DE1422921A1 - Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazoverbindungen enthaltenden Kopierschichten - Google Patents
Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazoverbindungen enthaltenden KopierschichtenInfo
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- DE1422921A1 DE1422921A1 DE19611422921 DE1422921A DE1422921A1 DE 1422921 A1 DE1422921 A1 DE 1422921A1 DE 19611422921 DE19611422921 DE 19611422921 DE 1422921 A DE1422921 A DE 1422921A DE 1422921 A1 DE1422921 A1 DE 1422921A1
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Description
Beschreibung
eur Anmeldung toh
eur Anmeldung toh
für »in Patent auf «la ,,
T«rführen «itr Uak*hrentwtck:lunß νυη Diazovorbindungen enthaltenden Kopierschichten
Sie Torll«g«nd· Erfindung betrifft «In Yerfahien sur
kehrtntwicklung von liahteepfindlich«m Schichten, dit
Ci^ xoT*rl>lnduitg«n tnthalttn und baeondtre sur Herettllung
▼Ott Uruckfor»·» für ti· l«produictlonet«ohnik gteignot
lind·
Ii w*rt9 »In T»rfar;r«ix »ur üakthrtntwioklun«
T«blÄ4unrt w ^halttndea IleatMipflAdXioü·« Solicit!·»
fUBi«lt ie· lltittr·* l«ktM«#lefajl«t isti iftt MS «ti*
iU «lad··*·** «In» TerMndun«, «II·
X 1266 SMJr.Wfr-.cr 27*7.61
enthaltenden f Umbildenden !Ehermoplas.ven ,enthält, bild- :
mäßig belichtet» die Bildfläche einer Fixierung imher«»
wirft, gegebenenfalls trocknet» die liehtempfindliche
Schicht nochmfcle belieht et und ö arm mittels eines alks-r
liseken Entwicklers di# bei der or»ten Belle&tuug nicht
rom. Lieht getroffenen Stell®« der Seskicht entfernt·
Pur das Terf shren kommen Hellt empfindliche Schichten in;
Betrachtt welche eine oder nseargrs ö-Ghinondiasidverbindungen
enthalten» wie sie is den deutnchen Patenten
865 109 und 938 233 itnö d@n deutschen Patentanmeldungen
720 Hfe/57<*ft X-16 735 JM&/W!** £ 36 749 IYa/57V»
76S T?s/5?fe» K 5S Jf S I¥s/57b* K 38 574 IVa/57d and
K 38 @S4' IYs/57d beeöhrleben elnd· BIe ö"-laphthoßhin.oa«
fttsBlcl·- C1 »2 5;-*u:lit)tteii ur «eat tr ■ mit - τ&τ sohl «denen srosat»-- ■
tiaühen f tin- oder a*hrk«rnigen H^-dro2cylfruppsii
werden
In d*r Iisht«apfirißlic-is*si Eohls^t kafladet
2)i*K0¥eff'öinduiig ste-öh ein fila^iliender
im MclsküX 3*iä*.?Bto£S eataalt, s*3· SeUuXo«*äth*r,, wie
U22921
formal oder Polyvinylbutyral· Man kann auch Gemische
Ton solchen Thermoplasten verwenden, Zweckaäflig werden
besondere die sehr hochmolekularen Typen, s.B* ein Polyvinylacetat alt einem Eurohsehnitts-iiolekulergewieht τοη
etwa 500*000 und höher bis mehr als 2.000.000 verwendet*
Man mischt den Schichten diese Stoffe in Menten von O9OI
bis 3 GewichIsteilen» vorteilhaft Ö»5 bis 1,5 Gewichteteilen je Gewichteteil verwendeter Diassover bindung zu*
Außerdem können noch Harze in dar Schicht enthalten sein·
Bevorzugt sind alkalilüsliche, in starken anoigunlachen
S&uren beständige Phenolharae vom Hovolak-Typ, wie sie.in
Karsten wLackrohetoff-Twbellen«, 2.Auflage, 1959» S.106,
angegeben sind* Es handelt sich um sogenannte epritlösliche Phenol«· oder Kreeolforaaldehydharee·
Wenn die weiter unten beschriebene Fixierung mit Hilfe
von alkalischen Lösungen, gegebenenfalls bei mäßig erhöhter Temperatur» durchgeführt wird» k&nn es außerdem vorteilhaft sein» der lichtempfindlichen Dchicht noch Salee
mehrwertiger tfetalle einzuverleiben» benonders v^enn in
der V.else gearbeitet wild» daß aus den Nephlhochinon-(1,2)-dlazidvertindungen durch nur eine teilweise» vorjBUßeveiee halbseitif.e» Ausbeüchtung o-Oxy azo farbstoffe
entstehen· Dioee mehr\vorti(,en lÄetellsalEe können mit den
o-Üatyazofiirbßtoffen unter Bildung oirteo Komplexes
und damit zur Verfestigung des Bildes bei-
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tragen. Brauchbare Salze sind s»B· Kupfer-tl-chloriä,
Kickelohlorid« ftlnkchlorld« Aluminium- und Eiasu-III-Chloridt
sie werden in Mengen von etwa 0,01 bis 0*75
Gewichtsteilen je Gewichtstell lichtempfindlicher Sub«
atan« den Schichten einverleibt«
Sie lichtempfindlichen Schichten worden auf «in« für
DruckEweckc geeignete Unterlag«« wie Papier, kunststoff*
kaschiertes Papier oder Kunststoff« s»E. Cellulosehydrat,
Celluloseacetat« Polyterephthalsäureglykoleeter« eynth·
Polyamid oder lietalle» wie Aluminium« Elsen« Kupfer«
Magnesium, Zink« in relativ dünner gleiehaä&lger Schicht
aufgebracht! man erhält dabei ein Material« das man der
Umkehrentwicklung unterwerfen kann·
Hierzu wird zunächst mit einer geeigneten kräftigen Licht« quelle bildmüßig belichtet« s*B* in Kontakt alt einer
Vorlage·
Dann wird eine Behandlung durchgeführt« die sur Vereinfachung
Fixierung oder fixlerungsbehandlung genannt wird·
Der Zweck dieser Fixierung ist die τοπ Licht getroffene
Schichtfläche ao au verändern» daB sie gegen di« ia
Verlaufe der Umkehrentwicklung später angewandten verduaatea
ftlkalisohen Sntwlcklerlusungen uneepfinalich let·
Diese fixierung kann man einmal »o durchführen« daß das
belichtete Material für eine bestimmte Zelt mit einer .
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dafür geeigneten alkalischen Lösung behandelt wird· Je
nach dem verwendeten Alkali wird *weckmä3igerv?eise die
Temperatur und die Behandlungsweise variiert· Verwendet man *·Β. ein verdünntes wäßriges Ätaalkali» s.B« eine
LSsung» welche iss Liter 1 * 10, vorzugsweise 2,5 - 5
Gewichtetelle Kaiium-f »atrium- oder Llthiumhydroxyd enthält» 00 kann bei Bauart; e*peratur (18 - 22°) innerhalb von
f ο 1Of vorzugsweise 3 - 5 Minuten die belichtete Schichtfläche ausreichend fixiert worden· Anstelle dieser ätzalkaliechen Lösungen können bei Baumtemperatur auch andere
stark alkalisch reagierende Stoffe» wie Gemische aus 55 - 60 Gewichtsteilen Hatriuametesilik&t
und 35 * 37 Gewichtetelle Trinatriumphosphat (Ka,PG.„12
im üiter angewendet werden· Verwendet »an ochwächer alkalisch
reagierende Stoffe» die bei Sauateaperatur noch keine auereichende fixierungswirkttng »eigen» a.B. wäßrige Lösungen
von sekundären bsw« tertiärem Retrlumphosphat» bei erhöhter
leaiperatur» etwa 30 bis 100°, so kann man auch mit Lesungen
solcher Salso die belichtet« Sohiehtfläehe ausreichend
fixieren» e.B. kann man wäßrig-alkalische Lösungen, die
25 - 70Gewichtsteile« vorzugsweise 25 - 50 Gewichtsteile
sekundäres latriua.hoephat (Ka2H.PO+.12 HgO) oder 20 - 60
Oewichtsteile, vorsugsweise 30 - 50 Gewichtstelle TrI*
natriuaphoerhat (Ha.PO^.12 S2O) - in diese» Palle aller«·
BAD
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dings nur bis etwa 25 - 30° — oder 1 ·* 6 $t vorzugsweise
2,5 - 5' $ Hatrlusjoarhünat oder Natriumbißarbonat enthalten»
v«r enden, Die Behändlungedauer im alkalischen Bad 1st«
well tesaperßturßbhangig» unterschiedlich und liegt im
Bereich von etwa 10 Sekunden bis 5 Minuten· Zur Herstellung.
