DE19831780A1

DE19831780A1 - Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter und elektrophotographischer Photoleiter, in dem dieses verwendet wird

Info

Publication number: DE19831780A1
Application number: DE19831780A
Authority: DE
Inventors: Hidetaka Yahagi; Yukihisa Tamura; Masaaki Sakaguchi; Yutaka Nakagishi
Original assignee: Fuji Electric Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 1997-07-15
Filing date: 1998-07-15
Publication date: 1999-02-11
Anticipated expiration: 2018-07-16
Also published as: CN1304905C; DE19831780B4; KR100525326B1; KR19990013851A; US6037089A; JPH1138662A; CN1206852A; JP3406191B2

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Aluminium-Substrat für einen elektrophoto graphischen Photoleiter, bei dem eine Oberfläche desselben mit einem an odisch oxidierten (eloxierten) Aluminiumfilm bedeckt ist. Die Erfindung betrifft außerdem einen elektrophotographischen Photoleiter, in dem dieses Alumini um-Substrat verwendet wird.

Auf dem Gebiet der Kopier-Vorrichtungen wurden große technische Fortschrit te in bezug auf die Elektrophotographie gemacht und diese werden seit kur zem auf das Gebiet der Laserdrucker und dgl. angewendet. Laserdrucker er geben ausgezeichnete Bildqualitäten und erlauben ein Drucken mit hoher Ge schwindigkeit und ohne Geräuschentwicklung im Vergleich zu konventionellen Anschlag-Druckern (Nadeldruckern). In den meisten derzeitigen Aufzeich nungseinrichtungen, beispielsweise in Druckern und Kopierern, wird daher die elektrophotographische Technologie angewendet. Jeder der elektrophotogra phischen Photoleiter (nachstehend der Einfachheit halber als "Photoleiter" be zeichnet), die in diesen Aufzeichnungseinrichtungen verwendet werden, wird hergestellt durch Erzeugung einer photoleitfähigen Schicht auf einem elek trisch leitenden Substrat. Bei den meisten Photoleitern weist jeder von ihnen eine photoleitfähige Schicht auf, die aus organischen Materialien besteht und der Photoleiter wird daher als organischer Photoleiter bezeichnet. Außerdem ist es heute übliche Praxis, jeden der Photoleiter herzustellen in Form einer Struktur mit funktionell getrennten Schichten (d. h. die Photoleiter-Schicht ist unterteilt in zwei unterschiedliche Schichten), wobei eine Unterschicht, eine Ladungen bildende Schicht und eine Ladungen transportierende Schicht in der genannten Reihenfolge auf einem Substrat aufeinander angeordnet sind. Die Unterschicht kann nach einem von zwei unterschiedlichen Verfahren herge stellt werden. Bei dem ersten Verfahren wird ein Material auf Harzbasis, in der Regel Polyamid oder Melamin, auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht. Bei dem zweiten Verfahren wird andererseits ein anodisch oxidierter (eloxier ter) Film (nachstehend der Einfachheit halber als "Film" bezeichnet) auf der Oberfläche eines Aluminium-Substrats durch anodische Oxidation erzeugt. Im allgemeinen bietet das zweite Verfahren Vorteile in bezug auf die Zuverlässig keit in einer Umgebung mit hoher Temperatur und hohem Feuchtigkeits- Gehalt.

In der Regel wird ein organischer Photoleiter, in dem ein organisches Material als Material für seine photoleitfähige Schicht verwendet wird, nach einem Naßbeschichtungsverfahren hergestellt, das die Stufe des Eintauchens eines Substrats in ein Beschichtungs-Flüssigkeitsbad umfaßt, welches das organi sche Material in einem Lösungsmittel gelöst oder dispergiert enthält. Die erfor derliche Qualität des Photoleiters ist die, daß der aufgebrachte Film gleich mäßig sein sollte (d. h. keine Rauheit oder Unregelmäßigkeiten aufweisen sollte) und keine Defekte irgendwelcher Art haben sollte. Die Gleichförmigkeit des Überzugsfilms hängt somit großenteils von dem Oberflächen-Zustand (d. h. der Gleichförmigkeit) des Substrats ab, insbesondere im Falle der Anwendung der Naßbeschichtung.

Wenn ein Substrat verwendet wird, das einen auf seine Oberfläche aufge brachten Film aufweist, wird die Qualität des Photoleiters selbst nahezu aus schließlich bestimmt durch den Oberflächen-Zustand des Substrats nach einer Versiegelungs-Behandlung, die auf eine anodische Oxidations-Behandlung (Eloxier-Behandlung) folgt. Unter dem Oberflächen-Zustand ist hier die gleichförmige Benetzbarkeit der Oberfläche zu verstehen, so daß der Über zugsfilm eine einheitliche Benetzbarkeit über seine gesamte Oberfläche auf weisen sollte. Es wurde festgestellt, daß die Dicke der photoleitfähigen Schicht (insbesondere die Dicke der Ladungen bildenden Schicht) ungleichmäßig wird, wenn die Benetzbarkeit nicht gleichmäßig ist, was zu Defekten führt, bei spielsweise einer "ungleichmäßigen Dichte" bei der Beurteilung der Druckqualität.

Wenn Verunreinigungen, z. B. Oxide und Ionen, auf der Oberfläche des Substrats zurückbleiben, bevor die lichtempfindliche Schicht in Form eines Überzugs aufgebracht wird, besteht die Neigung, daß sie Bilddefekte, bei spielsweise "schwarze Punkte" und "Schleier", hervorrufen. Die Verunreini gungen werden daher im allgemeinen durch Waschen des Substrats mit Alkali oder Säure entfernt. Bei dem Waschvorgang werden die Verunreinigungen jedoch nicht in einem ausreichenden Maße entfernt, wenn der Versiegelungs- Zustand des Films unzureichend ist, so daß häufig "schwarze Punkte" oder "Schleier" entstehen. Um zu bestimmen, ob der Versiegelungs-Zustand aus reichend ist, ist ein Kriterium der Admittanz-Wert (Kehrwert der Impedanz) (Y₂₀). Erfindungsgemäß wurde gefunden, daß der Wert (Y₂₀) zweckmäßig we niger als 70 µS betragen sollte. Um den Admittanz-Wert (Y₂₀) herabzusetzen, ist eine Versiegelungs-Behandlung (Abdichtungs-Behandlung) bei einer höhe ren Temperatur für einen längeren Zeitraum erforderlich. Daher kann ein Wert von weniger als 70 µS durch mindestens 10-minütige Behandlung bei minde stens 80°C erhalten werden.

In der vorliegenden Anmeldung wird der Admittanz-Wert (Y₂₀) erhalten als um gewandelter Wert einer Filmdicke von 20 µm nach den "Test methods for sea ling quality of anodic oxide coatings on aluminum and aluminum alloys" des JIS (Japanese Industrial Standard) H8683 (1994) des Japanese Industrial Standards Committee.

Als Ergebnis verschiedener Untersuchungen über irgendwelche Faktoren, die den Oberflächen-Zustand des Films nach der Versiegelungs-Behandlung im Anschluß an die anodische Oxidation beeinflussen, wurde gefunden, daß Ver änderungen der Oberflächen-Feinstruktur die Benetzbarkeit wesentlich beein flussen. Im allgemeinen ist die Oberflächen-Konfiguration unmittelbar nach der anodischen Oxidations-Behandlung eine hexagonale säulenförmige feine Zel lenstruktur mit feinen Löchern (Vertiefungen) mit einem Durchmesser von etwa 10 nm (100 Å), im zentralen Abschnitt. Eine Behandlung zum Versiegeln (Abdichten) dieser Löcher (Vertiefungen)wird als Versiegelungs-Behandlung bezeichnet, bei der der Film in siedendem Wasser oder Wasserdampf hydra tisiert wird, um den Film zum Aufquellen zu bringen, so daß er die Löcher (Vertiefungen) versiegelt (abdichtet), oder im allgemeinen werden durch Ver wendung einer Nickelacetat-Lösung die Löcher (Vertiefungen) versiegelt (abgedichtet) durch eine Kombination aus einer Hydratations-Reaktion des Films und einer Füllung mit Nickelhydroxid, das durch Hydrolyse von Nicke lacetat gebildet wird.

