DE1496904A1 - Chromplattierungsverfahren - Google Patents

Chromplattierungsverfahren

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DE1496904A1 DE19641496904 DE1496904A DE1496904A1 DE 1496904 A1 DE1496904 A1 DE 1496904A1 DE 19641496904 DE19641496904 DE 19641496904 DE 1496904 A DE1496904 A DE 1496904A DE 1496904 A1 DE1496904 A1 DE 1496904A1
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Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Chromplattierungsverfahren und insbesondere auf ein neues Verfahren zur Verhinderung oder Unterdrückung der Entwicklung von Dämpfen aus Chromplattierungsbädern·
Es ist bekannt, daß Chromplattierungen mit Bädern durchgeführt werden können, welche Chromsäure und Sulfat (das vorzugsweise als Schwefelsäure eingeführt wird) neben anderen Bestandteilen oder Zusatzstoffen enthält, einschließlich solchen, welche die
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Plattierungseigenschaften des Bades kontrollieren oder regeln„ Typische Regulierungszusatzstoffe sind Strontiumsulfat und Kaliurasilicofluorid mit oder ohne Zusätzen von überschüssigen Strontiumionen (eingeführt in Form von SrCO», SrCrO^, usw„) oder überschüssigen Kaliumionen (eingeführt als K2CrO^, K2C^Oy, usw.), wodurch das Bad zu einem mit hoher Geschwindigkeit arbeiten· den Bad wird, das sich hinsichtlich der Katalysatoranionenselbst reguliert» -
Während der Chromplattierung aus solchen Bädern findet eine
sehr heftige Wasserstoffentwicklung an der Kathode und Sauer·* stoffentwicklung an der Anode statt. Beim Entweichen dieser Gase reissen diese beträchtliche Mengen der Chromplattierungslösung, welche Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure, Schwefelsäure und dergleichen enthält,in die Atmosphäre mit und diese Mengen sind ausreichend, um Giftwirkungen auf das an den Bädern arbeitende Personal auszuüben. Durch längere Einwirkung dieser Dämpfe auf das Personal können Entzündungen der Atmungswege, Perforation der Nasenschleimhäute oder Lungenkrebs entstehen.
Die sich bei der Chromplattierung entwickelnden Gase und die in ihnen enthaltenen Chemikalien stellen also ein ernsthaftes Pro» blera dar, insbesondere aus dem Grunde, weil sie Giftwirkungen auf das Bedienungspersonal ausüben und darüberhinaus korrodierend auf die Einrichtungen einwirken bzw., schädlich sind für andere in der Nähe befindliche Plattierungsbäder, beispielsweise solche, zum Nicke!plattieren* Hierbei ist es nämlich wichtig, daß schäd-
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liehe Bestandteile der Gase in die umgebende Atmosphäre gelangen und aus diesem Grunde auß die Entwicklung solcher Gase beschrankt oder unterdrückt werden. Es wurden schon Versuche unternommen, ua diese Nachteile zu beheben, und zwar durch Zusätze,welche,die Entwicklung von Nebeln unterdrücken, welche sich jedoch nur als teilweise erfolgreich erwiesen haben. Die meisten der bisher, bekannten Zusätze sind organische, auf die Oberfläche einwirken·, de Stoffe gewesen, welche derart wirken, daß auf der Oberfläche des Chroraplattierungsbades eine grössere Schauramasse aufgebaut wird, wodurch verhindert werden soll, daß der sich entwickelnde Wasserstoff und Sauerstoff Flüssigkeit mitreißt.. Bei fortlaufender Arbeit werden jedoch die Schauaeigenschaften dieser bekannten Zusatzstoffe geringer, hauptsächlich weil sie sich verunreinigen oder zersetzen, und zwar unter der durchgreifenden Einwirkung des Elektrolyten» Infolgedessen wird der Wert dieser Zusatzstoffe als Dunst- und Nebelunterdrfickungsmittel geringer.
Es wurde schon versucht, billige Dunat-unterdrückungsmittel zu entwickeln, welche eine lange Lebensdauer besitzen und durch die eine feststehende vorherbestimmte Schautadecke auf der Oberfläche des Plattierungsbades aufrechterhalten werden kann. Es wurde auch schon versucht, ein Dunst-unterdrÜckungsinittel zu entwickeln, das nicht nur die schädlichen korrodierenden Bestandteile des Bades bindet, sondern das auch verhindert, daß die in dem Schaum enthaltene Mis.:li.ung von Wasserstoff und Sauerstoff durch einen Lichtbogen, df-r bei Elektroplattierungsarbeiten immer auftreten kann» gezün :e uird.
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Durch die vorliegende Erfindung wird nunmehr ein neues Dunst** unterdrückungssysteia für Elektroplattierungsbäder vorgeschlagen, welches sich dadurch auszeichnet, daß auf wirtschaftliche Weise auf dem Plattierungsbad eine Schauradecke von geregelter Stärke erzeugt wird« Weitere Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung.
Die neue Stoffzusatanensetzung gemäß der Erfindung, durch die auf einem Chroraplattierungsbad eine Schaumdecke von optimaler und vorherbestimmter Stärke entwickelt und aufrechterhalten wird,' enthält eine die Hebelbildung verhindernde Menge an einer Mi» schung von sulfonierten 2-Alkylhenzintidazol und einem disulfonier* ten Alkyldiphenyloxydc
Das Chroaplattierungsverfahren gemäß der Erfindung besteht also darin,, daß die Chroaplattierung in einen Chromsäure und Sulfat enthaltenden Bad durchgeführt wird, wobei an den Elektroden bei der Durchführung des Verfahrens beträchtliche Gasmengen entwickelt werden und wobei in dea Chromsäure und Sulfat enthaltenden Bad eine die Nebelbildung unterdrückende Menge einer Mischung eines sulfonierten 2-Alkylbenzimidazols und eines disulfonierten Alkyldiphenyloxyds aufrechterhalten wird.
Typische Chrosplattierungsbäder, bei denen die Erfindung angewandt werden kann, besitzen folgende Zusammensetzungen.
909 83 3/1OSS "
BAD ORIGINAL
Bad II
Bad ΠI
Bestandteile Menge
ß/Liter
Bevorzugte
Menge
f!/Liter
Chromsäure ISO-SOO 250
SuIfationen
(z.B. aus Schwefelsäure)
1-10 2,5
Chromsäure tSO-SOO 250
Sulfationen
Cz.B, aus Schwefelsäure
0,5-S 1
Silicofluoridionen
(z,B. aus H2SiF6)
1-10 2
Chromsäure 150-500 400
Sulfationen
(z,B. aus Strontiumsulfat)
1-S 2
Silicofluoridionen
(z.B. aus H2SiF.)
2-8 5
Das neue Dunstunterdrückungs- o^Antionebelnittel geraäß der Erfindung kann ein disulfoniertes Alfcyldiphenylojiyd, beispielsweise folgernder Formel
enthalten', worin R einen'Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen, η - 0-1 und X ein Kation bezeichnet, das ausgewählt wird aus der Gruppe» bestehend aus Ifasserstoff, Ammonium u.jd Metallen^
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BAD ORIGINAL
Typische Reste R die hierbei angewendet werden können, können AlkylTeste, einschließlich Hexyl-, Octyl-, Nonyl-, Dodecyl- und Octadecylreste und vorzugsweise Octyl-, Nonyl- und Dodecyl· reste sein. Die Reste R sind vorzugsweise gleich. X kann aus Natrium, Ammonium, Wasserstoff, Kalium, Lithium, dreiwertige· Chrom, Calcium, Strontium, Barium, Magnesium, Nickel, Eisen bestehen. X kann vorzugsweise ein Alkalimetall sein, wie Natrium, KaIium9 Ammonium und Lithium.
Das sulfoniert© Alkyldiphenyloxyd liegt in den überaus sauren und stark oxydiertem Badb offenbar in Fora des Säureradikals folgender Formel vor:
Das erzeugte und verwendete sulfonierte Alkyldiphenyloxyd kann eine Mischung von Verbindungen sein, welche die angegebenen Bestandteile enthalten. In einer handelsüblichen Mischung, wie sie von dec Firma Dow Chemical Company unter den Bezeichnungen DOWFAX 2Al oder BENAX 2A1 vertrieben werden,können die SuIfonsäuregruppan anfänglich in der Orthostellung zu dem Ätherkohlenstoff substituiert sein und die Alkylkette kann anfanglich in der Radstellung zu diesem Kohlenstoffatom substituiert sein« Das Handelsprodukt kann eine Mischung von mono- und dialkylsubstituierten Produkten sein. Eine bevorzugte Stoffzusaawen-
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BAD ORIGINAL
setsung kann aus einer Mischung der disulfonierten Salze von Monododecyldiphenyloxyd und Didodecyldiphenyloxyd bestehen. Die Dinatriua- und Dikaliunsalze werden bevorsugt·
Das neue Sunstunterdrficktings- oder Antlnebe!mittel gemäß der Erfindung kann ein sulfoniertes 2-Alkylbenxitaidaxol ,beispielsweise folgender Formel Y »,,,
MO-S-Af3
enthalten, worin Ar ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Phenyl- und NaphthyIringen, wobei diese Ringe der Imidazo!*· struktur durch benachbarte Kohlenstoffatome des Ringes einverleibt sind; M ist ein Kation,ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Ammonium und Metallen; R* ist ein nicht aroma« tischer Kohlenwasserstoffrest, der mindestens 3 Kohlenstoffatome enthält; R" wird ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Alkyl, Aryl, Aralkyl, o3"sulfoniertem Alkyl, sulfonierten Aryl und sulfonierten Aralkyl; R"1 wird ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, Alkyl und Aralkyl; Y ist ein wasserlösliches Anion und a entspricht den Zahlen 0 oder 1· Die sulfonierten Benzimidazole, welche in der Z-Stellung Alkenyl-, Cycloalkyl- und Cycloalkenylsubstitumten enthalten, können zu der Bezeichnung "sulfoniertes 2-Alkyl-
's .
benzimida-iol" zusammengefaßt werden, welche in der folgenden
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. BAD ORIGINAL
Beschreibung angewendet wird·
In den sulfonierten 2-Alkylbenzimidazol kann die Gruppe Ar aus Phenyl oder Naphthyl und vorzugsweise aus Phenyl bestehen.
Das Kation M kann Wasserstoff, Ammoniak oder ein Metall sein. Vorzugsweise wird M ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Ammoniak, Natrium, Kalium, Lithium, dreiwertiges Chrom* Calciuii, Strontium, Barium, Magnesium, Nickel, Eisen und Kupfer. Vorzugsweise besteht H aus einem Alkalimetall, wie Natrium, Kalium, Ammonium und Lithium.
Die Gruppe Rf kann ein nichtaromatischer Kohlenwasserstoff sein, der mindestens 3 Kohlenstoff atome enthält· Vorzugsweise kann R1 ausgewählt werden aus der Gruppe bestehend aus Alkyl-, Cycloalkyl«, Alkenyl- und Cycloalkenylresten. R enthält vorzugsweise mindestens 8, z.B. 8 bis 18 Kohlenstoffatome. Die Gruppen R* können vorzugsweise aus n-Octyl, Isooctyl, Nonyl, Decyl, Undecyl, Tridecyl, Pentadecyl, Heptadecyl, Octadecyl, 4-Kthylcyclohexyl, Octenyl, Nonenyl, Undecenyl, Tridecenyl, Pentadecenyl, Heptadecenyl, 4-Amylcyclohexenyl, usw. bestehen.
aus
Die Gruppe Rn kann/Wasserstoff, Alkyl, Aryl, Aralkyl, g*-su1-foniertem Alkyl, sulfonierten Aryl oder sulfonierten Aralkyl bestehen« Vorzugsweise kann Rn ein cj -sulfoniertes Alkyl, sulfoniertes Aryl oder sulfoniertes Aralkyl sein und besonders zweckmSssig wird R" ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus
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BAD ORIGINAL
&»·sulfonierten niederen Alkyl (d.h. eine« weniger als etwa 6 Kohlenstoffatomen enthaltende« Alkyl)» sulfonierten Phenyl und sulfonierten Benzyl. Die in der R"-Gruppe enthaltene SuIfonatgruppe kann der Fomel MO-S- entsprechen, wobei N vorzugsweise ein Alkalinetall, wie Natriun, Kaliun, Araonit» oder Lithiun ist.
Die Gruppe Rn* kann Wasserstoff, Alkyl oder Aralkyl sein· Vorzugsweise wird ΛΙΜ ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, niederen Alkyl (d.h. einen weniger als 6 Kohlenstoffatome enthaltenden Alkyl) und Benzyl und besonders zweck* massig besteht R**' aus Benzyl,
Die Gruppe Y kann ein sich lösendes Anion, zweckmSssig ein wasserlösliches Anion sein. Vorzugsweise wird Y ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bronid, Jodid, Sulfat, Acetat, Methosulf at, Xthosulfat, Citrat und Perchlorate
Die sulfonierten 2-Alkylbenzinidazole, welche in der StoffSusannensetzung genfiß der Erfindung enthalten sein kennen, können ein quaternäres Stickstoffaton aufweisen. So kann a · sein und die Verbindung kann aus einen quaternisierten sulfonierten 2-Alkylbenzinidazol bestehen. Wenn a ■ O ist,kann die zugesetzte Verbindung kein quaternisiertes Stickstoffaton enthalten. Wenn das sulfonierte 2-Alkylbenzinidazol den Plettier ungsbad in For« einer nicht quaternisierten Verbindung zugesetzt wird, so kann diese in den sauren Bad in eine
909833/1055 tft
BAD ORIGINAL - IO -
quaternSre Verbindung übergeführt werden·
Beispiele von bevorzugten sulfonierten 2~Alkyli«idazolverbindungen, welche in dem neuen Dunstunterdrückungsaittel gealB der Erfindung angewendet werden können, sind:
A.·.· Natriuia-2-n-heptadecyl, 3-Sulfophonylbenzinidazolsulfonat, Β« Natsiuui-2-n-höptadecyl, 3-Sulfobentylbenzinidazolsulfonat.
C, Kaliu5o-2-n-octyl, 3-<*>-Sulfo-n-propylbenzieidazolsulfonat«
D, Natriuiii-i-benzyl-2-n-undecylp 3-Sulfobenzylsulfobenziaid» •zolbroaid.
E. Kaiium-1-methyl, 2-Pentadecyl, 3-Sulfophenylsulfobenzimidazolacetat,
F. Natriua-1-äthyl, 2-Nonyl, 3-u3-Sul£o-n-butylsulfobenzi«idazoläthosulfat.
G· Amoniun~2-isooctyl, 3-Sul£phenyl, Benziaidazolsuifonat·
In den Plattierungsbad liegt das sulfonierte 2-Alkylbenzieidazol offenbar in einer ionisierten Form folgender Forael vor:
I1.
Es ist einleuchtend, daß, wenn R** auch noch eine SuIfonatgruppe enthält,, diese Gruppe auch in der ionisierten OjSrFor· vor* banden sein· Die Stickstoffatone des Iaidazolringes kOnnen
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BAD ORIGINAL
in den stark sauren Plattierungsbad ebenfalls in Pom vom ionisierten quaternäre« Stickstoff vorliegen.
In der Praxis kann eine Mischung S bis 95, vorzugsweise 30 bis 9O9 beispielsweise 66 Gew«-Teile des d!sulfonierten Alkyldiphenyloxyds und 5 bis 9S9 vorzugsweise 10 bis 7O9 beispielsweise 33 Gew.-Teile des sulfonierten Benzimidaxols enthalten· Diese Verbindungen lassen sich in pulverisierter For· oder in wäßriger Lösung leicht miteinander vemisehen und sie können in dieser Porn gelagert oder als solche vor-, wendet werden· Die Lösungen können auch noch stabilisierend· Mengen eines Chromats oder Dichromats, beispielsweise in Pom des Natrium« oder Kalitntsalzes enthalten, um die Bildung von Pilzen oder Schimmel xu verhindern·
Die beiden Bestandteile der neuen« die Entwicklung von Dunst unterdrückenden Stoffxusaamensetzung gemlB der Erfindung können vor dem Zusatt tu dem Bad miteinander vermischt werde* oder sie können einzeln zugesetzt werden. Venn die Verbindungen einzeln dem Bad zugesetzt werden, so kann dies in Pom von Feststoffen oder von getrennten wäßrigen Lösungen erfolgen,
Vorzugswelse werden die Verbindungen jedoch vor dem Zusatx xu
co dem Bad miteinander vermischt. Dieses Vermischen kann durch
^ physikalisches Vermischen der festen Bestandteile erfolgen
oder indem beide Verbindungen in der gleichen vSßrigea Lösung aufgelöst werden. Diese Lösung kann etwa 1 bis 20 %, bei· spielsweiso 10 Gew.-I, des die Bildung von Dunst unterdrück·*-
BAD ORIGINAL
den Mittels enthalten. Die trocknen Verbindungen können auch niteinander vermischt und zu Pellets verpre&t werden, vor· zugsweise unter Verwendung eines Zusatzaittels wie Natrluabicarbonat«,
Es ist gefunden worden, daß, wenn nur 0,001 g/l der neuen die Dunstbildung unterdrückenden Stoffzusaanensetzung eines Chromsäurebad bei eine» Chroaplattierungsverfahren zugesetzt wird, hierdurch die Entwicklung von Dunst und Spruhnebeln wesentlich verringert wird« Obwohl diese Zusatzstoffe in ChroMsäurebädern stabil sind, zersetzen sie sich etwas und bei längerer Anwendung der Bäder werden sie aufgebraucht, und zwar entsprechend des Verbrauch des Bades· Die zunächst den Bad zugesetzte geringste Menge wird in hohe« Masse durch die jeweils angewendete Auffüllung«geschwindigkeit des Bades beherrscht· Sie wird weiterhin bestirnt durch Kostenberechnungen, durch die Stärke, des verwendeten Plattierungsstrones und durch die eigentliche Konstruktion der Plattierungsbehälter. Bäder, welche nit diese« Zusätzstoff ge«ätt der Erfindung versehen sind, bilden bei Gebrauch auf der Badoberfläche eine Schauadecke, Es ist wünschenswert, daß diese Schau«- decke stabil ist und eine gewisse«jedoch nicht zu grosso Stärke besitzt, was schädlich sein kann, wegen der in der Schauaaasse zurückgehaltenen Sauerstoff- und Wasserstoff«engen. Aus diese« Grunde wird der geoaetrische Aufbau der Plattierungsanlage die jeweilige Konzentration des Zusatzstoffes beeinflussen und daait die Stärke der Schauadecke
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BAD ORiGJNAL
bei einem bestittR&en Bauvolumen» Es ist nicht zu erwarten, daß mehr als etwa S g/l des Zusatzstoffes zu irgendwelcher Zeit in dem Bad zugegen sind. Das Bad kann etwa O9OOI bis 1,0 g/l des Zusatzstoffes enthalten« Es können naturgemäß auch grössere Mengen angewendet werden, obwohl hierdurch kein wesentlicher Vorteil erzielt wird.
Bei einer sveckmässigen Ausfiihrungsform der Erfindung kann das neue »die Erjnstbildüng unterdrückende Mittel in den Chromplattierungsbädern in einer Menge von 0,001 bis 1ö0 g/l des Bades zugegen sein, Vorzugsweise wird diese Stoffzusammensetzung in einer Menge von 0,002 bis 0,05, beispielsweise O9OOI g/l des Bades angewendet.
Es ist gefunden worden, daß die die Dunst" oder Nebelbildung unterdrückenden Eigenschaften der neuen Stoff%usamraens@tzung gemäß der Erfindung über eiae beträchtliche Zeit beibehalten bleiben. Dies kann teilweise auf die unerwartete synergistische Wirkung zwischen den beiden Konponenten der Stoffzusammensetzung zurückzufahren sein; wodurch eine in wesentlichen konstante Sehauiahöh· für eine unendlich lange Zeitdauer aufrechterhalten bleibt. Ein wesentliches Merkmal dieser Stoffzusamiaensetzung besteht darin, daß bei Vorhandensein eines erheblichen Oberschusses an. diesem Material (beispielsweise durch zufällige Oberdosierung hervorgerufen) nicht zu dem Aufbau einer wesentlich über chüssigen Schaumsenge führt*
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BAD ORIQfNAL
Der Gegenstand der Erfindung wird in den folgenden Beispielen näher erläutert, wobei die Teile sich auf das Gewicht beziehen, wenn nichts aanderes vermerkt ist. Die ersten Serien dieser Beispiele betreffen drei Vergleichsbeispiele, wobei drei Antidunstmittel verwendet wurden·
I. Dieses Mittel bestand aus der ULTRAVON WC-Mischung des Natriumsalzes von 2-n-Heptadecyl, 3-SuJ.fobenzyöbenziaidazolsulfonat·
