DE112015001780T5

DE112015001780T5 - Lichtemittierende Vorrichtung

Info

Publication number: DE112015001780T5
Application number: DE112015001780.1T
Authority: DE
Inventors: Shunpei Yamazaki; Daiki NAKAMURA; Hisao Ikeda
Original assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Current assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date: 2014-04-11
Filing date: 2015-04-06
Publication date: 2017-01-19
Anticipated expiration: 2035-04-07
Also published as: DE112015001780B4; US9755167B2; JP6641098B2; CN106465494A; CN106465494B; WO2015155663A1; KR102431018B1; US20150292716A1; KR20160145673A; JP2015207556A

Abstract

Es wird eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Die lichtemittierende Vorrichtung beinhaltet ein Gestell, ein flexibles erstes lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell derart getragen wird, dass eine erste abwickelbare Fläche gebildet ist, und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell derart getragen wird, dass eine zweite abwickelbare Fläche gebildet ist.

Description

Technisches Gebiet
Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung betrifft eine lichtemittierende Vorrichtung, eine Anzeigevorrichtung oder eine Eingabe-/Ausgabevorrichtung.
Es sei angemerkt, dass eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung nicht auf das vorstehende technische Gebiet beschränkt ist. Das technische Gebiet einer Ausführungsform der Erfindung, die in dieser Beschreibung und dergleichen offenbart ist, betrifft einen Gegenstand, ein Verfahren oder ein Herstellungsverfahren. Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung betrifft zusätzlich einen Prozess, eine Maschine, ein Erzeugnis oder eine Zusammensetzung. Insbesondere umfassen Beispiele für das technische Gebiet einer Ausführungsform der in dieser Beschreibung offenbarten vorliegenden Erfindung eine Halbleitvorrichtung, eine Anzeigevorrichtung, eine lichtemittierende Vorrichtung, eine Energiespeichervorrichtung, eine Speichervorrichtung, ein Verfahren zum Ansteuern einer von ihnen und ein Verfahren zum Herstellen einer von ihnen.
Stand der Technik
Es wurden ein Design, das das Verlangen der Verbraucher wecken und zur Entwicklung der Industrie beitragen kann, sowie eine Erfindung gefordert, die das Design ermöglichen kann.
Beispielsweise wurde eine lichtemittierende Vorrichtung gefordert, die eine gekrümmte Oberfläche und eine einfache Struktur aufweist.
Eine Kraft könnte unabsichtlich ausgeübt werden, wenn eine lichtemittierende Vorrichtung fallen gelassen wird. Als Beispiel für eine lichtemittierende Vorrichtung, die nicht leicht beschädigt wird, ist eine lichtemittierende Vorrichtung bekannt, die eine hohe Haftfestigkeit zwischen einem Strukturteil, durch den eine lichtemittierende Schicht unterteilt ist, und einer zweiten Elektrodenschicht aufweist (Patentdokument 1).
[Referenz]
[Patentdokument]

[Patentdokument 1] Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2012-190794

Offenbarung der Erfindung
Eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitzustellen, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Eine weitere Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, eine neuartige Anzeigevorrichtung bereitzustellen, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Eine weitere Aufgabe ist, eine neuartige Eingabe-/Ausgabevorrichtung bereitzustellen, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Eine weitere Aufgabe ist, eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung, eine neuartige Anzeigevorrichtung, eine neuartige Eingabe-/Ausgabevorrichtung oder eine neuartige Halbleitervorrichtung bereitzustellen.
Es sei angemerkt, dass die Beschreibungen dieser Aufgaben das Vorhandensein weiterer Aufgaben nicht berühren. Bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist es unnötig, alle Aufgaben zu erfüllen. Weitere Aufgaben werden aus der Erläuterung der Beschreibung, den Zeichnungen, den Patentansprüchen und dergleichen ersichtlich und können daraus abgeleitet werden.
Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine lichtemittierende Vorrichtung, die ein Gestell, ein flexibles erstes lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell getragen wird, und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld beinhaltet, das von dem Gestell getragen wird.
Das Gestell umfasst einen gekrümmten Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld und das zweite lichtemittierende Feld trägt, einen ersten geraden Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine erste abwickelbare Fläche zwischen dem gekrümmten Abschnitt und dem ersten geraden Abschnitt gebildet ist, und einen zweiten geraden Abschnitt, der das zweite lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine zweite abwickelbare Fläche, die sich von der ersten abwickelbaren Fläche unterscheidet, zwischen dem gekrümmten Abschnitt und dem zweiten geraden Abschnitt gebildet ist.
Das erste lichtemittierende Feld beinhaltet ein erstes lichtemittierendes Element und einen ersten Anschlussabschnitt, der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element verbunden ist.
Das zweite lichtemittierende Feld beinhaltet ein zweites lichtemittierendes Element und einen zweiten Anschlussabschnitt, der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element verbunden ist.
Eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die oben beschriebene lichtemittierende Vorrichtung, bei der das Gestell einen Eckpunkt aufweist, an dem der erste gerade Abschnitt, der zweite gerade Abschnitt und der gekrümmte Abschnitt miteinander verbunden sind.
Die oben beschriebene lichtemittierende Vorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell, das den gekrümmten Abschnitt, den ersten geraden Abschnitt und den zweiten geraden Abschnitt umfasst, das flexible erste lichtemittierende Feld, das von dem gekrümmten Abschnitt und dem ersten geraden Abschnitt derart getragen wird, dass die erste abwickelbare Fläche gebildet ist, und das flexible zweite lichtemittierende Feld, das von dem gekrümmten Abschnitt und dem zweiten geraden Abschnitt derart getragen wird, dass die zweite abwickelbare Fläche gebildet ist.
Daher kann ein dreidimensionaler Teil ausgebildet werden, der die erste abwickelbare Fläche des ersten lichtemittierenden Feldes, die zweite abwickelbare Fläche des zweiten lichtemittierenden Feldes und eine gekrümmte Firstlinie umfasst, die zwischen der ersten abwickelbaren Fläche und der zweiten abwickelbaren Fläche bereitgestellt ist. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die oben beschriebene lichtemittierende Vorrichtung, bei der eine Seite des zweiten lichtemittierenden Feldes, die von dem gekrümmten Abschnitt getragen wird, eine Seite des ersten lichtemittierenden Feldes überlappen kann, die von dem gekrümmten Abschnitt getragen wird.
Der gekrümmte Abschnitt kann daher das erste lichtemittierende Feld und das zweite lichtemittierende Feld derart tragen, dass ein Abstand zwischen einer Seite des ersten lichtemittierenden Feldes und einer Seite des zweiten lichtemittierenden Feldes klein ist. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine der oben beschriebenen lichtemittierenden Vorrichtungen, bei denen jeweils das erste lichtemittierende Feld einen Bereich umfasst, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt gebogen ist.
Der erste Anschlussabschnitt kann daher entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts eingeklappt werden. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine der oben beschriebenen lichtemittierenden Vorrichtungen, bei denen jeweils ein Bereich, in dem ein gekrümmter Abschnitt das erste lichtemittierende Feld überlappt, enthalten ist und das erste lichtemittierende Feld Licht zu einer Seite emittiert, auf der der gekrümmte Abschnitt nicht bereitgestellt ist.
Das erste lichtemittierende Feld kann daher Licht emittieren, ohne von dem gekrümmten Abschnitt blockiert zu werden. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine lichtemittierende Vorrichtung, die ein Gestell, ein flexibles erstes lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell getragen wird, und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld beinhaltet, das von dem Gestell getragen wird.
Das Gestell umfasst einen ersten gekrümmten Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld trägt, einen ersten geraden Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine erste abwickelbare Fläche zwischen dem ersten gekrümmten Abschnitt und dem ersten geraden Abschnitt gebildet ist, einen zweiten geraden Abschnitt, der dem ersten geraden Abschnitt entgegengesetzt ist, und einen zweiten gekrümmten Abschnitt, der das zweite lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine zweite abwickelbare Fläche zwischen dem zweiten geraden Abschnitt und dem zweiten gekrümmten Abschnitt gebildet ist.