Es wurde jedoch gefunden, daß bei jeder der obengenannten Behandlungen ein abnormes Wachstum des Films durch die Hydratations-Reaktion auftritt bei gleichzeitiger Vernetzung sowohl in horizontaler Richtung als auch in vertikaler Richtung (in Richtung der Filmdicke), was zu einer unregelmäßigen Oberflä che führt, die insbesondere die Benetzbarkeit der lichtempfindlichen Schicht bei einem Tauchbeschichtungs-Verfahren beeinflußt, und der Einfluß ist be sonders bemerkenswert, wenn der Film bei hohen Temperaturen behandelt wird. Außerdem erfolgt die Versiegelungs- bzw. Abdichtungs-Behandlung der vernetzten Oberfläche nicht gleichmäßig über die gesamte Oberfläche und es besteht somit die Neigung zur Entstehung von Unregelmäßigkeiten.

Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Substrat für einen elek trophotographischen Photoleiter, das einen Admittanz-Wert (Kehrwert der Im pedans) (Y₂₀) von 70 µS oder weniger, ein unterdrücktes Wachstums des Films in vertikaler Richtung und eine gleichmäßige und eine glatte Oberfläche mit einer guten Benetzbarkeit bei einem hohen Versiegelungs- bzw. Abdich tungsgrad aufweist, sowie einen elektrophotographischen Photoleiter, in dem dieses Substrat verwendet wird, bereitzustellen.

Die Erfinder haben umfangreiche Untersuchungen zur Lösung der obenge nannten Probleme des Standes der Technik durchgeführt und dabei gefunden, daß durch Zugabe eines spezifischen Tensids (oberflächenaktiven Agens) und dgl. zu einem Versiegelungs- bzw. Abdichtungsmittel des Standes der Technik das Wachsen des Films in vertikaler Richtung unterdrückt wird und eine gleichförmige und glatte Oberfläche mit einer guten Benetzbarkeit und mit ei nem hohen Versiegelungs- bzw. Abdichtungsgrad erhalten werden kann, wor auf die vorliegende Erfindung beruht.

Gemäß einem ersten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Substrats für einen elektrophotographischen Photoleiter, das die folgenden Stufen umfaßt:
Erzeugung eines anodischen Oxidationsfilms auf der Oberfläche eines Alumi nium-Substrats;
Zugabe eines Additivs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Tensid vom Phosphat-Typ, einem Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsul fonat-Typ und einem Formaldehyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ, zu einem Versiegelungs- bzw. Abdichtungsmittel zur Herstellung einer Versie gelungs- bzw. Abdichtungsmittel-Mischung; und
Durchführung einer Versiegelungs- bzw. Abdichtungs-Behandlung des Substrats mit der Versiegelungs- bzw. Abdichtungsmittel-Mischung.

Das Versiegelungsmittel kann hier Nickelacetat sein. Das Versiegelungsmittel kann auch reines Wasser sein.

Gemäß einem zweiten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter, das umfaßt:
ein Aluminium-Substrat und
einen auf dem Substrat erzeugten anodischen Oxidationsfilm,
wobei das Aluminium-Substrat einer Versiegelungs-Behandlung unterworfen worden ist mit einer Versiegelungsmittel-Mischung die durch Zugabe eines Additivs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Tensid vom Phosphat-Typ, einem Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsulfonat-Typ und einem Formaldehyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ, zu einem Versiegelungsmittel hergestellt worden ist.

Das hier verwendete Versiegelungsmittel kann Nickelacetat sein. Das Versie gelungsmittel kann auch reines Wasser sein.

Der Admittanz-Wert (Kehrwert der Impedanz bzw. Schein-Leitwert) kann 70 µS oder weniger betragen.

Gemäß einem dritten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung einen elektro photographischen Photoleiter, der mindestens ein elektrisch leitendes Substrat und mindestens einen auf das elektrisch leitende Substrat auflaminierten licht empfindlichen Film aufweist, wobei das elektrisch leitende Substrat hergestellt ist aus einem Aluminium-Substrat, das einen anodischen Oxidationsfilm auf weist und außerdem einer Versiegelungs-Behandlung unterzogen worden ist mit einer Versiegelungsmittel-Mischung die durch Zugabe eines Additivs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Tensid vom Phosphate ster-Typ, einem Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsulfonat-Typ und ei nem Formaldehyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ, zu einem Ver siegelungsmittel hergestellt worden ist.

Das elektrisch leitende Substrat kann einen Admittanz-Wert (Kehrwert der Im pedans bzw. Schein-Leitwert) von 70 µS oder weniger aufweisen.

Die obengenannten und weitere Ziele, Merkmale und Vorteile der Erfindung gehen aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen derselben in Verbindung mit der beiliegenden Zeichnung hervor.

Fig. 1 stellt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines erfindungsgemäßen elektrophotographischen Photoleiters vom negativ gela denen Funktions-getrennten Laminat-Typ dar.

Nachstehend werden ein erfindungsgemäßes Substrat für einen elektrophoto graphischen Photoleiter und ein erfindungsgemäßer elektrophotographischer Photoleiter, in dem dieses verwendet wird, näher beschrieben.

Das Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter gemäß der vorlie genden Erfindung kann erhalten werden, indem man eine Abdichtungs- bzw. Versiegelungs-Behandlung durchführt nach der Erzeugung eines anodischen Oxidationsfilms auf Aluminium durch Verwendung eines Abdichtungs- bzw. Versiegelungsmittels im Gemisch mit einer geeigneten Menge eines Additivs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Tensid vom Phosphat-Typ, einem Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsulfonat-Typ und einem Form aldehyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ.

Nachstehend wird der detaillierte Aufbau des erfindungsgemäßen elektropho tographischen Photoleiters, in dem das vorstehend beschriebene Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter verwendet wird, näher beschrieben.

Photoleiter umfassen im allgemeinen Photoleiter vom negativ geladenen, Funktions-getrennten Laminat-Typ, Photoleiter vom positiv geladenen, Funkti ons-getrennten Laminat-Typ und Photoleiter vom positiv geladenen Einzel schichten-Typ. Nachstehend wird beispielhaft ein Photoleiter vom negativ ge ladenen, Funktions-getrennten Laminat-Typ als eine bevorzugte Ausführungs form der Erfindung näher beschrieben.

Bei dem in Fig. 1 dargestellten Photoleiter vom negativ geladenen, Funktions getrennten Laminat-Typ ist eine lichtempfindliche Schicht 5 auf die Oberseite einer Unterschicht 2 auflaminiert, die auf ein elektrisch leitendes Substrat 1 auflaminiert ist. In der lichtempfindlichen Schicht 5 ist eine Ladungen transpor tierende Schicht 4 auf eine Ladungen bildende Schicht 3 so auflaminiert, daß Funktions-getrennte Schichten erhalten werden.

Das elektrisch leitende Substrat 1 spielt die Rolle einer Elektrode des Photolei ters und außerdem die Rolle eines Substrats für die übrigen jeweiligen Schichten. Das Substrat 1 ist ein Aluminium-Substrat, das in Form eines Zylin ders, einer Platte oder eines Films vorliegen kann. Das Aluminium-Substrat weist auf seiner Oberfläche einen anodischen Aluminium-Oxidationsfilm auf.

Die Ladungen bildende Schicht 3 wird erzeugt durch Vakuumabscheidung ei ner organischen photoleitfähigen Substanz oder durch Aufbringen in Form ei ner Schicht eines Materials, das Teilchen aus einer organischen photoleitfähi gen Substanz, dispergiert in einem Harzbindemittel, enthält, die Licht aufnimmt unter Erzeugung von elektrostatischen Ladungen. Es ist wichtig, daß die La dungen bildende Schicht 3 einen hohen Ladungsbildungs-Wirkungsgrad auf weist und gleichzeitig die Fähigkeit hat, die gebildeten Ladungen in die La dungen transportierende Schicht 4 zu injizieren, und vorzugsweise weist sie eine geringe Abhängigkeit von dem elektrischen Feld und ein gutes Injektions vermögen auch bei einem niedrigen elektrischen Feld auf. Als Ladungen bil dende Substanzen, die in der Ladungen bildenden Schicht verwendet werden, können verschiedene Phthalocyanin-Verbindungen, Azo-Verbindungen, poly cyclische Chinon-Verbindungen und Derivate davon, wie in den folgenden chemischen Formeln (Beispiele I-1 bis 4) dargestellt, verwendet werden.