dee UmkehrbildeB kann man die lichtempfindliche Schicht
entweder völlig ausbelieilten* d».h· an den voa Llont getroffenen
Stellen die Dlazoverfclndung vollständig In das
Llohtzersetsungaprodukt überfuhren« oder man kann auch nur
teilweisefvorsugeweis© zur Hälfte der Auabeliehtungsseit
belichten· In letsteresa Fall bilden eich durch die Be-*
handlung mit Alkall an den yohi Mcht getroffenen Stellen
aus den noch vorhandenen nicht belichteten Anteilen der.
lichtempfindlichen Verbindung und den LichtsereetBungsprodukten
die sogenannten Belichtungafarbatoffe, wie si·
In Liebig1a Annalen, 3b6t S· 65» 35 (1944) beschrieben sind*
Babel wird ein gefärbt®» negatives Bild der positiven Torlage sichtbar· Räch der Fixierungsbehandiung, wird die
überschuesige Entwicklerlöeung mit fließendem Wasoer ab—
gespült und anschließend bei 80 - 100° getrocknet. Weiterhin kann man anstelle der alkalischen Lösungen euch
Wasser bei erhöhter Temperatur cum Fixieren verwenden« Zu
dleseia 2v»eck bringt man die belichtete Schicht etwa
1 bis etwa 60 Minuten, vorzugsweise 5 bis 30 Minuten· in
BAD 0RlGih4AL
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heißes Wasser von 80 « 10ü°f vorzugsweise nahezu siedendes
Wasser· Beim Herausnehmen des Mat rials sue dem heißen
Wasser wird im allgemeinen des wenige noch anhaftende Was·*
aer τοη selbst verdampfen; andernfalls kann men auch beeonde,s trocknen.
Hierauf wird Im allgemeinen ohne Verwendung einer Torlage
noch einmal« und zwar vollstandig eusbellchtet· Babel
werd9o. die bisher vom Licht nicht getroffenen Stellen aer
Schicht so r rändert» daß sie durch übliche Behandlung alt
einem wäSrig~alkallschen Entwickler» z.B· durch Über*
wischen mit einen Wattebausch* PlUschtampon oder Celluloseschwamia, entfernt werden können* Babel werden also nur
diejenigen Stellen der Schicht entfernt» welche bei der ersten blldmäSigen Belichtung nicht vom Licht getroffen
wurden» während die anfänglich belichteten Stellen Infolge
der Fixierungebehandlung auf dem Trägerna t erial bleiben«.
Man orhält somit ein UmIc ehr bild Sei ursprünglichen Vorlege.
Als alkalische Entwickler können dafür solche Anwendung
finden» wie sie s*B· zur Entwicklung von Offeet-Druckfolien Im Handel sind* (geeignete Entwickler sind auoh dl·
welter oben genannten alkalisch wirkenden Substanzen·
Jedoch werden diese vor rug«· eise In stärkerer Verdlini.ong
angewendet·
BAD ORIGINAL
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Während die bekannten Diazotypieschichten entweder «in
Positiv oder ein Negativ der verwendeten Vorlege ergeben»
wird durch das erfindangägeaäße Verfahren ein Weg eröffnet,
mit ein r Schicht sowohl Positive ale euch Megative einer
Torlage herausteilen· Das ist besonders deshalb vorteil«·
haft« weil die o-Chinondiaaidverbindungen, wie sie oben
beschrieben wurden« sich durch eine sehr gute Lagerfähig·»
keit auszeichnen« und man mit ihnen Druckformen herstellen
kenn« die hohe Auflagen ergeben« Die o-Chinondiesld·
ergeben bei der Üblichen Verfahrensweise positiv· Kopien
der Vorlage· Hit dem vorlle enden Verfahren können die
Überlegenen Eigenschaften dieser normalerweise positiv arbeitenden Schicht auch für die Herstellung von negativen Kopien einer Vorlage angewendet werden· Di· lichtempfindlichen Schichten sind* s*B· auf Metallunterlagen aufgebracht, eur Herstellung von Druckplatten für
den Hoch-« Tief-, Flach- und Offsetdruck geeignet· Dabei haben sie den Vorteil» daß sie vor dem At«en nicht
nochaale erhitst ("eingebrannt") «erden müssen«
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KALLE AKTrENGSSELLSGHAFT ..- doi
' q .., 14 2 2 3 Z ι
Ε 1264 SB-Br.Wfr*s?r 27·7·61 . ."-.H.
Bei8T>lel It "■'·-'" - -"■·■■ ■ ■■:'-·- ■-·- - " ■--■ ■ ■ '- -- ■ -Man
löet t»5 Hewtchteteile Polyvißylaeetat alt einem Mole·
kiäargewiöiit το» *t<ra 2.000*000 («SiowIXIth* ^ 90) und
10
monoäthylätherf gil>'t ttnter koe&aisQhem EUäiert 5 Gewichtsteile
2f3V4~Ir£öxy~bei^o^
C2)-4· 1»SCTF· 5-imlfbiisäiir«e8t€fr «adf Gf5 fifewiciitstoiie""der
Parbötoffee Siläanblau ΪΓ ^Coloif Ißdöx* SolVöKt lisie 35v
VoI* IIt S. 2&ifc5) oder 0s5öe«i<äiteteilis Sudsnrot G
(Color Index, SolTant IEtA tt Τοϊ^ IIf sV 2895t Cotor
Index 12 15Ö| ÜiniiU» ^eeehiciitet *it :det fXitM^ten
«ine sauber*V ©ntfeffete» polierte Zinkpiatte unid ■
i ilk liöiitempfiiialicöö :Schitot! mtt:"J-iainnl-ttftϊ 2ür :"
Heratellutig «iöer iru^ifoik^fUir^ain 'Buöh- 'feew^^öituttgs^ ■ "
drisiGk 'eatW 'te^^ttdun^ ''»i^Ulii piio^^rafjiliäöcitÄri :8«ig^tiira;:;---: ■·*·
wirö mittelB ^#iiioir 'ü'taäncUifliefet<|ueileimMfeütet*· "£2Bi- '■ ■ *'
«in·· JUistaiiö^forlsge^'licaf^nV1^^'«^^^
et»* 2f5 Minuten lang« Die belichtete Zink)latte wird in
ein· »äßrig-alkalisch* Satwicklerlösungt weleMe im Liter
5 ßswicht&telle iatriuralyrdroxyd oder 60 Sewlohtateil«
Jfatriumaetaiiilifcat (Me2SiO,^ 1^0} und J? öefrichtytcil«
Srimtt iiLapfeo»ph«t (Ia,PO.»12 H^0} ©der ein G«taiach aus
gl«ich«n Toluatalisa der beiden Entwioklerlöiungea enthält«
BAD
809902/0664 -: ■ : % ■''■''>x
KA UEA KTl E N GES E LISCH A FT.'-, A JiUA!
40 η- Η2292Ί
gelegt und etwa 1, Minute darin belassen. Anschließend
wird .mit fließendem Wassei gründlich gespült und mit Warm- '
luft gut getrocknet· Huri wird ohne Vorlage ein zweites
Mal und awar völlig auebelieiitet» Anschließend wird siit
der obengenannten wäSrig-^alkalischen Kntwicklerlösung aait
Hilfe eines doj&it angefeuchteten Wattebausches behandelt,
wobei nur diejenigen 3chieatanteiIe entfernt irerden» die
bei der ersten bildmäßig©!* Belichtung nicht vom iiöht" getroffen wurclen· Man erhält ein Uakehrbild· Arbeitet man mit
der.gleichen liehteapfindltchea Schicht, aber ohne den
Zu sat εvgn. Poly vlnylac^tat» so erhält man kein ümkenrbild»
eondern ein.Kegajtiv. bei Verwendung einer negativen photoen.