Das erste lichtemittierende Feld beinhaltet ein erstes lichtemittierendes Element, einen ersten Anschlussabschnitt, der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt gebogen ist.
Das zweite lichtemittierende Feld beinhaltet ein zweites lichtemittierendes Element, einen zweiten Anschlussabschnitt, der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des zweiten geraden Abschnitts zwischen dem zweiten lichtemittierenden Element und dem zweiten Anschlussabschnitt gebogen ist.
Die oben beschriebene lichtemittierende Vorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell, das den ersten gekrümmten Abschnitt, den ersten geraden Abschnitt und den zweiten geraden Abschnitt umfasst, das flexible erste lichtemittierende Feld, das von dem Gestell derart getragen wird, dass die erste abwickelbare Fläche gebildet ist, und das flexible zweite lichtemittierende Feld, das von dem zweiten geraden Abschnitt, der dem ersten geraden Abschnitt entgegengesetzt ist, derart getragen wird, dass die zweite abwickelbare Fläche gebildet ist. Der erste Anschlussabschnitt, der in dem ersten lichtemittierenden Feld enthalten ist, und der zweite Anschlussabschnitt, der in dem zweiten lichtemittierenden Feld enthalten ist, werden entlang den Außenformen des ersten geraden Abschnitts bzw. des zweiten geraden Abschnitts eingeklappt.
Daher kann ein dreidimensionaler Teil ausgebildet werden, der die gekrümmte erste abwickelbare Fläche des ersten lichtemittierenden Feldes und die zweite abwickelbare Fläche des zweiten lichtemittierenden Feldes umfasst, das von dem zweiten geraden Abschnitt getragen wird, der dem ersten geraden Abschnitt entgegengesetzt ist, der das erste lichtemittierende Feld trägt. Des Weiteren können der erste Anschlussabschnitt des ersten lichtemittierenden Feldes und der zweite Anschlussabschnitt des zweiten lichtemittierenden Feldes aus einem Bereich zwischen dem ersten geraden Abschnitt und dem zweiten geraden Abschnitt herausgezogen werden. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Es sei angemerkt, dass in dieser Beschreibung eine „EL-Schicht” eine Schicht bezeichnet, die zwischen einem Paar von Elektroden in einem lichtemittierenden Element bereitgestellt ist. Daher handelt es sich bei einer lichtemittierenden Schicht, die eine organische Verbindung, d. h. eine lichtemittierende Substanz, enthält und zwischen Elektroden angeordnet ist, um eine Ausführungsform der EL-Schicht.
In dieser Beschreibung wird in dem Fall, in dem eine Substanz A in einer Matrix, die unter Verwendung einer Substanz B ausgebildet wird, dispergiert ist, die die Matrix ausbildende Substanz B als Wirtsmaterial bezeichnet, und die in der Matrix dispergierte Substanz A wird als Gastmaterial bezeichnet. Es sei angemerkt, dass es sich bei der Substanz A und der Substanz B jeweils um eine einzelne Substanz oder eine Mischung aus zwei oder mehr Arten von Substanzen handeln kann.
Es sei angemerkt, dass eine lichtemittierende Vorrichtung in dieser Beschreibung eine Bildanzeigevorrichtung oder eine Lichtquelle (darunter auch eine Beleuchtungsvorrichtung) bezeichnet. Ferner umfasst die Kategorie der lichtemittierenden Vorrichtung ein beliebiges der folgenden Module: ein Modul, in dem ein Verbinder, wie z. B. eine flexible gedruckte Schaltung (flexible printed circuit, FPC) oder ein Tape Carrier Package (TCP) an einer lichtemittierenden Vorrichtung befestigt ist; ein Modul mit einem TCP, dessen Ende mit einer gedruckten Leiterplatte versehen ist; und ein Modul mit einem integrierten Schaltkreis (integrated circuit, IC), der durch ein Chip-On-Glass-(COG-)Verfahren direkt über einem Substrat montiert ist, über dem ein lichtemittierendes Element ausgebildet ist.
Einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung entsprechend kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Alternativ kann eine neuartige Anzeigevorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Alternativ kann eine neuartige Eingabe-/Ausgabevorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Alternativ kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung, eine neuartige Anzeigevorrichtung, eine neuartige Eingabe-/Ausgabevorrichtung oder eine neuartige Halbleitervorrichtung bereitgestellt werden.
Es sei angemerkt, dass die Beschreibung dieser Wirkungen das Vorhandensein weiterer Wirkungen nicht berührt. Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung muss nicht unbedingt alle oben genannten Wirkungen zeigen. Weitere Wirkungen werden aus der Erläuterung der Beschreibung, den Zeichnungen, den Patentansprüchen und dergleichen ersichtlich und können daraus abgeleitet werden.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Die begleitenden Zeichnungen sind wie folgt:
1A bis 1D stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform dar;
2A und 2B stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform dar;
3A, 3B, 3C1 und 3C2, stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform dar;
4A und 4B stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform dar;
5A bis 5D stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform dar;
6A und 6B stellen eine Struktur einer Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform dar;
7A bis 7D stellen eine Struktur einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform dar;
8A bis 8C stellen eine Struktur eines Anzeigefeldes einer Ausführungsform dar;
9A und 9B stellen eine Struktur eines Touchscreens dar, der bei einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform verwendet werden kann;
10A bis 10C stellen Strukturen eines Touchscreens dar, der bei einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform verwendet werden kann;
11A bis 11C stellen Strukturen eines Touchscreens dar, der bei einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform verwendet werden kann;
12A1, 12A2, 12B1, 12B2, 12C, 12D1, 12D2, 12E1 und 12E2 sind schematische Ansichten, die einen Prozess zur Herstellung einer Schichtanordnung einer Ausführungsform darstellen;
13A1, 13A2, 13B1, 13B2, 13C, 13D1, 13D2, 13E1 und 13E2 sind schematische Ansichten, die einen Prozess zur Herstellung einer Schichtanordnung einer Ausführungsform darstellen;
14A1, 14A2, 14B, 14C, 14D1, 14D2, 14E1 und 14E2 sind schematische Ansichten, die einen Prozess zur Herstellung einer Schichtanordnung einer Ausführungsform darstellen;
15A1, 15A2, 15B1, 15B2, 15C1, 15C2, 15D1 und 15D2 sind schematische Ansichten, die Prozesse zur Herstellung von Schichtanordnungen darstellen, die jeweils einen Öffnungsabschnitt in einem Träger einer Ausführungsform umfassen; und
16A1, 16A2, 16B1 und 16B2 sind schematische Ansichten, die Strukturen von zu verarbeitenden Elementen einer Ausführungsform darstellen.
Beste Art zur Ausführung der Erfindung
Eine lichtemittierende Vorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet ein Gestell, ein flexibles erstes lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell derart getragen wird, dass eine erste abwickelbare Fläche gebildet ist, und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell derart getragen wird, dass eine zweite abwickelbare Fläche gebildet ist.
Daher kann ein dreidimensionaler Teil ausgebildet werden, der die erste abwickelbare Fläche des ersten lichtemittierenden Feldes, die zweite abwickelbare Fläche des zweiten lichtemittierenden Feldes und eine gekrümmte Firstlinie umfasst, die zwischen der ersten abwickelbaren Fläche und der zweiten abwickelbaren Fläche bereitgestellt ist. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Ausführungsformen werden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen detailliert beschrieben. Es sei angemerkt, dass die vorliegende Erfindung nicht auf die folgende Beschreibung beschränkt ist, und es erschließt sich einem Fachmann ohne Weiteres, dass verschiedene Änderungen und Modifikationen durchgeführt werden können, ohne von dem Gedanken und Schutzbereich der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Dementsprechend sollte die vorliegende Erfindung nicht als auf den Inhalt der nachstehenden Ausführungsformen beschränkt angesehen werden. Es sei angemerkt, dass bei den Strukturen der im Folgenden beschriebenen Erfindung gleiche Teile oder Teile mit ähnlichen Funktionen in unterschiedlichen Zeichnungen durch gleiche Bezugszeichen gekennzeichnet sind und dass die Beschreibung dieser Teile nicht wiederholt wird.
