KR19990013851A - 전자사진 감광체용 기판 및 이 기판을 이용한 전자사진 감광체 - Google Patents

전자사진 감광체용 기판 및 이 기판을 이용한 전자사진 감광체 Download PDF

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Abstract

종방향에서 필름의 성장이 억압되고, 고 습윤도의 균일한 표면을 갖는, 70μS 이하의 어드미턴스 값 (Y20)을 나타내는 전자사진 감광체용 기판은 표면상에 알루미늄 양극 산화 필름을 갖는 알루미늄으로 제조된 전자사진 감광체용 기판이 알루미늄 양극 산화 필름을 형성한 후에 포스페이트 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 또는 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 혼합된 실링제로 실링 처리되는 방법으로부터 얻어진다. 이렇게 얻어진 전자사진 감광체용 기판을 전자사진 감광체에서 사용한다.

Description

전자사진 감광체용 기판 및 이 기판을 이용한 전자사진 감광체
본 발명은 기판 표면이 양극산화 알루미늄 필름으로 피복된 전자사진 감광체용 알루미늄 기판에 관한 것이다. 또한 본 발명은 알루미늄 기판을 사용하는 전자사진 감광체에 관한 것이다.
지금까지 전자사진의 기술적 진보가 복사기 분야에서 이루어졌고, 최근에는 레이저 프린터 등의 분야에 적용되어왔다. 레이저 프린터는 통상의 충격식 프린터와 비교해 볼 때 우수한 화질을 제공하며 고속 및 조용한 프린팅 작동을 가능케 한다. 즉, 프린터 및 복사기 등의 현재의 대부분의 기록 장치는 전자사진 기술을 채택한다. 이러한 기록 장치에 제공되는 각각의 전자사진 감광체(이후에는, 또한 간단히 감광체라고 기술함)는 전도성 기판 상에 감광층을 형성시킴으로써 제조된다. 대부분의 감광체에서, 이들 각각은 유기 물질로 이루어진 감광층을 가지므로, 감광체는 유기 감광체로 지칭된다. 더욱이, 순서대로 하부 코팅층, 전하 발생층, 및 전하 수송층이 기판 상에 쌓여지는 기능적으로 분리된 층(즉, 감광층은 2 개의 다른 층으로 나누어짐)을 갖는 구조로서 감광체를 제조하는 것이 현재 통상으로 실시된다. 하부 코팅층은 서로 다른 2 방법으로부터 제조될 수 있다. 첫 번째 방법에서는, 폴리아미드 또는 멜라민의 전형적인 수지 기재 물질을 기판의 표면 상에 도포한다. 반면, 두 번째 방법에서는, 양극산화 필름(이후에는, 간단히 필름으로 기술함)을 양극 산화에 의하여 알루미늄 기판의 표면 상에 형성한다. 일반적으로, 두 번째 방법이 고온 및 고습 환경하에서 보다 신뢰할만하다.
전형적으로, 유기 물질이 감광층의 물질로서 사용되는 유기 감광체는 용매 중에 용해되어 있거나 또는 분산되어 있는 유기 물질을 포함하는 코팅액 조 중에 기판을 담그는 단계를 포함하는 습식 코팅 방법에 의하여 형성된다. 감광체의 요구되는 품질 수준은 코팅된 필름이 어떤 종류의 결함도 없이 균일하게 제조되어야 한다는 것이다(즉, 거칠거나 불규칙하지 않음). 그러므로, 코팅된 필름의 균일성은, 특히 습윤 코팅을 사용하는 경우에 있어서 대개는 기판의 표면 상태(즉, 균일성)에 달려있다.
그 표면상에 필름이 형성되는 기판을 사용할 때, 감광체 그 자체의 품질은 양극산화 처리에 이어 실링 처리한 후의 기판의 표면 상태에 의하여 거의 결정된다. 여기서 표면 상태는 표면의 균일한 습윤도를 의미하므로 코팅된 필름은 전체 표면에 대하여 균일한 습윤도를 갖아야 한다. 감광층의 두께(특히 전하 발생층의 두께)는 습윤도가 균일하지 않을 때, 고르지 않게 되고, 인쇄 품질 평가에 있어서 농도 얼룩과 같은 결함을 야기하는 것이 명백히 설명되어져 왔다.
