DE934508C - Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege - Google Patents
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 2
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- -1 cyclic hydrocarbon radical Chemical group 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl) thiocyanate Chemical compound NC1=CC=C(SC#N)C=C1 NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYZWMVYYUIMRIZ-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(Br)C=C1 XYZWMVYYUIMRIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 2
- WNRWEBKEQARBKV-UHFFFAOYSA-N 1-(2-chloroethyl)piperidine Chemical compound ClCCN1CCCCC1 WNRWEBKEQARBKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQRCDIPTOADXMP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n,n-diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1Cl OQRCDIPTOADXMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- LFFKXGFSDGRFQA-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)propanenitrile Chemical compound CCN(CC)CCC#N LFFKXGFSDGRFQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAPMTSHEXFEPSD-UHFFFAOYSA-N 4-(2-chloroethyl)morpholine Chemical compound ClCCN1CCOCC1 ZAPMTSHEXFEPSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IONGEXNDPXANJD-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(Cl)C=C1 IONGEXNDPXANJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- CJDICMLSLYHRPT-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-3-nitroaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 CJDICMLSLYHRPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJAIOCKFIORVFU-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-nitroaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 QJAIOCKFIORVFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A21—BAKING; EDIBLE DOUGHS
- A21D—TREATMENT OF FLOUR OR DOUGH FOR BAKING, e.g. BY ADDITION OF MATERIALS; BAKING; BAKERY PRODUCTS
- A21D2/00—Treatment of flour or dough by adding materials thereto before or during baking
- A21D2/08—Treatment of flour or dough by adding materials thereto before or during baking by adding organic substances
- A21D2/30—Organic phosphorus compounds
- A21D2/32—Phosphatides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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Description
Es ist bekannt, daß die Wirkung glanzgebender Verbindungen bei der Herstellung hochglänzender
Metallüberzüge durch bestimmte anorganische Verunreinigungen in den galvanischen Bädern mehr oder
minder beeinträchtigt wird. Als solche kommen die Härtebildner des Wassers in Betracht, ferner Verunreinigungen,
wie sie in den zur Herstellung der galvanischen Bäder üblicherweise verwendeten Metallsalzen
technischer Qualität enthalten sind. Diese Verunreinigungen machen sich besonders in galvanischen
Glanzkupferbädern bemerkbar.
Es wurde nun gefunden, daß man die schädliche Wirkung dieser Verunreinigungen vermeiden kann,
wenn man den Bädern geringe Mengen von carboxylgruppenfreien, tertiären Aminoverbindungen der allgemeinen
Formel
G-R—N.
zusetzt. In dieser allgemeinen Formel bedeutet G ein zur Bildung von Anionen befähigtes Atom oder eine
entsprechende Atomgruppe, wie z. B. Halogenatome, Cyan-, Rhodan-, Nitro- oder Nitrosogrupperi, und R
einen mindestens 2 Kohlenstoffatome enthaltenden acyclischen oder cyclischen Kohlenwasserstoffrest, der
gegebenenfalls weitere Substituenten, wie z. B. Alkylreste,
Hydroxylgruppen, Halogenatome, Cyan-, Rhodan- oder Nitrogruppen usw., tragen kann. R1 und R2
bedeuten Kohlenwasserstoffreste aliphatischer, cycloaliphatischer oder aromatischer Natur, die ebenfalls
Sauerstoff, Schwefel oder Stickstoff enthaltende Substituenten aufweisen oder Unterbrechungen durch
Heteroatome oder Heteroatomgruppen besitzen können. An Stelle der beiden Reste R1 und R2 kann auch
unter Einbeziehung des Stickstoffatoms ein heterocyclisches Ringsystem treten, das ebenfalls Substituenten
tragen kann.
Verbindungen dieser Art sind beispielsweise: i-Diäthylamino-äthylchlorid-2,
i-Dioxyäthylamino-äthyl-
chlorid-2, i-Diäthylamino^-chlorpropanol-z,- i-Dioxyäthylajmno-3-chlor-propanol-2,
N-(2-chloräthyl)r N-äthyl-anihn, N-(3-chlor-2-oxypropyl)-N-methylanilin,
N-te-chlor^-oxypropylJ-N-methyl-cyclohexylamin,
N1 N - Dicyclohexyl - N - 2 - chloräthylamin, N-2-Chloräthyl-piperidin, N-2-Chloräthyl-morpholin,
N, N-Dimethyl-4-bromanilin, N, N-Dimethyl-4-chloranüin,
N, N-Diäthyl-2-chloranilin, N, N-Dimethyl-4-nitro-aniün,
N, N-Dimethyl-3-nitroanilin, Bis-(2-brömäthyl)-benzylamin,
/3-Diäthylamino-propionitril u. dgl.