Als Bindemittel für die Ladungen bildende Schicht können Polycarbonat-, Po lyester-, Polyamid-, Polyurethan-, Epoxy-, Polyvinylbutyral-, Polyvinylacetal-, Phenoxyharze, Siliconharz, Acrylharz, Polyvinylchloridharz, Polyvinylidenchlo ridharz, Polyvinylacetatharz, Formalharz, Celluloseharz oder Copolymere da von und halogenierte oder cyanoethylierte Verbindungen davon verwendet werden. Da es ausreicht, daß die Ladungen bildende Schicht 3 nur eine La dungsbildungs-Funktion hat, liegt die Filmdicke im allgemeinen innerhalb ei nes solchen Bereiches, daß die erforderliche Lichtempfindlichkeit erzielt wird, und sie soll so dünn wie möglich sein, im allgemeinen liegt sie bei einer Filmdicke von 0,1 bis 5 µm, vorzugsweise von 0,1 bis 1 µm.

Die Menge dieser Phthalocyanin-Verbindungen beträgt 5 bis 500 Gew.-Teile, vorzugsweise 10 bis 100 Gew.-Teile, bezogen auf 10 Gew.-Teile des Harz- Bindemittels.

Die Ladungen transportierende Schicht 4 ist ein Überzugsfilm, der umfaßt ein Material, das eine organische, Ladungen transportierende Substanz, disper giert in einem Harz-Bindemittel, enthält, welche die Ladung des Photoleiters als Isolatorschicht im Dunkeln aufrechterhält, und wenn sie Licht aufnimmt, hat sie die Funktion, die aus der Ladungen bildende Schicht injizierte Ladung zu transportieren. Als Ladungen transpartierende Substanzen können in der La dungen transportierenden Schicht verschiedene Hydrazon-, Styryl-, Diamin-, Butadien-, Indol-Verbindungen und Mischungen davon, wie durch die folgen den chemischen Formeln (Beispiele II-1 bis 7) dargestellt, verwendet werden.

Als Bindemittel für die Ladungen transportierende Schicht werden Polycarbo nat-, Polystyrol-, Polyphenylenether- und Acrylharze und dgl. als bekannte Materialien angesehen und Polycarbonat wird in großem Umfang für prakti sche Anwendungszwecke verwendet und derzeit als bestes Material der Grup pe in bezug auf die Filmfestigkeit und die Beständigkeit gegen wiederholtes Drucken angesehen. Die Polycarbonate umfassen solche vom Bisphenol A-Typ und vom Bisphenol Z-Typ, wie sie durch die folgenden chemischen For meln (Beispiele III-1 bis 2) dargestellt werden, und verschiedene Copolymere.

Ein optimaler durchschnittlicher Molekulargewichts-Bereich der Polycarbonat- Harze beträgt 10 000 bis 100 000. Außerdem kann als Antioxidationsmittel, das der Ladungen transportierenden Schicht zugegeben wird, ein System aus einem einzigen Antioxidationsmittel oder ein System aus geeigneten Kombina tionen von Antioxidationsmitteln, wie durch die folgenden chemischen Formeln (Beispiele IV-1 bis 4) dargestellt, verwendet werden. Die Ladungen transpor tierende Schicht hat vorzugsweise eine Dicke von 10 bis 50 µm.

Der Unterschicht, der Ladungen bildenden Schicht und der Ladungen trans portierenden Schicht können erforderlichenfalls eine Elektronen aufnehmende Substanz, ein Antioxidationsmittelsmittel, ein Licht-Stabilisator oder dgl. zuge geben werden mit dem Ziel, die Empfindlichkeit zu verbessern, das Restpo tential zu verringern, die Umwelt-Beständigkeit oder die Stabilität gegenüber schädlichem Licht oder dgl. zu verbessern.

Außerdem kann auf der lichtempfindlichen Schicht eine Oberflächen- Schutzschicht vorgesehen sein zur Verbesserung der Umweltbeständigkeit und mechanischen Festigkeit. Die Oberflächen-Schutzschicht ist zweckmäßig eine solche, welche die Lichttransmission nicht wesentlich stört.