(Ausführungsform 1)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand von 1A bis 1D sowie 2A und 2B beschrieben.
1A bis 1D stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung 1001 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
1A ist eine Projektionsansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, 1B ist eine Projektionsansicht eines Gestells, das bei der lichtemittierenden Vorrichtung 1001 verwendet werden kann, und 1C ist eine Montagezeichnung, die eine Struktur der lichtemittierenden Vorrichtung 1001 darstellt. 1D ist eine Querschnittsansicht, die eine Struktur eines Querschnitts entlang der Linie X1-X2 eines lichtemittierenden Feldes 200(1) in 1C darstellt.
<Strukturbeispiel 1 der lichtemittierenden Vorrichtung>
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, beinhaltet ein Gestell 100, das flexible erste lichtemittierende Feld 200(1), das von dem Gestell 100 getragen wird, und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld 200(2), das von dem Gestell 100 getragen wird (siehe 1A).
Das Gestell 100 umfasst einen gekrümmten Abschnitt 111, der das erste lichtemittierende Feld 200(1) und das zweite lichtemittierende Feld 200(2) trägt, einen ersten geraden Abschnitt 101, der das erste lichtemittierende Feld 200(1) derart trägt, dass eine erste abwickelbare Fläche F(1) zwischen dem gekrümmten Abschnitt 111 und dem ersten geraden Abschnitt 101 gebildet ist, und einen zweiten geraden Abschnitt 102, der das zweite lichtemittierende Feld 200(2) derart trägt, dass eine zweite abwickelbare Fläche F(2) zwischen dem gekrümmten Abschnitt 111 und dem zweiten geraden Abschnitt 102 gebildet ist (siehe 1B).
Das erste lichtemittierende Feld 200(1) beinhaltet ein erstes lichtemittierendes Element 250(1) und einen ersten Anschlussabschnitt 219(1), der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element 250(1) verbunden ist (siehe 1C und 1D).
Das zweite lichtemittierende Feld 200(2) beinhaltet ein zweites lichtemittierendes Element 250(2) und einen zweiten Anschlussabschnitt 219(2), der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element 250(2) verbunden ist.
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, beinhaltet das Gestell 100, das flexible erste lichtemittierende Feld 200(1), das von dem Gestell 100 derart getragen wird, dass die erste abwickelbare Fläche F(1) gebildet ist, und das flexible zweite lichtemittierende Feld 200(2), das von dem Gestell 100 derart getragen wird, dass die zweite abwickelbare Fläche F(2) gebildet ist.
Daher kann ein dreidimensionaler Teil ausgebildet werden, der die erste abwickelbare Fläche des ersten lichtemittierenden Feldes, die zweite abwickelbare Fläche des zweiten lichtemittierenden Feldes und eine gekrümmte Firstlinie umfasst, die zwischen der ersten abwickelbaren Fläche und der zweiten abwickelbaren Fläche bereitgestellt ist. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Eine gekrümmte Oberfläche, die durch eine Transformation einer Ebene ohne Ausdehnung und Zusammenziehung erhalten wird, wird als abwickelbare Fläche bezeichnet. Die abwickelbare Fläche kann in eine Ebene ohne Ausdehnung und Zusammenziehung transformiert werden. Außerdem kann mindestens eine gerade Linie, die einen gewissen Punkt auf der abwickelbaren Fläche passiert, auf der abwickelbaren Fläche gezogen werden.
Bei der lichtemittierenden Vorrichtung 1001 kann eine Seite S(2) des zweiten lichtemittierenden Feldes 200(2), die von dem gekrümmten Abschnitt 111 getragen wird, einen Teil einer Seite S(1) des ersten lichtemittierenden Feldes 200(1) überlappen, die von dem gekrümmten Abschnitt 111 getragen wird (siehe 2B).
Der gekrümmte Abschnitt kann daher das erste lichtemittierende Feld und das zweite lichtemittierende Feld derart tragen, dass ein Abstand zwischen einer Seite des ersten lichtemittierenden Feldes und einer Seite des zweiten lichtemittierenden Feldes klein ist. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Das erste lichtemittierende Feld 200(1) kann ferner eine Basis 210, eine Basis 270 und das lichtemittierende Element 250(1) beinhalten, das zwischen der Basis 210 und der Basis 270 bereitgestellt ist (siehe 1D).
Zusätzlich kann ein Dichtungsmittel 260 zum Kleben der Basis 210 an die Basis 270 bereitgestellt sein.
Die Basis 210 kann einen Sperrfilm 210a, eine Basis 210b und eine Harzschicht 210c zwischen dem Sperrfilm 210a und der Basis 210b beinhalten. Die Basis 270 kann einen Sperrfilm 270a, eine Basis 270b und eine Harzschicht 270c zwischen dem Sperrfilm 270a und der Basis 270b beinhalten.
Das lichtemittierende Element 250(1) kann eine untere Elektrode 251, eine obere Elektrode 252 und eine Schicht 253 beinhalten, die eine lichtemittierende organische Verbindung enthält und zwischen der unteren Elektrode 251 und der oberen Elektrode 252 liegt.
Zusätzlich können ein erster Anschlussabschnitt 219(1) und eine leitende Schicht 208, die den ersten Anschlussabschnitt 219(1) und das lichtemittierende Element 250(1) elektrisch verbindet, bereitgestellt sein.
Ferner können ein drittes lichtemittierendes Feld 200(3) und ein viertes lichtemittierendes Feld 200(4) bereitgestellt sein.
Im Folgenden werden Bestandteile der lichtemittierenden Vorrichtung 1001 beschrieben. Es sei angemerkt, dass sich diese Bestandteile nicht deutlich voneinander unterscheiden können und dass ein Bestandteil in einigen Fällen auch als weiterer Bestandteil dient oder einen Teil eines weiteren Bestandteils umfasst.
<<Gesamtstruktur>>
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell 100, das erste lichtemittierende Feld 200(1) und das zweite lichtemittierende Feld 200(2).
<<Gestell>>
Das Gestell 100 umfasst den ersten geraden Abschnitt 101, den zweiten geraden Abschnitt 102 und den gekrümmten Abschnitt 111 (siehe 1B). Es sei angemerkt, dass das Gestell auch als Rahmen, Struktur, Drahtgestell oder Stützelement bezeichnet werden kann.
Die Endabschnitte des ersten geraden Abschnitts 101, des zweiten geraden Abschnitts 102 und des gekrümmten Abschnitts 111 können derart miteinander verbunden sein, dass ein Eckpunkt P gebildet ist (siehe 1A oder 2A).
Zusätzlich können ein gekrümmter Abschnitt 112, ein gekrümmter Abschnitt 113 und ein gekrümmt Abschnitt 114 sowie ein dritter gerader Abschnitt 103 und ein vierter gerader Abschnitt 104 enthalten sein (siehe 1B).
Der gekrümmte Abschnitt 111 und der gekrümmte Abschnitt 113 können eine Form entlang einem Bogen aufweisen. Zudem können der gekrümmte Abschnitt 112 und der gekrümmte Abschnitt 114 eine Form entlang dem anderen Bogen aufweisen.
Am Scheitelpunkt kann außerdem der andere Bogen orthogonal zu dem einen Bogen sein, so dass der erste gerade Abschnitt 101, der zweite gerade Abschnitt 102, der dritte gerade Abschnitt 103 und der vierte gerade Abschnitt 104 derart angeordnet sein können, dass ein Quadrat oder ein Rhombus gebildet ist.
Am Scheitelpunkt kann alternativ der eine Bogen den anderen Bogen derart schneiden, dass der erste gerade Abschnitt 101, der zweite gerade Abschnitt 102, der dritte gerade Abschnitt 103 und der vierte gerade Abschnitt 104 ein Rechteck bilden.
Eine gerade Linie, die parallel zu dem ersten geraden Abschnitt 101 ist, kann entlang der ersten abwickelbaren Fläche F(1) bewegt werden. Der erste gerade Abschnitt 101 ist in Kontakt mit der ersten abwickelbaren Fläche F(1) an einer Tangente, die in der Oberfläche des ersten geraden Abschnitts 101 enthalten ist.
