DE1546116C3 - Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben - Google Patents

Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben

Info

Publication number
DE1546116C3
DE1546116C3 DE19651546116 DE1546116A DE1546116C3 DE 1546116 C3 DE1546116 C3 DE 1546116C3 DE 19651546116 DE19651546116 DE 19651546116 DE 1546116 A DE1546116 A DE 1546116A DE 1546116 C3 DE1546116 C3 DE 1546116C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
iron
copper
solution
chelate
edta
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19651546116
Other languages
English (en)
Other versions
DE1546116B2 (de
DE1546116A1 (de
Inventor
Lester William Angleton Tex. Harriman (V.St.A.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dow Chemical Co
Original Assignee
Dow Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Chemical Co filed Critical Dow Chemical Co
Publication of DE1546116A1 publication Critical patent/DE1546116A1/de
Publication of DE1546116B2 publication Critical patent/DE1546116B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1546116C3 publication Critical patent/DE1546116C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/44Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16Organic compounds
    • C11D3/26Organic compounds containing nitrogen
    • C11D3/33Amino carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/39Organic or inorganic per-compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
    • C23G1/19Iron or steel
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28GCLEANING OF INTERNAL OR EXTERNAL SURFACES OF HEAT-EXCHANGE OR HEAT-TRANSFER CONDUITS, e.g. WATER TUBES OR BOILERS
    • F28G9/00Cleaning by flushing or washing, e.g. with chemical solvents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben, bei dem diese mit einer einen Komplexbildner für Metallkationen aus der Gruppe der Amino- oder Polyaminopolyessigsäuresalze von Ammoniak, eines aliphatischen Amins, eines hydroxyaliphatischen Amins oder Gemischen aus zwei oder mehreren dieser Verbindungen und ein Oxydationsmittel enthaltenden wäßrigen alkalischen Lösung in Berührung gebracht werden.
Man ist seit langem bestrebt, auf eisenhaltigen Oberflächen, beispielsweise Stahloberflächen, niedergeschlagenes Kupfer zu entfernen, ohne dabei eine übermäßige Oxydation des Eisens selbst in Kauf nehmen zu müssen.
Dieses Problem ist besonders drängend und wirtschaftlich bedeutsam bei der Entfernung von niedergeschlagenem Kupfer auf den inneren Metalloberflächen von Dampferzeugungseinrichtungen, insbesondere von Hochdruckdampferzeugungseinrichtungen, die in Verbindung mit einem Kondensator, dessen Kondensationsoberflächen aus einer Kupferlegierung bestehen, bei einem Dampfdruck von mehr als 43 kg/cm- betrieben werden.
Beim Betrieb von Hochdruckdampferzeugungseinrichtungen, in denen das zugeführte Wasser großenteils aus im Kreislauf geführtem Kondensatwasser aus einem Kupferlegierungskondensator besteht, treten in der Regel Krustenbildungen auf den Dampferzeugungsoberflächen des Dampfgenerators auf, auch dann, wenn man praktisch reines Wasser zuführt. Die dabei entstehenden Krusten enthalten häufig Kupfer sowohl in metallischer Form als auch in mit Sauerstoff gebundener Form, das aus der Korrosion des Kupferlegierungskondensators unter der Einwirkung von kondensiertem Wasserdampf stammt, der das Kupfer in den Dampferzeuger transportiert.
Versuche, derartige Krustenbildungen zu vermeiden bzw. «ebiklete Krusten durch Anwenduni: üblicher Ansäuerungsverfahren zu entfernen, waren bisher wenig erfolgreich. Es hat sich nämlich gezeigt, daß beim Ansäuern verkrusteter Dampferzeugungsoberflächen der üblichen Hochdruckdampfgeneratoren zwar ein Teil .des in den Krusten enthaltenen Kupfers entfernt .wird, daß jedoch ein Teil des auf diese Weise entfernten Kupfers während der Ansäuerung erneut auf den Oberflächen der Dampferzeugungseinrichtung niedergeschlagen wird, so daß lediglich eine Teilentfernung des Kupfers von den krustenüberzogenen Oberflächen erzielt werden kann.
Aus der belgischen Patentschrift 635 216 ist ein Verfahren bekannt, bei dem Ammonium- und/oder Aminosalze von Polycarboxylat-Chelatbildnern für die Entfernung von Zunderablagerungen auf Metalloberflächen verwendet werden. Dieses Verfahren eignet sich jedoch zur Lösung des der vorliegenden Erfindung zugrunde liegenden Problems nicht.
