。電荷発生層３は、その電荷発生効
率が高いことと同時に、発生した電荷の電荷輸送層４へ
の注入性が重要で、電場依存性が少なく、低電場でも注
入の良いことが望ましい。かかる電荷発生層に用いる電
荷発生物質として、下記に具体例Ｉ−１〜４ として示すような各種フタロシアニン化合物、アゾ化合
物、多環キノン化合物、およびこれらの誘導体を用いる
ことができる。
【００２０】電荷発生層用のバインダーとしてはポリカ
ーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、エポキシ、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセ
タール、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ホルマール樹脂、セルロース樹脂、またはこれら
の共重合体、およびこれらのハロゲン化物、シアノエチ
ル化合物を用いることができる。電荷発生層の厚さは
０．１〜５μｍ、好ましくは１μｍ以下である。
ーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、エポキシ、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセ
タール、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ホルマール樹脂、セルロース樹脂、またはこれら
の共重合体、およびこれらのハロゲン化物、シアノエチ
ル化合物を用いることができる。電荷発生層の厚さは
０．１〜５μｍ、好ましくは１μｍ以下である。
【００２１】これらのフタロシアニン化合物の使用量
は、樹脂バインダー１０重量部に対し、５〜５００重量
部、好ましくは１０〜１００重量部である。
は、樹脂バインダー１０重量部に対し、５〜５００重量
部、好ましくは１０〜１００重量部である。
【００２２】電荷輸送層４は、樹脂バインダー中に有機
電荷輸送物質を分散させた材料からなる塗膜であり、暗
所では絶縁体層として感光体の電荷を保持し、光受容時
には電荷発生層から注入される電荷を輸送する機能を有
する。電荷輸送層における電荷輸送物質としては、下記
に具体例ＩＩ−１〜７ として示すように各種ヒドラゾン、スチリル、ジアミ
ン、ブタジエン、インドール化合物およびこれらの混合
物を用いることができる。
電荷輸送物質を分散させた材料からなる塗膜であり、暗
所では絶縁体層として感光体の電荷を保持し、光受容時
には電荷発生層から注入される電荷を輸送する機能を有
する。電荷輸送層における電荷輸送物質としては、下記
に具体例ＩＩ−１〜７ として示すように各種ヒドラゾン、スチリル、ジアミ
ン、ブタジエン、インドール化合物およびこれらの混合
物を用いることができる。
【００２３】電荷輸送層用のバインダーとしてはポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテルア
クリル樹脂などが公知材料として検討されているが、膜
強度ならびに耐刷性面でポリカーボネートが現状最も優
れた材料系として広く実用に供されている。かかるポリ
カーボネートとしては、下記に具体例ＩＩＩ−１〜２ として示すようなビスフェノールＡ型、ビスフェノール
Ｚ型等および各種共重合体が挙げられる。
ーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテルア
クリル樹脂などが公知材料として検討されているが、膜
強度ならびに耐刷性面でポリカーボネートが現状最も優
れた材料系として広く実用に供されている。かかるポリ
カーボネートとしては、下記に具体例ＩＩＩ−１〜２ として示すようなビスフェノールＡ型、ビスフェノール
Ｚ型等および各種共重合体が挙げられる。
【００２４】かかるポリカーボネート樹脂の最適平均分
子量範囲は１万〜１０万である。さらに、電荷輸送層に
添加する酸化防止剤としては、下記ＩＶ−１〜４ として示すような酸化防止剤の単独系または適宜組み合
わせを用いることができる。電荷輸送層の厚さは１０〜
５０μｍの範囲が望ましい。
子量範囲は１万〜１０万である。さらに、電荷輸送層に
添加する酸化防止剤としては、下記ＩＶ−１〜４ として示すような酸化防止剤の単独系または適宜組み合
わせを用いることができる。電荷輸送層の厚さは１０〜
５０μｍの範囲が望ましい。
【００２５】下引層、電荷発生層、電荷輸送層には感度
の向上や残留電位の減少、あるいは耐環境性や有害な光
に対する安定性向上などを目的として、必要に応じて電
子受容性物質や酸化防止剤、光安定剤等を添加すること
ができる。また、必要に応じて上述の感光層上に、耐環
境性や機械的強度を向上させる目的で、表面保護層を設
けてもよい。この表面保護層は、光の透過を著しく妨げ
ないものが望ましい。
の向上や残留電位の減少、あるいは耐環境性や有害な光
に対する安定性向上などを目的として、必要に応じて電
子受容性物質や酸化防止剤、光安定剤等を添加すること
ができる。また、必要に応じて上述の感光層上に、耐環
境性や機械的強度を向上させる目的で、表面保護層を設
けてもよい。この表面保護層は、光の透過を著しく妨げ
ないものが望ましい。
【００２６】
【実施例】次に本発明を実施例に基づき具体的に説明す