Vorlage» obwohl sonst die gleichen Arbeite—
angewimdt werden* Zur Herstellung dea Zink—
Klisöheeewird, oline vor dem Ätsen mit verdünnter Salpetersäurjß
einbrennen su müösen, entweder nach dem Üblichen
,lieiirs^ttfenveriiöhren oder »ach de%apdernea Arbeitsweise
dßx.-JSMstuf^iijätze. entsprechend tief göätat©
Anstelle von 3 Gewiektsteilen 2t3»4-Trioxybenaophenonnaphthochinon-Cif2)«dia2id-(2)-4"*
baw· 5-ßulfonsäureester
kann man mit gleichartigem Ergebnis die gleichen Gewichts—
raphis
oder voa t VLoI
BAD ORIGINAL
ΛΑ
methan mit 2 Mol eines Disssonai htholaulf onylchlorids
(Naphthochinone 1,2 )-4·- bzw· 5-aulfonylchlorid) verwenden.
Anstelle einer Zinkplatte kann mit gleichartige» Ergebnis
eine ζ·Β· oberflächlich angerauhte Aluminiumplatte oder
eine Kupferplatte verwendet «erden«
ilan arbeitet «le in Beispiel 1 beschrieben« verwendet
aber anstelle der dort benutzten Entwicklerlösung bei
18 - 22° eine Lösung, welche im Liter 50 Gewichtstell·
sekundäres Hatriumphosphat (Ha2HPOj «12 H2O) oder 2,5
Oewiehtoteil« Natriumcarbonat enthält« bei mäßig erhöhter
Temperatur (etwa 60°)« Verwendet man anstelle von sekundärem Natriumphoaphat eine etwa gleich konzentrierte
Lösung von Trinatriumphoephat» so erhält man ein
bild« wenn die Temperatur dee wäßrig-alkalischen Bades nicht hUher ale bis 25° ansteigt. Man erhält ein Itakehr*
bild« welches als Druckform für den Hoch- und Buchdruck verwendet wird·
1,0 bis 1,5 ftewlchtsteile Polyvinylacetat (
&AD ORIGINAL 8 0 9902/0664
KALLE
I 1266 8£~3>r#ffr~cr 27·7.61 f
und gibt unter »eehaniechem Eühren 1,5 Gewicht stell·
2 * 3 f 4*teiojqrben«ophenon-napbt hochinon-( 1 * 2 )-diacid-( 2)-5~
aulfensäureester» t»5 Oewichtsttlle 2,:5t4-TrlöxybenjEO- „.
phenon-naphthochinoß-( t »2 }-diaeid~( 2 )-5-eulfoneäurt-tsie-
^Bter und 0,5 öewiohteteile de· Färbetυ£Γ«β Sudnnblau ZI
hineu, filtriert die Lösung und beschichtet daalt «in«
angerauhte Aluminiumfolie und trocknet mX% lärmluft»
Anschließend wird mit er einem photogrephieehea Megatir
•o lange belichtet, &a8 nur die Hälfte der Diatorerbindung in Ihr Lichtmereetzungaprodulct uagewandelt wird·
Zar Bildung de« Bellchtungefarbitoffee wird da· Met χIaI
in eine wäSrig-alkalieche Entwioklerlöeun«, welche «in
Gemisch au· Satriuametasillkat und Xrlnatriumphosphat
daretellt (vgl»Bei»piel 1), gelegt und eo lange darin
liegen geleuieen (etwa 1 Minute), bie da· Belichtungefarbetoffbild deutlich zu erkennen let und keine weitere
farbvertiefung erfährt· Hit fließende· laeeer wird die
Ubereehüeeige Bntwicklerlösung abgeepült und die Platte
Kit Warmluft getrocknet» Ohne eine Torlage *u Tarnenden,
wird nun völlig ausbelichtet (etwa 5 Minuten)» anschließend
mit einer $£lgen Trinatriumphoaphatlösung (Hn5PO.*12 iUO)
alt Hilfe eines damit gefeuchteten Wattebausches behandelt«
wobei nur diejenigen Schichtanteile entfernt werden* welche
keinen Belichtungfarbstoff enthalten· Man erhält ein
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UaJcthrbild. Arbeitst maß mit de* gleiche» lichteapfindlictien Schloht, jedoch ohne &%n Zusatz τοπ hochmolekulare» Polyvinylacetat ("Mowilith" *B* 90)f so erhält m&
unter Einhaltung genau der gleichen Arbeitsbedingungen
kein Ü*keiarbildt sondern bei Anwendung einer negativen
photograph!sehen Vorlage ein negatives Bild» Btt» erhalten« üaücehrbild auf der Aluminiumfolie wird wie üblich
mit fettfttxb« und fixieruo«»löeunÄ eingefärbt und
dient al» Druckform für den ?l»ch- und Offsetdruek*
Anstelle Ton 1f5 Öewichtateil&n 2>5,4-Trioxyti»n*opiienonn*phthochinon-(1,2)-diasld-(2)-4- bsw« 5-flulfonsäurteiter
und 1#5 Gewichts teilen 2,394~lrtQ*ybenaopß6ii©tt-n*phtflO-chinon-(i,2)-di**ld-.(2)-4- bsi». 5-sulfone*ui>e»bia-eeter
kenn tu «it gleiehartige» ürgebBi· 5 &ewientsteile des
londensmtioneproduktte von f Mol 2,4»2t t4'-2etr»oxy-6t6t-
#i»etAylÄ*iplwnyl«etiuei «nt a Sol «ines
Mam arbeit^^ Λ* Ia Beiepiel 5 beeohriebeot *%n»en*et ab«r
SAstelle der 4art benutateii Bn%wi*kl*rie»un« IwI IS -22*
•In« läeua*·, weloae is Mter SO ee«i«iitatftlle
«stkftlt« bei mälif
BAD ORIGINAL
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V
U22921
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erhöhter Temperatur (etwa 70°). Man erhält ein Umkehrbild»
welches äle Druckform für den Fleck« und Offsetdruck--,
wendet «erden kann· "" ". ■""_-*. -"■".,- r.-.-\h -^-.-.^
5i
Xn 100 Tolumteilen Äthyleaglykolmonoäthylätier löet man^ 1f5
ö*wichtat©ile aochaolskulares Polyvinylacetat
C "Mewllith* &} 90)» 10 S0wi©iitat*lle «ine» s-Kreaoiirolaka
(»Ataoröl·- ^-- 429 &)
Südanblaa XI uai 5 Öewi©htst#tle
5-eulfoneäure#ster bingm#" filtriert die Lözang und fet- .;-da
silt ein* glatt polistrte kupfer platt«. Sat ar
wird enechli*Sena liisr ao lang· baliohtet
(etwa sm'mkt%*} t wi#'Siay 'Herstellung --See Bei ichVaagäiduroh,
Kuppl^i^ notwendig Ists ^
dt· Kupi«rplatt· Iß «in·
g«Mf Beiipiel 1 «elegt uiiä so
li©g«n islassen, lit die Biläung d
oπ·κ ist and
t' «iaut») *
wird dt* Ul»trc£&it09ig«<
E3£tiriskl©rlöeuaÄ:^riJ:i4äli8li: aiii -»
' W«e**r *fe esplilt und ώt* TIa^t# atit Wnraluf t
» OJaa*' «i^* Torlmge *^' verwinden, wird
Yölli« «mtlteIiaÄtett i^cfcIitSeaA alt
KALLE
. Unsere Zeichen Tag Blatt
j 1266 SP-Br ,WfT-Cr 27·7·61 f%
beschriebenen wüßrig-alkaliechen Entwicklerlüaung mit
Hilf· «In·· drimlt gefeuchteten Wattebausches behandelt,
«ob·! nur diejenigen ßchichtanteil· entfernt werden, welch· keinen Belichtung^farbstoff enthalten« Man erhält
»In Uakehrbild·
Arbeitet »an alt der gleichen lichtempfindlichen Schicht,
jedoch ohne den Zus&ts extrem hochmolekularen !Polyvinyl·
acetatet eo erhält nan unter Einhaltung der gleichen Arbeit aweie· kein Uakchrbild, sondern ein positives Bild·
Di· bilflmäflig freigelegt· Kupferfläche wird nun bei
20 bis 22° alt einer Eisen-III-chloridlöeung von 40° 24
enteprtchend tief geätst* Man erhält «Ine Druckform für
den Tiefdruck. Anstelle tog «Kovillth" (B) 90 kann euch
"Mowilith* (*) 70 (Molgewicht etwa t.QQO.QGG) rer«end*t
werden·
Anstelle ran 3 Ctewlehtetellen 2»5#4-Trioxybenf5ophenonnaphthochinon-(1,2)-diezid-(2)-4- bvn· 5-eulfensäureester kann man alt gleichartigem Ergebnis 3 Gewichtsteile
des Kondensationeproduktee von 1 Hol 2f2'-Dioxydipheriyl
und 1 Mol eines Haphthochinon-(1,2)-diazi(l-(2)-4- b«w,
5-sulfonylchlorid oder 1 Mol 1«2-Bihydroxy&nthraQhinon
und 1 Mol eineQ Haphthochinon-(1f2)-dioziä-(2)~4- bsw«
5-eulfonylciilorid verwenden.