Aus der USÄ.-Patentschrift 3 067 070 ist es bereits bekannt, daß Metalloberflächen von technischen Einrichtungen mit anorganischen Säuren behandelt werden können, um Zunder, Rost und andere schädliche Ablagerungen davon zu entfernen. Dieses Verfahren eignet sich jedoch aus den vorstehend genannten Gründen ebenfalls nicht zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein verbessertes Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben anzugeben, das die Nachteile der bisher bekannten Verfahren nicht aufweist und mit dessen Hilfe es möglich ist, unerwünschte Kupferablagerungen auf wirksame Weise zu entfernen, ohne eine übermäßige Oxydation der auf diese Weise behandelten eisenhaltigen Metalloberflächen in Kauf nehmen zu müssen.
Es wurde nun gefunden, daß diese Aufgabe dadurch gelöst werden kann, daß man das unerwünschte Kupfer in Gegenwart eines Oxydationsmittels, z. B. in Gegenwart von Eisen(III)-Ionen oder in Gegenwart von gelöstem Sauerstoff solubilisiert, wobei gleichzeitig diese eisenhaltige Oberfläche unter praktisch vollständiger Eliminierung der Eisenkorrosion passiviert wird.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben, bei dem diese mit einer einen Komplexbildner für Metallkationen aus der Gruppe der Amino- oder Polyaminopolyesslgsäuresalze von Ammoniak, eines aliphatischen Amins, eines hydroxyaliphatischen Amins oder Gemischen aus zwei oder mehreren dieser Verbindungen und ein Oxydationsmittel enthaltenden wäßrigen alkalischen Lösung in Berührung gebracht werden, das dadurch gekennzeichnet ist, daß eine wäßrige alkalische Lösung verwendet wird, die einen Eisen(H)- und/oder Eisen(III)-Chelatkomplex des Komplexbildners enthält und die, wenn der Komplexbildner zu 67% durch Eisen abgesättigt ist, bei einer Temperatur nicht oberhalb 60° C oder, wenn der Komplexbildner zu 91 % durch Eisen abgesättigt ist, bei einer Temperatur nicht oberhalb 76° C eingesetzt wird.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es erstmals möglich, auf technisch einfache und wirksame Weise unerwünschte Kupferablagerungen auf eisenhaltigen Metalloberflächen zu entfernen und gleichzeitig die »ereiriiute Oberfläche zu passivieren.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung wird das Wert von Eisen(III)-chelat aufrechtzuerhalten, d. h.,
Verfahren der Erfindung in der Weise durchgeführt, ein bestimmter Anteil des Eisenchelates muß in der
daß in die wäßrige alkalische Lösung während ihres Eisen(III)-Form vorliegen, hat es sich als notwendig
Einsatzes auf den Metalloberflächen Luft oder Sauer- erwiesen, ein Oxydationsmittel zu der Kupfer auf-
stoff eingeblasen wird. 5 lösenden eisen(III)-chelathaltigen Lösung zuzugeben,
Es ist wichtig, daß bei der Durchführung des so daß das bei der Oxydation des abgelagerten Kup-
erfindungsgemäßen Verfahrens die Behandlung mit fers zu Kupferionen gebildete Eisen(II)-chelat zum
der wäßrigen alkalischen Lösung unterhalb einer be- Eisen(III)-chelat zurückoxydiert wird, so daß eine
stimmten Temperatur durchgeführt wird, deren obe- fortgesetzte Oxydation und Auflösung des Kupfers
rer Grenzwert von dem Grad der Absättigung des io eintritt. Dies kann erreicht werden durch kontinuier-
Komplexbildners durch Eisen abhängt. Der Grad der liehe oder periodische Bestimmung der Kupferauf-
Absättigung des Komplexbildners (Chelatbildners) lösung und Zugabe eines Oxydationsmittels, wie
mit Eisen bestimmt nämlich die Korrosionsgeschwin- Wasserstoffperoxyd, wasserlöslichen Salzen, wie Al-
digkeit bei einer gegebenen Temperatur. Es hat sich kali- oder Ammoniumnitraten, Permanganaten, Per-
nun gezeigt, daß bei einem bestimmten Grad der Ab- 15 sulfaten oder Perchloraten, oder durch Zugabe gas-
sättigung eine Temperatur existiert, unter der prak- förmiger Oxydationsmittel, wie Stickstofftetroxyd,
tisch ein korrosiver Angriff auf eisenhaltige Materia- Sauerstoff oder Luft, vorzugsweise durch Einblasen
lien erfolgt. Deshalb muß erfindungsgemäß die Ober- in einer ausreichenden Menge, damit ein Teil des
flächenbehandlung bei einer Temperatur nicht ober- Eisenchelates in der Eisen(III)-chelatform verbleibt,
halb 60° C durchgeführt werden, wenn der Komplex- ao Unter diesen Oxydationsmitteln wird Luft bevorzugt,
bildner zu 67% durch Eisen abgesättigt ist, und sie da ein Überschuß nicht schädlich ist, hierbei der
muß bei einer Temperatur nicht oberhalb 76° C pH-Wert praktisch nicht beeinflußt wird und dabei
durchgeführt werden, wenn der Komplexbildner zu keine Fremdstoffe eingeschleppt werden. Der Anteil
91% durch Eisen abgesättigt ist. an Eisenchelat in der Eisen(III-)Form ist nicht kri-
' Es ist sehr günstig, wenn die mit Kupfer über- 25 tisch, da das Eisen(II)-chelat als Teil des Reaktions-
zogenen eisenhaltigen Oberflächen praktisch frei von kreislauf es fortschreitend zu Eisen(III)-chelat oxydiert
Eisenoxydablagerungen sind, da diese nach der wird.