Nachstehend wird die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen der selben näher beschrieben, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.

Vergleichsbeispiel 1

Nachdem ein zylindrisches Aluminium-Substrat durch Zuschneiden auf die gewünschten Dimensionen fertiggestellt worden war, wurde eine Entfettung vorgenommen mit einem Entfettungsmittel (TOPALCLEAN 101 der Firma Oku no Chemical Industries Co., Ltd./60°C/2 min) und mit Wasser gründlich gewa schen, um das Entfettungsmittel zu entfernen. Danach wurde das Aluminium- Substrat einer elektrolytischen Behandlung (1,0 A/dm²/12 V/21 min) in Schwe felsäure (180 g/l, 20°C) unterworfen zur Erzeugung eines anodischen Oxidati onsfilm mit einer Dicke von 7 µm und dann mit Wasser gewaschen. Es wurde eine Versiegelungs-Behandlung durchgeführt unter Verwendung von Nickel acetat (6 g/l) als Versiegelungsmittel bei Temperaturen von 60, 70, 80 und 90°C (das heißt bei vier unterschiedlichen Temperatur-Bedingungen) für je weils 5 und 10 min (d. h. bei zwei unterschiedlichen Zeit-Bedingungen).

Vergleichsbeispiel 2

Es wurde eine Versiegelungs-Behandlung durchgeführt unter Anwendung des gleichen Verfahrens wie im Vergleichsbeispiel 1, jedoch mit der Ausnahme, daß reines Wasser (Ionen-ausgetauschtes Wasser) anstelle von Nickelacetat verwendet wurde.

Ausführungsform 1

(1) Zur Durchführung der Versiegelungs-Behandlung wurde die gleiche Be handlung wie im Vergleichsbeispiel 1 durchgeführt, jedoch mit der Ausnahme, daß ein Tensid vom Phosphat-Typ (PHOSPHANOL RS-610 der Firma Toho Chemical Industry Co., Ltd.) in Mengen von 0,01; 0,02; 0,05; 0,1; 1,0; 2,0 und 2,2 g/l (7 Bedingungen) zu Nickelacetat (6 g/l) zugegeben wurde. Die Behand lung wurde 10 min lang bei 90°C durchgeführt.
(2) Zur Durchführung der Versiegelungs-Behandlung wurde die gleiche Be handlung wie im Vergleichsbeispiel 1 durchgeführt, jedoch mit der Ausnahme, daß ein Tensid vom Phosphat-Typ (TOPSEAL E110 der Firma Okuno Chemi cal Industries Co., Ltd.) in Mengen von 0,2; 0,5; 1,0; 5,0; 10,0; 20,0 und 22,0 ml/l (d. h. 7 Bedingungen) zu Nickelacetat (6 g/l) zugegeben wurde. Dann wur de die Behandlung 10 min lang bei 90°C durchgeführt.

Ausführungsform 2

Bei Durchführung der Versiegelungs-Behandlung wurde das gleiche Behand lungs-Verfahren angewendet wie bei der Ausführungsform (1), jedoch mit der Ausnahme, daß reines Wasser anstelle von Nickelacetat verwendet wurde.

Ausführungsform 3

Bei Durchführung der Versiegelungs-Behandlung wurde die gleiche Behand lung wie im Vergleichsbeispiel 1 durchgeführt, jedoch mit der Ausnahme, daß ein Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsulfonat-Typ (DEMOL N der Firma Kao Corporation) in Mengen von 0,1; 0,2; 3,0; 8,0; 10,0 und 12,0 g/l (d. h. 6 Bedingungen) zu Nickelacetat (6 g/l) zugegeben wurde, und die Behandlung wurde 10 min lang bei 90°C durchgeführt.

Ausführungsform 4

Zur Durchführung der Versiegelungs-Behandlung wurde das gleiche Behand lungs-Verfahren wie bei der Ausführungsform 3 angewendet, jedoch mit der Ausnahme, daß reines Wasser anstelle von Nickelacetat verwendet wurde.