Eine gerade Linie, die parallel zu dem zweiten geraden Abschnitt 102 ist, kann entlang der zweiten abwickelbaren Fläche F(2) bewegt werden. Der zweite gerade Abschnitt 102 ist in Kontakt mit der zweiten abwickelbaren Fläche F(2) an einer Tangente, die in der Oberfläche des zweiten geraden Abschnitts 102 enthalten ist.
Der gekrümmte Abschnitt 111 ist in Kontakt mit der ersten abwickelbaren Fläche F(1) an einer Kurve, die in der Oberfläche des gekrümmten Abschnitts 111 enthalten ist, und ist in Kontakt mit der zweiten abwickelbaren Fläche F(2) an der einen Kurve oder einer weiteren Kurve.
Das erste lichtemittierende Feld 200(1) oder das zweite lichtemittierende Feld 200(2) ist in Kontakt mit dem gekrümmten Abschnitt 111 an einer Kurve mit einem Krümmungsradius von 4 mm oder größer, bevorzugt 2 mm oder größer, bevorzugter 1 mm oder größer.
Für den ersten geraden Abschnitt 101, den zweiten geraden Abschnitt 102 oder den gekrümmten Abschnitt 111 kann beispielsweise ein Element in einer Stabform, wie z. B. einer prismatischen Säulenform, ein Element in einer Röhrenform, wie z. B. einer zylindrischen Form, ein Element in einer Plattenform, wie z. B. einer I-Form, einer L-Form oder einer V-Form, oder dergleichen verwendet werden. Obwohl das Gestell 100 eine Seite des lichtemittierenden Feldes 200(1) trägt, kann das Gestell 100 eine Ebene des lichtemittierenden Feldes 200(1) tragen. Ein Gestell mit einem Öffnungsabschnitt ist leichtgewichtiger als ein Gestell, das keinen Öffnungsabschnitt aufweist.
Für das Gestell 100 kann beispielsweise ein organisches Material, ein anorganisches Material, ein Verbundmaterial aus einem organischen Material und einem anorganischen Material oder ein mehrschichtiges Material verwendet werden. Insbesondere kann ein Harz, ein Metall, ein Metall, das mit einem Harz beschichtet ist, ein Harz, in dem eine Glasfaser oder eine Kohlefaser dispergiert ist, oder dergleichen verwendet werden. Außerdem kann ein Naturmaterial, wie z. B. Holz, Papier oder dergleichen, verwendet werden.
Es sei angemerkt, dass ein Verbindungsteil 110, das den ersten geraden Abschnitt 101, den zweiten geraden Abschnitt 102 und den gekrümmten Abschnitt 111 miteinander verbinden kann, verwendet werden kann (siehe 2A).
Beispielsweise kann das Verbindungsteil 110 in den ersten geraden Abschnitt 101, den zweiten geraden Abschnitt 102 und den gekrümmten Abschnitt 111 eingreifen und sie miteinander verbinden.
Insbesondere können der erste gerade Abschnitt 101, der zweite gerade Abschnitt 102 und der gekrümmte Abschnitt 111, deren Endabschnitte jeweils bei der Außenform einen Abschnitt aufweisen, der dünner ist als der andere Abschnitt, sowie das Verbindungsteil 110 mit einem Raum, der die Form einer Scheide aufweist und in den die dünneren Abschnitte eingreifen können, verwendet werden.
<<Lichtemittierendes Feld>>
Das erste lichtemittierende Feld 200(1) kann das erste lichtemittierende Element 250(1), den ersten Anschlussabschnitt 219(1) und die flexible Basis 210 beinhalten.
Eine Struktur, die derjenigen des ersten lichtemittierenden Feldes 200(1) ähnlich ist, kann für das zweite lichtemittierende Feld 200(2), das dritte lichtemittierende Feld 200(3) und/oder das vierte lichtemittierende Feld 200(4) verwendet werden.
Wenn die Seite S(2) des zweiten lichtemittierenden Feldes 200(2), die von dem gekrümmten Abschnitt 111 getragen wird, einen Teil der Seite S(1) des ersten lichtemittierenden Feldes 200(1) überlappt, die von dem gekrümmten Abschnitt 111 getragen wird, kann in dem gekrümmten Abschnitt 111 das zweite lichtemittierende Feld 200(2) nahe an dem ersten lichtemittierenden Feld 200(1), beispielsweise ohne Zwischenraum, angeordnet sein.
Insbesondere kann dann, wenn das zweite lichtemittierende Feld 200(2) und das erste lichtemittierende Feld 200(1) einander zugewandt sind, die Seite S(2), die durch eine Strichpunktlinie dargestellt ist, die Seite S(1) überlappen, die durch eine Strichpunktlinie dargestellt ist. Mit anderen Worten: Die Seite S(2) des zweiten lichtemittierenden Feldes 200(2), die durch eine Strichpunktlinie dargestellt ist, und die Seite S(1) des ersten lichtemittierenden Feldes 200(1), die durch eine Strichpunktlinie dargestellt ist, sind achsensymmetrisch.
Wenn die Seite S(2), die durch eine Strichpunktlinie dargestellt ist, und die Seite S(1), die durch eine Strichpunktlinie dargestellt ist, achsensymmetrisch sind und die Seite S(2) entlang der Seite S(1) angeordnet ist, kann das zweite lichtemittierende Feld 200(2) nahe an dem ersten lichtemittierenden Feld 200(1) liegen. Beispielsweise können das zweite lichtemittierende Feld 200(2) und das erste lichtemittierende Feld 200(1) eine Firstlinie bilden.
Des Weiteren emittieren die ersten bis vierten lichtemittierenden Felder 200(1) bis 200(4) jeweils Licht zu mindestens einer Seite. Beispielsweise kann jedes der ersten bis vierten lichtemittierenden Felder 200(1) bis 200(4), welche in der lichtemittierenden Vorrichtung 1001 enthalten sind, Licht zur konvexen Seite der gebildeten abwickelbaren Fläche emittieren. Es sei angemerkt, dass in der Zeichnung eine Richtung, in der das zweite lichtemittierende Feld 200(2) Licht emittiert, durch einen Pfeil dargestellt ist (siehe 1A).
Es sei angemerkt, dass eine gekrümmte Oberfläche, die von dem ersten lichtemittierenden Feld oder dem zweiten lichtemittierenden Feld gebildet ist, einen Krümmungsradius von 4 mm oder größer, bevorzugt 2 mm oder größer, bevorzugter 1 mm oder größer aufweist.
Es besteht keine besondere Beschränkung bezüglich der Außenform des lichtemittierenden Feldes 200(1). Als Außenform des lichtemittierenden Feldes kann beispielsweise eine im Wesentlichen dreieckige Außenform verwendet werden, die zwei gekrümmte Seiten, die sich an einer Ecke schneiden, und eine lineare Seite aufweist, die der einen Ecke gegenüberliegt. Mit anderen Worten kann die Außenform eines Bootes verwendet werden. Darüber hinaus ist der Anschlussabschnitt 219(1) auf der linearen Seite bereitgestellt.
<<Lichtemittierendes Element>>
Verschiedene lichtemittierende Elemente können als erstes lichtemittierendes Element 250(1) verwendet werden. Beispielsweise kann ein lichtemittierendes Element, das die organische Elektrolumineszenz oder anorganische Elektrolumineszenz nutzt, eine Leuchtdiode oder dergleichen verwendet werden.
Als erstes lichtemittierendes Element 250(1) kann insbesondere ein lichtemittierendes Element (auch als organisches EL-Element bezeichnet) verwendet werden, das die untere Elektrode 251, die obere Elektrode 252, die die untere Elektrode 251 überlappt, und die Schicht 253 beinhaltet, die eine lichtemittierende organische Verbindung enthält und zwischen der unteren Elektrode 251 und der oberen Elektrode 252 liegt (siehe 1D).