る。 比較例１ 円筒状アルミニウム基板を切削加工によって所望の寸法
に仕上げたのち、脱脂剤（トップアルクリーン１０１：
奥野製薬工業（株）製／６０℃／２分）で切削油の脱脂
を行い、水洗して脱脂剤を十分除去した。この後、硫酸
中（１８０ｇ／ｌ、２０℃）で電解処理（１．０Ａ／ｄ
ｍ２、１２ｖ、２１分）を行い、陽極酸化皮膜厚を７μ
ｍとし、水洗を行った。封孔処理は酢酸ニッケル（６ｇ
／ｌ）を用い、処理温度は６０、７０、８０、９０℃の
４条件、処理時間は夫々５、１０分の２条件で行った。
る。 比較例１ 円筒状アルミニウム基板を切削加工によって所望の寸法
に仕上げたのち、脱脂剤（トップアルクリーン１０１：
奥野製薬工業（株）製／６０℃／２分）で切削油の脱脂
を行い、水洗して脱脂剤を十分除去した。この後、硫酸
中（１８０ｇ／ｌ、２０℃）で電解処理（１．０Ａ／ｄ
ｍ２、１２ｖ、２１分）を行い、陽極酸化皮膜厚を７μ
ｍとし、水洗を行った。封孔処理は酢酸ニッケル（６ｇ
／ｌ）を用い、処理温度は６０、７０、８０、９０℃の
４条件、処理時間は夫々５、１０分の２条件で行った。
【００２７】比較例２
封孔処理を純水（イオン交換水）を用いて行った他は比
較例１と同じ処理を行った。
較例１と同じ処理を行った。
【００２８】実施例１
封孔処理において酢酸ニッケル（６ｇ／ｌ）にリン酸
エステル系界面活性剤（フォスファノールＲＳ−６１
０：東邦化学工業（株）製）を０．０１、０．０２、
０．０５、０．１、１．０、２．０、２．２ｇ／ｌ（７
条件）で添加して、９０℃で１０分間処理した以外は比
較例１と同じ処理を実施した。封孔処理において酢酸
ニッケル（６ｇ／ｌ）にリン酸エステル系界面活性剤
（トップシールＥ１１０：奥野製薬工業（株）製）を
０．２、０．５、１．０、５．０、１０．０、２０．
０、２２．０ｍｌ／ｌ（７条件）で添加して、９０℃で
１０分間処理した以外は比較例１と同じ処理を実施し
た。
エステル系界面活性剤（フォスファノールＲＳ−６１
０：東邦化学工業（株）製）を０．０１、０．０２、
０．０５、０．１、１．０、２．０、２．２ｇ／ｌ（７
条件）で添加して、９０℃で１０分間処理した以外は比
較例１と同じ処理を実施した。封孔処理において酢酸
ニッケル（６ｇ／ｌ）にリン酸エステル系界面活性剤
（トップシールＥ１１０：奥野製薬工業（株）製）を
０．２、０．５、１．０、５．０、１０．０、２０．
０、２２．０ｍｌ／ｌ（７条件）で添加して、９０℃で
１０分間処理した以外は比較例１と同じ処理を実施し
た。
【００２９】実施例２
封孔処理において純水を使用した以外は実施例１と同じ
処理を行った。
処理を行った。
【００３０】実施例３
封孔処理において酢酸ニッケル（６ｇ／ｌ）にナフタレ
ンスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物（デモールＮ：
花王（株）製）を０．１、０．２、３．０、８．０、１
０．０、１２．０ｇ／ｌ（６条件）で添加して、９０℃
で１０分間処理した以外は比較例１と同じ処理を行っ
た。
ンスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物（デモールＮ：
花王（株）製）を０．１、０．２、３．０、８．０、１
０．０、１２．０ｇ／ｌ（６条件）で添加して、９０℃
で１０分間処理した以外は比較例１と同じ処理を行っ
た。
【００３１】実施例４
封孔処理において純水を使用した以外は実施例３と同じ
処理を行った。
処理を行った。
【００３２】実施例５
封孔処理において酢酸ニッケル（６ｇ／ｌ）にビスフェ
ノールＡスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物（ＡＭＮ
−０１：（株）センカ製）を０．１、０．２、１．０、
５．０、１０．０、２０．０、２２．０ｇ／ｌ（７条
件）で添加して、９０℃で１０分間処理した以外は比較
例１と同じ処理を行った。
ノールＡスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物（ＡＭＮ
−０１：（株）センカ製）を０．１、０．２、１．０、
５．０、１０．０、２０．０、２２．０ｇ／ｌ（７条
件）で添加して、９０℃で１０分間処理した以外は比較
例１と同じ処理を行った。
【００３３】実施例６
封孔処理において純水を使用した以外は実施例５と同じ
処理を行った。
処理を行った。
【００３４】上記比較例および実施例で作製した円筒状
アルミ基板をアルカリ洗浄剤（カストロール４５０：２
％：カストロール（株）製）で１分間洗浄して、６０℃
で乾燥させた。得られた基板に感光層として電荷発生層
と電荷輸送層を順次塗布した。電荷発生層は、Ｘ型無金
属フタロシアニンを平均粒径２００ｎｍで塩化ビニル酢
酸ビニル共重合体に４：６の比率で分散させてなり、電
荷輸送層はブタジエン系の電荷輸送剤とポリカーボネー
ト系樹脂（分子量：約３００００）を混合した材料を塗
布し、８０℃で２時間乾燥させて得た。
アルミ基板をアルカリ洗浄剤（カストロール４５０：２
％：カストロール（株）製）で１分間洗浄して、６０℃
で乾燥させた。得られた基板に感光層として電荷発生層
と電荷輸送層を順次塗布した。電荷発生層は、Ｘ型無金
属フタロシアニンを平均粒径２００ｎｍで塩化ビニル酢