Kupferentfernung zurückbleiben und Korrosions- Die bei der praktischen Durchführung des erfinzonen ergeben. Es kann günstig sein, der wäßrigen dungsgemäßen Verfahrens brauchbaren Eisen(III)-alkalischen Lösung einen Hemmstoff zur Verhinde- 3° chelate von Polycarbonsäure-Chelatbildnern werden rung der Oxydation von metallischem Eisen und zur zweckmäßig durch Umsetzung von Eisen, Eisenoxyd Verhinderung von dessen Auflösung zuzugeben, so oder -hydroxyd oder Magnetit mit einem Polycarbondaß in der Lösung freies Ammoniak, ein aliphatisches säure-Chelatbildner hergestellt, der auf einen alka-Amin, ein hydroxyaliphatisches Amin oder Mischun- lischen pH-Wert bis zu etwa 10 mit Ammoniak und/ gen aus zwei oder mehreren dieser Verbindungen ent- 35 oder einem der vorstehend angegebenen Amine oder halten sind. Weiterhin kann die Lösung ein Alkali- einem Gemisch aus Ammoniak und/oder einem Amin hydroxyd praktisch äquivalent, jedoch nicht im Über- und einem Alkalihydroxyd in den angegebenen Anschuß gegenüber Ammoniak, dem Amin oder Hy- teilen eingestellt wurde, so daß ein Durchschnitt von droxylamin, enthalten. Die Lösung kann eine so ge- nicht mehr als einer freien Carboxylgruppe je Mol ringe Menge wie nur 0,5 Gewichtsprozent enthalten, 40 Chelatbildner verbleibt und mindestens etwa die sie kann aber auch mit dem Eisenchelatsalz gesättigt Hälfte in der Ammonium- oder Aminsalzform vorwerden, liegt, mit der Maßgabe, daß durchschnittlich nicht Die bei der praktischen Ausführung der Erfindung mehr als die Hälfte in der Alkalisalzform vorliegt, verwendeten Komplex- bzw. Chelatbildner, die gege- Entsprechend werden die entsprechenden Eisen(II)-benenfalls in Kombination mit Ammonium- und 45 chelate hergestellt und, mindestens teilweise, zu der Aminsalzen der vorstehend aufgeführten Polycarbon- Eisen(III)-chelatform in der vorstehend geschilderten säurechelatbildner verwendet werden, sind Alkylen- Weise, vorteilhafterweise während des Gebrauches, polyaminopolyessigsäure (APAPA), z.B. Äthylen- oxydiert. Es ist nicht erforderlich, daß die reinen diaminotetraessigsäure (EDTA), N-2-Hydroxyäthyl- Eisen(III)- und/oder Eisen(II)-chelate verwendet weräthylendiaminotriessigsäure (NiElEDTA), N-2-Hy- 5° den. Im Gegenteil, eine technisch günstige Eisendroxyäthyliminodiessigsäure (OHEtIDA), Diäthylen- chelat-Chelatbildner-Lösung kann durch Auflösen triaminopentaessigsäure (DTPA), Alkylenaminopoly- von eisenhaltigen Ablagerungen auf Eisenoberflächen, essigsäure, beispielsweise Nitrilotriessigsäure (NTA) beispielsweise solchen von eisernen Boilerrohren mit und Mischungen davon, die nachfolgend allgemein Oxydablagerungen, durch Umsetzung mit einer wäßals Polyessigsäurechelatbildner bezeichnet werden. 55 rigen Lösung eines Polycarbonsäure-Chelatbildners, Durch die ein Eisen(III)-chelat enthaltende Lösung die mit Ammoniak und/oder einem Amin oder Miwird das Kupfermetall zu Kupferionen (Cu++ und schungen davon oder mit Ammoniak und/oder einem Cu+) oxydiert, welche mit dem dabei erhaltenen Amin und mit einem Alkalihydroxyd auf einen alka-Eisen(II)-chelat oder mit dem freien, d. h. nicht- lischen pH-Wert eingestellt worden ist, hergestellt komplexen oder nicht in Salzform vorliegenden Che- 60 werden, wobei sich ein Eisenchelat bildet, das sowohl latbildner unter Bildung eines Kupferchelates reagie- Eisen(II)- als auch Eisen(III)-chelat enthält, ren, wobei nach einer ausreichenden Reaktionszeit, Die bevorzugten Ammonium- und/oder Aminodie sich durch Analyse der Behandlungslösung be- salze, deren Eisen(III)-chelate bei dem erfindungsstimmen läßt, das abgelagerte Kupfer gelöst wird. gemäßen Verfahren verwendet werden, sind solche Beim Fortschreiten der Umsetzung wird das Eisen- 65 der Formel (ni)-chelat zu einem Eisen(II)-chelat reduziert. Diese /ττηηΓΓΗ ϊ KUCTf ϊ wrw rnnwi _rw rnnu »Reduktion« würde die Kupferauflösung fortschrei- (HOOCCH2)2N[(CH,)nNCH2COOH]m—CH2COOH, tend verlangsamen. Um jedoch einen brauchbaren worin η und m jeweils unabhängig voneinander die
5 6
Zahlen 1, 2, 3 oder 4 bedeuten, wobei bis zu zwei säure zu Chelatbildner ist bekannt und kann zur Carboxymethylgruppen durch eine ß-Hydroxyäthyl- Errechnung der Erfordernisse für die Kupferaufgruppe und eine oder mehrere der Carboxymethyl- lösung verwendet werden. Im Fall von EDTA ist gruppen durch Carboxyäthylgruppen ersetzt sein z. B. 1 Mol erforderlich, um 1 Mol Kupfer zu solvakönnen. 5 tisieren. Somit reagiert das Kupfer, wenn das abge-Da es wahrscheinlich keine zwei eisenhaltigen schiedene Kupfer zu Kupferionen oxydiert ist, mit Oberflächen gibt, welche dieselbe Menge an darauf dem als Salz oder als Eisenchelat vorliegenden freien abgeschiedenem Kupfer aufweisen, ist es vorteilhaft, Chelatbildner.
daß die kupferauflösenden, eisen(III)-chelathaltigen Der Grad oder der Prozentsatz der Sättigung der
Lösungen in der Konzentration variiert werden kön- io Eisenchelat-Chelatbildner-Lösung läßt sich durch
nen. Das stöchiometrische Verhältnis von Polycarbon- folgende Gleichung angeben:
Gewicht des als Eisenkomplex vorliegenden Chelatbildners
Gewicht des freien Chelatbildners +
Gewicht des mit Eisen als Komplex vorliegenden Chelatbildners
Der freie Chelatbildner wird analytisch nach einer Falls die Lösung zu 67 °/o oder darüber »gesättigt«
colorimetrischen oder visuellen Standardtritration mit ist, ist kein Eisenoxydationshemmstoff bei 60° C er-Strontiumchlorid bis zu einer konstanten Trübung ao forderlich. Bei 71 oder 76,5° C sollten 91°/o oder (Strontiumoxalat) bestimmt, nachdem zuerst eine mehr »abgesättigt« sein, falls kein Eisenoxydations-Probelösung filtriert worden ist. Aus dieser Analyse hemmstoff verwendet wird.
läßt sich der Gewichtsprozentsatz an nicht in Chelat- Das löslich gemachte Kupfer wird durch die BiI-
form vorliegendem Chelatbildner bestimmen. dung von Kupfer(II)-chelat stabilisiert. In stark »ge-
Das gelöste Kupfer wird analytisch mittels einer 25 sättigten« Lösungen ist das Ausziehen des Kupfers colorimetrischen oder visuellen Bestimmungsmethode begleitet von einer Verminderung an gelöstem Eisen, unter Verwendung von Diäthyldithiocarbamat-natri- so daß sich ein kolloidaler Eisen(III)-hydroxydniederumsalz wie folgt bestimmt: schlag bilden kann.