Es sei angemerkt, dass das erste lichtemittierende Feld 200(1) Licht zur Seite der oberen Elektrode 252 und/oder zur Seite der unteren Elektrode 251 emittieren kann. Ein Pfeil in der Zeichnung zeigt ein Beispiel, bei dem das erste lichtemittierende Feld 200(1) Licht zur Seite der oberen Elektrode 252 emittiert (siehe 1D).
<<Leitende Schicht und Anschlussabschnitt>>
Die leitende Schicht 208 ist elektrisch mit dem lichtemittierenden Element 250(1) verbunden.
Dem Anschlussabschnitt 219(1) wird ein Signal, ein Strom oder dergleichen zugeführt. Ein Teil der leitenden Schicht 208 ist in dem Anschlussabschnitt 219(1) bereitgestellt. Beispielsweise kann ein Teil der leitenden Schicht 208 in einem Teil des Anschlussabschnitts 219(1) freiliegen, so dass eine flexible gedruckte Schaltung und der Anschlussabschnitt 219(1) elektrisch miteinander verbunden werden können.
Ein leitendes Material kann für die leitende Schicht 208 verwendet werden.
Insbesondere kann ein Metallelement, das aus Aluminium, Gold, Platin, Silber, Kupfer, Chrom, Tantal, Titan, Molybdän, Wolfram, Nickel, Eisen, Kobalt, Palladium und Mangan ausgewählt wird, oder dergleichen verwendet werden. Alternativ kann eine Legierung, die ein beliebiges der oben erwähnten Metallelemente enthält, oder dergleichen verwendet werden. Eine Legierung aus Kupfer und Mangan wird im Besonderen bei der Mikrostrukturierung mittels eines Nassätzverfahrens vorteilhaft verwendet.
Insbesondere kann eine zweischichtige Struktur, bei der ein Titanfilm über einem Aluminiumfilm angeordnet ist, eine zweischichtige Struktur, bei der ein Titanfilm über einem Titannitridfilm angeordnet ist, eine zweischichtige Struktur, bei der ein Wolframfilm über einem Titannitridfilm angeordnet ist, eine zweischichtige Struktur, bei der ein Wolframfilm über einem Tantalnitridfilm oder einem Wolframnitridfilm angeordnet ist, eine dreischichtige Struktur, bei der ein Titanfilm, ein Aluminiumfilm und ein Titanfilm in dieser Reihenfolge übereinander angeordnet sind, oder dergleichen verwendet werden.
Insbesondere kann ein Legierungsfilm oder ein Nitridfilm verwendet werden, in dem Aluminium und ein oder mehrere Element/e kombiniert werden, das/die aus Titan, Tantal, Wolfram, Molybdän, Chrom, Neodym und Scandium ausgewählt wird/werden.
Alternativ kann ein leitendes Material, das ein leitendes Metalloxid oder dergleichen enthält, verwendet werden. Insbesondere kann Indiumoxid, Zinnoxid, Zinkoxid oder dergleichen verwendet werden.
<<Basis>>
Als Material der Basis 210 kann ein organisches Material, ein anorganisches Material oder ein Verbundmaterial aus einem organischen Material und einem anorganischen Material verwendet werden. Das Material, das für die Basis 210 verwendet werden kann, kann für die Basis 270 verwendet werden.
Die Basis 210 kann unter Verwendung eines Materials mit einer Dicke im Bereich von 5 μm bis 2500 μm, bevorzugt von 5 μm bis 680 μm, bevorzugter von 5 μm bis 170 μm, bevorzugter von 5 μm bis 45 μm, bevorzugter von 8 μm bis 25 μm ausgebildet werden.
Ferner kann ein Material, das einen Durchgang von Verunreinigungen verhindert, für die Basis 210 vorteilhaft verwendet werden. Beispielsweise kann ein Material mit einer Wasserdampfdurchlässigkeit von niedriger als oder gleich 10^–5 g/(m²·Tag), bevorzugt niedriger als oder gleich 10^–6 g/(m²·Tag) vorteilhaft verwendet werden.
In dem Fall, in dem ein mehrschichtiges Material aus einer Vielzahl von Materialien für die Basis 210 verwendet wird, können Materialien, deren Längenausdehnungskoeffizienten im Wesentlichen einander gleich sind, vorteilhaft verwendet werden. Zum Beispiel sind die Längenausdehnungskoeffizienten der Materialien bevorzugt niedriger als oder gleich 1 × 10^–3/K, bevorzugter niedriger als oder gleich 5 × 10^–5/K und noch bevorzugter niedriger als oder gleich 1 × 10^–5/K.
Beispiele für das Material der Basis 210 sind organische Materialien, wie z. B. ein Harz, ein Harzfilm und ein Kunststofffilm.
Beispiele für das Material der Basis 210 sind anorganische Materialien, wie z. B. eine Metallplatte und eine dünne Glasplatte mit einer Dicke von größer als oder gleich 10 μm und kleiner als oder gleich 50 μm.
Beispiele für das Material der Basis 210 sind Verbundmaterialien, wie z. B. Harzfilme, an denen eine Metallplatte, eine dünne Glasplatte oder ein Film aus einem anorganischen Material unter Verwendung einer Harzschicht befestigt ist.
Beispiele für das Material der Basis 210 sind Verbundmaterialien, wie z. B. ein Harz oder ein Harzfilm, in dem eine Metallfaser, ein Metallpartikel, Glas oder ein anorganisches Material dispergiert ist.
Beispielsweise kann ein wärmehärtendes Harz oder ein ultravioletthärtendes Harz für eine Harzschicht verwendet werden.
Insbesondere kann ein Harzfilm oder eine Harzplatte aus Polyester, Polyolefin, Polyamid, Polyimid, Polycarbonat, einem Acrylharz oder dergleichen verwendet werden.
Insbesondere kann alkalifreies Glas, Kalknatronglas, Kaliglas, Kristallglas oder dergleichen verwendet werden.
Insbesondere kann ein Metalloxidfilm, ein Metallnitridfilm, ein Metalloxynitridfilm oder dergleichen verwendet werden. Beispielsweise kann Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxynitrid, ein Aluminiumoxidfilm oder dergleichen verwendet werden.
Alternativ kann Edelstahl (SUS), Aluminium oder dergleichen, der/das mit einer Öffnung versehen ist, verwendet werden.
Alternativ kann ein Harz, wie z. B. ein Acrylharz, ein Urethanharz, ein Epoxidharz oder ein Harz mit einer Siloxanbindung, verwendet werden.
Für die Basis 210 kann zum Beispiel eine Schichtanordnung vorteilhaft verwendet werden, bei der eine flexible Basis 210b, ein Sperrfilm 210a, der eine Diffusion von Verunreinigungen verhindert, und eine Harzschicht 210c, mit der der Sperrfilm 210a an die Basis 210b geklebt wird, übereinander angeordnet sind (siehe 1D).
Als Sperrfilm 210a kann insbesondere ein Film verwendet werden, der ein mehrschichtiges Material enthält, in dem ein 600 nm dicker Siliziumoxynitridfilm und ein 200 nm dicker Siliziumnitridfilm übereinander angeordnet sind.
Als Sperrfilm 210a kann insbesondere ein Film verwendet werden, der ein mehrschichtiges Material aus einem 600 nm dicken Siliziumoxynitridfilm, einem 200 nm dicken Siliziumnitridfilm, einem 200 nm dicken Siliziumoxynitridfilm, einem 140 nm dicken Siliziumnitridoxidfilm und einem 100 nm dicken Siliziumoxynitridfilm enthält, welche in dieser Reihenfolge übereinander angeordnet sind.
Als Basis 210b kann insbesondere ein Harzfilm, eine Harzplatte oder eine Schichtanordnung aus Polyester, Polyolefin, Polyamid, Polyimid, Polycarbonat, einem Acrylharz oder dergleichen verwendet werden.
Für die Harzschicht 210c kann insbesondere ein Material verwendet werden, das Polyester, Polyolefin, Polyamid (z. B. Nylon oder Aramid), Polyimid, Polycarbonat, ein Acrylharz, ein Urethanharz, ein Epoxidharz oder ein Harz mit einer Siloxanbindung enthält.