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JiUtoTatHöhtet» «uclilledenä mit einer i£ig*n Hatro&laugo mit
HUi ö ·1ηββ dsalt g«tvihikt«A Wattebausches fcelsösaa*lts wob«!
a«r diejenige» S^.hir-^tanteile «atfernt w®riea» welche )E8iß*
Belichtsuigafarbetoff ^r-UmIten« Man si'jaält «In oiagekehrtee
Bild. Arbeitet aum mit ds^r gleichen iiohtü,'?.r-fi^"a.iciien
Sehichtf jedvch w^* dem Zusst« von extrem
PolyrinyXac*tat» βο erh.Ut sum unter d&n ßlwichen
bedingungejc ic»In Uaücelu-Kild,, soridern bei ferwitiiduiig einer
negativem photogjraphlschen Vorlage «In negative» Bild*
Di« biiai^flig freißelaßte Kupferflächß wird bei 28 %i#
22° alt filier Eis»nnitratlÖ£3ung» welch· 160
-)-.ί H2O la 100 VoXuatöilen Wses's? festhält,,
ät»t# ItR erhälü eine rry.ckfcrai für dta PlaeSi- und 01Taot«
druck, Anstelle r . Älumi?i.lUÄ-Kupf'jr kann sil.t gleich gut·»
Srgtbni* ä-ii-« Biaefcallfoliö eue Stahl-iCupfar
1-Äiepiel 5 genannten
kann «an mit gleichartiges
3 $#^iahtst«llf des londiitiaationsproäuÄtes mm \ Hol
Mol Saphthoöiiiiio
öder 1 Mol Phlorcgluola imd f MsI
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Unsere Zeichen Tog BioSt
9Wf277^1
San arbeitet wi@ in Bsiapisl 5 bgeobriebeti» o«ts& aber xiar
sii and ^erw@ni@t außerdem söfitell© des?- JSnjpf erplatt®
fö3?lag!ä wird sisf Herstellung äs® B@!SsfeiiiS!g©fSi5I=*
stoffes HKS1 et®a &ur ü g
m#t?;©ßt!£g©a B$ll^iti2fögsäau®3r-belichtet ο
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un& m®£ ®© lange iariß
farbetdff C®twm 1 Jüäsott®) 4entlieh
un& m®£ ®© lange iariß
farbetdff C®twm 1 Jüäsott®) 4entlieh
die Platt© mit flisß©ndi@ii Wasser gründlich
ssai mit Warmluft gQtro«i£ß«st«. ölme ein© Vorlage zu
i7$nS@Bf wird 2II2Ü völlig auebelisätet^ ansohlieSasiä sit
eines? etwa 0e5^Ig@n Halronlange isit Hilf® @1
l)eliaiid®ltt w#bel nur diej#nig©m B^liie&ta^e
werden, wai@fe© keinen mit Kupfer fsrlsektea
lieht^xngstsii^BtQff ®r*tliöXt©a* Man ©yfeält ein
man aiist-ll© des Diapositivs eine negative
Verleg© usid arbcrit@t man sff£Muisg»g«aäS
in aier W©la©t daß dureia halbe AuabelleAtung der B®«? . -
BAD ORIGINAL
809902/0664 ■
lieh tungs£»rbst off gebildet werden kann, eo erhält sum
gleichfalls «In Qskehibild* Arbeitet man mit der gleichen
lichtempfindlichen löuung, jedoch oha« öen. Sui»at» von
* χ tr tat hochmolekularem Poly vin^'laoe tat» wo erhält maa
unter Einhaltung ä«r gleichen Arbeit»bedingungen kftla Iftakehrbild»
»ondem das der Vorlage entsprechend* Bild* Di«
bildmäßig freigelegte Öhromflliahe wird mittels eines Semiechte»
bestehend sue Calciumchlorid, C-lycerin. und SaXs*
säure« «·Β* nach ^er Arbcitevmiee des «uaerlkoiieühen 3?a-2»$8?«?4§
weggeät«tf wobei die unter <i*r Ohrosi"-befindliche
XiapierflEehe niöht anggßriff<stß wird*
M(s& orhfilt eine Druckform für den 1 iaoi1- und Of fett druck,
bei der di« üaruckeleciente aas Kupfer b* 9 ta hen,
die nicht druckende Fläche aueOhrom besteht·
San arbeitet naoh der in Beispiel β beschriebenen Arbeiteweise*
seiet «bei zur lichteapfindllchan Lönimg noch etwa
0t5 Oewlchtetei!« IflckelChlorid oder etwa 0,5 Gewichteteile
Sinjcöhlorid ku und ?er, smöot eis Schichttriigor ein«
Kupferfolie von etwa 30 bis 70 Ai Dicke* welche auf eine
den elektriBchen Strom üieht leitende Kunotetoffolie
kaschiert ist· Baci, ^i-- Belichtung unter einem photogr«phieohen
Megatiir, weleh» n-r Bildung des
BAD
80 9-9 02/066A
\kll34 i
HO
\ 126S SB-Ir #Wf3WJr 27«7«S
durch Behandlung mit vft&rig"«lltelie«iieA
eusreiaht» wird der ÜfeereehuS der Lösung mit
fließendem Waeees? gründlich gespült und mit Wsmluft getroekaet«
Ohne eine forXage jsu verwead@t» wirä nun.
etc'adig auBb«licht«t» anachließe:id mit einer atwa
Ißtroolauge mit Hilfe eines äasiit gefeuehtet*»
%F"Aisc!h«fi behend el t Φ fvo bei nur diejenigen
entfernt werden» walehe keinen mit Hiekel ©ösr'! Zink ver«
lackten BelichtungefiTbatoff enthalten«. Man #rMIt ein
üak ehr bild (Positiv)· Arbeitet m& mit eier gleichen
lleht<mp£i&cllie&$n liileuagf ^eüoeh ©tee d«sa Sussat« iron
•xtr«m hocfc.raol okular eta Poly^Isiy lachet at 5 β© erhält
BinhaXtung der gleichen ^rbeitsbtdingungen
emidera &&b entepreeheM^ negative Bild*
freigelegte Kupfer fläche wird bei Bauart «apere tür
mit einer ll8eß**III«-QhlorldlÖsung τ©η 40@ Bl weggeätzt·
Äaa erhält iine Mkopiert* Schal tuag« fO? dl« ©1 eic tr Ia ehe
Stromfüte'iuig· Anstelle einer den elektrischen Stio»
aicht leit^siäen' Eunst st off platt® kanu eiae transparente
oder mattiert® Kuastsieftelie* 4ie Öiiröh Metallb®·
daatpfung im Vakuum siit ai^em Metgllsplegei' (Mck*
«eiee'1/i) ^erstthen letf ©le S©hiQh%t^£ger mit
gutem ErgcTünlis Ter^enäat «e^düEe üna'erfellt
809 902/06 6/*
£ 1266 SlHJr.Wfr-or 27*7*61
Bauelement« für des, elektrischen Apparatebau.
Man arbeitet wie In Beispiel 5 beschrieben» Terwendet aber
anstelle der Kupferplatte eine oberflächlich verseifte
CelluleseacetstJfelle« Unter einem photographisohe» HegatiT
ale Vorlage wird nun entweder ao lange beiIahtet {zur
Halbseit), wie zur Bildung des Bellchtungefaibstoffas durch
Kupplung In einem alkalischen Medium notwendig 1st» oder
es wird vorzugsweise völlig ausgelichtet* Die belichtete
Folie wird nun, wie in Beispiel 1 beschrieben» in eine
wüQrig-alkulIachö Lösung (18 - 22°) gelogt und nur ao
lange darin liegen gelasBen, bis die Bildung des Bellen«·»
tungsfarbstofres oder dee gefärbten Bildes des Llchtaer«
eetzungsproäuktsäe äeutlloh »u erkennen ist und keine
weiter« tarbirertiefung erfährt (etwa 1 bis 5 Minuten}·
Aneehlie0end wird die übereohU&alge EntwiekIErlösung gründlioh
Alt fHellendem Wasser ab eepttli und die Celluloeeaoetatfolie
alt Warmluft getrocknet* Ohne «ine Torlage
su Terwenden» wird mm rSllig auabeliehtett anachllefiend
mit *»B· einer feigen, wäßrigen lösung von sekunüäiem
»tttriueph^-sspfeat wenige ttns 3 Minuten gebadet und Eit Hilf«
- eines Wattebamaoha© stMea diejenigen Ecöiuhtanteile ent*
f weleiie erst bei ier Belichtung ohne V4>Tl»g» der
de« Licht ta auagesetst waren· Xan erhält ein
BAD ORIGINAL
809902/0664
KALLE AKTIENGESELLSCHAFT„' ono1
I klI^I j
KJ2S6 SF-Dr.Wfr-er 27.7.61
Üsücehrbild· Arbeitet man mit der gleichen lieht empfindlichen
Schicht, jedoch ohne den Zusats von hochmolekularem Polyvinylacetat, so erhält man unter den gleichen Arbeite»
bedingungen kein Urakehrbild, sondern e.B· bei Verwendung
einer negativen photographicehen Vorlage «in negatives
Bild» Man einhält eine Druckform für den Flach- und Offsetdruck.
Eeiaolel 11t
In 100 Voluatoilon foluol löst man 1f5 Gewichtateil®
Polyvinylacetat. («Mowilith« ^ 9O)9 5 öewichtsteiie
213 »4-SPrioxy bonaophenon-naphttioch inon—(1*2} -diasid- ( 2}«
5-eulfonaäureester und 0,5 Gewichtst eile Sudanblaii II»
filtriert die Lösung und beeehiehtet damit eine oberflächlich verseifte folie aus Celluloseacetat, welche a*B*
auf Papierkarton kaschiert ist· unter einem photographisehen
Negativ als Vorlage wird nun entweder so lange belichtett wie nur Bildung des Balichtungsfarbstoffee
optimal durch Kupplung In einem alkalischen Medium not-,
wendig ist (Halbzeit), oder ea wird T-orzugavalae völlig
ausbauchtet· Di· belichtete Folie wird nun» wi* in
Beispiel 1 beachrieben» in eine i?äßrIg-alkalische LCaung
ClS - 22°) gelegt und so lange darin liegen gelassen» htm
die Bildung des Belichtungofarbstoffea oder dee gefärbten
809902/0684
1266 SB-Br «Wfr-er 27«7·61
Bildes dee Mchteereetssungsprodukteo deutlich zu erkennen
ist und keine «eitere Farbvertiefung erfährt (1 -5 Minuten)«
Anschließend wird die überschüssig« Entwickle;! lösung
gründlich mit fließendem Wasser abgeepUlt und die Folie
mit Warmluft getrocknet· Ohne eine Vorlage au verwenden,
wird nun völlig ausbelichtet» anschließend mit einer feigen
wäßrigen Lösung von sekundärem Hatriumphoephat etwa 3 Mi—
nuten f:ebadet und mit Hilfe eines Wattebeuochee werden
diejenigen Sohichtanteile entfernt« welche eret bei der
Belichtung ohne Vorlage der Einwirkung des Mohtes ausgesetst
waren« Man erhält ein üakehrbild·
12»
In 100 Yolumteilen Xthyleaglykoliaonoäthylather löst man
1,5 Sewiohtateile Polyvlnylaoetat ("Mowllith" ^ 90),
5 Oewichtetelle atJii-TrioxybsnEOphenon-naphthoohlnon-(if2>-diazid-(2)~5-sulfensäureester
und 0,5 Gewichtstell*
Sudaxiblau II, filtriert die Lösung und beschichtet damit
ein« transparente Folie aus Polyethylenterephthalat· Unter einem photographlechen ffegativ als Vorlage wird nun
entweder so lan;.;e belichtet» «de zur Bildung des Beiichtungeferbetoffee
optimal durch Kupplung In einen alkalischen Mediun notwendig lat (Halbeelt), oder es wird vorzugsweise völlig ausbsliohtet* BIe belichtete Folie wird
BADORlCHNAJ.
809 90 2/06 6-4 :
KAtLE AKTIEHGESEiLSCHAFT. ,^nnn,
K
&6
nun, w£« in Beispiel 1 feseehrieben» In eine
alkelieche lösung (18 » 22®) gelegt und öö lange 4ari&
liegen gelassen» bis die Bildung des B@liehtungefar!>~
stoffee oder des gefärbten Bildes des LiehtZörsetsu&geproduktes
deutlich eu erkennen ist und keine weiter® Farlsvertiefung
erfährt (1 -5 Minuten)* Anschließend wird die
Überschüssige Entwicklerlöausig gr und Ii eh ait fließend am
W&atser abgespült und die Folie alt Warmluft getrocknet.
Ohne eine Vorlage au verwenden* wird nun völlig ausiselichtet
und ansohlioSeiid mit £«B* *inor 5^iß*n wä3rigea
lösung von sekundärem Hatrlaaphospiiat etm 3 Minuten
lang gebadet· Mi.% Hilfe eines Wattebausch»« «erden diej«nl-·
gen Schicfitanteile entfernt* welche mr&t Tarnt der Belichtung ohne Vorlage der Einwirkung des Lichtee auegeaetEt
«raren* Man erhalt ein ifcakeferbilcU ine teile einer Folio aue
Poly ä thy lent er efhthalat kann mit gleiches! Srgebnie «in«
transparente folie aus Celluloseacetat verwendet werden·
BalePlel 13*
Man arbeitet wie in Beispiel 12 beschrielöeii, Terwend#t
aber anstell« der dort benutsten EntwicklerlÖeung bei
16 - 22° «ine Löauüß, \-r«lch« im Liter 50 dewlchteteile
selcundär·« Matrliuaphosphat (Ba2HTO4,12 H2O) enthält, bei
mäßig (trhohter 'Xoaperatur (et«* 60°)· Man erhält ein Um-
BADORSQlNAt 809S02/0664
. Unsere Zeichen Tag Blatt
K 1266 > . -■■;-/-,-.-.--. ,SP-Dr.Wfr-cr 27.?.6t
Beispiel f
Matt löst 3 ßewichtataile
chlaön-{t»2)-aia»id*C2)-4- bzw. 5-sulfoaaäureestsr und
0t5 Öewiehtateile de« ?a*bstoff&a Sudanblau I (Color Index*
Solvent Blue *55f Toi· II, S. 2885) iia 100 Sowtciitsteilen
llriiyl0jBgl^&QlmoBOäthtyl~. oder asth^/läther, beschichtet
mit äer filtrier tea Hrisnng eine aaubere, entfettete»
pe£lQrfcQ.3in&pl&tte uöd trocknet die lichtempfindliciie
SchiQht mit Warmluft oder in eiaeia frockenashrank
» ξΚ3θ·. Z«r Herstellung des Ifiskeferfeildes <ird «ßter Yer-
einer negativen photographiaalien Vorlage und
: einer geeigneten Mo h.t quell a ^ ζΒ· eines geechloasenen.