酸ビニル共重合体に４：６の比率で分散させてなり、電
荷輸送層はブタジエン系の電荷輸送剤とポリカーボネー
ト系樹脂（分子量：約３００００）を混合した材料を塗
布し、８０℃で２時間乾燥させて得た。
【００３５】上記比較例および実施例のサンプルのアド
ミッタンス値（Ｙ２０）と感光層の塗布後の塗布膜の均
一性を評価した。その結果を下記の表１〜５に示す。塗
布膜の均一性の評価は○を良好、△を普通、×を不良と
した。普通とは、比較例に比べて効果は認められるが、
製品として要求される品質を満足しないものをいう。封
孔処理された皮膜が編み目状の表面状態で、かつムラの
ある状態では、感光層の塗布後の塗布膜の均一性は×の
不良となる。封孔処理皮膜が編み目状にならず平滑で均
一のときは塗布膜の均一性は○の良好となる。
ミッタンス値（Ｙ２０）と感光層の塗布後の塗布膜の均
一性を評価した。その結果を下記の表１〜５に示す。塗
布膜の均一性の評価は○を良好、△を普通、×を不良と
した。普通とは、比較例に比べて効果は認められるが、
製品として要求される品質を満足しないものをいう。封
孔処理された皮膜が編み目状の表面状態で、かつムラの
ある状態では、感光層の塗布後の塗布膜の均一性は×の
不良となる。封孔処理皮膜が編み目状にならず平滑で均
一のときは塗布膜の均一性は○の良好となる。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【表２】
【００３８】
【表３】
【００３９】
【表４】
【００４０】
【表５】
【００４１】上記評価結果から明らかなように、封孔処
理に特定の界面活性剤等を添加したことにより、表面が
均一で、しかもアドミッタンス値（Ｙ20）が７０μＳ以
下を得ることができた。このような結果は、本実施例で
用いた電荷発生層および電荷輸送層以外の材料で感光体
を構成した場合にも認められた。
理に特定の界面活性剤等を添加したことにより、表面が
均一で、しかもアドミッタンス値（Ｙ20）が７０μＳ以
下を得ることができた。このような結果は、本実施例で
用いた電荷発生層および電荷輸送層以外の材料で感光体
を構成した場合にも認められた。
【００４２】比較例１、２ではＹ２０が７０μＳ以下と
なる封孔条件では塗布膜の均一性が損なわれた。これは
酢酸ニッケルを用いても純水を用いても傾向は全く同じ
である。実施例１、２では界面活性剤の濃度が高くなる
とＹ２０が７０μＳ以上となる封孔阻害を生じ、実施例
３〜６では、縮合物の添加量が過剰になると着色を生じ
た。
なる封孔条件では塗布膜の均一性が損なわれた。これは
酢酸ニッケルを用いても純水を用いても傾向は全く同じ
である。実施例１、２では界面活性剤の濃度が高くなる
とＹ２０が７０μＳ以上となる封孔阻害を生じ、実施例
３〜６では、縮合物の添加量が過剰になると着色を生じ
た。
【００４３】以上説明してきたように本発明によれば、
アドミッタンス値（Ｙ20）が７０μＳ以下となり、かつ
皮膜の垂直方向の成長が抑制され、均一な塗れ性の表面
を高い封孔度で有する電子写真用感光体基板が得られ
る。従って、この基板を用いた電子写真用感光体におい
ては、優れた画像特性が得られる。
アドミッタンス値（Ｙ20）が７０μＳ以下となり、かつ
皮膜の垂直方向の成長が抑制され、均一な塗れ性の表面
を高い封孔度で有する電子写真用感光体基板が得られ
る。従って、この基板を用いた電子写真用感光体におい
ては、優れた画像特性が得られる。
【図１】本発明の一例負帯電機能分離積層型電子写真用
感光体の模式的断面図である。
感光体の模式的断面図である。
【符号の説明】
１ 導電性基体
２ 下引層
３ 電荷発生層
４ 電荷輸送層
５ 感光層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 坂口 雅章
大阪府大阪市鶴見区放出東１丁目10番25
号 奥野製薬工業株式会社内
(72)発明者 中岸 豊
大阪府大阪市鶴見区放出東１丁目10番25
号 奥野製薬工業株式会社内
(56)参考文献 特開 平８−248662（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−191472（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−249261（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−5068（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−280768（ＪＰ，Ａ)
Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ，1982年，Ｖｏｌ
58．11，650−652頁
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03G 5/10
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (4)
- 【請求項１】 表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有す
るアルミニウム製の電子写真用感光体基板において、該
アルミニウム陽極酸化皮膜の形成処理後の封孔処理剤に