<Strukturbeispiel 2 der lichtemittierenden Vorrichtung>
Es wird eine weitere Struktur der lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand von 3A, 3B, 3C1 und 3C2 beschrieben.
3A, 3B, 3C1 und 3C2 stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung 1001B einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
3A ist eine Projektionsansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001B einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, und 3B ist eine Projektionsansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001B in 3A, die um 90° im Uhrzeigersinn gedreht ist und in der einige Komponenten nicht dargestellt sind. 3C1 ist eine Seitenansicht, die eine Struktur eines Querschnitts entlang der Linie X3-X4 und eine innere Struktur der lichtemittierenden Vorrichtung 1001B in 3A darstellt, und 3C2 ist eine Seitenansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001B, in der einige Komponenten nicht dargestellt sind.
Bei der lichtemittierenden Vorrichtung 1001B, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, umfasst das erste lichtemittierende Feld 200(1) einen Bereich, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101 zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt 219(1) gebogen ist (siehe 3A, 3B, 3C1 und 3C2).
Der erste Anschlussabschnitt kann daher entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts eingeklappt werden. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Es sei angemerkt, dass eine Richtung, in der das zweite lichtemittierende Feld 200(2) Licht emittiert, durch einen Pfeil in der Zeichnung dargestellt ist (siehe 3A).
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001B unterscheidet sich von der lichtemittierenden Vorrichtung 1001, die anhand von 1A bis 1D beschrieben worden ist, darin, dass der erste Anschlussabschnitt 219(1) derart angeordnet ist, dass er entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101 eingeklappt ist (siehe 1A und 3B). Unterschiedliche Komponenten werden nachstehend detailliert beschrieben, und bezüglich der anderen ähnlichen Komponenten wird auf die vorstehende Beschreibung Bezug genommen.
<<Gesamtstruktur>>
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001B einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell 100, das erste lichtemittierende Feld 200(1) und das zweite lichtemittierende Feld 200(2).
<<Erster Anschlussabschnitt>>
Der erste Anschlussabschnitt 219(1) weist Flexibilität auf.
Beispielsweise kann ein Teil der flexiblen Basis 210 den ersten Anschlussabschnitt 219(1) tragen.
Der flexible erste Anschlussabschnitt 219(1) kann entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101 eingeklappt werden.
<<Gestell>>
Der erste gerade Abschnitt 101 weist eine Außenform auf, entlang derer der erste Anschlussabschnitt 219(1) eingeklappt werden kann, ohne beschädigt zu werden.
Beispielsweise ist eine gekrümmte Oberfläche mit Krümmung bereitgestellt, mit der der erste Anschlussabschnitt 219(1) entlang der gekrümmten Oberfläche eingeklappt werden kann, ohne beschädigt zu werden.
Insbesondere kann ein Material, dessen Querschnittsform kreisförmig ist, für den ersten geraden Abschnitt 101 verwendet werden (siehe 3C1).
Es sei angemerkt, dass eine gekrümmte Oberfläche, die in Kontakt mit dem ersten lichtemittierenden Feld oder dem zweiten lichtemittierenden Feld ist, einen Krümmungsradius von 4 mm oder größer, bevorzugt 2 mm oder größer, bevorzugter 1 mm oder größer aufweist.
<Strukturbeispiel 3 der lichtemittierenden Vorrichtung>
Es wird eine weitere Struktur der lichtemittierenden Vorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand von 4A und 4B beschrieben.
4A und 4B stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung 1001C einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
4A ist eine Projektionsansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001C einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, und 4B ist eine Projektionsansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001C, in der einige Komponenten nicht dargestellt sind.
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001C, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, umfasst einen Bereich, in dem ein gekrümmter Abschnitt 111C ein erstes lichtemittierendes Feld 200C(1) überlappt, und das erste lichtemittierende Feld 200C(1) emittiert Licht zu einer Seite, auf der der gekrümmte Abschnitt 111C nicht bereitgestellt ist (siehe 4A und 4B). Das erste lichtemittierende Feld 200C(1) beinhaltet einen ersten Anschlussabschnitt 219C(1).
Das erste lichtemittierende Feld kann daher Licht emittieren, ohne von dem gekrümmten Abschnitt blockiert zu werden. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001C unterscheidet sich von der lichtemittierenden Vorrichtung 1001, die anhand von 1A bis 1D beschrieben worden ist, darin, dass die ersten bis vierten lichtemittierenden Felder 200C(1) bis 200C(4) derart bereitgestellt sind, dass konkave abwickelbare Flächen gebildet sind und die konkaven abwickelbaren Flächen Licht emittieren (siehe 1A). Unterschiedliche Komponenten werden nachstehend detailliert beschrieben, und bezüglich der anderen ähnlichen Komponenten wird auf die vorstehende Beschreibung Bezug genommen.
<<Gestell>>
Ein Gestell 100C umfasst einen ersten geraden Abschnitt 101C, einen zweiten geraden Abschnitt 102C und den gekrümmten Abschnitt 111C (siehe 4B).
Die Endabschnitte des ersten geraden Abschnitts 101C, des zweiten geraden Abschnitts 102C und des gekrümmten Abschnitts 111C können derart miteinander verbunden sein, dass ein Eckpunkt P gebildet ist (siehe 4A).
<<Lichtemittierendes Feld>>
Das lichtemittierende Feld 200C(1) und ein lichtemittierendes Feld 200C(2) sind auf der konkav gekrümmten Seite des gekrümmten Abschnitts 111C bereitgestellt.
Des Weiteren sind die ersten bis vierten lichtemittierenden Felder 200C(1) bis 200C(4) derart bereitgestellt, dass konkave abwickelbare Flächen gebildet sind und Licht zu der Seite emittiert wird, auf der die konkaven abwickelbaren Flächen gebildet sind.
Es sei angemerkt, dass eine Richtung, in der ein drittes lichtemittierendes Feld 200C(3) Licht emittiert, durch einen Pfeil in der Zeichnung dargestellt ist (siehe 4B).
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 2)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur einer Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand von 5A bis 5D beschrieben.
5A bis 5D stellen eine Struktur einer lichtemittierenden Vorrichtung 1001D einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
5A ist eine Projektionsansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001D einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, 5B ist eine Projektionsansicht eines Gestells 100D, das bei der lichtemittierenden Vorrichtung 1001D in 5A verwendet werden kann, und 5C ist eine Projektionsansicht der lichtemittierenden Vorrichtung 1001D in 5A, die um 90° im Uhrzeigersinn gedreht ist und in der einige Komponenten nicht dargestellt sind. 5D ist eine Seitenansicht, die eine Struktur eines Querschnitts entlang der Linie X5-X6 und eine innere Struktur der lichtemittierenden Vorrichtung 1001D in 5A darstellt.
<Strukturbeispiel 4 der lichtemittierenden Vorrichtung>
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001D, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, beinhaltet das Gestell 100D, ein flexibles erstes lichtemittierendes Feld 200D(1), das von dem Gestell 100D getragen wird, und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld 200D(2), das von dem Gestell 100D getragen wird (siehe 5A und 5B).
Das Gestell 100D umfasst einen ersten gekrümmten Abschnitt 111D, der das erste lichtemittierende Feld 200D(1) trägt, einen ersten geraden Abschnitt 101D, der das erste lichtemittierende Feld 200D(1) derart trägt, dass die erste abwickelbare Fläche F(1) zwischen dem ersten gekrümmten Abschnitt 111D und dem ersten geraden Abschnitt 101D gebildet ist, einen zweiten geraden Abschnitt 102D, der dem ersten geraden Abschnitt 101D entgegengesetzt ist, und einen zweiten gekrümmten Abschnitt 112D, der das zweite lichtemittierende Feld 200D(2) derart trägt, dass die zweite abwickelbare Fläche F(2) zwischen dem zweiten geraden Abschnitt 102D und dem zweiten gekrümmten Abschnitt 112D gebildet ist.
Das erste lichtemittierende Feld 200D(1) beinhaltet ein erstes lichtemittierendes Element 250D(1), einen ersten Anschlussabschnitt 219D(1), der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element 250D(1) verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101D zwischen dem ersten lichtemittierenden Element 250D(1) und dem ersten Anschlussabschnitt 219D(1) gebogen ist (siehe 5A und 5C).
