DE1772597C3 - Verfahren zur Herstellung von bieg samen, negativen oder positiven Rehefbildern - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von bieg samen, negativen oder positiven Rehefbildern

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DE1772597C3
DE1772597C3 DE1772597A DE1772597A DE1772597C3 DE 1772597 C3 DE1772597 C3 DE 1772597C3 DE 1772597 A DE1772597 A DE 1772597A DE 1772597 A DE1772597 A DE 1772597A DE 1772597 C3 DE1772597 C3 DE 1772597C3
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Bernard Woodmere N.Y. Ulano (V.St.A.)
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Diagravure Film Manufacturing Corp Brooklyn Ny (vsta)
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
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  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Pl Gemäß"^"Ausgestaltung der Erfindung hat es sich dabei besonders bewährt, wenn das Molverhalt-
Di« Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herste.- nis von
lung von biegsamen, negativen oder positiven Relief- 35 fachen,
Widern, bei dem ein Aufzeichnungsmaterial belichtet betragt. insofern vorteilhaft, als bei
und mit einer Entwicklerlösung behandelt wird, des- Diese Ausgestaltung isj ™°*™ Belichtung und
sen lichtvernetzbar Schicht *r Jährte .stet ist, .daß - «n^^ ^
a) ein wasserlösliches, vernetzbares, polymeres lben erfo, t Der Grund für die Hemmwirkung des Bindemittel und Komplexsalzes ist unbekannt; es wird jedoch ange-
b) ein lichtempfindliches Eisensalz enthält. nommen, daß das Komplexsalz mit der licmemp-Verfahren zur Herstellung von Re.iefbildern unter findlichen Komponenu= ein^ «^ Jompjcxe
Verwendung lichtempfindlicher Schichten, die ein bildet, bis es aus der Chelatmnoung wasserlöslicLs, verneizbares, polymeres Bindemittel « folgende «^^,Ä^^iÄ^SLS- und ein lichtempfindliches Eisensalz enthalten sind halt man bei de η «»gf J^0JJ8 lichte g mptindliche beispielsweise aus den USA.-Patentschriften 1944 293, sen dauerhatte, fle"bl* "™*η ™Auflösung gewähr-2 927 021, 3 097 097 und 3 169 065 bekannt, wobei Schichten, die eine hervorragende Autiosung gewanr hinsichtlich der beiden an letzter Stelle genannten leisten. Ηιΐηο,σβπ1χββ Verfahren umfaßt eine
Patentschriften insbesondere auf das Ausfuhrungs- 5o Das e^ndu"^™~?tt^eiSJ sie in der derzeibeispie. 2 bzw. das Ausführungsbeisp.el 1 verwiesen ^V^JJ^J^ von Hch
Nachteilig an den bekannten Verfahren ist es daß findlichen, ^^^Jt^Z^n^ die dort verwendeten, lichtempfindlichen Schichten sind, die atftWm einer ^ .Jd für eine längere Lagerung keine ausreichende Stabil- 55 wünschtenι Unter^gj^^ ,^',ich empfindliche tat aufweisen. Es hat sich nämlich gezeigt daß em Das »^^'i^^^uSmUtelbar nach seiner einfaches Eisen-TII-Salz nicht mit einem härtbaren M^^^^^^^^ Bindemittel vereinigt werden kann, ohne daß eine Herst ellung ^™ε™ * ^°m Licht durch eine transKoagulation, eine Bildung unlöslicher Komplexe Mater ^'d™1*™^™ anschließend in einem eine Ausfällung oder eine Härtung eintritt, und zwar 60 parente Vorlage be^ich^ und ar^c n entweder sofort oder mehr oder weniger rasch nach Wg^f«^ ^ Xtenden Verfahren Trocknung des beschichteten Trägers. «gj^^'^twcSg durch Eintauchen des belich-Aufgabe der Erfindung ist es daher ein Verfahren wird die Entmck ung ^ idlösung oder zur Herstellung von biegsamen, negativen oder post- teten Frim «n^e^ « ^ Natriumperborat, tiven Reliefbildern vorzuschlagen, welches es ermog- 65 eine geeign^.«"JJ^rf^ werden die belichlicht, das Aufzeichnungsmaterial auch über einen lan- bewirkt. Fu .da™^eLösungen, z. B. 10V.igem
ISZSSiWeg ZU lagern Mr0ä^^mtSWmA^^^^
entwickelt Nach der Entwicklung werden die löslichen Flächen des Films mit Wasser ausgewaschen, das kalt oder warm sein kann.
Bei dem Negatiwerfahren werden die nicht belichteten Schichten der Schicht herausgewaschen, und "es verbleiben die entwickelten Anteile. Bei dem Positiv ■ verfahren werden die entwickelten Teile der Schicht herausgewaschen und lassen die nicht belichteten Anteile zurück. Das zurückbleibende Reliefbild und die Unterlage können in bekannter Weise für den Seidensiebdruck oder andere Druckverfahren und das Schablonieren dienen.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand einiger Beispiele noch näher erläutert, wobei die verwendeten Farbstoffe durch ihre dem Color-Index entnommene CI-Nr. charakterisiert sind.
Beispiel I
Eine Überzugslösung wird hergestellt aus nachstehenden Stoffen in Gewichtsteilen:
Wasser 182,5 Teile
Polyvinylalkohol 17,5 Teile
Glyzerin 5,0 Teile
Ammoniumeisen-III-oxalat... 4,5 Teile
Eisen-III-oxalat 2,0 Teile
Blauer Farbstoff CI-Nr. 26 400 6,0 Teile
Diese Lösung wird auf eine transparente Filmunterlage aufgetragen. Nach dem Trocknen wird eine Probe des Films durch die Unterlage durch eine Vorlage belichtet (75-A-Kohlenstoff-Lichtbogenlampe; 3,5 Minuten; Entfernung etwa 1 m). Die Schicht wird dann in einer sauren oxidierenden Lösung von Zitronensäure und 4,5-Wasserstoffperoxid entwickelt und anschließend mit warmem Wasser gewaschen. Die nicht belichteten Flächen der Schicht werden herausgewaschen, während die unlöslich gemachten, belichteten Flächen zurückbleiben. Es wird so ein Reiiefbild oder Muster von 0,0075 mm Dicke erzeugt. Dieses wird an ein gespanntes Gewebesieb zum Anhaften gebracht, um eine haltbare, biegsame Schablone zu erzeugen.
Beispiel II
Es wird eine Lösung aus nachstehenden Stoffen hergestellt:
kelt Der Überzug wird dann mit warmem Wasser gewaschen, wobei man ein gutes negatives Reliefbild erhält
Beispiel 111
Ansatz (in Gewichtsteilen):
Wasser 242,5 Teile
Polyvinylalkohol 17,5 Teile
Glycerin 5,0 Teile
Blauer Farbstoff CI-Nr. 26 400 2,0 Teile
Eisen-III-chlorid 1,0 Teile
Ammoniumeisen-III-tartrat... 4,0 Teile
Dieser Ansatz hat einen pH-Wert von 1,6. Die Lösung wird als überzug auf eine transparente FiImunterlagc aufgetragen und dann getrocknet. Eine Probe des Films wird belichtet, entwickelt und gewaschen wie in Beispiel ΙΓ, wobei ein gutes negatiVes
Reliefbild entsteht. Das unbelichtete Material ist wie die Materialien der vorstehend angebenen Beispiele beständig und auch noch nach 6 Monaten brauchbar.
Wasser 68,7 kg
Polyvinylalkohol 3,97 kg
blauer Farbstoff CI-Nr. 26 400 132 g
Natriumalkylarylsulfonat 4 g
Glycerin 680 g
Ammoniumeisen-III-oxalat .. 2040 g
Eisen-III-oxalat 1360 g
Beispiel IV
Eine Lösung wird nach dem nachstehenden Ansatz in Gewichtsteilen hergestellt:
Wasser 666,3 Teile
Kaliumoxalat 1,4 Teile
Eisen-III-oxalat 3,7 Teile
Glycerin 4,7 Teile
Blauer Farbstoff CI-Nr. 26 400 5,3 Teile
Polyvinylalkohol 46,7 Teile
Diese Lösung wird als Überzug auf verschiedene transparente Filmunterlagen aufgetragen. Nach dem Trocknen wird belichtet, entwickelt und gewaschen wie in Beispiel II, wobei man ein negatives Bild erhält. Wird eine 10° oige Monoäthanolaminlösung als Entwickler für den Überzug auf einer der belichteten Unterlagen verwendet, wird ein gutes positives Reliefbild erhalten.
Beispiel V
Eine Lösung wird aus den nachstehenden Stoffen hergestellt:
Wasser 50,2 kg
Lithiumsuccinat 87 g
Oxalsäure 28 g
Glycerin , 340 g
Blauer Farbstoff CI-Nr. 26 400 454 g
Polyvinylalkohol 3,98 kg
Eisen-III-oxalat 312 g
Diese Lösung wird auf eine transparente Polyester- Diese Lösung wird als Überzug auf eine trans-
Filmunterlage aufgetragen. Nach dem Auftrocknen parente Filmunterlage aufgetragen. Der getrocknete wird ein Teil des Films wie in Beispiel I belichtet. Überzug wird belichtet, in einer oxydierenden Lösung Der Überzug wird dann in 1,5% Wasserstoffperoxid 60 entwickelt und unter Bildung eines negativen Reliefmit 18 g Zitronensäure auf 500 cm3 Lösung entwik- bildes gewaschen.

Claims (2)

  1. Patentansprüche: ZTJ ^Z^na^i ^r En^^
    1 Verfahren »r Herstellung von biegsamen, entwickelt wird, dessen lichtvernetzbar Setacht
    > negativen oder positiven Reliefbildern, bei dem 5 a) em wasserlösliches, vernetzbares, polymeres
    ein Aufzeichnungsmaterial belichtet und mit einer Bindemittel und
    ■Entwicklerlösung entwickelt wird, dessen licht- b) ein lichtempfindliches Eisensalz entnaii,
    vernetzbare Schicht und ^ ^dmch gekennzeichnet, daß ein Aufzeich-
    a) ein wasserlösliches, vernetzbares, polymeres nungsniaterial verwendet «W.Jessen ''^tvernete-Bindemittel und bare Schicht als Ii«*temgndhctes E^te m em
    b) ein lichtempfindliches Eisensalz enthält, d a - faches, nicht-komplexes Eisensalz und zusatzucn durch gekennzeichnet daß ein Auf- „eoebenenfalls komplexes Ammonium-, Zeichnungsmaterial verwendet wird, dessen licht- c) em gegeoene _ Kaliumsalz der Oxalvernetzbare Schicht als lichtempfindliches Eisen- H ,^emstetasäure, Weinsäure oder Glukonsalz ein einfaches, nicht-komplexes Eisensalz und saure, J*ra s^™Iisie,^d wirkende Verbindung zusätzlich .. ~1t
    c) ein gegebenenfalls komplexes Ammonium-, enJian. ^Η H Lithium-, Natrium- oder Kaliumsalz der Erfindungsgemäß wird also en[AJH Oxalsäure, Bernsteinsäure, Weinsäure oder 2O stcllung vo„ Reliefbildern unter. Clukonsäure als stabilisierend wirkende Ver- Aufzeichnungsmaterials vorgeschlagen de bindung . vernetzbare Schicht als licbtempiindl^
    enthält. ein einfaches Eisensalz enthalt und auße
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- stabi.is.renc.wirkende^Ϊ5Ϊ
    kennzeichnet, daß das Molverhältnis von stabüi- 25 zeitige Eintreten einer
    sierend wirkender Verbindung zum einfachen. hindert. ^ ^.^ daß bd gukf
    ihkl El 05 : 1 bis 25: 1 be Dun* d« « ^ jl jfh
    sierend wirkender Verbindung zum einfachen. ^ ^^ daß bd gukf
    nicht-komplexen Eisensalz 0,5 : 1 bis 2.5: 1 be- Dun* d« « ^. ^ Materjals ejnfach<;
    Ei d d kö
    ^ ^ Materja
    nfcht-komplcxe Eisensalze verwendet werden können. 3. welche wesentlich lichtempfindlicher sind als die kom-
DE1772597A 1967-06-12 1968-06-07 Verfahren zur Herstellung von bieg samen, negativen oder positiven Rehefbildern Expired DE1772597C3 (de)

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1340046A (en) * 1970-03-10 1973-12-05 Agfa Gevaert Photochemical reproduction process
EP0091163B1 (de) * 1982-04-02 1987-11-25 North American Philips Corporation Positiv arbeitende Photoresistmasse und Verfahren zur Herstellung einer lichtabsorbierenden Schwarzmatrix in einer Farbbildröhre
US4546064A (en) * 1982-04-02 1985-10-08 North American Philips Corporation Positive-working photoresist composition and method for forming a light-absorbing matrix
US4505999A (en) * 1983-09-12 1985-03-19 North American Philips Consumer Electronics Corp. Photographic process for applying phosphor pattern to color CRT shadow mask
US4590138A (en) * 1983-11-04 1986-05-20 North American Philips Consumer Electronic Corp. Positive-working photoresist composition and method for forming a light-absorbing matrix in a color CRT structure
US10934442B2 (en) * 2014-06-09 2021-03-02 Agency For Science, Technology And Research Metal complexes

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB665649A (en) * 1949-04-01 1952-01-30 Autotype Company Ltd Improvements in photographic films and processes for producing stencils therewith
US2927021A (en) * 1956-03-27 1960-03-01 Horizons Inc Method of producing a relief image
US3038803A (en) * 1958-02-07 1962-06-12 Keuffel & Esser Co Photosensitive material
DE1622462A1 (de) * 1960-10-11

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GB1236486A (en) 1971-06-23
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US3620735A (en) 1971-11-16
DE1772597B2 (de) 1973-05-24

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