Kohlebogena» 18 ÄiSperetf Abstand Tor lage - Lichtquelle
etwa 65 ca».2f5 bis 5 Minuten belichtet« Bis belichtete
Zinkplatte wird anachlieSend für etwa 50 Miauten ia
h.eiB,es lageer von 95 bis 100° gelegt und danach ohne Vea?-
elfter Vorlage etwa 5 Miauten bßliohtet· Unter Yer
einar w&ftrlg-alkalisohen Satwicklerlöoung» welche
im Bit er 55 bie 60 Sewiciitataile Ifitrlua
(Na5SiO-.9 H9O) uad 35 bis 3t öewiohtsteile
phoepiiat (li«P0.«t2 H^O) enthält, wird auaeatwiokelt*
Hierzu läöt man doe belichtete Material etwa 1 bis 2
Minuten ia diesem wäßrig-alkalisshert Bad !!©gen unÄ b·-
, handelt anschließend-dl« Schicht fläche mit eines W.atte-
BAD ORIGINAL
803902/06S4 V -^, .:_
Unsere ,Zetchfen Tog Blatf
d.
bausch, PXUsci^öispon oder einem
lU'bei wer den nur diejenigen" &chieliirb©ii6 ''"öntiferhiV- die -" ■
bei tier ersten bllömäßi^en troriate<
nicht* vos liiäfit'^%e- ;-troffen
waren· Usm erhalt ein feisKehriifid
öf;?/leht st eilen 2 * J14-^ioxybenjs
gleiekartigeiä Ergebnis die gleichen'
Hoaaeasationsprodukteu vtan t MoX ^,7- oder 1,7**
naphthalin oücr ion 1 Mol 2,2 *-4,4 ^
oüer von 1 lol a.i'-Bioxy-iff^i^philiS'lmöthßn, SCfts
MdI eines Bia^onaphtkoiöüifönyleiiloJ !
(1,Z)^- fesw. 5-suifonjXciiXorid)' ^ei^d
einer Zinkplatte kann aiit gXeicMrtigeai-lrgebnio-z-*B« -<J-eine
oberflächlich angerauhte Viluminäum^ Xlittö" ööer=' Bin©^
Man löst 10 ßewiehtßteiXe eineβ m-HovolElcs
(»Alnovoi» ^ 429 E)*" 1In' i'ö'Ö ToXÜi
gly&oliaonoätfeyXäther·» ßiBt unter mecKönistl)
3 Gewicht & te iXe 2 $ 3 * 4~ϊτ loxyb eiiaophoüoJi-a&i
.(1. t2)~diaj5id~(2)—4- tszvi, 5-suifdm
Öewiciitst&ile öes Farbstoffes 'sfucU
echiöhtet mit öer filtriertea £öBUi^; e£& fi
BAD
809902/0664 . .
enti'etiete, poliert« ginkplatte und trocknet die liehtempfindliche
Schicht mit Warmluft odei- in einem trockenschrank
bei ζ·Β· 8Ü°, Üur Hera teilung des ifcakehrbildee
wird da» Material aun&ehst unter Verwendung einer negatives,
photogröphischen Vorlage unü einer geei^jaeten
Licht quelle« ζ·Β· gesohloesener üoiile bogen, 1ö Ampere f
Abstand Vorlage - Lichtquelle etwa 63 cm, etwa 5 Minuten
belichtet und anscalieüend «turn 30 Minuten in Vsasser von
95 - 100° gelegt« Hierauf wird oime Verwendung «iner Vorlage noch einmal und zmax völlig ausbelichtet-, Sarauf
wird das Material in eine wäörig-alkalisüh« Eutwickler—
lösung gelegt« dl« im Liter 55 Gewicntateile HatrimaaetöBilikat
(Ha2^iO3.9 H2O) und 5? Üewlchtateile* Srinatriuaphoaphat
(Ha^FOj* 12 H^O) oder «in Q^aisch aus
gleichen Volumteilen dieser Üntwicklerlösung und einer
Lösung* welche la Idter etna S ßewichtsteil« Satriunthydroxyd
enthält» etwa 1 Minute darin belassen und mit
Hilf« eines Wattebaueches» Plüsehteiapon» oder Cellulos·—
hydrateehwaamee werden diejenigen Scnichtteil« entfernt,
welch· bei der «rst«n bildmäügen uelichtuug nicht tuo
Sticht getroffen waren· Man erhalt «in Umkehrbild*
Arbeitet man mit der gieiohea licht eapfinülicshen üchicht^
unterläßt aber die yixierungsbehandlung» erhält man kein.
Uakehrbild· Anstelle von 3 Gewicütstcilen
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· hwm*
Biiureeeter kann asu mit gleichartigem Ergebnis di·
gleichen aewiöhteteiXe dee Kx, ndeneatione produkt ob Ton
1 MoX 2f2'-I)lö3ty*1f1f^imiphtfayXaeth«i ait 2Ilol «injB«
Bäphtttoehlnon-(1f2)«-4· *·»· 5-sulfenyXehXorid, dme
Kondaneatlonsprodukt «tue 1 MuX Purpurog&llin und 1 Hol
Haphthoohlnon-(1,2)-dlaEld-(2)-4- bew· 5-eulfoneäur«-
Chlorid oder 1 MoX Phloroglucin and 1 MoX Äaphthoohinon-(1,2)-diatid-(2)-4- 1»ew« 5-aulfoneäurechlorid Yerwenden»
Zur Herstellung de« Zinkklieche·» wird, ohne vor d«m
Äteen mit verdünnter Salpetereäur· einbrennen su aüeeen,
entweder nach den üblichen Mehrstufenverfahren oder nach
der moderneren Arbeitsweise derlinetufenätre entsprechend
tief
Beispiel 16t .
Xn 10ü Yolumteilen iithylenglykoXaonomethjX- oder -HthyX·
äther löst aan 0,5 - 1.5 Gewichtateile Polyrinylacetat
("Mowilith" ^R^ 90) und gibt unter mechanischem Rühren
1f5 Öewiehtetcile 2,3,4-TrioxybonKophenon-naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-4- bzw. 5-öulfone&ureeeter, 1,5 aewiohts·
te11« 2,3*4-Trioxy-beneophcnon-naphthochinon-(112)-diesid-(2)-4- bew. 5-eulfoneiiurfi-bie-eeter und 0,5 öewichtoteile
dee Farbetoffee Sudanblau II hinzu, filtriert dieLöaung,
■ ' BAD OBiGlNAL
80990 2/06 64
beschichtet damit eine oberflächlich sagfrauht· Aluminiuafölt· UBd trocknet mit Warmluft. Anschließend wird unter
•ine» photograpniaehen Segatlr belichtet und hierauf etwa
20 U!nuten in Wasser Ton etwa 95° stiegt» Hierauf *ird
ohne Verwendung einer Vorlage noch einaal» und zwar ▼öllig auebelichtet. Saft so behandelte Material wird
nun in eine wäßrig-alkalische Kntwicklerlösung, welche Ia
Liter 50 öewichteteila Trinatriuaphoephat (Na3PO4.12 Ha0)
enthält 1 gelegt und etwa 5 Minuten dnrin k.elasaen. Mit
Hilf« eineeWattebausches, Plüachtaapons oder Cellulosehydr«tactiwafiuie8 werden diejenigen Schichtteile entferntt
welche bei imr ersten bildmäöigen Belichtung nicht vom
getroffen waren. Man erhält «in üaücehrbild. Arbeitet
alt der gleiohen liohteapfindlichen Schicht, unterläßt
aber dl· tixierungebehandluag, erhält »an kein IMkehrbild.