II. Dieses Mittel bestand aus der DQWFAX 2A1-Mischung und zwar aus der Mischung von Dinatriumsalzen von Monododecyldiphenyloxyddisulfonat und Didodecyldiphenyloxyddisulfonat,
III. Dieses Mittel bestand aus einer Mischung von je 501-50% der Mittel der Beispiele I und II»
Jede dieser Stoffzusaraiaensetzungen wurde in einer Menge von 1 g/l einem Liter einer Chi'omplattierungsbadlösung folgender Zusammensetzung zugesetzt:
Bestandteil Konzentration g/l Chromsäure 225
St l£i t 1
Silicofluorid 2 Die Lösungen wurden bei einer Temperatur von etwa 45°C ait
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BAD ORiGiNAL
- is -
einer Stromstärke von 3 Amp eiektrolysiert und dann bei 45°C ohne Elektrolyse über Nacht und über das Wochende stehengelassen. Während des sich über 120 Stunden erstreckenden Versuches wurde mit den Lösungen insgesamt 20 Stunden elektrolysiert,, Während der Versuche wurde mit den Lösungen absetzend unter An· Wendung von höheren Strontdxchten von S Amp jeweils 5 Minuten lang eloktrolysiert. Die Schaummenge wusde nach diesen 5 Minutenperioden wie folgt bewertet·
0 - keineSchaumbildung
1 - sehr wenig Schaumbildung
2 - wenig Schaumbildung
3 - massig wenig Schaumbildung
4 " massige Schaumbildung
5 - nissig starke Schaumbildung
6 - starke Schaumbildung
7 - aussergewöhnliche Schaumbildung
8 * sehr aussergewöhnliehe £ichau«bildung„
16 -
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BAD ORIGINAL
Schaumentwick lung
Stunden
bei 45°C
Bad I Bad II Dad III
1 7 4 5
2,5 7 4 S
5 7 . 3 S
7,5 7 2 6
32 7 0 7
74 5 0 4
77 5 0 1
80 4 0 0
100,5 3 0 0
Eine Bewertung von 5 bis 6 wird bevorzugt. Eine Bewertung von 4 oder darunter oder 7 oder darüber ist unerwünscht« Eine Bewertung unter 3 oder von 8 ist unbefriedigend. Aus dieser Tabelle ist also ersichtlich, daß die Stoffzusammensetzung III gemäß der Erfindung eine wünschenswerte Schaumdecke von mittlerer Stfirke fiber etwa 75 Stunden lieferte, während die Stoffzusammensetzung II nur 5 Stunden lang eine befriedigend arbeitende Decke lieferte· Die Stoffzusammensetzung I ergab eine unerwünscht starke Schaumbildung unter den kontrollierten Konzentrationen dieses Versuches. Es ist besonders bemerkenswert, daß die Stoffzusammensetzung III einen Schaue von befriedigender gleichnässiger Stfirke eine lange Zeit ergab, während die Schäume, welche unter Verwendung der StoffZusammensetzungen I und II entstanden, weitgehend innerhalb der gleichen Zeitdauer variierten.
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BAD ORIGINAL
Ein weiteres Merkmal der neuen Stoffzusannensetzungen geaflß der Erfindung besteht darin, daß hierdurch ein geringerer Sulfataufbau in einem üblichen Chromierungsbad stattfindet, als es bei den bisher bekannten Dunstunterdrückuiigsraittol der Pail ist. Sulfationen bilden sich, wenn das Schaumunterdrückungsnittel in dem Plattierungsbad zersetzt wird. Da die Stoffzusammen-SQtZungen gemäß der Erfindung etwa 6 bis S saal solange wirksam ist, wie die bisher angewendeten Mittel, brauchen sie nicht so häufig zugesetzt werden und hierdurch wird weiterhin der Suifataufbau verringert.
Ei» weiteres wesentliches Merkmal der Erfindung besteht darin, daß durch die Verwendung der neuen Dunstunterdrückungsnittel die Produktionskosten verringert werden, in-den durch eine Ein-* heitsgewichtsraenge des Zusatzstoffes mehr Schaum gebildet wird, dieser sine längere Lebensdauer besitzt, er durch geringe Konzentration der Stoffzusammensetzung erzielt wird, wobei ein weitgehender Konzentrationsbereich angewendet werden kann und de? Schaum dauerhaft und von im wesentlichen konstanter Stärke Ober lange Gebrauchszeiten ist.