5 ml der Probelösung werden in einen Meßkolben Nachdem das abgelagerte Kupfer von den behan-
von 250 ml gegeben und mit Wasser aufgefüllt. Die 30 delten Eisenoberflächen entfernt worden ist, wird Lösung wird vermischt, und 5 ml davon werden in eine Spülung durchgeführt, beispielsweise durch Leereinen Becher überführt. 1 ml einer l°/oigen wäßrigen laufenlassen des Boilers und erneutes Füllen mit Lösung des Diäthyldithiocarbamat-natriumsalzes wird Wasser, stets unter Luftrührung,
zugegeben und mit Äthanol, das mit Benzol denatu- Dies erleichtert die Entfernung suspendierter unge-
riert ist, auf genau 200 ml verdünnt. Die Lösung wird 35 löster Feststoffe und erlaubt eine bessere Spülung, gründlich vermischt und auf einem Colorimeter ab- Schließlich wird das Spülwasser abgezogen, wobei gelesen, oder es werden häufig Proben genommen eine passivierte Oberfläche hinterbleibt. Änderungen und die vorherige Probe als Vergleichsblindwert bis der Geschwindigkeit des Leerlaufenlasseiis, Füllens zu einem konstanten visuellen Endpunkt verwendet. oder der Zeitdauer des Luftdurchblasens durch das Das gesamte gelöste Eisen und Kupfer kann durch 40 Spülwasser haben keinen Einfluß auf die Passivierung. Röntgenemissionsspektroskopie bestimmt werden. Falls die Eisenoberflächen beispielsweise von Boi-
Die optimalen Bedingungen zur Entfernung von lerrohren vollständig sauber sind, ergibt sich eine abgelagertem Kupfer von eisenhaltigen Oberflächen glänzende passive Stahloberfläche. Falls der Magnetit sind folgende: nicht vollständig entfernt wurde, bleiben schmale Be-
1. eine Temperatur von 60 bis 65,5° C, 45 zirke des Kupfers gegen Oxydation geschützt. In Be-
2. eine zu 70 bis 90 % »abgesättigte« Lösung, d. h. rührung mit Luft und Wasser entwickeln diese Fläeine, in der etwa 70 bis 90 0/0 des gesamten chen dann winzige »Hügel« von Korrosionsprodukten, Chelatbildners durch Eisen abgesättigt sind, d· h· roten Rost
3. Luft mit einer Durchschnittsgeschwindigkeit von Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele 0,3 1/Min./1 alkalischer Lösung wird 2 Stunden 5° naher erläutert.
lang, oder, falls mit niedrigerer Geschwindigkeit
gearbeitet wird, eine entsprechend längere Zeit Beispiel 1
durch die Lösung geblasen.
Eine bestimmte »abgesattigte« Losung von ammo-
Der Grad derAbsättigung bestimmt die Korrosions- 55 niakalischer EDTA wurde hergestellt durch Zugabe
geschwindigkeit bei gegebener Temperatur. Sie kann von Eisenpulver in einer zur Sättigung ausreichenden
durch Eisenoxydationshemmstoffe modifiziert werden. Menge zu einer wäßrigen 7,6gewichtsprozentigen Lö-
Bei jeder Temperatur gibt es einen Absättigungsgrad, sung von ammoniakalischer EDTA, die ursprünglich
oberhalb dessen keine weitere Korrosion stattfindet. mit Ammoniak auf einen pH-Wert von 9 eingestellt
Bei 60° C beträgt dieser Wert 85% Absättigung, wo- 60 worden war, worauf sie bei einer Reaktionstemperatur
bei im letzteren Fall etwa 0,05 Gewichtsprozent Thio- von etwa 95° C 30 Minuten lang in Gegenwart einer
äthylamin als Eisenoxydationshemmstoff vorhanden Stickstoffatmosphäre gehalten wurde, so daß das
sind. Theoretisch sollte eine Lösung, die mehr Eisen(II)-chelat von EDTA gebildet wurde. Diese
Eisen(II)-EDTA enthält, mehr Sauerstoff erfordern. Lösung wurde zur Herstellung einer Reihe von Lö-
Die Wirksamkeit der Kupferoxydation wird jedoch 65 sungen mit insgesamt 3,8% EDTA verwendet, die
gesteigert, und dieselbe Menge oder weniger Luft ist verschiedene Prozentsätze an »Absättigung« aufwei-
zur Oxydation des Kupfers in einer stärker »abgesät- sen, ζ. Β. durch Vermischen mit ammoniakalischer
tigen« Lösung erforderlich. EDTA, die mit Ammoniak auf einen pH-Wert von 9
eingestellt worden war, und mit Wasser, wobei der Prozentsatz der Absättigung wie vorstehend beschrieben bestimmt wurde.
