DE1771465B2 - Saures galvanisches kadmiumbad - Google Patents
Saures galvanisches kadmiumbadInfo
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/26—Electroplating: Baths therefor from solutions of cadmium
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Description
NH2
S=C
NH-N = CH-R
ist, worin R ein Phenolrest ist
2. Kadmiumbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es noch ein nichtionisches
Netzmittel mit 10 bis 30 C2H4O-Gruppen im
Molekül oder einen sulfatisierten Alkohol oder ein Salz eines solchen, und/oder einen oder mehrere der
folgenden Stoffe enthält: Formalin, Glyoxalin, Naphthalinsulfonsäure und deren Salze, durch
Kondensation einer Fettsäure mit einem Diamin oder Triamin erhaltene oberflächenaktive, kationische,
zweibasische oder mehrbasische Mittel, Imidazolderivate.
Bekanntlich verwendet man zur Erzeugung von Kadmiumüberzügen Elektrolyte auf der Basis von
Cyaniden, wobei die sauren Elektrolyte die Erzielung von eindringenden und glänzenden Niederschlagen
nicht gestatten. Es ist auch bekannt, daß die Verwendung von Bädern auf der Basis von Kadmiumcyanid
Probleme bezüglich der Behandlung von Restwässern mit sich bringt. Außerdem machen die Cyanidbäder
Stähle mit hoher Elastizitätsgrenze zerbrechlich, weshalb behandelte Gegenstände aus diesen Stahlsorten
einer oft schwierigen oder sogar unwirksamen Entgasungsbehandlung unterworfen werden müssen.
Aus der US-PS 28 93 314 ist ferner ein galvanisches Kadmiumbad bekannt, das Kadmiumfluorborat und ein
Ammoniumsalz in Form von Fluorborat enthält. Außerdem enthält dieses Bad nur noch ein nichtionisches
oberflächenaktives Mittel, welches das Aussehen der Abscheidung, insbesondere deren Deckvermögen
verbessern soll; die alleinige Anwesenheit dieses Netzmittels reicht jedoch zur Erzielung eines Glanzes
nicht aus. Außerdem ergeben sich aus der Anwesenheit eines Ammoniumsalzes in den Abwässern Umweltverschmutzungsprobleme.
Ein saures galvanisches Kadmiumbad, das noch eine organische schwefelhaltige Verbindung, und zwar eine
Naphtholsulfonsäure enthält, ist aus der US-PS 22 22 398 bekannt. Der Zusatz dieser schwefelhaltigen
Verbindung bezweckt die Erzielung duktiler und glanzloser Kadmiumüberzüge. Schwefelhaltige Verbindungen
sind auch in den aus der DT-AS 11 46 322 bekannten sauren galvanischen Metallbädern enthalten,
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die insbesondere zur Verkupferung verwendet werden. Die dort als glanzgebendes Mittel zugesetzte Schwefelverbindung
enthält im Molekül wenigstens einen Thioharnstoffrest und wenigstens einen Dithiocarbaminsäurerest
..
Die damit erhaltenen Überzüge entbehren der
Duktilität und sind leicht zerbrechlich.
Demgegenüber bezweckt die vorliegende Erfindung die Schaffung saurer galvanischer Kadmiumbäder,
welche ein Kadmiumsalz, eine freie Säure sowie eine organische schwefelhaltige Verbindung gelöst enthalten,
und die Bäder sind dadurch gekennzeichnet, daß die organische schwefelhaltige Verbindung ein Thiosemicarbazon
der allgemeinen Formel
S = C
NH2
NH-N = CH-R
ist, worin R ein Phenolrest ist.
Vorzugsweise enthalten die erfindungsgemäßen Bä-
Vorzugsweise enthalten die erfindungsgemäßen Bä-
der noch ein nichtionisches Netzmittel mit 10 bis 30 C2H4O-Gruppen im Molekül oder einen sulfatisierten
Alkohol oder ein Salz eines solchen, und/oder einen oder mehrere der folgenden Stoffe: Formalin, Glyoxalin,
Naphthalinsulfonsäure und deren Salze, durch
Kondensation einer Fettsäure mit einem Diamin oder Triamin erhaltene oberflächenaktive, kationische, zweibasische
oder mehrbasische Mittel, Imidazolderivate.
Die Verwendung der erfindungsgemäßen Bäder macht eine Spezialbehandlung der Restwässer überflüssig
und bewirkt ein gutes Eindringen des galvanischen Überzugs sowie einen starken Glanz desselben.
Nachstehend werden einige beispielsweise Zusammensetzungen von erfindungsgemäßen Elektrolyten
angegeben:
30 bis 80 g/l Kadmiumsulfat
1 bis 100 g/l Schwefelsäure
1 bis 2 g/l eines 30 C2rl4O-Gruppen im Molekül
1 bis 100 g/l Schwefelsäure
1 bis 2 g/l eines 30 C2rl4O-Gruppen im Molekül
enthaltenden nichtionischen Netzmittels 5 g/l der Verbindung aus Naphthalinsulfonsäure
und Glyoxalin
0,2 g/l des Thiosemicarbazone
0,2 g/l des Thiosemicarbazone
Temperatur: 20 bis 23° C
Stromdichte: 0,5 bis 5 A/dm2
Stromdichte: 0,5 bis 5 A/dm2
Gleich wie Beispiel 1, wobei jedoch das nichtionische Netzmittel durch 1 g/l Octylalkoholsulfat ersetzt ist.
30 bis 80 g/l Kadmiumsulfat
1 bis 100 g/l Schwefelsäure
1 bis 2 g/l eines nichtionischen Netzmittel
1 g/l Formalin
5 g/l Naphthalinsulfonsäure
0,2 g/l des Thiosemicarbazons
30 gß Kadmium als Fluorborat
60 g/l Fluorborsäure
2 g/l nichtionisches Netzmittel 6 g/l Natriumnaphthalinsulfonat
3 g/l Glyoxalin
0,2 g/l des Thiosemicarbazons
bis 80 g/l Kadmiumsulfat bis 100 g/l Schwefelsäure 1 g/l nichtionisches Netzmittel
1 g/l zweibasisches oder inehrbasisches,
kationisches, oberflächenaktives Mittel 0,2 g/l des Thiosemicarbazons
Claims (1)
- Patentansprüche;1771/ι1, Saures galvanisches Kadmiumbad, das ein Cadmiumsalz, eine freie Säure, sowie eine organische schwefelhaltige Verbindung gelöst enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die organische schwefelhaltige Verbindung ein Thiosemicarbazon der allgemeinen Formel
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR112158A FR1535653A (fr) | 1967-06-28 | 1967-06-28 | Agent de brillantage permettant l'obtention de revêtements électrolytiques de cadmium brillant à partir de solutions aqueuses acides de sels de cadmium |
FR112158 | 1967-06-28 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1771465A1 DE1771465A1 (de) | 1971-12-23 |
DE1771465B2 true DE1771465B2 (de) | 1976-11-25 |
DE1771465C3 DE1771465C3 (de) | 1977-07-07 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1204806A (en) | 1970-09-09 |
DE1771465A1 (de) | 1971-12-23 |
BE713427A (de) | 1968-10-09 |
NL6809152A (de) | 1968-12-30 |
FR1535653A (fr) | 1968-08-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |