DE1522350A1 - Verfahren zur Lith-Entwicklung - Google Patents

Description

Verfahren zur Lith-Entwicklung

Die Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren zur lith-Entwicklung.

Der durch Entwickler bestimmter Zusammensetzung, sogenannte Mth-Entwiekler, erreichte sogenannte Lith-Effekt besteht in einer Entwicklung zu einer besonders steilen Gradation, die insbesondere für phototeohnieohe Zwecke wie die Herstellung von Rasterbildern erwünscht ist.

Sie Lith-Entwiekler zeichnen sich gegenüber üblichen Schwarzweiß-Entwi eklem dadurch aus, daß sie nur eine einzige Entwicklersubstanz, nämlich das Hydrochinon, enthalten, Darüber hinaus sollen sie freie Sulfitionen nur in möglichst geringer Konzentration enthalten. Hatriumsulfit oder andere Salze der schwefligen Säure dürfen nur in relativ geringen Mengen vorhanden sein. Als Oxydationsschutzmittel sind im Lith-Entwiekler üblicherweise Bisulfitadditionsverbindungen aliphatischen Aldehyde oder Ketone bzw. cycloaliphatischer Ketone vorsugg·*- wsise lormaldehydnatriumbisulfit eventuell ia Mischung mit

101

9 0 9 8 2 9/1280 BAD ORIGINAL

Neue Unterlagen (Art. ι §, _Ab8._{2 Nr}., _{Sat2 3} do₈ Änd₉ru_nflee^ _v. 4.₉. _i962l

anderen Bisulfitverbindungen enthalten· Schon geringe Mengen an zusätzlichem, freien Sulfit, z.B. 5 g Natriumsulfit pro Liter, verschlechtern merklich den Lith-Effekt. An Alkalien enthalten Lith-Bntwlekler normalerweise Alkaliborate oder -carbonate oder Mischungen von beiden; daneben die üblichen Mengen an Antischleiermitteln wie Kaliumbromid und Kalkschutzmittel wie Athylendiamintetraessigsäure oder ähnlich wirkende Komplexbildner.

Da ein Llth-Entwiekler, um den Litheffekt nicht zu verlieren keine größeren Mengen an freiem Sulfit enthalten darf, ist er damit notgedrungen sehr oxydationsanfällig. Diese Oxydationsanfälligkeit 1st insbesondere bei einer Maschinenverarbeitung störend. In der Praxis muß man bei einer Maschinenverarbeitung mit sehr hohen Mengen regenerieren. Es muß nicht nur der Teil des Entwicklers ersetzt werden, der durch *^!■ Entwicklung verbraucht ist, sondern auch ein hoher Anteil des Entwicklers, der durch die unvermeidbare luftoxydation verbraucht worden ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde die lith-Entwicklung so abzuändern, daß cie Oxydationsanfälligkeit des Entwicklers beseitigt wird» ohne den Mth-Effekt zu beeinträchtigen.

Es wurde nun gefunden, daß' eine in Bezug auf die Oxydationsempfindlichkext des Entwicklers stabile Ilth-Entwicklung durchgeführt werden kanu, wenn me;n rf as !belichtete, das

S 09 8 2*9V 1"2 SO

BAD ORIGINAL

Hydrochinon und eine Aldehyd-Bisulfit-Verbindung enthaltende photographische Material zur Entwicklung mit einem wäßrigen Bad behandelt, das einen pH-Wert zwischen 9 und 11 besitzt und das zusätzlich Kalkschutzmittel und Antischleiermittel enthält.

Pur die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens sind grundsätzlich zwei Ausführungsformen möglich.

1. Es wird ein übliches lichtempfindliches photοgraphisches Material verwendet, das mindestens eine Halogensilber-Emulsionsschicht in konventioneller Zusammensetzung ohne zusätzlichen Gehalt an Entwickler oder Aldehyd-Bisulfit-Terbindungen enthält« Dies Material wird nach der Belichtung mit einem neutralen oder sauren Torbad behandelt, das nur Hydrochinon und formaldehydnatriumbieulfit enthält. Die Hydrochinonmenge liegt vorzugsweise bei 30-60 g pro Liter· Der Gehalt an iOnaaldehydnatriumbisulfIt kann zwischen 10 und 80 g liegen, jedoch führen höhere Mengen an Formaldehydnatriumbisulfit zur Abscheidung von Hydrochinon bei geringer Temperaturerniedrigung. Torzugsweise wird man daher eine niedrigere Menge, ntt.nfl.ich. 15-30 g Formaldehydnatriumbisulfit anwenden. An Stelle von Formaldehydnatrium-Fbisulfit können auch geeignete BisulfItverbindungen anderer aliphatischer Aldehyde und Ketone eingesetzt werden.

Audi 1st et auglich, eine geringe Menge z.B. 2-5 g Natriumsulfit pro Liter an Stelle von roriaaldehydnatriuabieulfit anluwenden. Toxmaldebydnatriiusfeieulfit kann weiterhin durch *

-'- 909829/1280

BAD ORIGINAL

sauerstoffabsorbierende Substanzen ersetzt werden, die keinen weiteren photographischen Effekt haben; z.B. kann die lösung neben Hydrochinon 5-1Ö g Hydrazinsulfat enthalten. Solche lösungen, die nur hydrochinon- und saurerstoffbindende Substanzen enthalten, sind im offenen Gefäß stehend wochenlang stabil.

In diesen lösungen wird der lith-Pilm mindestens 2 Minuten behandelt. In dieser Zeit nimmt er Hydrochinon aus der Lösung auf. Eine kürzere Tauchzeit läßt weniger Hydrochinon in die Schicht eindringen, eine längere Tauchzeit ist ohne Effekt.

Der so getränkte PiIm wird dann mit einem Bad behandelt, in dem die eigentliche Lith-Entwicklung stattfindet. Dieses Bad enthält nochmals eine sauerstoffbindende Substanz, vorzugsweise Ponaaldehydnatriumbleulfit in Mengen von 60-80 g pro Liter« Es enthält weiterhin Alkali vorzugsweise in Form von Natriumborat oder Soda oder in Mischungen von beiden, so daß ein pH-Wert von 9-11 erreicht wird. Daneben kann das zweite Bad Antischleiermittel wie Kaliumbromid in Mengen von 1-3 g enthalten. Darüber hinaus wird es zur Vermeidung von Kalkniederschlägen mit den bekannten Komplexbildnern für Kalziumionen versetzt, z.B. A'thylendiamintetraessigsäure oder Hexametaphosphaten.

Die Bäder sind, im offenen Gefäß dem Einfluß dee LuftSauerstoffes ausgesetzt, über Wochen stabil. Während des Durchsatzes wird das erste Bad durch Ausschleppung verbraucht. Um es zu ⁱ

A-G 101 -4- 909829/1280

regenerieren genügt es, mit der gleichen Lösung auf Niveau aufzufüllen.

Die zweite lösung wird "beim Durchsatz durch den Entwicklungsvorgang verbraucht. Darüber hinaus wird überschüssiges Hydrochinon langsam oxydiert und führt ebenfalls zu einem Verbrauch an Pormaldehydnatriumbisulfit und Alkali. Es muß also das zweite Bad durch eine dosierte Regenerierung (da sein Niveau praktisch nicht absinkt) mit einem Regenerator versetzt werden, der gegenüber der ursprünglichen Zusammensetzung des zweiten Bades kein Bromid aber mehr Pormaldehydnatriumbisulfit und mehr Soda enthält. Die notwendigen Mengen von Regenerator sind je nach Zusammensetzung etwa 100-200 ecm pro qm.

Die Temperatur der Bäder ist vorzugsweise 20-25°C.

Die Bewegung der Pilme in den Bädern hat einen Einfluß auf das Entwicklungsergebnie. Der PiIm kann, in dem ersten Bad "bewegt werden, in"dem zweiten Bad darf er nicht bewegt werden. Die Entwicklung in dem zweiten Bad wird vorteilhafterweise so durchgeführt, daß der PiIm senkrecht steht, d.h. es sind praktisch für diese Ausführung der Lithv-Entwicklung die Rahmenmaschinen geeignet.

2. Das erfindungsgemäße Verfahren kann auch in der Weiee durchgeführt werden, daß das Hydrochinon als Entwickler und die Aldehyd- bzw. Ketonbisulfit-Verbindungen bereits von vornherein der lichtempfindlichen Schicht zugesetzt werden. *

A-G 101 -5- 909829/1280

BAD ORIGINAL

Serartige Materialien können in üblicher Weise hergestellt werden, wobei das Hydrochinon und die Bisulfitverbindung vorzugsweise der fertigen Gießlösung für die Schicht zugesetzt werden. Die Gießlösungen werden auf eine geeignete Unterlage vorzugsweise aus Polycarbonaten auf der Basis von Bls-phenylolalkanen oder Polyestern insbesondere Polyäthylenterephthalat aufgetragen. Die getrockneten Schichten sollen vorzugsweise zwischen 5 g und 20 g Hydrochinon pro m und mindestens die gleiche Gerichtenenge an

Bisulfitverbindungen pro α enthalten. Ansonsten entsprechen die lichtempfindlichen Silberhalogenid-Emulsionsschichten in ihrer Zusammensetzung den für diesen Zweck üblicherweise verwendeten Schichten. Als Silberhalogenide sind sowohl Silberchlorid als auch Silberbromid geeignet, die gegebenenfalls miteinander gemischt werden können und außerdem bis 10 f> Silberjodid enthalten können. Vorzugsweise 3ind Silber-Chloride geeignet, die Null bia 40 Mol# S⁴' " rbromid und bis zu 5 Mol# Silberjodid enthalten können.

Als Bindemittel für diese Schichten wird vorzugsweise Gelatine verwendet, die jedoch teilweise durch andere hydrophile Bindemittel ersetzt werden kann.

Die belichteten Schichten werden dann wie unter 1. beschrieben mit einem entwicklerfreien wäßrigen Band mit einem pH-Wert zwi schen 9-11 behandelt. Die weitere Verarbeitung entspricht dem unter 1 angegebenen Beispiel.

_BAD

- ^δ - 909829/1280

Beispiel 1:

LSsung 1) 60 g Hydrochinon

20 g Fomaldehydnatriumbisulfit mit HpO zu 1 Liter lösen

Regenerator zu Lösung 1: gleiche Zusammensetzung

Lösung 2) 72 g Soda, sicc
2,5 g KBr

1,2 g Äthylendiamintetraessigsäure 62 g Formaldehydnatriumbisulfit mit H₂O zu 1 Liter lösen

Regenerator zu Lösung 2: enthält 10 g Soda mehr.

Der "belichtete Lith-Film wird 2 Minuten in Lösung 1 und 2 bie 3 Minuten in Lösung 2 behandelt. In Lösung 2 wird der Film senkrecht eingehängt und nicht bewegt. Lösung 1 wird mit Lösung gleicher Zusammensetzung auf Niveau nachgefüllt, Lösung 2 wird so regeneriert, daß der Regenerator in Mengen

•χ ο

von 150 bis 200 cnr pro m PiIm eindosiert wird. Verbrauchte Lösung 2 läuft über einen Überlauf ab. Auf diese Weise konnten

ο
20 m bildmäßig belichteten Lith-Films mit praktisch konstantem Bntwicklungsergebnis durch, je 1 1 Lösung 1 und 2 entwickelt werden.

A-G 101 - 7 -

909829/1280

Beispiel 2;

Lösung 1 und 2 wurden bis zu 4 Wochen in offener Schale stehen gelassen. Jeweils nach einer Woche wurden Streifen eines photographischen Materials mit steiler Gradation auf die ein Stufenkeil aufbelichtent war in obenangegebener Weise entwickelt, nachdem das durch Verdunstung verlorene Wasser in die Schalen gegeben war. Evtl. auskristallisierte Bestandteile wurden wieder gelöst. Die löBungen 1 und 2 hatten nichts an ihrer photographischen Wirksamkeit verloren. Hingegen ist ein einteiliger Lith-Entwiekler, in offener Schale aufbewahrt, bereits nach einem Tag allein durch Luft Oxydation, ohne jede Entwicklung, zerstört.

A-G 101 . - 8 -

909829/1280

Claims (4)

Patentansprüche;

1. J Verfahren zur Lith-Entwicklung "belichteter Halogensilber-

Emusions schicht en durch Entwicklung mittels eines alkalischen im wesentlichen sulfit- und sauerstoffreien Aldehyd- oder Keton-Bisulfit-Verbindungen enthaltenden Hydrochinonentwieklers, dadurch gekennzeichnet, daß eine belichtete Hydrochinon- und Aldehyd- oder Keton-Bisulfit haltige Halogensilber-Emulsionsschlcht mittels eines wäßrigen Bades mit einem pH-Wert swirthen. 9 und 11, das außerdem Aldehyd- oder Keton-Bieulfitverbinaungen, Kalkschutzmittel und Antischleiermittel enthält, behandelt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die belichtete Silberhalogenid-Emulsionsschicht mit einem sauren oder neutralen Torbad behandelt wird, das zwischen 30 und 60 g Hydrochinon pro Liter und zwischen 10 und 80 g pro Liter einer aliphatischen Aldehyd- oder Eeton-Bisulfit-Verbindung enthält und anschließend mittels des wäßrigen Bades mit einem pH-Wert zwischen 9 und 11 entwickelt wird.

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Bisulfitverbindung das Bisulfitanlagerungsprodukt von Formaldehyd verwendet wird.

4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das ^ Ißrige Bad mit einem pH-Wert zwischen 9 und 11 Hatriumborat und/oder natriumcarbonat als Alkalien

enthält. . .

909829/1280

A-G 101 - 9 -

(Art.7§1Abs.2Nr.l üaU3(J^ - - BAD ORIGINAL