Etwa 1,89 1 von derartigen Lösungen, von denen einige mit einem geringen Prozentsatz bis zu etwa 0,1 Gewichtsprozent eines Eisenoxydationshemmstoffes modifiziert worden waren, wurden dann in einen Simulier-Hochdruckboiler gebracht, der 23,7 bis 25,9 g/m2 abgelagertes Kupfer an der Innenoberfläche aufwies. Boilererhitzer wurden angeschlossen, um verschiedene Arbeitstemperaturen einzustellen. Bis ein Temperaturgleichgewicht erreicht war, wurde eine konstante Strömung von Stickstoff durch den Simulierboiler geführt, um eine Zirkulierung zu erreichen und Luft auszuschließen. Die Stickstoffspülung wurde dann auf Luft umgestellt, wobei ein Druckregulator und ein Ventil zum Abmessen der Luft durch eine grobe Fritte am Boden der Boilerrohre verwendet wurden. Die Zeitdauer und Geschwindigkeit der Luft-
strömung wurden bestimmt. Es wurden Lösungen für die anschließende Eisenanalyse entnommen, wobei das Gesamteisen und -kupfer durch Röntgenspektroskopie bestimmt wurden. Einer oder mehrere Stahlstreifen wurden zur Bestimmung der Korrosionswerte in die Boilerrohre gehängt. .
Zu bestimmten Zeitpunkten wurden die Stahlstreifen entnommen und zur Bestimmung der Korrosionswerte getrocknet; gleichzeitig wurden begrenzte Proben der wäßrigen Lösungen entnommen. Nach Beendigung jedes Versuches wurde das Erhitzen eingestellt, und die Lösung wurde vom Boden des Boilers abgezogen. Dann wurde destilliertes Wasser zugegeben, und die Boilerrohre wurden einige Minuten lang erneut mit Luft gespült. Das Spülwasser wurde abgezogen und die Boilerrohre entfernt und untersucht. Die Arbeitsbedingungen und die dabei erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle zusammengefaßt.
Korrosions-
Hemmstoff*)
Zusammenfassung der Werte der Temperatur insgesamt Luftdurchströmung erforderliche
Anzahl von
Kui
Durchschnitt
>fer
%
Ver
such
Vo A. EDTA,
Sättigungs
wert **)
(0C) Minuten Luftströmung
l/Min.
Minuten ***) (mm) ausgezogen
Nr. A+ThEA 82 40 9 0,074 100
1 A+ThEA 88 82 40 0,52 18 0,046 100
2 A+ThEA 89,5 82 40 0,26 19 0,074 100
3 A+ThEA 98,5 82 65 0,26 191 0,048 100
4 A+ThEA 91 60 125 0,03 156 0,069 100
5 A 83 60 180 0,03 162 0,074 100
6 ■ . A 70 60 180 0,03 162 0,061 100
7 A 67 60 210 0,03 181 0,119 100
8 A 67 60 40 0,03 21 0,119 100
9 A 85 60 40 0,26 18 0,076 100
10 A 90 82 40 0,26 22 0,069 100
11 A 91,0 71 40 0,26 23 0,063 100
12 90 0,26
*) A = handelsübliches Reaktionsprodukt von (1) NH3 oder NH3-Derivaten mit mindestens einer NH-Gruppe mit (2) einem Keton mit mindestens einem aktiven a-H-Atom, (3) einem Aldehyd und (4) einer Fettsäure, es wurde in einer Menge von 0,1 % verwendet, ThEA = Thioäthylamin, das in einer Menge von 0,05 Vo verwendet wurde.
**) Ammonikalische EDTA, pH = 9.
***) Berechnete theoretische Anzahl von Minuten bei der angegebenen Strömungsgeschwindigkeit zur Umwandlung von Eisen(II)-EDTA in Eisen(HI)-EDTA und von Kupfer in Kupferionen.
Zusammenfassung der Werte der Luftdurchströmung
(Fortsetzung)
Versuch Endkonzentration in der Lösung Vo Fe Theoretische O2-Wert« erforderlich angewandt (Vo) Korrosion
0,75 (g-Mol) (g-Mol) 422
Nr. VoCu 0,78 0,1655 0,700 217 (g/m2/Tag)
1 0,13 0,73 0,1607 0,350 212 keine
2 0,11 0,92 0,1655 0,350 34 keine
3 0,16 0,72 0,1938 0,066 80 keine
4 0,10 0,66 0,1607 0,128 122 keine
5 0,12 0,66 0,1455 0,180 122 2,4
6 0,14 0,52 0,1455 0,180 116 1,67
7 0,14 0,63 0,1797 0,218 188 0,55
8 0,22 0,81 0,1892 0,350 224 0,24
9 0,18 0,77 0,1561 0,350 185 0,98
10 0,12 0,88 0,2033 0,350 172 keine
11 0,13 0,2372 0,350 26,4
12 0,10 keine
Bei der Elementaranalyse der Lösungen 1, 2 und 3 zeigte sich, daß das Kupfer durch die EDTA komplex gebunden war. Im Fall des »hochgesättigten« Lösungsmittels (98,5%) war die Ausbildung von Eisen(III)-hydroxyd deutlich. Bei den anderen Versuchen konnte das kolloidale Sediment nur durch Differenz der Eisenanalysen der filtrierten und nichtfiltrierten Lösungen festgestellt werden.