산화물 및 이온들과 같은 오염 물질들이 감광층을 코팅하는 단계 이전에 기 판의 표면 상에 남아 있다면, 그들은 블랙 스포트(black spot) 및 포그(fog)와 같은 영상 결함을 야기한다. 그러므로, 오염 물질들을 일반적으로 알칼리 또는 산으로 기판을 세척함으로써 제거한다. 그러나, 세척 방법은 필름의 실링 상태가 불충분할 경우, 오염 물질을 만족스러운 정도로 제거하지는 않으므로, 종종 블랙 스포트 또는 포그가 생긴다. 실링 상태가 충분한 지를 결정하는데 있어서, 그 기준은 어드미턴스(admittance) 값(Y20)이다. 본 발명에 따라서, 그 값(Y20)은 70 μS 이하인 것이 바람직하다고 밝혀졌다. 어드미턴스 값(Y20)을 감소시키기 위해서, 보다 긴 시간 동안의 보다 고온에서의 실링 처리를 요한다. 그러므로, 70 μS 이하의 값은 10 분 동안 80℃ 이상에서 처리함으로써 얻을 수 있다.
본 명세서에서, 어드미턴스 값(Y20)은 일본 공업 규격 위원회에 의한 JIS(Japanese Industrial Standard(일본 공업 규격)) H8683(1994), 알루미늄 및 알루미늄 합금에 대한 양극 산화 코팅 실링 품질의 시험 방법에 따른 20 μm 필름 두께의 전환된 값으로서 제공된다.
양극 산화 다음에 실링 처리한 이후의 필름의 표면 상태와 관련된 모든 요소들에 대한 다양한 조사의 결과로서, 표면 미세 구조에서의 변화는 실질적으로 습윤도에 영향을 준다. 대개, 양극 산화 처리 직후의 표면 형상은 중앙 부분에 존재하는 약100 Å 지름의 미세 피트를 갖는 6방정계 원주형 미세 세포 구조를 갖는다. 이러한 피트를 실링하는 처리를 실링 처리라고 기술하는데, 여기서 필름을 팽윤시키기 위하여 끓는 물 또는 스팀에서 수화시켜서 피트를 실링하거나, 또는 일반적으로 니켈 아세테이트 용액을 사용하여, 필름의 수화 반응과 함께 니켈 아세테이트의 가수분해에 의하여 생성된 수산화 니켈로 충전하여 피트를 실링할 수 있다.
그러나, 상기 처리중 수화 반응에 의한 필름의 성장은 횡방향 및 종방향(필름 두께 방향)의 양 방향에서 망상으로 비정상적으로 발생하여, 불규칙 표면을 야기하며, 이는 특히 침지 코팅 방법에서 감광층의 습윤도에 영향을 주고, 특히 필름을 고온에서 처리할 경우 상당한 영향을 끼친다. 더욱이, 망상 표면의 실링 처리는 전체 표면에 대하여 균일하지 않으므로 불규칙성이 생기는 경향이 있다.
본 발명의 목적은 기판에 70μS 이하의 어드미턴스 값(Y20)을 갖고, 종방향에서 필름의 성장을 억제하고, 고도의 실링 정도를 갖는 고 습윤도의 균일하고 평탄한 전자사진 감광체용 기판 및 이 기판을 이용하는 전자사진 감광체를 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 음전하 기능 분리 적층형 전자사진 감광체의 실시양태의 단면도.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
1. 전기전도성 기판
2. 하부 코팅층
3. 전하 발생층
4. 전하 수송층
5. 감광층
본 발명자들은 종래 기술의 문제점을 풀기 위하여 집중적 연구를 하였고 종래 기술 실링제에 특정 계면활성제 등을 가함으로써 종방향에서의 필름의 성장을 억제하고 고도의 실링 정도를 갖는 양호한 습윤도의 균일하고 평탄한 표면을 얻을 수 있다는 것을 밝혀내었고, 그에 따라 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 첫째로,
알루미늄 기판의 표면 상에 양극 산화 필름을 형성하고,
포스페이트 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 및 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 첨가제를 실링제에 가하여 실링제 혼합물을 제조하고,
기판에 실링제 혼합물로 실링 처리하는 단계를 포함하는 전자사진 감광체용 기판의 제조 방법을 제공한다.
여기서, 실링제는 니켈 아세테이트일 수 있다.
실링제는 정제수일 수 있다.
본 발명은 둘째로, 포스페이트 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 및 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 첨가제를 실링제에 가함으로써 제조되는 실링제 혼합물로 실링 처리되는 알루미늄 기판, 및 기판 상에 형성된 양극 산화 필름으로 이루어진 전자사진 감광체용 기판을 제공한다.
여기서, 실링제는 니켈 아세테이트일 수 있다.
실링제는 정제수일 수 있다.
어드미턴스 값은 70μS 이하일 수 있다.
본 발명은 세째로, 적어도 알루미늄 기판으로부터 제조되고 기판이 양극 산화 필름을 갖고 추가로 포스페이트 에스테르 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 및 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 첨가제를 실링제에 가함으로써 제조된 실링제 혼합물로 실링 처리되는 전기전도성 기판 및 전기전도성 기판 상에 적층된 감광성 필름을 갖는 전자사진 감광체를 제공한다.
여기서, 실링제는 니켈 아세테이트일 수 있다.
실링제는 정제수 일 수 있다.
전기전도성 기판은 70μS 이하의 어드미턴스 값을 갖을 수 있다.
본 발명의 상기 및 다른 목적들, 효과, 특성 및 장점들은 첨부된 도면과 관련한 다음의 실시양태에 대한 설명으로 보다 명백해질 것이다.
다음에서, 발명에서 따른 전자사진 감광체용 기판 및 본 이 기판을 이용한 전자사진 감광체가 상세하게 설명될 것이다.
본 발명에 따른 전자사진 감광체용 기판은 알루미늄의 양극 산화 필름 형성 이후에 포스페이트 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 및 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것의 적당한 양과 함께 혼합된 실링제를 사용하여 실링 처리함으로써 얻을 수 있다.
다음에, 상술된 전자사진 감광체용 기판을 사용하는 본 발명에 따른 전자 사진용 감광체의 상세 구조가 설명될 것이다.
감광체로는 일반적으로 음전하 기능 분리 적층형 감광체, 양전하 기능 분리 적층형 감광체, 및 양전하 단일층형 감광체가 있다. 여기서, 본 발명의 바람직한 구조인 음전하 기능 분리 적층형 감광체가 실시예로서 상세히 설명될 것이다.
도 1에서 도시되는 음전하 기능 분리 적층형 감광체에서, 감광층 (5)는 전기전도성 기판 (1) 상에 적층된 하부 코팅층 (2)상에 추가로 적층된다. 감광층 (5)에서 전하 수송층 (4)는 전하 발생층 (3) 상에 적층하여 기능 결합 분리층을 형성한다.
전기전도성 기판 (1)은 감광체의 전극으로서의 역할 및 다른 개별 층의 기판으로서의 또 다른 역할을 한다. 기판 (1)은 원통형, 판형, 및 필름 형태중 어떤 것일 수 있다. 알루미늄 기판은 표면 상의 알루미늄 양극 산화 필름을 갖는다.
전하 발생층 (3)은 유기 감광성 기판의 진공 증착으로서 또는 빛을 수용하여 정전기 전하를 발생시키는 수지 결합제 중에 분산된 유기 감광물의 입자를 포함하는 물질을 코팅함으로써 형성된다. 전하 발생층 (3)은 전하 발생 효율이 높고, 동시에, 발생된 전하의 전하 수송층 (4)으로의 주입 특성을 갖고, 바람직하게는 전기장 의존성이 작고 심지어 낮은 전기장에서 주입이 우수한 것이 중요하다. 전하 발생층에서 사용되는 전하 발생물로서, 다음의 화학식(실시예 1a 내지 1d)로 나타나는 바와 같이 다양한 프탈로시아닌 화합물, 아조 화합물, 폴리시클릭 퀴논 화합물, 및 그의 유도체들을 사용할 수 있다.
전하 발생층 결합제로서, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리우레탄, 에폭시, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 아세탈, 페녹시 수지, 실리콘 수지, 아크릴 수지, 폴리염화 비닐 수지, 폴리염화 비닐리덴 수지, 폴리비닐아세테이트 수지, 포르말 수지, 셀룰로오스 수지, 또는 그의 공중합체, 및 그의 할로겐화 또는 시아노에틸화 화합물들을 사용할 수 있다. 전하 발생층 (3)이 단지 전하 발생 기능을 갖기에 충분하기 때문에, 필름 두께는 일반적으로 필요한 감광도를 얻는 범위 안이며 가능한 한 얇게 일반적으로 0.1 내지 5 μm, 바람직하게는 0.1 내지 1 μm의 필름 두께로 고안된다.
이러한 프탈로시아닌 화합물의 양은 수지 결합제 10 중량부에 대하여 5 내지 500 중량부, 바람직하게는 10 내지 100 중량부이다.
전하 수송층 (4)는 수지 결합제 중에 분산된 유기 전하 수송체를 포함하는 물질로 이루어진 코팅된 필름이며, 이는 암실에서 절연층으로서 감광체의 전하를 유지하고, 광 수용시, 전하 발생층으로부터 주입되는 전하를 수송하는 기능을 갖는다. 다음의 화학식(2a 내지 2g)로 도시되는, 전하 수송층에서의 전하 수송 물질로서, 다양한 히드라존, 스티릴, 디아민, 부타디엔, 인돌 화합물, 및 그의 혼합물을 사용할 수 있다.
전하 수송층 결합제로서, 폴리카르보네이트, 폴리스티렌, 폴리페닐렌 에테르 아크릴 수지 등이 공지된 물질로서 간주되고, 폴리카르보네이트rk 반복된 인쇄 저항에 대한 필름 강도 및 저항에 있어서 현재 가장 좋은 물질 군으로서 실제 적용에서 널리 사용된다. 이러한 폴리카르보네이트fh는 다음의 화학식 3a 내지 3b로 도시되는 비스페놀 A 형 및 비스페놀 Z 형, 및 다양한 공중합체가 있다.
폴리카르보네이트 수지의 최적의 평균 분자량 범위는 10,000 내지 100,000이다. 더욱이, 전하 수송층에 가해지는 산화 방지제로서, 다음 화학식 4a 내지 4d로 도시되는 산화 방지제의 단일계 또는 적당한 조합을 사용할 수 있다. 전하 수송층은 바람직하게는 10 내지 50 μm의 두께를 갖는다.
하부 코팅층, 전하 발생층, 및 전하 수송층에, 잔류 전위, 환경 저항의 개선 또는 유해한 빛에의 안정성 등을 감소시켜서 감광도를 개선시키는 목적으로, 전자 수용 물질, 산화 방지제, 광 안정제 등을 필요에 따라 가할 수 있다.
더욱이, 상기 감광층에서, 표면 보호층을 환경 저항 및 기계적 강도를 개선시키는 목적으로 제공할 수 있다. 표면 보호층은 바람직하게는 빛의 전달을 거의 방해하지 않는 것이다.
다음에서, 본 발명은 실시양태에 관련하여 상세히 설명될 것이다.
비교예 1
원통형 알루미늄 기판을 필요한 치수로 절단한 후에, 탈지제로 탈지하고(토파클린(TOPALCEAN) 101: 오쿠노(Okuno) 케미칼 인더스트리즈사 제품/60℃/2 분), 물로 완전히 세척하여 탈지제를 제거한다. 그 이후에, 알루미늄 기판을 황산 중에서(180 g/l, 20℃) 전해질 처리하여(1.0 A/dm2/12V/21 분) 7μm의 두께를 갖는 양극산화 필름를 얻고, 이어서 물로 세척한다. 5 내지 10 분 동안(즉, 2 개의 다른 시간 조건) 60, 70, 80 및 90℃에서(즉, 4 개의 다른 온도 조건) 실링제로서 니켈 아세테이트(6 g/l)를 사용하여 개별적으로 실링 처리한다.
