DE1771465C3 - Saures galvanisches Kadmiumbad - Google Patents
Saures galvanisches KadmiumbadInfo
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- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 9
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 title claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- SRVJKTDHMYAMHA-WUXMJOGZSA-N Thioacetazone Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(\C=N\NC(N)=S)C=C1 SRVJKTDHMYAMHA-WUXMJOGZSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N Imidazole Chemical compound C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating Effects 0.000 description 4
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 4
- QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L Cadmium sulfate Chemical compound [Cd+2].[O-]S([O-])(=O)=O QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229940041158 antibacterial for systemic use Imidazole derivatives Drugs 0.000 description 2
- 229940042051 antimycotic for systemic use Imidazole derivatives Drugs 0.000 description 2
- 229940117941 cadmium sulfate Drugs 0.000 description 2
- 229910000331 cadmium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 229940093910 gyncological antiinfectives Imidazole derivatives Drugs 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 229940079865 intestinal antiinfectives Imidazole derivatives Drugs 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- ODGCEQLVLXJUCC-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroborate Chemical compound F[B-](F)(F)F ODGCEQLVLXJUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHMJUOSYSOOPDM-UHFFFAOYSA-N Cadmium cyanide Chemical compound [Cd+2].N#[C-].N#[C-] NHMJUOSYSOOPDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXOFSPIMFJTFSE-UHFFFAOYSA-N Cadmium tetrafluoroborate Chemical compound [Cd+2].F[B-](F)(F)F.F[B-](F)(F)F NXOFSPIMFJTFSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical group NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000963 oxybis(methylene) group Chemical group [H]C([H])(*)OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- ODGCEQLVLXJUCC-UHFFFAOYSA-O tetrafluoroboric acid Chemical compound [H+].F[B-](F)(F)F ODGCEQLVLXJUCC-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
NH2
IO die insbesondere zur Verkupferung verwendet werden. Die dort als glanzgebendes Mittel zugesetzte .Schwefelverbindung
enthält im Molekül wenigstens einen Thioharnstoffrest und wenigstens einen Dithiocarbaminsäurerest.
Die damit erhaltenen Überzüge entbehren der
Duktilität und sind leicht zerbrechlich.
Demgegenüber bezweckt die vorliegende Erfindung die Schaffung saurer galvanischer Kadmiumbäder,
welche ein Kadmiumsalz, eine freie Säure sowie eine organische schwefelhaltige Verbindung gelöst enthalten
und die Bäder sind dadurch gekennzeichnet, daß die organische schwefelhaltige Verbindung ein Thiosemicarbazon
der allgemeinen Formel
NH-N = CH-R
ist, worin R ein Phenolrest ist.
2. Kadmiumbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es noch ein nichtionisches
Netzmittel mit 10 bis 30 C2H4O-Gruppen im
Molekül oder einen sulfatisierten Alkohol oder ein Salz eines solchen, und/oder einen oder mehrere der
folgenden Stoffe enthält: Formalin, Glyoxalin, Naphthalinsulfonsäure und deren Salze, durch
Kondensation einer Fettsäure mit einem Diamin oder Triamin erhaltene oberflächenaktive, kationische,
zweibasische oder mehrbasische Mittel, Imidazolderivate.
35 S = C
NH2
NH-N = CH-R
Bekanntlich verwendet man zur Erzeugung von Kadmiumüberzügen Elektrolyte auf der Basis von
Cyaniden, wobei die sauren Elektrolyte die Erzielung von eindringenden und glänzenden Niederschlägen
nicht gestatten. Es ist auch bekannt, daß die Verwendung von Bädern auf der Basis von Kadmiumcyanid
Probleme bezüglich der Behandlung von Restwässern mit sich bringt. Außerdem machen die Cyanidbäder
Stähle mit hoher Elastizitätsgrenze zerbrechlich, weshalb behandelte Gegenstände aus diesen Stahlsorten
einer oft schwierigen oder sogar unwirksamen Entgasungsbehandlung unterworfen werden müssen.
Aus der US-PS 28 93 314 ist ferner ein galvanisches Kadmiumbad bekannt, das Kadmiumfluorborat und ein
Ammoniumsalz in Form von Fluorborat enthält. Außerdem enthält dieses Bad nur noch ein nichtionisches
oberflächenaktives Mittel, welches das Aussehen der Abscheidung, insbesondere deren Deckvermögen
verbessern soll; die alleinige Anwesenheit dieses Netzmittels reicht jedoch zur Erzielung eines Glanzes
nicht aus. Außerdem ergeben sich aus der Anwesenheit eines Ammoniumsalzes in den Abwässern Umweltverschmutzungsprobleme.
Ein saures galvanisches Kadmiumbad, das noch eine organische schwefelhaltige Verbindung, und zwar eine
Naphtholsulfonsäure enthält, ist aus der US-PS 22 22 398 bekannt. Der Zusatz dieser schwefelhaltigen
Verbindung bezweckt die Erzielung duktiler und glanzloser Kadmiumüberzüge. Schwefelhaltige Verbindungen
sind auch in den aus der DT-AS 1146 322 bekannten sauren galvanischen Metallbädern enthalten,
ist, worin R ein Phenolrest ist.
Vorzugsweise enthalten die erfindungsgemäßen Bäder noch ein nichtionisches Netzmittel mit 10 bis 30
C2H-tO-Gruppen im Molekül oder einen sulfatisierten
Alkohol oder ein Salz eines solchen, und/oder einen oder mehrere der folgenden Stoffe: Formalin, Glyoxalin,
Naphthalinsulfonsäure und deren Salze, durch Kondensation einer Fettsäure mit einem Diamin oder
Triamin erhaltene oberflächenaktive, kationische, zweibasische oder mehrbasische Mittel, Imidazolderivate.
Die Verwendung der erfindungsgemäßen Bäder macht eine Spezialbehandlung der Restwässer überflüssig
und bewirkt 21η gutes Eindringen des galvanischen Überzugs sowie einen starken Glanz desselben.
Nachstehend werden einige beispielsweise Zusammensetzungen von erfindungsgemäßen Elektrolyten
angegeben:
30 bis 80 g/l Kadmiumsulfat
1 bis 100 g/l Schwefelsäure
1 bis 2 g/l eines 30 C2H4O-Gruppen im Molekül
1 bis 100 g/l Schwefelsäure
1 bis 2 g/l eines 30 C2H4O-Gruppen im Molekül
enthaltenden nichtionischen Netzmittels 5 g/l der Verbindung aus Naphthalinsulfonsäure
und Glyoxalin 0,2 g/l des Thiosemicarbazons
Temperatur: 20 bis 250C Stromdichte: 0,5 bis 5 A/dm2
Gleich wie Beispiel 1, wobei jedoch das nichtionische Netzmittel durch 1 g/l Octylalkoholsulfat ersetzt ist.
30 bis 80 g/l Kadmiumsulfat
1 bis 100 g/l Schwefelsäure
1 bis 2 g/l eines nichtionischen Netzmittels
1 g/l Formalin
5 g/l Naphthalinsulfonsäure
0,2 g/l des Thiosemicarbazons
30 g/l Kadmium als Fluorborat
60 g/l Fluorborsäure
2 g/l nichtionisches Netzmittel 6 g/l Natriiimnaphthalinsulfonat
3 g/l Glyoxalin
0,2 g/l des Thiosemicarbazons
bis 80 g/l Kadmiumsulfat bis 100 g/l Schwefelsäure
1 g/l nichtionisches Netzmittel 1 g/l zweibaiiisches oder mehrbasisches,
kationisiches, oberflächenaktives Mittel 0,2 g/l des Thiosemicarbazons
Claims (1)
1. Saures galvanisches Kadmiumbad, das ein Cadmiumsalz, eine freie Säure, sowie eine organische
schwefelhaltige Verbindung gelöst enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die organische
schwefelhaltige Verbindung ein Thiosemicarbazon der allgemeinen Formel
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR112158A FR1535653A (fr) | 1967-06-28 | 1967-06-28 | Agent de brillantage permettant l'obtention de revêtements électrolytiques de cadmium brillant à partir de solutions aqueuses acides de sels de cadmium |
| FR112158 | 1967-06-28 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1771465A1 DE1771465A1 (de) | 1971-12-23 |
| DE1771465B2 DE1771465B2 (de) | 1976-11-25 |
| DE1771465C3 true DE1771465C3 (de) | 1977-07-07 |
Family
ID=
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