Der Gehalt an freiem Ammoniak war nicht kritisch. Bei der Beendigung des Ansatzes 3 war beispielsweise der pH praktisch neutral.
Aus den Versuchen 9 und 10 ergibt sich die Korrosion bei 60° C, wenn die Substanz A der einzige angewandte Hemmstoff war. Aus den Werten ergibt sich, daß bei einer »Absättigung« von 67°/o eine praktisch vernachlässigbar geringe Eisenkorrosion auftrat.
Beispiel 2
Gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurden die im folgenden aufgeführten Polycarbonsäuren als Chelatbildner als zu 80°/» »abgesättigte« Lösungen bei einem pH-Wert von etwa 9,3 hergestellt. Die Lösungen, von denen jede 3,8 °/o Chelatbildner enthielt, wurden bei 6O0C zur Entfernung kupferhaltiger Ablagerungen von eisenhaltigen Oberflächen verwendet. Die Ablagerung war 0,063 mm dick. Luft wurde durch das »Lösungsmittel« mit einer Geschwindigkeit von 26 l/Μϊη.Λ während des Reinigungsprozesses geblasen. Aus den folgenden Werten ergeben sich die in jedem Fall zur Erreichung einer vollständigen Entfernung der Ablagerung von der eisenhaltigen Oberfläche erforderlichen Zeiten. Die Analysenverfahren waren die gleichen wie im Beispiel 1.
Polycarbonsäure Zeit bis zum Ent
Versuch fernen von 100 °/o
der Ablagerung
Nr. DTPA (Min.)
1 NHEDTA 7
2 NTA 20
3 Diammoniumdinatrium- 15
4 EDTA 6
Luft durch die Lösung geblasen wurde, die mit einer 0,063 mm dicken Kupferablagerung auf einer eisenhaltigen Oberfläche in Berührung stand.
Konzentration Kupferausziehung Passivierung
an EDTA
(Vo) > gut
38 gut
4 ja gut
0,5 teilweise teilweise
0,25
Bei der Konzentration von 25% wurde die Korrosion des Substrates an beanspruchten Flächen beschleunigt. ..-■:..■
Beispiel 4
Die im folgenden aufgeführten Amine erwiesen sich bei der praktischen Durchführung der Erfindung zur Einstellung des pH-Wertes auf den geeigneten Bereich wirksam, wobei sie die Salze oder Teilsalze von Polycarbonsäuren und/oder deren Teilsalzen bilden, worauf mindestens ein Teil der so gebildeten Lösung des Chelatbildners »abgesättigt« wurde, indem Eisen zur Bildung eines Eisenchelates zugegeben wurde. Diese stark »abgesättigten« Lösungen waren zur Entfernung von kupferhaltigen Anlagerungen von eisenhaltigen Oberflächen wirksam, wobei sie auf das Substrat keinen oder praktisch keinen korrosiven Einfluß hatten. Auch bei ihnen ergab sich eine passivierte Eisenoberfläche.
35
40
45
Beispiel3
Es wurde der Einfluß der EDTA-Konzentration auf das Kupferausziehen und auf die Passivierwirksamkeit des Systems untersucht, indem eine zu 80% »abgesättigte« 38%ige ammoniakalische EDTA-Lösung bei einem pH-Wert von 9,3 hergestellt wurde.
Es wurden verschiedene Verdünnungen von dieser Lösung hergestellt und bei 60° C gehalten, während
Verwendet mit folgender EDTA
Polycarbonsäure EDTA
Äthanolamin EDTA
Äthylamin EDTA
Äthylendiamin EDTA .
Diäthylentriamin EDTA
Pentaäthylenhexamin EDTA
Dimethylamin ' EDTA
Trimethylamin Äthylendiaminotetrapropion-
Äthylenimin säure
Äthanolamin N,N-Di-(j5-hydroxyäthyl)-
glycin
Tetramethylendiamin-
Äthylendiamin Ν,Ν,Ν',Ν'-tetraessigsäure
Ammoniak (2-Hydroxyäthylimino)-
diessigsäure
Ammoniak

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben, bei dem diese mit einer einen Komplexbildner für Metallkationen aus der Gruppe der Amino- oder Polyaminopolyessigsäuresalze von Ammoniak, eines aliphatischen Amins, eines hydroxyaliphatischen Amins oder Gemischen aus zwei oder mehreren dieser Verbindungen und ein Oxydationsmittel enthaltenden wäßrigen alkalischen Lösung in Berührung gebracht werden, dadurch gekennzeichnet, daß eine wäßrige alkalische Lösung verwendet wird, die einen Eisen(II)- und/oder Eisen-(Ill)-chelatkomplex des Komplexbildners enthält und die, wenn der Komplexbildner zu 67 % durch . Eisen abgesättigt ist, bei einer Temperatur nicht oberhalb 60° C oder, wenn der Komplexbildner zu 91 % durch Eisen abgesättigt ist, bei einer Temperatur nicht oberhalb 76° C eingesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in die wäßrige alkalische Lösung während ihres Einsatzes auf den Metalloberflächen Luft oder Sauerstoff eingeblasen wird.
DE19651546116 1964-08-04 1965-08-03 Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben Expired DE1546116C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US38748164A 1964-08-04 1964-08-04

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1546116A1 DE1546116A1 (de) 1970-03-26
DE1546116B2 DE1546116B2 (de) 1974-09-05
DE1546116C3 true DE1546116C3 (de) 1975-05-15

Family

ID=23530057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19651546116 Expired DE1546116C3 (de) 1964-08-04 1965-08-03 Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben

Country Status (3)

Country Link
BE (1) BE667840A (de)
DE (1) DE1546116C3 (de)
GB (1) GB1093135A (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3135153A1 (de) * 1981-09-04 1983-03-24 Bodo Dr.med. 8011 Vaterstetten Plötze "reinigungsmittel fuer schusswaffenlaeufe"
US5587025A (en) * 1995-03-22 1996-12-24 Framatome Technologies, Inc. Nuclear steam generator chemical cleaning passivation solution

Also Published As

Publication number Publication date
GB1093135A (en) 1967-11-29
BE667840A (de) 1966-02-03
DE1546116B2 (de) 1974-09-05
DE1546116A1 (de) 1970-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1264351B (de) Verfahren zur Entfernung von kupferhaltigem Eisenoxydkesselstein
DE69005726T2 (de) Verfahren zur Behandlung von Kesselspeisewasser.
DE2451274A1 (de) Verfahren zur entfernung von stickoxiden aus stickoxidhaltigen gasen
DE2518827A1 (de) Korrosionsinhibierung
DE845736C (de) Verfahren zum Phosphatieren von Metallen
DE1446383A1 (de) Zunderentfernung
DE2711056A1 (de) Verfahren zum passivieren von metallflaechen
DE1546191C3 (de) Verfahren zur Entrostung von aus Eisen und/oder Stahl bestehenden Gegenständen und Anlagen, insbesondere zur Reinigung von Kesselanlagen
EP2132361A1 (de) Verfahren zur entfernung von magnetit und kupfer enthaltenden ablagerungen aus behältern von industrie- und kraftwerksanlagen
EP0058711A1 (de) Verfahren und mittel zum passivieren von eisen-und stahloberflächen.
DE1546116C3 (de) Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben
DE1771188A1 (de) Verfahren zur Entfernung von Verkrustungen von starren Oberflaechen
DE3780078T2 (de) Korrosionsbestaendige beschichtung.
DE1517406A1 (de) Kesselsteinentfernung,Passivierung von Eisen,Metallen,sowie Verbindungen,die zum Passivieren geeignet sind
DE2240736A1 (de) Stoffzusammensetzung zur inhibierung der metallkorrosion und verfahren zu ihrer herstellung
DE2402702A1 (de) Verfahren zur phosphatierung von metallen
WO1994007803A1 (de) Entfernung von magnetitbelägen in wasserführenden systemen
DE2239581B2 (de) Lösung und Verfahren zum Aufbringen von Überzügen auf Zink oder Zinklegierungen
DE1521732C3 (de) Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben
DE2554026A1 (de) Verfahren zur hemmung der korrosion in waessrigen systemen
DE4221457C2 (de) Chemisches Schutzmittel für Warmwasserheizanlagen
CH497547A (de) Verfahren zum Reinigen und Beizen von Eisenmetalloberflächen, insbesondere von Oberflächen der Rohrleitungen von Dampferzeugern
DE2439202C3 (de) Alkalisch wäßriges Bad zum Ätzen von Aluminium und Aluminiumlegierungen
AT244116B (de) Verfahren zur Vorbehandlung von Metalloberflächen vor dem Emaillieren
DE1521732B2 (de) Verfahren zum Entfernen von Kupfer von eisenhaltigen Metalloberflächen und zum Passivieren derselben

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977