リン酸エステル系界面活性剤を添加して封孔処理が施さ
れていることを特徴とする電子写真用感光体基板。 - 【請求項２】 表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有す
るアルミニウム製の電子写真用感光体基板において、該
アルミニウム陽極酸化皮膜の形成処理後の封孔処理剤に
ナフタレンスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物を添加
して封孔処理が施されていることを特徴とする電子写真
用感光体基板。 - 【請求項３】 表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有す
るアルミニウム製の電子写真用感光体基板において、該
アルミニウム陽極酸化皮膜の形成処理後の封孔処理剤に
ビスフェノールＡスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物
を添加して封孔処理が施されていることを特徴とする電
子写真用感光体基板。 - 【請求項４】 請求項１〜３のうちいずれか一項記載の
電子写真用感光体基板が用いられていることを特徴とす
る電子写真用感光体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18944897A JP3406191B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 電子写真用感光体基板および電子写真用感光体 |
| US09/111,793 US6037089A (en) | 1997-07-15 | 1998-07-08 | Electrophotographic photoconductor and method for producing same |
| KR10-1998-0028389A KR100525326B1 (ko) | 1997-07-15 | 1998-07-14 | 전자사진감광체용기판및이기판을이용한전자사진감광체 |
| DE19831780A DE19831780B4 (de) | 1997-07-15 | 1998-07-15 | Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter und elektrophotographischer Photoleiter, in dem dieses verwendet wird |
| CNB981175740A CN1304905C (zh) | 1997-07-15 | 1998-07-15 | 电摄影光电导体用基体以及使用该基体的电摄影光电导体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18944897A JP3406191B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 電子写真用感光体基板および電子写真用感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1138662A JPH1138662A (ja) | 1999-02-12 |
| JP3406191B2 true JP3406191B2 (ja) | 2003-05-12 |
Family
ID=16241426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18944897A Expired - Lifetime JP3406191B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 電子写真用感光体基板および電子写真用感光体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6037089A (ja) |
| JP (1) | JP3406191B2 (ja) |
| KR (1) | KR100525326B1 (ja) |
| CN (1) | CN1304905C (ja) |
| DE (1) | DE19831780B4 (ja) |
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| DE10327315B4 (de) * | 2003-06-16 | 2007-08-16 | Eastman Kodak Co. | Verfahren zur Aufbereitung eines Trägers für einen Fotoleiter zur Ausbildung eines elektrofotografischen Aufzeichnungselementes und demgemäß ausgebildetes Aufzeichungselement |
| CN104185365B (zh) | 2013-05-23 | 2018-06-26 | 比亚迪股份有限公司 | 一种线路板及其制备方法 |
| CN110637259A (zh) * | 2017-10-18 | 2019-12-31 | 富士电机株式会社 | 电子摄影用感光体、其制造方法以及电子摄影装置 |
| KR102210641B1 (ko) * | 2020-09-09 | 2021-02-03 | 한국표면화학 주식회사 | 아노다이징 알루미늄 부재용 실링 조성물 |
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|---|---|---|---|---|
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| AU8323982A (en) * | 1981-05-15 | 1982-11-18 | Polychrome Corp. | Improved anodized supports |
| GB8309571D0 (en) * | 1983-04-08 | 1983-05-11 | Albright & Wilson | Accelerated sealing of anodised aluminium |
| JPH0727266B2 (ja) * | 1986-11-04 | 1995-03-29 | ミノルタ株式会社 | 積層型感光体 |
| JPS63134693A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-07 | Matsushita Refrig Co | 熱交換器用アルミニウムフイン材の製造方法 |
| JPS6436792A (en) * | 1987-04-20 | 1989-02-07 | Fujita Shoji Kk | Decoloring preventive of aluminum-base metal having oxidized film and coloring method for aluminum-base metal used therewith |
| JPH02242264A (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-26 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| US5132196A (en) * | 1989-08-29 | 1992-07-21 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having a colored aluminum oxide layer |
| CN1060118A (zh) * | 1990-09-17 | 1992-04-08 | 东南大学 | 铝及铝合金低温封孔法 |
| JP3037196B2 (ja) * | 1997-05-01 | 2000-04-24 | 新潟日本電気株式会社 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
-
1997
- 1997-07-15 JP JP18944897A patent/JP3406191B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-07-08 US US09/111,793 patent/US6037089A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-07-14 KR KR10-1998-0028389A patent/KR100525326B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-07-15 DE DE19831780A patent/DE19831780B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-15 CN CNB981175740A patent/CN1304905C/zh not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
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|---|
| Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ，１９８２年，Ｖｏｌ５８．１１，６５０−６５２頁 |
Also Published As
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|---|---|
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| CN1304905C (zh) | 2007-03-14 |
| KR19990013851A (ko) | 1999-02-25 |
| US6037089A (en) | 2000-03-14 |
| JPH1138662A (ja) | 1999-02-12 |
| KR100525326B1 (ko) | 2005-12-21 |
| DE19831780B4 (de) | 2012-11-08 |
| DE19831780A1 (de) | 1999-02-11 |
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