Das zweite lichtemittierende Feld 200D(2) beinhaltet ein zweites lichtemittierendes Element 250D(2), einen zweiten Anschlussabschnitt 219D(2), der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element 250D(2) verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des zweiten geraden Abschnitts 102D zwischen dem zweiten lichtemittierenden Element 250D(2) und dem zweiten Anschlussabschnitt 219D(2) gebogen ist (siehe 5C).
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001D einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell 100D, das den ersten gekrümmten Abschnitt 111D, den ersten geraden Abschnitt 101D und den zweiten geraden Abschnitt 102D umfasst, das flexible erste lichtemittierende Feld 200D(1), das von dem Gestell 100D derart getragen wird, dass die erste abwickelbare Fläche F(1) gebildet ist, und das flexible zweite lichtemittierende Feld 200D(2), das von dem zweiten geraden Abschnitt 102D, der dem ersten geraden Abschnitt 101D entgegengesetzt ist, derart getragen wird, dass die zweite abwickelbare Fläche F(2) gebildet ist. Der erste Anschlussabschnitt 219D(1), der in dem ersten lichtemittierenden Feld 200D(1) enthalten ist, und der zweite Anschlussabschnitt 219D(2), der in dem zweiten lichtemittierenden Feld 200D(2) enthalten ist, werden entlang den Außenformen des ersten geraden Abschnitts 101D bzw. des zweiten geraden Abschnitts 102D eingeklappt.
Daher kann ein dreidimensionaler Teil ausgebildet werden, der die gekrümmte erste abwickelbare Fläche des ersten lichtemittierenden Feldes und die zweite abwickelbare Fläche des zweiten lichtemittierenden Feldes umfasst, das von dem zweiten geraden Abschnitt getragen wird, der dem ersten geraden Abschnitt entgegengesetzt ist, der das erste lichtemittierende Feld trägt. Des Weiteren können der erste Anschlussabschnitt des ersten lichtemittierenden Feldes und der zweite Anschlussabschnitt des zweiten lichtemittierenden Feldes aus einem Bereich zwischen dem ersten geraden Abschnitt und dem zweiten geraden Abschnitt herausgezogen werden. Folglich kann eine neuartige lichtemittierende Vorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist.
Zusätzlich können ein drittes bis achtes lichtemittierendes Feld 200D(3) bis 200D(8) bereitgestellt sein.
Im Folgenden werden Bestandteile der lichtemittierenden Vorrichtung 1001D beschrieben. Es sei angemerkt, dass sich diese Bestandteile nicht deutlich voneinander unterscheiden können und dass ein Bestandteil in einigen Fällen auch als weiterer Bestandteil dient oder einen Teil eines weiteren Bestandteils umfasst.
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001D unterscheidet sich von der lichtemittierenden Vorrichtung 1001B, die anhand von 3A, 3B, 3C1 und 3C2 beschrieben worden ist, darin, dass das Gestell 100D den zweiten geraden Abschnitt 102D umfasst, der dem ersten geraden Abschnitt 101D entgegengesetzt ist, dass das zweite lichtemittierende Feld 200D(2) nicht von dem gekrümmten Abschnitt 111 getragen wird und dass der erste Anschlussabschnitt 219D(1) und der zweite Anschlussabschnitt 219D(2) entlang den Außenformen des ersten geraden Abschnitts 101D bzw. des zweiten geraden Abschnitts 102D eingeklappt werden (siehe 3B). Hier werden unterschiedliche Komponenten detailliert beschrieben, und bezüglich der anderen ähnlichen Komponenten wird auf die Beschreibung der Ausführungsform 1 Bezug genommen.
<<Gesamtstruktur>>
Die lichtemittierende Vorrichtung 1001D einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell 100D, das erste lichtemittierende Feld 200D(1) und das zweite lichtemittierende Feld 200D(2).
<<Gestell>>
Das Gestell 100D umfasst den ersten geraden Abschnitt 101D, den zweiten geraden Abschnitt 102D und den gekrümmten Abschnitt 111D (siehe 5B).
Es sei angemerkt, dass das Gestell 100D, das beispielhaft bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, eine Form aufweist, bei der die geraden Abschnitte der zwei Gestelle 100, die beispielhaft bei der Ausführungsform 1 beschrieben worden sind, einander entgegengesetzt angeordnet sind.
Das Gestell 100D kann verschiedene dreidimensionale Teile aufweisen, die polygonale Querschnitte und Querschnitte mit Bogen umfassen.
Die Endabschnitte des ersten geraden Abschnitts 101D, des zweiten geraden Abschnitts 102D und des gekrümmten Abschnitts 111D können derart miteinander verbunden sein, dass ein Eckpunkt P gebildet ist.
Zusätzlich können ein dritter bis achter gerader Abschnitt 103D bis 108D bereitgestellt sein.
Zusätzlich können der zweite gekrümmte Abschnitt 112D bis ein achter gekrümmter Abschnitt 118D bereitgestellt sein.
Der gekrümmte Abschnitt 111D, der gekrümmte Abschnitt 112D, der gekrümmte Abschnitt 116D und der gekrümmte Abschnitt 115D können eine Form entlang einem Bogen aufweisen. Zudem können der gekrümmte Abschnitt 113D, der gekrümmte Abschnitt 114D, der gekrümmte Abschnitt 118D und der gekrümmte Abschnitt 117D eine Form entlang dem anderen Bogen aufweisen.
Am Scheitelpunkt kann außerdem der andere Bogen orthogonal zu dem einen Bogen sein, so dass der erste gerade Abschnitt 101D, der dritte gerade Abschnitt 103D, der fünfte gerade Abschnitt 105D und der siebte gerade Abschnitt 107D derart angeordnet sein können, dass ein Quadrat oder ein Rhombus gebildet ist, und der zweite gerade Abschnitt 102D, der vierte gerade Abschnitt 104D, der sechste gerade Abschnitt 106D und der achte gerade Abschnitt 108D derart angeordnet sein können, dass ein Quadrat oder ein Rhombus gebildet ist.
Am Scheitelpunkt kann alternativ der eine Bogen den anderen Bogen derart schneiden, dass der erste gerade Abschnitt 101D, der dritte gerade Abschnitt 103D, der fünfte gerade Abschnitt 105D und der siebte gerade Abschnitt 107D ein Rechteck bilden, und der zweite gerade Abschnitt 102D, der vierte gerade Abschnitt 104D, der sechste gerade Abschnitt 106D und der achte gerade Abschnitt 108D ein Rechteck bilden.
Der zweite gerade Abschnitt 102D ist dem ersten geraden Abschnitt 101D entgegengesetzt, und der erste Anschlussabschnitt 219D(1) und der zweite Anschlussabschnitt 219D(2) können zwischen dem ersten geraden Abschnitt 101D und dem zweiten geraden Abschnitt 102D angeordnet sein.
<<Lichtemittierendes Feld>>
Das erste lichtemittierende Feld 200D(1) wird derart getragen, dass die abwickelbare Fläche F(1) zwischen dem gekrümmten Abschnitt 111D und dem ersten geraden Abschnitt 101D gebildet ist, und der erste Anschlussabschnitt 219D(1) ist entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101D angeordnet (siehe 5C).
Der erste gerade Abschnitt 101D ist in Kontakt mit dem ersten lichtemittierenden Feld 200D(1) an einer Tangente, die in der Oberfläche des ersten geraden Abschnitts 101D enthalten ist.
Das zweite lichtemittierende Feld 200D(2) wird derart getragen, dass die abwickelbare Fläche F(2) zwischen dem gekrümmten Abschnitt 112D und dem zweiten geraden Abschnitt 102D gebildet ist, und der zweite Anschlussabschnitt 219D(2) ist entlang der Außenform des zweiten geraden Abschnitts 102D angeordnet.
Der zweite gerade Abschnitt 102D ist in Kontakt mit dem zweiten lichtemittierenden Feld 200D(2) an einer Tangente, die in der Oberfläche des zweiten geraden Abschnitts 102D enthalten ist.