Anstelle Ton 0,5 -1,5 Gewichteteilen «Mowilith- iB) 90
könne» die gleichen ffewichteteile Polyrlnylbutyral
(«aewit«!'^ Β~€0~ϊ}» ?olyyinylfoi»al C«»?wital· ^ Ε
Celluleeeäthyl- ssv» -beneylüther verwendet werden.
Anstelle rom %95 Oewiohtβteilen 2,3(4-Trioxybeneophenonn*phthoehiaoo-(1,2)-dia«id-<2)-4- biw* 5-aulfoaeäuroeeter
und 1,5 »ewicfateteilea 2,3,4-rrioxy-beasophenon·
oaphtli©«hinoni-( 1,2)-dia»id-( 2)-4- b*w. 5-eulf cmaäure-bieester kann aan ait gleichartige» Ergebni· 3 Oewiohteteii·
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y]^y und 2 »öl; eines
d«Jtu Das erlialteae tfiakehriblld suf der.
wie iibücli mit f^ttfariie #ing?>iäi*t vmä
'foriä für' deä ^ach* und
la tOÖ Töluttteil4a liiijrleßglykolaonoätbylÄther löst man
t»5 Gewicht;3teil* hööhmolfekttiare»
Öt5 ßewich*Ät©ile Sudnnblau II und J ÖöfKtehtstiftiJLiit
5HNiXfoneäitreester hinzu» filtriert di© üöeuiig und
•chichtet damit eine glattpolierte: Kupferplatte. lach
der Belichtung uirtei· einem Diapoelti-r wird.■; nun #i» Flaitt·
xur Herstellung dee üakehrbildte etwa 30 Minuten in
Weasaer roa etwa 95® gölegt. Ht&rauf wird# ohne .eine^Torlage
su Ver«4hdent noch einffi&X und zwar völlig πuelselichtet.
file so behandelte Xupferplatte wird nun in eine wüSrigalkaliische EntwicklerlÖBung, wslcihe im Liter 50 Ie wich teteile 2rinatriuephosph*t (Ia5PO^. 12 H2O) enthalt, gelegt,
•twa 5 Minuten öaxin belassen und mit: .Hilfe eines Watte«
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bau«ehe«, PlUechtampons oder Cellulosehydratechwamnee
werden nun diejenigen Schichtteile entfernt» welche bei
der ersten, bildmäSlgen Belichtung nicht vom Licht ge«
troffen waren« Man erhält ein Umkehrbild. Arbeitet man
alt der gleichen lichtempfindlichen Schicht, unterläßt aber die fixierungebehandlung» erhält nan nach der Behandlung mit der alkalischen Zntwicklerlöeung kein umkehr*
bild· BIe bildmäßig freigelegte Kupferfläche wird nun
bei 20 - 22° mit einer Eieen-III-ohlorid-Löeung γon
40° Bl entsprechend tief geätst* Man erhalt eine Druckform für den Tiefdruck· Anetelle von «Howllith* ^H^ 90
kann auch «Howillth· ^E^ 70 (Molgewicht 1.0UÜ.000)
verwendet werden·
Man arbeitet wie in Beispiel 17 beschrieben, verwendet
aber anetelle der Kupferplatte eine Biaetallfolle aus
Aluminium und Kupfer. Bei Verwendung einer neg&tlren
photographiechen Torlage wird das Material zur Herstellung
des Umkehrbildee nach der Belichtung etwa 20 Minuten
in annähernd aledende« Weeser gplegt« Hierauf wird, ohne
eine Torlage «u verwenden· noch einmal und zwar völlig
ausgelichtet, anschließend in eine wäßrig-alkalische
Lösung, welche iia Liter etwa 2,5 Gewichtsteile Lithium-
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hyäroxyd enthält« gelegt>
etwa 4 Minuten darin belassen« und mit Hilf· eines Wattebausches, PlÜschtampöne oder
aelluloeehydratechwammec diejenigen Schichtteile entfernt»
die bei der ersten« blldm&ßigen Belichtung nicht voa
Licht getroffen wurden* Man erhält ein Uakehrbild« Arbeitet
man ait der gleichen lichtempfindlichen Schicht« unterläßt aber die flxierungebehandlung» erhält man kein Dnkehrbild« Die bildmäßig freigelegte Kupferfläche wird
bei 20 - 22® alt einer EisennitratlÖeune, «eiche 160
Gewichtstelle Ie (HO5)-.9 HgO in 100 Volumteile» Wasser
enthält» «egge&tst« Man erhält «ine Druckform für den
Flach- und Offsetdruck« Anstelle von Aluminium-Kupfer kann mit gleich gutem Ergebnis eine Bisetallfolle aus Stahl»
Kupfer verwendet werden« Anstelle dor In den Beispielen
4 und 5 Terwendetea lichtempfinglichen Verbindungen kann
man mit gleichartigem Ergebnis 3 Oewichtsteile des Kondensatloneprodulctes von 1 Mol 2«2 '-Bioxydiphenyl und 1 Mol
eines Hapbthoohinon-(1,2)-diesid-(2)-4- bew« 5-sulfonifl·
Chlorid oder 1 Mol 1»2<*Dihydroxyanthrachinon und 1 Mol
einee Naphthochinon-(i»2)-diöz;id-(2)-4- b*w« 5-eulfonylcblorld vervenaen·
BeiarIeI 19t
der Kupferplatte eine Metßlllolie» welche aus Aluminium·«
■809902/066 4
Kupfer-» und Qhromechichten besteht. Bei Verwendung eines
Mapoeitirs als Torlafc« wird «ur Heißteilung des Umkehrbilde» ASCh der Belichtung für etwa 25 Minuten, in siedendes
Wasser gelegt. Hierauf wirS9 ohne eine Vorlage zu ver^en—
den, noch einmal und zwar völlig auebelichtet» anschließend
in ein« wäßrig-alkalische Lösung, welch* Xm. Liter 2,5 öewichte teile Keliunihydroatyd enthält, gelegtt etwa 5 Minuten
darin belassen und mit BiIfβ eines Wattebausches, PlUsch~
tampon· oder Oelluloaehydrateohwanüaee werden diejenigen
Schichtteile entfernt» die bei der ersten bildmäßigen
Belichtung nicht vo ) Licht getroffen wurden. Man erhält
•in Ufckehrbild· Arbeitet a&n alt der gleichen licht·»
empfindlichen Löeung, aber ohne 7ixl@rungsb«handlung»
erhält Mn kein Qakehrbild* Die bildaäßig freigelegt·
Chroafläohe wird mittels eines Ctemiaches, >,«stehend aus
Calciumchlorid, Glycerin und S&lssäure s.B« nach der
Arbeiteweiae des sjisrlkatiisehen Patent se 2 6Θ7 345
getttst, wobei die unter der Chromaohiciit befindliche
X»pferfl»ch· nicht aogegrifi«n wird« Man erhält ein·
Druckform für £·& Flach- und Offsetdruck* b«i der dl·
Dreckeltaiente «tts Kupfer ¥«et#hen» während die
• -
druckend« Fläche aus Chxoa besteht·
BAD ORIGINAL 809902/0684
ψ 1266 SB-Br,Wfr-cr 27*7*6 f
Man verfährt nach der la Beispiel 17
beitsweis8fl verwenelet aber anstelle der Kupferplatt® elfte
Kucferfolla von etwa 30 - 70y« BickSj welche auf eine den
elektriechea Strom nicht leitende Kunststoff-,?©!!© kasöhiert
1st· Nach der Belichtung unter einem phot©graphischen
BFegativ wird das Matorlsi sur Herstellung dts üakefer—
bildes für etwa 20 Miisatsm in elMende® I&'sser gelegt» .
