DE1247804B - Alkalisches Bad zum chemischen Abscheiden von festhaftenden Palladiumueberzuegen - Google Patents
Alkalisches Bad zum chemischen Abscheiden von festhaftenden PalladiumueberzuegenInfo
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/42—Coating with noble metals
- C23C18/44—Coating with noble metals using reducing agents
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
PR Z33D&C& λ ^AH Qf\ Λ
6 B OT^bO 1 Z4 / oU4
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"
Int. CL:
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
C23C 18/42
C23c
Deutsche Kl.: 48 b -:
1 247 804
J 25485 VIb/48 b
19. März 1964
17. August 1967
J 25485 VIb/48 b
19. März 1964
17. August 1967
VOH
Die Erfindung bezieht sich auf ein alkalisches Bad zum chemischen Abscheiden von festhaftenden
Palladiumüberzügen auf Gegenständen mit katalytisch wirksamer Oberfläche, insbesondere aus Kupfer
und Kupferlegierungen. Ein Bad dieser Art ist bereits in der älteren Patentschrift 1187 886 beschrieben
und besteht aus einer wäßrigen Lösung von 0,001 bis 0,25MoVl zweiwertigem Palladium, 2,5
bis 14 Mol/l Ammoniak, 0,002 bis 0,05 Mol/l Hydrazin und einem Stabilisator. Derartige Bäder
lassen sich mit Vorteil zum Abscheiden festhaftender Palladiumüberzüge auf Oberflächen verwenden,
die bei der Reduktion von gelöstem Palladium durch Hydrazin katalytisch wirken. Diesen Bädern haften
jedoch zwei Nachteile an. Einmal lassen sich mit ihnen nicht unmittelbar Oberflächen überziehen, die
aus Kupfer oder einer Legierung auf Kupferbasis bestehen, weil Kupfer nicht nur katalytisch unwirksam
ist, sondern die katalytische und autokatalytische Palladiumabscheidung als Katalysatorgift sogar verhindert.
Zum anderen können nur niedrige Temperaturen angewendet werden, weil die Lösung oberhalb
70° C unter Ausscheidung eines schwarzen Palladiumniederschlages zerfällt.
Es wurde nun gefunden, daß diese Nachteile verhindert werden können, wenn von zweiwertigen
Palladiumlösungen ausgegangen wird, die als Reduktionsmittel an Stelle von Hydrazin unsymmetrisches
Dimethylhydrazin (weiterhin UDMH genannt) enthalten. Wenn derartige Lösungen vorzugsweise auch
noch einen Stabilisator enthalten, so lassen sie sich aber auch ohne diesen verwenden, vorausgesetzt, daß
die Arbeitstemperatur nicht zu hoch wird.
Nach der Erfindung besteht ein Bad für das stromlose Aufbringen von Palladium aus einer wäßrigen
Lösung mit 1 bis 20 g/l zweiwertigem Palladium, 0,04 bis 0,50 g/l UDMH und mindestens einer
Aminoverbindung der aus Ammoniak und primären aliphatischen Aminen mit bis zu 5 Kohlenstoffatomen
je Molekül bestehenden Gruppe von Verbindungen in einer 100 bis 350 g Ammoniak pro Liter entsprechenden
gesamtmolaren Konzentration, wobei der Rest im wesentlichen Wasser ist. Der im wesentlichen
aus Wasser bestehende Rest schließt Komplementärionen für das zweiwertige Palladium ein oder
Ionen, die dem Bad beiläufig mit anderen Bestandteilen zugeführt werden, sowie Zusätze zum Glänzen
und Glätten, vorausgesetzt, daß diese Zusätze der Palladiumabscheidung nicht entgegenwirken. Mit
Sorgfalt müssen jedoch diejenigen Stoffe aus dem Bad ferngehalten werden, die zu einem Palladiumniederschlag
führen, z.B. die Ionen des Jods und Alkalisches Bad zum chemischen Abscheiden
von festhaftenden Palladiumüberzügen
von festhaftenden Palladiumüberzügen
Anmelder:
International Nickel Limited, London
Vertreter:
Dr.-Ing. G. Eichenberg
und Dipl.-Ing. H. Sauerland, Patentanwälte,
Düsseldorf, Cecilienallee 76
Als Erfinder benannt:
Richard Noble Rhoda, Westfield, N. J. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 26. März 1963 (267 947)
Zinns, Dimethylgloxin, Zyanide, Thionalid, Pyridine, Hydroxychinoline, metallisches Zink und metallisches
Magnesium.
Vorzugsweise enthalten die Bäder als einzige Aminoverbindung Ammoniak. Gegen Ammoniak
austauschfähige Amine sind beispielsweise Aminoäthyl, Äthanolamin und Amylamin, in den Grenzen
ihrer Löslichkeit im Bad.
Das Bad kann auch noch einen Stabilisator, vorzugsweise aus Äthylen-Diamin-Tetra-Essigsäure
(ÄDTE genannt) in einer 80 g/l nicht übersteigenden Konzentration, enthalten zum Zweck, den Zerfall
der Lösung zu verhindern. Andere Stabilisatoren bestehen aus Ammoniumchlorid und Ammoniumsulfat.
Sie können das ÄDTE ganz oder teilweise in gleichen Molen ersetzen.
Von wesentlicher Bedeutung sind die Konzentrationen der Bestandteile in den wäßrigen Bädern nach
der Erfindung. Wenn zweiwertiges Palladium oder UDMH in zu großer Konzentration vorliegt, dann
neigen die Bäder zum spontanen Zerfall. Wenn andererseits einer dieser Bestandteile in einer zu geringen
Konzentration vorhanden ist, wird die Abscheidungsgeschwindigkeit sehr gering. Auch zu wenig Ammoniak
oder Amin führen zu niedrigen Abscheidungsgeschwindigkeiten. Vorzugsweise soll der Ammoniakgehalt
280 g/l nicht überschreiten, weil es bei der Arbeitstemperatur des Bades schwierig ist, höhere
Konzentrationen zu überwachen.
Die Zusammensetzung des Bades wird vorteilhaft in den Grenzen der nachfolgenden Tabelle gehalten.
709 637/562
Bestandteil | Konzentration in g/l |
NH, Pd *) ÄDTE UDMH Wasser |
120 bis 170 5 bis 10 5 bis 24 0,05 bis 0,45 Rest |
*) Das Palladium ist im zweiwertigen Zustand gelöst.
Unterhalb 68° C tritt keine oder eine nur geringe Abscheidung des Palladiums aus den Bädern ein.
Nach der Erfindung wird in einem Temperaturbereich von 68 bis 1000C, insbesondere bei 75° C,
gearbeitet. Bei diesen Temperaturen scheiden die Bäder Palladium auf Gegenständen mit katalytisch wirkenden
Oberflächen ab, also auf Oberflächen eines Metalls, das die Reduktion des zweiwertigen Palladiums
zum Metall katalytisch begünstigt. Zu derartigen katalytischen Metallen zählen Aluminium,
Chrom, Kobalt, Kupfer, Gold, Eisen, Molybdän, Nickel, Palladium, Platin, Ruthenium, Silber, Zinn,
Wolfram und Legierungen reich an Kobalt, Nickel und/oder Kupfer. Die zu überziehenden Gegenstände
können selbstverständlich auch aus einem oder mehreren dieser Metalle bestehen. Das Bad und das Verfahren
der Erfindung sind besonders zum Überziehen von Kupfer und kupferreichen Legierungen geeignet,
d. h. von Legierungen mit mehr als etwa 60% Kupfer. Zu den kupferreichen Legierungen gehören Messing,
Kupfer-Nickel, Neusilber und Bronze.
Gegenstände mit auf die Reduktion von Palladium
nicht katalytisch wirkenden Oberflächen, z. B. solche aus Glas, Plastik und Keramik, können vorher mit
einer katalytisch wirksamen Metallschicht, z.B. aus Nickel, Silber oder Palladium, überzogen werden.
Danach ist es möglich, mit den Mitteln der Erfindung praktisch jeden Gegenstand mit einer glatten und
festhaftenden Palladiumschicht zu überziehen.
Die Bäder werden vorteilhaft durch Lösen von
ίο Tetraminpalladium(ll)-chlorid in einer wäßrigen Lösung
von Ammoniumhydroxyd hergestellt, der ÄDTE als Dinatriumsalz zugesetzt wird. Wahlweise
kann Platin auch als Palladium(II)-salz, z. B. als Palladium([l)-chlorid oder Palladium(Il)-nitrat, zugesetzt
werden. Nach der Einstellung des Bades auf Arbeitstemperatur wird die erforderliche Menge
UDMH zugegeben. Dann läßt man das Bad auf die nach der beim elektrischen Abscheiden üblichen
Weise sorgfältig gereinigten Gegenstände einwirken.
ao Bei fortschreitender Abscheidung werden periodisch oder kontinuierlich Zusätze von UDMH gemacht,
um die UDMH-Konzentration in den erforderlichen Grenzen zu halten. Lm allgemeinen schreitet die Abscheidung
mit einer Abscheidungsgeschwindigkeit von ] bis 1,5 μ/Std. fort. Bei dieser Geschwindigkeit erwies
sich ein Zusatz von 0,48 g/UDMH/Std. für je 1000 cm2 zu überziehender Fläche zum Bad als vorteilhaft.
Die nachfolgende Tabelle zeigt einige kennzeichnende
Beispiele der erfindungsgemäßen Bäder und deren Verwendung für die Abscheidung gut haftender
Palladiumoberflächenschichten auf Gegenständen aus Kupfer, Messing und Bronze.
1 | 2 | Beispiel 3 |
4 | 5 |
Kupfer | Messing | Messing | Kupfer | Bronze |
5 280 8 0,086 |
10 280 8 0,086 |
5 280 0 0,08 |
10 280 0 0,08 |
10 280 0 0,08 |
75 B 1,35 |
90 S 1,50 |
83 B 1,14 |
Siede temperatur S 1,52 |
Siede temperatur B 1,32 |
Zu plattierende Oberfläche
Badzusammensetzung
Badzusammensetzung
Pd (g/1)
NH4OH (g/l)
NanADTE (g/l)
UDMH*) (g/l)
Temperatur (° C)
Verfahren**)
Abscheidungsgeschwindigkeit (μ/Std.) ....
♦) Die Konzentration wurde durch Zusätze im Abstand von 15 Minuten aufrechterhalten.
**) B = Die Gegenstände wurden in einer rotierenden Trommel plattier!.
S = Die Gegenstände wurden im Bad aufgehängt.
Die Erfindung ist mit besonderem Vorteil für die Herstellung elektrischer und elektronischer Teile aus
Kupfer anzuwenden, die mit einem fest anhaftenden glänzenden Niederschlag von Palladium zu beschichten
sind.
Claims (4)
1. Alkalisches Bad zum chemischen Abscheiden von festhaftenden Pcilladiumüberzügen auf
Gegenständen mit katalytisch wirksamer Oberfläche, insbesondere aus Kupfer und Kupferlegierungen,
bestehend aus einer wäßrigen Lösung von zweiwertigen Palladiumionen, Ammoniak, einem Reduktionsmittel und gegebenenfalls einem
Stabilisator, dadurch gekennzeichnet, daß es 1 bis 20 g/l zweiwertiges Palladium, 0,04
bis 0,50 g/l unsymmetrisches Dimethylhydrazin, mindestens eine Aminoverbindung der aus Ammoniak
und primären aliphatischen Aminen mit bis 5 Kohlenstoffatomen je Molekül bestehenden
Verbindungsgruppe, insbesondere Ammoniak, Aminoäthyl-Äthanolamin und Amylamin in einer
100 bis 350 g/l Ammoniak entsprechenden gesamtmolaren Konzentration und als Rest Wasser
enthält.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als StabilisatorÄthylen-Diamin-Tetra-Essigsäure
in einer Konzentration von höchstens 80 g/l enthält.
5 6
3. Bad nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch ständen mit katalytisch wirksamer Oberfläche
gekennzeichnet, daß es 5 bis 10 g/l zweiwertiges unter Verwendung eines Bades nach den Ansprü-Palladium,
120 bis 170 g/l Ammoniak, 0,05 bis chen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
0,45 g/l unsymmetrisches Dimethylhydrazin, 5 bis Badtemperatur 68 bis 100° C beträgt.
24 g/l Äthylen-Diamin-Tetra-Essigsäure und als 5
Rest Wasser enthält. In Betracht gezogene Druckschriften:
4. Verfahren zum chemischen Abscheiden von Deutsche Patentschrift Nr. 1187 886;
festhaftenden Palladiumüberzügen auf Gegen- britische Patentschrift Nr. 844 358.
festhaftenden Palladiumüberzügen auf Gegen- britische Patentschrift Nr. 844 358.
709 637/562 8. 67 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US267947A US3274022A (en) | 1963-03-26 | 1963-03-26 | Palladium deposition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1247804B true DE1247804B (de) | 1967-08-17 |
Family
ID=23020789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEJ25485A Pending DE1247804B (de) | 1963-03-26 | 1964-03-19 | Alkalisches Bad zum chemischen Abscheiden von festhaftenden Palladiumueberzuegen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3274022A (de) |
BE (1) | BE645775A (de) |
DE (1) | DE1247804B (de) |
GB (1) | GB994560A (de) |
NL (1) | NL6403078A (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1035850A (en) * | 1964-06-12 | 1966-07-13 | Johnson Matthey Co Ltd | Improvements in and relating to the electrodeposition of palladium |
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CN104674201A (zh) * | 2015-02-11 | 2015-06-03 | 江苏澳光电子有限公司 | 一种用于金属表面镀覆金属钯镀层的化学镀钯液 |
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Family Cites Families (2)
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-
1963
- 1963-03-26 US US267947A patent/US3274022A/en not_active Expired - Lifetime
-
1964
- 1964-03-10 GB GB10064/64A patent/GB994560A/en not_active Expired
- 1964-03-19 DE DEJ25485A patent/DE1247804B/de active Pending
- 1964-03-23 NL NL6403078A patent/NL6403078A/xx unknown
- 1964-03-26 BE BE645775A patent/BE645775A/xx unknown
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Publication number | Publication date |
---|---|
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BE645775A (de) | 1964-09-28 |
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