PATENTANSPROCHE :_ T " ι rii-n-1-Γ" ~ - T--* CT-"! '—
- 18 909833/ 1OSSr ßAD or/ginal

Claims (5)

PAtENTAMSPROCHEt
1. Chromplattierungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß dem Chromplattierungsbad eine Stoffzusamiaensetzung bestehend aus einem sulfonierten 2-Alkylbenzimidazol und einem disulfonierten Alkyldiphenyloxyd zugesetzt wird«
2· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Stoffzusammensetzung dem Bad in einer Menge von 0,001 bis 1,0 g/l zugesetzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch I0 dadurch gekennzeichnet, daß die Stoffzusammensetzung aus (a) S bis 95, vorzugsweise 30 bis 90 Teilen eines disulfonierten Alkyldiphenyloxyds der Formel
besteht, worin R eine Alkylgruppe mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen, X ein Kation ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Ifasserstoff, Ammonium und Metallen bezeichnet und η a 0 oder ist, und (b) 5 bis 95„ vorzugsweise 10 bis 70 Teilen eines sulfonierten 2-Alkylbenzimidazol der Formel
MO3S - Kx^ ^**C - R°
R"
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BAD ORIGINAL
besteht, worin Ar ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Phenyl«· und NaphthyIringen, wobei dieser Ring der Ieidazolstruktur durch benachbarte Kohlenstoffatome des Ringes einverleibt ist, M ein Kation ausgewählt aus der Gruppe von Wasserstoff, Ammoniak und Metallen, R' einennichtaroaatischen Kohlenwasserstoff mit 3 bis 18 Kohlenstoffatomen, R" ausgewählt wird aus dor Gruppe bestehend aus (P -sulfonierten! niederes Alkyl, sulfonierten» Phenyl und sulfonierten Benzyl und Rn* ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, niederem Alkyl und Benzyl und Y ein wasserlösliches Anion bezeichnet»
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das sulfonierte 2-Alkylbenzimidazol aus Natriu»~2-n-heptadecyl, 3-Sulfophenyl- bzw· 3-Sulfobenzylbenzinidazolsuifonat oder 3-t^Sulfo-n-butylbenziraidazolsulfonat besteht«,
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis S9 dadurch gekennzeichnet, daß das disulfonierte Alkyldiphenyloxyd aus einer Mischung von Dinatriunmonododecyldiphenyloxyddisulfonat und Dinatriuadidodecyidi-phenyloxyddisulfonat besteht.
Kfll
WWWQHFINCKe DIPL-INO.KtOHI *. STAEGa
909 8 3 3/1ObS
BAD ORIGINAU
DE1496904A 1963-09-24 1964-09-24 Verfahren zur Verhinderung einer Nebelbildung beim Betrieb von galvanischen Chrombadern Expired DE1496904C3 (de)

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3489662A (en) * 1966-03-28 1970-01-13 Reuven Merker Chromium plating using fume- and mist-depressant
US3432408A (en) * 1966-08-03 1969-03-11 Udylite Corp Chromium plating electrolyte and method for preventing mist therein
US10508348B2 (en) * 2017-06-15 2019-12-17 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Environmentally friendly nickel electroplating compositions and methods

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2036525A (en) * 1932-04-27 1936-04-07 Soc Of Chemical Ind Imidazole sulphonic acids useful as textile assisting agents and process of making same
US2053822A (en) * 1933-12-15 1936-09-08 Soc Of Chemical Ind Alkylated imidazoles of high molecular weight and process of making same
US2750334A (en) * 1953-01-29 1956-06-12 Udylite Res Corp Electrodeposition of chromium
US2846380A (en) * 1956-05-07 1958-08-05 Udylite Res Corp Chromium electroplating
US2854477A (en) * 1956-11-20 1958-09-30 Dow Chemical Co Method of making alkyl diphenyl ether sulfonates
US2956935A (en) * 1957-10-08 1960-10-18 Metal & Thermit Corp Chromium plating

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