비교예 2
정제수(이온 교환된 물)를 니켈 아세테이트 대신 사용하는 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방법을 사용하여 실링 처리한다.
실시양태 1
(1) 실링 처리에서, 포스페이트 형 계면활성제(포스파놀(PHOSPHANOL) RS-610: 토호(Toho) 케미칼 인더스트리사 제품)를 0.01, 0.02, 0.05, 0.1, 1.0, 2.0 및 2.2 g/l(7 조건)의 양으로 니켈 아세테이트(6 g/l)에 가하는 것을 제외하고는, 비교예 1과 동일하게 처리한다. 10 분 동안 90℃에서 처리한다.
(2) 실링 처리에서, 포스페이트 형 계면활성제(탑실(TOPSEAL) E110: 오쿠노 케미칼 인더스트리사 제품)를 0.2, 0.5, 1.0, 5.0, 10.0, 20.0 및 22.0 ml/l(즉, 7 조건)의 양으로 니켈 아세테이트(6 g/l)에 가하는 것을 제외하고는, 비교예 1과 동일하게 처리한다. 10 분 동안 90℃에서 처리한다.
실시양태 2
실링 처리에서, 정제수를 니켈 아세테이트 대신 사용하는 것을 제외하고는 실시양태 1과 동일한 방법으로 처리한다.
실시양태 3
실링 처리에서, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물(데몰(DEMOL) N: 카오(Kao)사 제품)을 0.1, 0.2, 3.0, 8.0, 10.0 및 12.0 g/l(즉, 6 조건)의 양으로 니켈 아세테이트(6 g/l)에 가하는 것을 제외하고는 비교예 1과 동일하게 처리하며, 10 분 동안 90℃에서 처리한다.
실시양태 4
실링 처리에서, 정제수를 니켈 아세테이트 대신 사용하는 것을 제외하고는 실시양태 3과 동일한 방법으로 처리한다.
실시양태 5
실링 처리에서, 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물(AMN-01: 센카(Senka)사 제품)을 0.1, 0.2, 1.0, 5.0, 10.0, 20.0 및 22.0 g/l(즉, 7 조건)의 양으로 니켈 아세테이트(6 g/l)에 가하는 것을 제외하고는 비교예 1과 동일하게 처리하며, 10 분 동안 90℃에서 처리한다.
실시양태 6
실링 처리에서, 정제수를 니켈 아세테이트 대신 사용하는 것을 제외하고는 실시양태 5와 동일한 방법으로 처리한다.
상기 비교예 1 및 2 및 실시양태 1 내지 6에서 제조된 피트가 실링된 원통형 알루미늄 기판을 알칼린 세제(2 % 캐스트롤(CASTROL) 450: 캐스트롤사 제품)로 1 분 동안 세척하고 60℃에서 건조시킨다. 생성되는 기판을 감광층으로서, 전하 발생층 및 전하 수송층으로 실질적으로 코팅한다. 전하 발생층은 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 공중합체 중에 4:6의 비로 분산되고, 200 nm의 평균 입자 지름을 갖는 X 형 무금속 프탈로시아닌을 포함한다. 부타디엔 형 전하 수송제 및 폴리카르보네이트 형 수지(분자량: 약 30,000)의 혼합물을 코팅하고 이어서 2 시간 동안 80℃에서 건조하여 전하 수송층을 얻는다.
비교예 및 실시양태의 상기 실례들의 코팅된 필름의 어드미턴스 값(Y20) 및 균일성은 감광층을 코팅한 이후에 측정한다. 어드미턴스 값를 JIS H 8683(1994)에 의하여 측정한다. 또, 코팅된 필름의 균일성을 시각적 관찰에 의하여 평가한다. 결과는 표 1 내지 5에 나타난다. 코팅된 필름의 균일성의 평가는 양호한 것 ++, 보통 + 또는 불량한 것에 대해 -로서 나타낸다. 보통의 균일성은 결과는 비교예에 비교하여 주목되지만, 제품에 요구되는 품질은 만족되지 않는다는 것을 의미한다. 피트가 실링된 필름이 불규칙성의 망상 표면 상태인 경우, 감광층을 코팅한 이후의 코팅된 필름의 균일성은 -로서 저조하게 평가된다. 피트가 실링된 필름이 망상 구조가 아니고 평탄하고 균일한 경우, 코팅된 필름은 ++로서 양호하게 평가된다.
피트 실링제 포스페이트 형 계면활성제 실링 조건 코팅된 필름의 균일성 Y20(μS) 전체 평가
온도(℃) 시간(분)
비교예 1 니켈 아세테이트(6 g/l) 없음 60 5 ++ 123 -
70 ++ 100 -
80 - 65 -
90 - 60 -
60 10 ++ 100 -
70 ++ 95 -
80 - 50 -
90 - 40 -
비교예 2 정제수 없음 60 5 ++ 130 -
70 ++ 110 -
80 - 70 -
90 - 60 -
60 10 ++ 120 -
70 ++ 95 -
80 - 62 -
90 - 45 -
피트 실링제 포스페이트 형 계면활성제 실링 조건 코팅된 필름의 균일성 Y20(μS) 전체 평가
형태 농도 온도(℃) 시간(분)
실시양태 1(1) 니켈 아세테이트(6 g/l) 포스판올 RS-610 0.01 g/l 90 10 + 42 +
0.02 ++ 43 ++
0.05 ++ 50 ++
0.10 ++ 55 ++
1.00 ++ 60 ++
2.00 ++ 55 ++
2.20 ++ 74 -
실시양태 1(2) 탑실 E110 0.2 ml/l 90 10 + 45 -
0.50 ++ 53 ++
1.00 ++ 54 ++
5.00 ++ 62 ++
10.0 ++ 67 ++
20.0 ++ 66 ++
22.0 ++ 73 -
피트 실링제 포스페이트형 계면활성제 실링 조건 코팅된 필름의 균일성 Y20(μS) 전체 평가
형태 농도 온도(℃) 시간(분)
실시양태 2(1) 정제수 포스판올 RS-610 0.01 g/l 90 10 - 50 -
0.02 ++ 53 ++
0.05 ++ 58 ++
0.10 ++ 65 ++
1.00 ++ 66 ++
2.00 ++ 67 ++
2.20 ++ 75 -
실시양태 2(2) 정제수 탑실 E110 0.2 ml/l 90 10 - 55 -
0.50 ++ 54 ++
1.00 ++ 54 ++
5.00 ++ 59 ++
10.0 ++ 60 ++
20.0 ++ 66 ++
22.0 ++ 75 -
피트 실링제 나프탈렌 술포네이트 포름알데히드 축합물 실링 조건 코팅된 필름의 균일성 Y20(μS) 전체 평가
형태 농도(g/l) 온도(℃) 시간(분)
실시양태 3 니켈 아세테이트(6g/l) 데몰 N 0.1 90 10 - 45 +
0.2 ++ 44 ++
3.0 ++ 46 ++
8.0 ++ 46 ++
10.0 ++ 48 ++
12.0 ++(착색) 43 +
실시양태 4 정제수 데몰 N 0.1 90 10 - 47 -
0.2 ++ 50 ++
3.0 ++ 51 ++
8.0 ++ 48 ++
10.0 ++ 48 ++
12.0 ++(착색) 49 +
피트 실링제 비스페놀 A 술포네이트 포름알데히드 축합물 실링 조건 코팅된 필름의 균일성 Y20(μS) 전체 평가
형태 농도(g/l) 온도(℃) 시간(분)
실시양태 5 니켈 아세테이트(6g/l) AMN-01 0.1 90 10 + 45 +
0.2 ++ 46 ++
1.0 ++ 46 ++
5.0 ++ 45 ++
10.0 ++ 43 ++
20.0 ++ 43 ++
22.0 ++(착색) 47 +
실시양태 6 정제수 AMN-01 0.1 90 10 + 50 +
0.2 ++ 51 ++
1.0 ++ 48 ++
5.0 ++ 48 ++
10.0 ++ 50 ++
20.0 ++ 47 ++
22.0 ++(착색) 48 +
상기 평가 결과로부터 보여지는 바와 같이, 실링 처리에서 특정 계면활성제 등을 가함으로써, 70 μS 이하의 어드미턴스 값(Y20)을 갖는 균일한 표면을 얻는다. 이러한 결과는 감광체가 본 발명에서 사용된 전하 발생층 및 전하 수송층의 물질 이외의 물질로 구성되는 경우 또한 주목된다.
비교예 1 및 2에서, 코팅된 필름의 균일성은 Y20이 70μS이하인 조건 하에서 저하된다. 이 경향은 니켈 아세테이트 또는 정제수가 사용되는 경우에서도 같다. 실시양태 1 및 2에서, 계면활성제 농도가 증가할 때, Y20가 70μS 이상이 되는 경우에서 실링 방해가 발생한다. 실시양태 3 내지 6에서, 착색은 축합물의 과도량이 가하여질 때 발생한다.
상기에 설명된 바와 같이, 본 발명에서, 어드미턴스 값(Y20)이 70μS 이하로 저하되고, 종방향에서의 필름의 성장이 억압되는 것에 의하여, 고도의 실링 정도를 갖는 균일한 습윤도의 표면을 갖는 전자사진 감광체용 기판이 얻어진다. 그러므로, 본 발명의 기판을 사용하는 전자사진 감광체는 우수한 영상 특성을 제공할 수 있다.
본 발명은 바람직한 실시양태와 관련하여 상술되었고, 넓은 관점에서 본 발명에서 벗어나지 않는 한, 변화 및 변형이 일어날 수 있다는 것이 상기로부터 당업자들에게 명백할 것이다.

Claims (11)

  1. 알루미늄 기판의 표면 상에 양극 산화 필름을 형성하는 단계,
    포스페이트 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 및 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 이루어진 군으로부터 선택된 첨가제를 실링제에 가하여 실링제 혼합물을 제조하는 단계,
    상기 기판을 상기 실링제 혼합물로 실링 처리하는 단계를 포함하는 전자사진 감광체용 기판의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 실링제가 니켈 아세테이트인 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 실링제가 정제수인 제조 방법.
  4. 포스페이트 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 및 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 이루어진 군으로부터 선택된 첨가제를 실링제에 가하여 제조된 실링제 혼합물로 실링 처리된 알루미늄 기판, 및 상기 기판 상에 형성된 양극 산화 필름을 포함하는 전자사진 감광체용 기판.
  5. 제4항에 있어서, 실링제가 니켈 아세테이트인 전자사진 감광체용 기판.
  6. 제4항에 있어서, 실링제가 정제수인 전자사진 감광체용 기판.
  7. 제4항에 있어서, 어드미턴스 값이 70μS 이하인 전자사진 감광체용 기판.
  8. 기판이 양극 산화 필름을 갖고 추가로 포스페이트 에스테르 형 계면활성제, 나프탈렌 술포네이트 형 포름알데히드 축합물, 및 비스페놀 A 술포네이트 형 포름알데히드 축합물로 이루어진 군으로부터 선택된 첨가제를 실링제에 가하여 제조된 실링제 혼합물로 실링 처리된, 알루미늄 기판으로부터 제조된 전기전도성 기판 및 상기 전기전도성 기판 상에 적층된 감광성 필름을 포함하는 전자사진 감광체.
  9. 제8항에서, 실링제가 니켈 아세테이트인 전자사진 감광체.
  10. 제8항에서, 실링제가 정제수인 전자사진 감광체.
  11. 제8항에서, 전기전도성 기판이 70μS 이하의 어드미턴스 값을 갖는 전자사진 감광체.
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