Diese tertiären Aminoverbindungen können auch in Form ihrer Salze mit anorganischen oder organischen
Säuren oder in Form entsprechender quatemärer Ammoniumverbindungen angewendet werden.
Durch diese Zusätze erreicht man, daß auch bei Verunreinigungen enthaltenden Bädern die verwende-.ten
Glanzmittel über ihren gesamten wirksamen Stromdichtebereich zu einwandfreien Metallniederschlagen
mit Hochglanz führen. Ein weiterer Vorteil dieser Mittel besteht darin, daß sie die Duktilität der
galvanischen Überzüge erhöhen.
Die Mengen, in denen man die erfindungsgemäßen Mittel bzw. deren Gemische den Bädern zusetzt,
liegen zwischen etwa 0,01 und 20 g/l BadfLüssigkeit,
vorzugsweise zwischen 2 und 8 g/l. Die erforderlichen Aufwandmengen sind bei den einzelnen Substanzen
verschieden und richten sich auch nach der Natur des jeweils verwendeten Hochglanzmittels. Im allgemeinen
wird bei Temperaturen von 30 bis 60° C galvanisiert unter Anwendung von Stromdichten zwischen
0,5 und 15 Amp/dm2.
Die erfindungsgemäßen Zusätze wirken in Bädern, welche infolge der Verwendung von Gebrauchswasser,
Magnesium-, Kalzium- und aus dem technischen Kupfersulfat Eisenionen enthalten, wie nachgewiesen
werden konnte, nicht im üblichen Sinne enthärtend und können auch durch typische Enthärtungsmittel
nicht ersetzt werden. Trotzdem sind sie in der Lage, die bei der Metallisierung störenden Einflüsse dieser
Fremdionen restlos auszuschalten. Ihre Wirksamkeit läuft offenbar an der Metalloberfläche selbst ab, worauf
u. a. die zum Teil erhöhte Anwendungskonzentration dieser Stoffe hindeutet.
Die Anwendung der Mittel erfordert keine besonderen Maßnahmen; sie sind als Amine in den üblichen
sauren MetaUsalzbädern, insbesondere Kupfersalzbädern,
mit den dafür üblicherweise verwendeten Metallsalzen gut löslich und werden auch während des
Galvanisierungsbetriebes nicht zersetzt. Hinsichtlich des Temperatur- und Stromdichtebereiches erfordert
die Mitverwendung der Zusätze keine Änderung an den üblichen Zusammensetzungen.
Die erfindungsgemäßen Zusätze können in allen Glanzmittel enthaltenden galvanischen Bädern verwendet
werden, in denen die Eigenschaften der Metallüberzüge durch Verunreinigungen der beschriebenen
Art beeinträchtigt werden, also· z. B. in Zinkbädem,
Nickelbädern, Chrombädern, Edelmetallbädern, und insbesondere Kupferbädern, die Glanzmittel enthalten.
In einem mit reinen Chemikalien und destilliertem Wasser hergestellten sauren Kupferbad der Zusammensetzung
200 g/l CuSO4 (krist.) 60 g/l H2SO,
werden 0,75 g/l N, N-dipropyldithiocarbaminsäuren-butylester-cu-sulfosaures
Natrium als glanzgebendes Mittel gelöst. Galvanisiert man darin Eisenteile in
einem Stromdichtebereich zwischen 0,5 bis 8 Amp/dm2, so sind die erhaltenen Kupferniederschläge hochglänzend.
Führt man die gleichen Operationen in einem Kupferbad aus, welches mit Chemikalien technischer
Qualität unter Verwendung von Leitungswasser hergestellt wurde, zeigen die erhaltenen Niederschläge
nicht den gleichen Hochglanz.
Gibt man zu diesem Bad 2,5 g/l 2-Diäthylaminoäthylchlorid-i,
so erhält man ebenfalls' einwandfreie hochglänzende Kupferüberzüge innerhalb eines weiten
Stromdichtebereichs.
Zu den gleichen Effekten gelangt man, wenn man als Zusätze nachstehende Verbindungen verwendet:
ι bis 6 g/l N, N-Dimethyl-4-bromanilin, 2 bis 6 g/l S-Diäthylamino-i-chlor-propanol^, 2 bis 8 g/l 2-Dioxyäthylamino-äthylchlorid,
1,5 bis 7 g/l i-Dioxyäthylamino-3-chlor-propanol-2 u. dgl., wobei auch beliebige
andere Glanzmittel, die gegen Badverunreinigungen empfindlich sind, eingesetzt werden können.
Claims (3)
- PATENTANSPRÜCHE:i. Verfahren zur Herstellung glänzender galvanischer Metallüberzüge, dadurch gekennzeichnet, gg daß man den galvanischen Bädern vor oder während der Gälvanisierung neben Glanzmitteln carboxylgruppenfreie tertiäre Aminoverbindungen der allgemeinen Formel/ **-\G-R-N^zusetzt, in welcher G ein zur Bildung von Anionen befähigtes Atom oder eine entsprechende Atomgruppe, R einen zweiwertigen acyclischen oder cyclischen und R1, R2 acyclische oder cyclische Kohlenwasserstoffreste bedeuten, wobei diese Kohlenwasserstoffreste auch Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen oder Substituenten besitzen und die Kohlenwasserstoffreste R1, R2 auch gemeinsam mit dem N-Atom ein heterocyclisches Ringsystem bilden können.
- 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die carboxylgruppenfreien tertiären Aminoverbindungen in Form ihrer Salze oder in Form quatemärer Ammoniumverbindungen verwendet werden,
- 3. Verfahren gemäß Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß solche carboxylgruppenfreie tertiäre Aminoverbindungen verwendet werden, die als anionbildende Atome Halogenatome enthalten.© 509 561 10.55
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DED17614A DE934508C (de) | 1954-04-23 | 1954-04-23 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DED17614A DE934508C (de) | 1954-04-23 | 1954-04-23 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
| DED19045A DE1014404B (de) | 1954-11-05 | 1954-11-05 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE934508C true DE934508C (de) | 1955-10-27 |
Family
ID=7036238
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DED17614A Expired DE934508C (de) | 1954-04-23 | 1954-04-23 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
| DED19045A Pending DE1014404B (de) | 1954-04-23 | 1954-11-05 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DED19045A Pending DE1014404B (de) | 1954-04-23 | 1954-11-05 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US2842488A (de) |
| BE (2) | BE536575A (de) |
| CH (2) | CH333941A (de) |
| DE (2) | DE934508C (de) |
| FR (2) | FR1120948A (de) |
| GB (2) | GB806403A (de) |
| NL (2) | NL92673C (de) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| NL238490A (de) * | 1958-04-26 | |||
| DE1133610B (de) * | 1959-06-06 | 1962-07-19 | Dehydag Gmbh | Saure galvanische Kupferbaeder |
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|---|---|---|---|---|
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| DE888493C (de) * | 1951-11-03 | 1953-09-03 | Hydrierwerke A G Deutsche | Verfahren zur Herstellung festhaftender und glaenzender galvanischer Kupferueberzuege |
| BE520209A (de) * | 1952-05-26 | |||
| US2663684A (en) * | 1952-06-02 | 1953-12-22 | Houdaille Hershey Corp | Method of and composition for plating copper |
-
1954
- 1954-04-23 DE DED17614A patent/DE934508C/de not_active Expired
- 1954-09-28 US US458985A patent/US2842488A/en not_active Expired - Lifetime
- 1954-11-05 DE DED19045A patent/DE1014404B/de active Pending
-
1955
- 1955-03-08 CH CH333941D patent/CH333941A/de unknown
- 1955-03-17 BE BE536575D patent/BE536575A/xx unknown
- 1955-03-18 FR FR1120948D patent/FR1120948A/fr not_active Expired
- 1955-03-30 GB GB9226/55A patent/GB806403A/en not_active Expired
- 1955-04-21 NL NL196635A patent/NL92673C/xx active
- 1955-07-21 CH CH337380D patent/CH337380A/de unknown
- 1955-08-02 FR FR68634D patent/FR68634E/fr not_active Expired
- 1955-08-27 BE BE540855D patent/BE540855A/xx unknown
- 1955-10-05 NL NL200993A patent/NL95110C/xx active
- 1955-11-02 US US544586A patent/US2905602A/en not_active Expired - Lifetime
- 1955-11-04 GB GB31541/55A patent/GB815908A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US2842488A (en) | 1958-07-08 |
| GB815908A (en) | 1959-07-01 |
| NL95110C (de) | 1960-08-15 |
| BE536575A (de) | 1959-01-30 |
| DE1014404B (de) | 1957-08-22 |
| NL92673C (de) | 1959-11-16 |
| FR68634E (fr) | 1958-05-05 |
| CH333941A (de) | 1958-11-15 |
| US2905602A (en) | 1959-09-22 |
| GB806403A (en) | 1958-12-23 |
| FR1120948A (fr) | 1956-07-17 |
| BE540855A (de) | 1959-08-14 |
| CH337380A (de) | 1959-03-31 |
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