Hierauf wirα» ohne eine Vorlage zu verwenden^ Roch einmal
und sswar tföilig aEsbslicfetet» snselilieöeili la eitle
welelxe im 2*it«r 5 - Ctevie&teteil·
©ntMl.tj- gelegt», etwa 3 Miauten daric
unü mit-Hilf* olndfi-WattebaueetieSi SXCiaebtaia^
oder G«llulos®^drat®c!wammös warden diejeaigais
entfernt, welch© lei■ der-e-xrstes
B@lielitiing nlsiit ?oa Lieht getroffen mir^ea. Maa
ein Umkehr bilde Arbeitet ta«!i alt der giaialseii licht*
%ΒψϊΙηάΙ±<ζΙί®η BQhlchtf unt&TlMBt jedosh oacfe der
S«liehtußg die flxierungöbebendliiJigj
» Bis- frsißs!*gt<t fcupfei fl&ehe
te- · 22*
· Schaltt£agw für di#
»lektrisolaa StroÄfülirüni-* Ans teils eimer esa
aiößt !«ϋβϊίΛ^η Kuöet fitoifplat te kenn
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parents oder mattierte Kunststoffolie, welche durch Metallbedampfung im Vakuum alt einem Metallspiegel
(Dicke beispielsweise 1 m) belegt ist, mit gleich gutem
Ergebnis als Schicht träger verwendet weiden· Man erhält
sogenannte Bauelemente für den elektrischen Apparatebau
21t
In 100 Volurateilun Toluol löst man 1,5 Gewiehtottile
Polyvinylacetat («Itowilith« ^ 90), 3 Oewichteteile
213 ,4-Trioxybenzophenon-naphthochinon-( 1,2 ]Mliassi<l-( 2)-4««·
bew. 5-Bulfonsäureea>er und 0,5 Gewichteteile Sudanblau II,
filtriert die Lösung und beschichtet damit eine oberflächlieh
Terseifte Folie aus Celluloseacetat· Unter eine»
photo^i-fiphischen negativ al© Vorlage wircl nun vollständig
ausgelichtet. Dl· belichtete Foil« wild nun nur Herstellung Λes Umkehrbllüee für etwa 30 Minuten in
von etwa 95° gelegt· Hierauf iird, ohne eine Vorlage su
verwenden« noch einmal und «war völlig auebelichtet# an*
schließend in eine wäßriß-alkaliache Lösung, welche im
Liter 5 Gewichteteile Natriumhydroxvd enthalt, gelegt«
etwa 3 Minuten darin belassen und rait Hilfe eines WattebaUBchoQ,
PlÜBchtßmpone oder Göllulooehyarntschwaaiiaee
diejenigen Schicht- ntellc entfernt, welche bei der
ersten bildmäßigen Belichtung nieat vom Licht getroffen
6AD
8 09902/0664
KALLE AKTIENGESELLSCHAFT .
K 1266 SP-Br »Wfr-er 27.? .61 1%
wurden· MaJiSrMIt ein IFiakehrbilcU Arbeitet man »it
der gleichen lichtempfindlichen Lösung« aber ohne ?ixterungsbehandlung, erhält man kein Umkehrbild« Man
erhalt eine Druckform für den Flach» und Offsetdruck·
In 100 Ge wicht st eilen Ithylenglykolmonoathyläther löst
man 1,5 Öewichtsteile Solyrinylaeetat («Mowilith« ^R^ 90),
3 Gewichtsteile 2,5»4-Tri0xyben«ophenon~napatfe0chittan-·
(1»2}~diaziö~(2)-4- htm. ^-sulfonsäureester u&ü 0,5 ffewichteteile
Sudanblau IIt filtriert die Lösung und be«
schichtet damit eine transparente Fell· ans Polyalkylenterephthalat*
Hach der Belichtung unter einem photo—
graphischen HegstiT wird das Mfltterial tür Herstellung
des UeJcehrbildes für 50 ICinuten in Wasser τοη etwa 95°
gelsgt» Hierauf «ird» ofen· ein« T&rlage su verwenden, noch
einmal und swar solletKndig auebelichtet, anachileSead
la eins waörig-mikaliJiehe Löeuni;» «sleiis i» Liter
55 - €0 Öewlökteteil« SstriuaBstssilikat (JIe2SiO5.9 IjO)
lud 35 · 37 Öewichtstsils Trinatrluaphoephat
(Ma5PO4^t2 E2O) eathält» gel·«*· In die*e» wÄSrig-slkatischen
Bad IIat atm das belichtet« Material e*«m
2 Mimit en lieges uod bsttaadslt m&eoÄiieSend Als Se&tie&V*
809902/0664
A OCR.
Unsere Zeichen Jag
SP-Dr,Wir-cr 27.7.61
fläche mit einem ΰ/attebaureh, Pliischtampon oder Cellulosehydrr.tsohwaima,
wobei nur diejenigen Bcaichtteile entfernt
werden, welche bei dor ersten blldmäfiißen Belichtung
nicht vom Licht getroffen wurden· Man erhält ein UmkehrbildU
Arbeitet man mit der gleichen lichtempfindlichen
Lösung, aber ohne Fixiorungsbohandlung, erhält man kein
Umkehrbild» Anstelle einer Volle aus Polyuthylentorephthalat
kann mit gleiches Ergebnis eine transparente
Folie aus Celluloseacetat verwendet werüen.
BAD ORIGINAL
8 0 9 9 0 2/0664
Claims (1)
- KALLE AKTIENeESE LLSCHAFT Λ1 Γοοΐ^I 4 Z Z α / I-■"■-- Unsere Zeichen Tag Blatt1266 ■ SP-Dr. Wfr-cr 27.7.6tv:Patentansprüche1· Verfahren aur Umkehrentwicklung von Mazoverb indungen enthaltenden lichtempfindlichen Schichten» dadurch gekennzeichnet , dai3 man eine Schicht, velehe mindestens eine o-Naphthochinondiazidveibindung und mindestens einen filmbildend en, hochmolekularen^ im Molekül Sauerstoff enthaltenden Thermoplasten und gegebenenfalls ein oder mehrere gegenüber starken anorganischen Baureif-* beständige Harze enthält, bildmäßig belichtet, mit :;i n''" einer alkalisch wirkenden Lösung oder Wasser, gegebenenfalls bei erhöhter !Temperatur,behandelt, gegebenenfalls trocknet, die lichtempfindliche Schicht nochmals bö- ' lichtet und anschließend durch eine weitere Behandlung* mit einem alkalischen Entwickler die bei der ersten. ^ Belichtung vom Licht nicht getroffenen Steilen der Schicht entfernte2. Zur Umkehrentwicklung gemäß Anspruch 1 geeignetes Material, gekennzeichnet durch eine Unterlage und darauf befindliche lichtempfindliche Schichts die mindestens ein o-laphthochinondiazid, mindestens einen filmbildenden Ühermoplasten und gegebenenfalls mindestens ein gegenüber stark anorganischen Säuren beständiges Harz enthält«80990 2/06&4W- =.·,;.KALLE AKTIENGESELLSCHAFTUnsere Zeichen Tag BlaffK 1266 SP-Br.wfr-cr 27.7.61 &3· Zur |3ffikehrentwiekl ung geeignetes Material nach Anspruch! 2, dadurch gekennzeichnet» daß die lichtempfindliche Schicht Salze mehrwertiger Metalle enthält.4-* Zur umkehrentwicklung geeignetes Material nach Ansprüchen 2 und 5» dadurch gekennzeichnet» daß als film· bildender» hochmolekularer» Im Molekül Sauerstoff ent* haltender Thermoplast ein wasserunlöslicher Celluloceäther» ein Polyvinylester oder ein Polyvlny!acetal verwendet wird β5. Zur umkehrentwicklung geeignetes Material nach Ansprüchen 2 bis 4t dadurch gekennzeichnet, daß als gegenüber starken anorganischen Säuren beständiges Harz «in Phenolformaldehydhar* το» NoTOlak-Typ in der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist·KALLE AXXZEKGKSiXLSCHAFfBAD ORfGfNAL 809902/0664
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK0044366 | 1961-07-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1422921A1 true DE1422921A1 (de) | 1969-01-09 |
Family
ID=7223439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19611422921 Withdrawn DE1422921A1 (de) | 1961-07-28 | 1961-07-28 | Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazoverbindungen enthaltenden Kopierschichten |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3264104A (de) |
AT (1) | AT242503B (de) |
BE (1) | BE620660A (de) |
CH (1) | CH418126A (de) |
DE (1) | DE1422921A1 (de) |
GB (1) | GB1003857A (de) |
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---|---|---|---|
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |