DE934508C - Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege - Google Patents
Verfahren zur Herstellung galvanischer MetallueberzuegeInfo
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- A21D2/08—Treatment of flour or dough by adding materials thereto before or during baking by adding organic substances
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
Description
Es ist bekannt, daß die Wirkung glanzgebender Verbindungen bei der Herstellung hochglänzender
Metallüberzüge durch bestimmte anorganische Verunreinigungen in den galvanischen Bädern mehr oder
minder beeinträchtigt wird. Als solche kommen die Härtebildner des Wassers in Betracht, ferner Verunreinigungen,
wie sie in den zur Herstellung der galvanischen Bäder üblicherweise verwendeten Metallsalzen
technischer Qualität enthalten sind. Diese Verunreinigungen machen sich besonders in galvanischen
Glanzkupferbädern bemerkbar.
Es wurde nun gefunden, daß man die schädliche Wirkung dieser Verunreinigungen vermeiden kann,
wenn man den Bädern geringe Mengen von carboxylgruppenfreien, tertiären Aminoverbindungen der allgemeinen
Formel
G-R—N.
zusetzt. In dieser allgemeinen Formel bedeutet G ein zur Bildung von Anionen befähigtes Atom oder eine
entsprechende Atomgruppe, wie z. B. Halogenatome, Cyan-, Rhodan-, Nitro- oder Nitrosogrupperi, und R
einen mindestens 2 Kohlenstoffatome enthaltenden acyclischen oder cyclischen Kohlenwasserstoffrest, der
gegebenenfalls weitere Substituenten, wie z. B. Alkylreste,
Hydroxylgruppen, Halogenatome, Cyan-, Rhodan- oder Nitrogruppen usw., tragen kann. R1 und R2
bedeuten Kohlenwasserstoffreste aliphatischer, cycloaliphatischer oder aromatischer Natur, die ebenfalls
Sauerstoff, Schwefel oder Stickstoff enthaltende Substituenten aufweisen oder Unterbrechungen durch
Heteroatome oder Heteroatomgruppen besitzen können. An Stelle der beiden Reste R1 und R2 kann auch
unter Einbeziehung des Stickstoffatoms ein heterocyclisches Ringsystem treten, das ebenfalls Substituenten
tragen kann.
Verbindungen dieser Art sind beispielsweise: i-Diäthylamino-äthylchlorid-2,
i-Dioxyäthylamino-äthyl-
chlorid-2, i-Diäthylamino^-chlorpropanol-z,- i-Dioxyäthylajmno-3-chlor-propanol-2,
N-(2-chloräthyl)r N-äthyl-anihn, N-(3-chlor-2-oxypropyl)-N-methylanilin,
N-te-chlor^-oxypropylJ-N-methyl-cyclohexylamin,
N1 N - Dicyclohexyl - N - 2 - chloräthylamin, N-2-Chloräthyl-piperidin, N-2-Chloräthyl-morpholin,
N, N-Dimethyl-4-bromanilin, N, N-Dimethyl-4-chloranüin,
N, N-Diäthyl-2-chloranilin, N, N-Dimethyl-4-nitro-aniün,
N, N-Dimethyl-3-nitroanilin, Bis-(2-brömäthyl)-benzylamin,
/3-Diäthylamino-propionitril u. dgl.
Diese tertiären Aminoverbindungen können auch in Form ihrer Salze mit anorganischen oder organischen
Säuren oder in Form entsprechender quatemärer Ammoniumverbindungen angewendet werden.
Durch diese Zusätze erreicht man, daß auch bei Verunreinigungen enthaltenden Bädern die verwende-.ten
Glanzmittel über ihren gesamten wirksamen Stromdichtebereich zu einwandfreien Metallniederschlagen
mit Hochglanz führen. Ein weiterer Vorteil dieser Mittel besteht darin, daß sie die Duktilität der
galvanischen Überzüge erhöhen.
Die Mengen, in denen man die erfindungsgemäßen Mittel bzw. deren Gemische den Bädern zusetzt,
liegen zwischen etwa 0,01 und 20 g/l BadfLüssigkeit,
vorzugsweise zwischen 2 und 8 g/l. Die erforderlichen Aufwandmengen sind bei den einzelnen Substanzen
verschieden und richten sich auch nach der Natur des jeweils verwendeten Hochglanzmittels. Im allgemeinen
wird bei Temperaturen von 30 bis 60° C galvanisiert unter Anwendung von Stromdichten zwischen
0,5 und 15 Amp/dm2.
Die erfindungsgemäßen Zusätze wirken in Bädern, welche infolge der Verwendung von Gebrauchswasser,
Magnesium-, Kalzium- und aus dem technischen Kupfersulfat Eisenionen enthalten, wie nachgewiesen
werden konnte, nicht im üblichen Sinne enthärtend und können auch durch typische Enthärtungsmittel
nicht ersetzt werden. Trotzdem sind sie in der Lage, die bei der Metallisierung störenden Einflüsse dieser
Fremdionen restlos auszuschalten. Ihre Wirksamkeit läuft offenbar an der Metalloberfläche selbst ab, worauf
u. a. die zum Teil erhöhte Anwendungskonzentration dieser Stoffe hindeutet.
Die Anwendung der Mittel erfordert keine besonderen Maßnahmen; sie sind als Amine in den üblichen
sauren MetaUsalzbädern, insbesondere Kupfersalzbädern,
mit den dafür üblicherweise verwendeten Metallsalzen gut löslich und werden auch während des
Galvanisierungsbetriebes nicht zersetzt. Hinsichtlich des Temperatur- und Stromdichtebereiches erfordert
die Mitverwendung der Zusätze keine Änderung an den üblichen Zusammensetzungen.
Die erfindungsgemäßen Zusätze können in allen Glanzmittel enthaltenden galvanischen Bädern verwendet
werden, in denen die Eigenschaften der Metallüberzüge durch Verunreinigungen der beschriebenen
Art beeinträchtigt werden, also· z. B. in Zinkbädem,
Nickelbädern, Chrombädern, Edelmetallbädern, und insbesondere Kupferbädern, die Glanzmittel enthalten.
In einem mit reinen Chemikalien und destilliertem Wasser hergestellten sauren Kupferbad der Zusammensetzung
200 g/l CuSO4 (krist.) 60 g/l H2SO,
werden 0,75 g/l N, N-dipropyldithiocarbaminsäuren-butylester-cu-sulfosaures
Natrium als glanzgebendes Mittel gelöst. Galvanisiert man darin Eisenteile in
einem Stromdichtebereich zwischen 0,5 bis 8 Amp/dm2, so sind die erhaltenen Kupferniederschläge hochglänzend.
Führt man die gleichen Operationen in einem Kupferbad aus, welches mit Chemikalien technischer
Qualität unter Verwendung von Leitungswasser hergestellt wurde, zeigen die erhaltenen Niederschläge
nicht den gleichen Hochglanz.
Gibt man zu diesem Bad 2,5 g/l 2-Diäthylaminoäthylchlorid-i,
so erhält man ebenfalls' einwandfreie hochglänzende Kupferüberzüge innerhalb eines weiten
Stromdichtebereichs.
Zu den gleichen Effekten gelangt man, wenn man als Zusätze nachstehende Verbindungen verwendet:
ι bis 6 g/l N, N-Dimethyl-4-bromanilin, 2 bis 6 g/l S-Diäthylamino-i-chlor-propanol^, 2 bis 8 g/l 2-Dioxyäthylamino-äthylchlorid,
1,5 bis 7 g/l i-Dioxyäthylamino-3-chlor-propanol-2 u. dgl., wobei auch beliebige
andere Glanzmittel, die gegen Badverunreinigungen empfindlich sind, eingesetzt werden können.
Claims (3)
- PATENTANSPRÜCHE:i. Verfahren zur Herstellung glänzender galvanischer Metallüberzüge, dadurch gekennzeichnet, gg daß man den galvanischen Bädern vor oder während der Gälvanisierung neben Glanzmitteln carboxylgruppenfreie tertiäre Aminoverbindungen der allgemeinen Formel/ **-\G-R-N^zusetzt, in welcher G ein zur Bildung von Anionen befähigtes Atom oder eine entsprechende Atomgruppe, R einen zweiwertigen acyclischen oder cyclischen und R1, R2 acyclische oder cyclische Kohlenwasserstoffreste bedeuten, wobei diese Kohlenwasserstoffreste auch Heteroatome bzw. Heteroatomgruppen oder Substituenten besitzen und die Kohlenwasserstoffreste R1, R2 auch gemeinsam mit dem N-Atom ein heterocyclisches Ringsystem bilden können.
- 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die carboxylgruppenfreien tertiären Aminoverbindungen in Form ihrer Salze oder in Form quatemärer Ammoniumverbindungen verwendet werden,
- 3. Verfahren gemäß Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß solche carboxylgruppenfreie tertiäre Aminoverbindungen verwendet werden, die als anionbildende Atome Halogenatome enthalten.© 509 561 10.55
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED17614A DE934508C (de) | 1954-04-23 | 1954-04-23 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED17614A DE934508C (de) | 1954-04-23 | 1954-04-23 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
DED19045A DE1014404B (de) | 1954-11-05 | 1954-11-05 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE934508C true DE934508C (de) | 1955-10-27 |
Family
ID=7036238
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED17614A Expired DE934508C (de) | 1954-04-23 | 1954-04-23 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
DED19045A Pending DE1014404B (de) | 1954-04-23 | 1954-11-05 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED19045A Pending DE1014404B (de) | 1954-04-23 | 1954-11-05 | Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US2842488A (de) |
BE (2) | BE536575A (de) |
CH (2) | CH333941A (de) |
DE (2) | DE934508C (de) |
FR (2) | FR1120948A (de) |
GB (2) | GB806403A (de) |
NL (2) | NL92673C (de) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3006822A (en) * | 1957-05-08 | 1961-10-31 | Langbein Pfanhauser Werke Ag | Electro-deposition of nickel coatings |
NL238490A (de) * | 1958-04-26 | |||
DE1133610B (de) * | 1959-06-06 | 1962-07-19 | Dehydag Gmbh | Saure galvanische Kupferbaeder |
US3120462A (en) * | 1960-09-16 | 1964-02-04 | Trifari Krussman And Fishel In | Apparatus for recovering electroplating salts by evaporative concentration |
SE302227B (de) * | 1963-05-28 | 1968-07-08 | Candor Kemiska Ab | |
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US6793796B2 (en) | 1998-10-26 | 2004-09-21 | Novellus Systems, Inc. | Electroplating process for avoiding defects in metal features of integrated circuit devices |
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US2541700A (en) * | 1946-02-28 | 1951-02-13 | Du Pont | Electroplating copper |
DE888493C (de) * | 1951-11-03 | 1953-09-03 | Hydrierwerke A G Deutsche | Verfahren zur Herstellung festhaftender und glaenzender galvanischer Kupferueberzuege |
NL83873C (de) * | 1952-05-26 | |||
US2663684A (en) * | 1952-06-02 | 1953-12-22 | Houdaille Hershey Corp | Method of and composition for plating copper |
-
1954
- 1954-04-23 DE DED17614A patent/DE934508C/de not_active Expired
- 1954-09-28 US US458985A patent/US2842488A/en not_active Expired - Lifetime
- 1954-11-05 DE DED19045A patent/DE1014404B/de active Pending
-
1955
- 1955-03-08 CH CH333941D patent/CH333941A/de unknown
- 1955-03-17 BE BE536575D patent/BE536575A/xx unknown
- 1955-03-18 FR FR1120948D patent/FR1120948A/fr not_active Expired
- 1955-03-30 GB GB9226/55A patent/GB806403A/en not_active Expired
- 1955-04-21 NL NL196635A patent/NL92673C/xx active
- 1955-07-21 CH CH337380D patent/CH337380A/de unknown
- 1955-08-02 FR FR68634D patent/FR68634E/fr not_active Expired
- 1955-08-27 BE BE540855D patent/BE540855A/xx unknown
- 1955-10-05 NL NL200993A patent/NL95110C/xx active
- 1955-11-02 US US544586A patent/US2905602A/en not_active Expired - Lifetime
- 1955-11-04 GB GB31541/55A patent/GB815908A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1014404B (de) | 1957-08-22 |
NL95110C (de) | 1960-08-15 |
US2842488A (en) | 1958-07-08 |
CH337380A (de) | 1959-03-31 |
BE536575A (de) | 1959-01-30 |
FR1120948A (fr) | 1956-07-17 |
CH333941A (de) | 1958-11-15 |
FR68634E (fr) | 1958-05-05 |
BE540855A (de) | 1959-08-14 |
NL92673C (de) | 1959-11-16 |
US2905602A (en) | 1959-09-22 |
GB806403A (en) | 1958-12-23 |
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