Ausführungsform 5

Zur Durchführung der Versiegelungs-Behandlung wurde die gleiche Behand lung wie im Vergleichsbeispiel 1 durchgeführt, jedoch mit der Ausnahme, daß ein Formaldehyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ (AMN-01 der Firma Senka Co., Ltd.) in Mengen von 0,1; 0,2; 1,0; 5,0; 10,0; 20,0 und 22,0 g/l (d. h. 7 Bedingungen) zu Nickelacetat (6 g/l) zugegeben wurde, und die Behandlung wurde 10 min lang bei 90°C durchgeführt.

Ausführungsform 6

Bei Durchführung der Versiegelungs-Behandlung wurde das gleiche Behand lungs-Verfahren angewendete wie bei der Ausführungsform 5, jedoch mit der Ausnahme, daß reines Wasser anstelle von Nickelacetat verwendet wurde.

Die in den obigen Vergleichsbeispielen 1 und 2 und in den Ausführungsformen 1 bis 6 erhaltenen zylindrischen Aluminium-Substrate mit versiegelten (abgedichteten) Löchern wurden mit einem alkalischen Waschmittel (2% CASTROL 450 der Firma Castrol Co., Ltd.) 1 min lang gewaschen und bei 60°C getrocknet. Das resultierende Substrat wurde nacheinander mit einer Ladungen bildenden Schicht und einer Ladungen transportierenden Schicht als einer lichtempfindlichen Schicht beschichtet. Die Ladungen bildende Schicht umfaßte ein metallfreies Phthalocyanin vom X-Typ mit einem durch schnittlichen Teilchendurchmesser von 200 nm, dispergiert in einem Verhältnis von 4 : 6 in einem Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymer. Die Ladungen transpor tierende Schicht wurde erhalten durch Aufbringen einer Mischung aus einem Ladungen transportierenden Agens vom Butadien-Typ und einem Harz vom Polycarbonat-Typ (Molekulargewicht: etwa 30 000) in Form einer Schicht und anschließendes 2-stündiges Trocknen bei 80°C.

Die obengenannten Proben der Vergleichsbeispiele und der Ausführungsfor men wurden bewertet in bezug auf ihren Admittanz-Wert (Kehrwert der Impe tans) (Y₂₀) und in bezug auf die Gleichförmigkeit des Überzugsfilms nach dem Aufbringen der lichtempfindlichen Schicht. Die Admittanz wurde nach JIS H 8683 (1994) bestimmt. Außerdem wurde die Gleichförmigkeit des Überzugs films durch visuelles Betrachten bewertet. Die Ergebnisse sind in den Tabellen 1 bis 5 angegeben.

Die Bewertung der Gleichförmigkeit des Überzugsfilms ist angegeben als "++" für eine gute Gleichförmigkeit, als "+" für eine normale Gleichförmigkeit oder als "-" für eine schlechte Gleichförmigkeit. Eine normale Gleichförmigkeit be sagt, daß ein Effekt im Vergleich zu den Vergleichsbeispielen festzustellen ist, daß jedoch die für das Produkt erforderliche Qualität nicht zufriedenstellend ist. Wenn ein Film mit versiegelten Löchern einen vernetzten Oberflächen- Zustand mit Unregelmäßigkeiten aufweist, ist die Gleichförmigkeit des Über zugsfilms nach dem Aufbringen der lichtempfindlichen Schicht mit "-", d. h. als schlecht bewertet. Wenn der Film mit versiegelten Löchern nicht vernetzt ist, sondern glatt und gleichförmig ist, ist der Überzugsfilm mit der Bewertung "++", d. h. gut versehen.

Wie aus den obengenannten Bewertungs-Ergebnissen ersichtlich, wird durch Zugabe eines spezifischen Tensids und dgl. bei der Versiegelungs-Behand lung eine gleichförmige Oberfläche mit einem Admittanz-Wert (Y₂₀) von 70 µS oder weniger erhalten. Diese Ergebnisse wurden auch festgestellt, wenn der Photoleiter aus anderen Materialien als denjenigen, wie sie für die Ladungen bildende Schicht und die Ladungen transportierende Schicht erfindungsgemäß verwendet wurden, aufgebaut ist.

In den Vergleichsbeispielen 1 und 2 ist die Gleichförmigkeit des Überzugsfilms beeinträchtigt unter der Bedingung, daß Y₂₀ 70 µS oder weniger beträgt. Diese Tendenz ist auch dann genau die gleiche, wenn Nickelacetat oder reines Wasser verwendet wird. Bei den Ausführungsformen 1 und 2 tritt dann, wenn die Tensid-Konzentration erhöht wird, eine Störung der Versiegelung auf, wenn Y₂₀ größer als 70 µS wird. Bei den Ausführungsformen 3 bis 6 tritt eine Färbung auf, wenn eine übermäßig große Menge des Kondensats zugegeben wird.

Wie vorstehend beschrieben, wird erfindungsgemäß der Admittanz-Wert (Y₂₀) auf 70 µS oder weniger herabgesetzt und ein Wachstum des Films in der ver tikalen Richtung wird unterdrückt, so daß man ein Substrat für einen elektro photographischen Photoleiter erhält, das eine Oberfläche mit einer einheitli chen Benetzbarkeit mit einem hohen Versiegelungsgrad aufweist. Daher kann ein elektrophotographischer Photoleiter, in dem das erfindungsgemäße Substrat verwendet wird, verbesserte Bildeigenschaften ergeben.

Die vorliegende Erfindung wurde anhand bevorzugter Ausführungsformen nä her beschrieben, es ist jedoch für den Fachmann auf diesem Gebiet ohne weiteres ersichtlich, daß Änderungen und Modifikationen vorgenommen wer den können, ohne daß dadurch der Rahmen der Erfindung verlassen wird, und es ist daher selbstverständlich, daß die nachfolgenden Patentansprüche alle diese Änderungen und Modifikationen umfassen, d. h. diese innerhalb des Rahmens der vorliegenden Erfindung liegen.

Claims

1. Verfahren zur Herstellung eines Substrats für einen elektrophotographi schen Photoleiter, dadurch gekennzeichnet, daß es die folgenden Stufen umfaßt:
Erzeugung eines anodischen Oxidationsfilms auf der Oberfläche eines Alumi nium-Substrats;
Zugabe eines Additivs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Tensid vom Phosphat-Typ, einem Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsul fonat-Typ und einem Formaldehyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ, zu einem Versiegelungsmittel zur Herstellung einer Versiegelungsmittel- Mischung und
Durchführung einer Versiegelungs-Behandlung an dem genannten Substrat mit der genannten Versiegelungsmittel-Mischung.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Versie gelungsmittel Nickelacetat ist.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Versie gelungsmittel reines Wasser ist.

4. Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter, dadurch ge kennzeichnet, daß es umfaßt:
ein Aluminium-Substrat und
einen anodischen Oxidationsfilm, der auf dem genannten Substrat erzeugt worden ist,
wobei das genannte Aluminium-Substrat einer Versiegelungs-Behandlung un terworfen wurde mit einer Versiegelungsmittel-Mischung die durch Zugabe eines Additivs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Tensid vom Phosphat-Typ, einem Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsulfonat-Typ und einem Formaldehyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ, zu einem Versiegelungsmittel hergestellt worden ist.

5. Substrat nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Versiegelungsmittel Nickelacetat ist.

6. Substrat nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Versiegelungsmittel reines Wasser ist.

7. Substrat nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Admittanz-Wert 70 µS oder weniger beträgt.

8. Elektrophotographischer Photoleiter, der mindestens ein elektrisch lei tendes Substrat und mindestens einen auf das elektrisch leitende Substrat auflaminierten lichtempfindlichen Film aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrisch leitende Substrat hergestellt worden ist aus einem Aluminium- Substrat, das einen anodischen Oxidationsfilm aufweist und außerdem einer Versiegelungs-Behandlung mit einer Versiegelungsmittel-Mischung unterwor fen wurde, die hergestellt wurde durch Zugabe eines Additivs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Tensid vom Phosphatester-Typ, einem Formaldehyd-Kondensat vom Naphthalinsulfonat-Typ und einem Formalde hyd-Kondensat vom Bisphenol A-sulfonat-Typ, zu einem Versiegelungsmittel.

9. Photoleiter nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Versie gelungsmittel Nickelacetat ist.

10. Photoleiter nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Versie gelungsmittel reines Wasser ist.

11. Photoleiter nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeich net, daß das elektrisch leitende Substrat einen Admittanz-Wert von 70 µS oder weniger aufweist.