Mit anderen Worten: Der erste Anschlussabschnitt 219D(1) und der zweite Anschlussabschnitt 219D(2) sind zwischen dem ersten geraden Abschnitt 101D und dem zweiten geraden Abschnitt 102D und entlang den Außenformen des ersten geraden Abschnitts 101D bzw. des zweiten geraden Abschnitts 102D angeordnet (siehe 5C).
Es sei angemerkt, dass die Tangente, an der der zweite gerade Abschnitt 102D in Kontakt mit dem zweiten lichtemittierenden Feld 200D(2) ist, im Wesentlichen parallel zu der Tangente ist, an der der erste gerade Abschnitt 101D in Kontakt mit dem ersten lichtemittierenden Feld 200D(1) ist.
Zusätzlich kann die lichtemittierende Vorrichtung 1001D die dritten bis achten lichtemittierenden Felder 200D(3) bis 200D(8) beinhalten.
Beispielsweise kann eine Struktur, die derjenigen des bei der Ausführungsform 1 beschriebenen lichtemittierenden Feldes ähnlich ist, für ein beliebiges der ersten bis achten lichtemittierenden Felder 200D(1) bis 200D(8) verwendet werden.
Es sei angemerkt, dass eine Richtung, in der das dritte lichtemittierende Feld 200D(3) Licht emittiert, durch einen Pfeil in der Zeichnung dargestellt ist (siehe 5A).
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 3)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur einer Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand von 6A und 6B beschrieben.
6A und 6B stellen eine Struktur einer Anzeigevorrichtung 1002 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar. 6A ist eine Projektionsansicht der Anzeigevorrichtung 1002 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die schräg von oben betrachtet wird, und 6B ist eine Projektionsansicht der Anzeigevorrichtung 1002 in 6A, die schräg von unten betrachtet wird.
<Strukturbeispiel 1 der Anzeigevorrichtung>
Die Anzeigevorrichtung 1002, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, beinhaltet ein Gestell 100E, ein flexibles erstes Anzeigefeld 300(1), das von dem Gestell 100E getragen wird, und ein flexibles zweites Anzeigefeld 300(2), das von dem Gestell 100E getragen wird (siehe 6A).
Das Gestell 100E umfasst einen gekrümmten Abschnitt 111E, der das erste Anzeigefeld 300(1) und das zweite Anzeigefeld 300(2) trägt, einen ersten geraden Abschnitt 101E, der das erste Anzeigefeld 300(1) derart trägt, dass eine erste abwickelbare Fläche zwischen dem gekrümmten Abschnitt 111E und dem ersten geraden Abschnitt 101E gebildet ist, und einen zweiten geraden Abschnitt 102E, der das zweite Anzeigefeld 300(2) derart trägt, dass eine zweite abwickelbare Fläche zwischen dem gekrümmten Abschnitt 111E und dem zweiten geraden Abschnitt 102E gebildet ist.
Das erste Anzeigefeld 300(1) beinhaltet ein erstes lichtemittierendes Element, einen ersten Anschlussabschnitt 319(1), der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101E zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt 319(1) gebogen ist.
Das zweite Anzeigefeld 300(2) beinhaltet ein zweites lichtemittierendes Element, einen zweiten Anschlussabschnitt 319(2), der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des zweiten geraden Abschnitts 102E zwischen dem zweiten lichtemittierenden Element und dem zweiten Anschlussabschnitt 319(2) gebogen ist.
Die Anzeigevorrichtung 1002, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, beinhaltet das Gestell 100E, das flexible erste Anzeigefeld 300(1), das von dem Gestell 100E derart getragen wird, dass die erste abwickelbare Fläche gebildet ist, und das flexible zweite Anzeigefeld 300(2), das von dem Gestell 100E derart getragen wird, dass die zweite abwickelbare Fläche gebildet ist.
Daher kann ein dreidimensionaler Teil ausgebildet werden, der die erste abwickelbare Fläche des ersten Anzeigefeldes, die zweite abwickelbare Fläche des zweiten Anzeigefeldes und eine gekrümmte Firstlinie zwischen der ersten abwickelbaren Fläche und der zweiten abwickelbaren Fläche umfasst. Folglich kann eine neuartige Anzeigevorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Eine derartige Anzeigevorrichtung kann beispielsweise als Anzeigevorrichtung, die ein Bild des ganzen Himmels und dergleichen anzeigt, als Planetarium oder dergleichen verwendet werden.
<<Gesamtstruktur>>
Die Anzeigevorrichtung 1002 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell 100E, das erste Anzeigefeld 300(1) und das zweite Anzeigefeld 300(2).
<<Gestell>>
Das Gestell 100E umfasst den gekrümmten Abschnitt 111E, den ersten geraden Abschnitt 101E und den zweiten geraden Abschnitt 102E.
Das Gestell 100E kann zwölf gekrümmte Abschnitte und zwölf gerade Abschnitte umfassen.
Das Gestell 100E kann sechs Paare gekrümmter Abschnitte umfassen, wobei jedes Paar zwei gekrümmte Abschnitte mit einer Form entlang einem Bogen umfasst.
Anstelle des Gestells 100E kann ein Gestell verwendet werden, das einen Träger in einem Abschnitt beinhaltet, in dem sich mehrere gekrümmte Abschnitte schneiden. Ein Beispiel dafür ist ein Gestell wie ein Schirmgestell, das einen Träger beinhaltet, der sich bis zur konkav gekrümmten Seite des gekrümmten Abschnitts erstreckt. Überdies kann eine Ansteuervorrichtung, die das Anzeigefeld 300(1) ansteuert, oder eine Stromquelle auf dem Träger angeordnet werden, und eine Leitung kann entlang dem gekrümmten Abschnitt angeordnet werden. Die Ansteuervorrichtung oder die Stromquelle und der Anschlussabschnitt 319(1) des Anzeigefeldes 300(1) können elektrisch mit der Leitung verbunden werden. Daher kann das Anzeigefeld 300(1) unter Verwendung der Ansteuervorrichtung oder der Stromquelle, welche auf dem Träger angeordnet ist, betrieben werden.
<<Anzeigefeld>>
Das erste Anzeigefeld 300(1) weist Flexibilität auf und beinhaltet das lichtemittierende Element und den ersten Anschlussabschnitt 319(1), der elektrisch mit dem lichtemittierenden Element verbunden ist.
Das zweite Anzeigefeld 300(2) weist Flexibilität auf und beinhaltet das lichtemittierende Element und den zweiten Anschlussabschnitt 319(2), der elektrisch mit dem lichtemittierenden Element verbunden ist.
Der erste Anschlussabschnitt 319(1) ist entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101E bereitgestellt, und der zweite Anschlussabschnitt 319(2) ist entlang der Außenform des zweiten geraden Abschnitts 102E bereitgestellt.
Erste Bilddaten werden dem ersten Anschlussabschnitt 319(1) zugeführt, und das erste Anzeigefeld 300(1) zeigt die ersten Bilddaten an.
Zweite Bilddaten werden dem zweiten Anschlussabschnitt 319(2) zugeführt, und das zweite Anzeigefeld 300(2) zeigt die zweiten Bilddaten an.
Das erste Anzeigefeld 300(1) wird von dem Gestell 100E derart getragen, dass die ersten Bilddaten auf einer Seite angezeigt werden, auf der die konkave abwickelbare Fläche gebildet ist (siehe 6B).
Das zweite Anzeigefeld 300(2) wird von dem Gestell 100E derart getragen, dass die zweiten Bilddaten auf einer Seite angezeigt werden, auf der die konkave abwickelbare Fläche gebildet ist.
Es sei angemerkt, dass die ersten Bilddaten dem ersten Anzeigefeld 300(1) zugeführt werden können und die zweiten Bilddaten, die in Zusammenhang mit den ersten Bilddaten stehen, dem zweiten Anzeigefeld 300(2) zugeführt werden können, so dass in einem Abschnitt, der der ersten abwickelbaren Fläche des ersten Anzeigefeldes 300(1) benachbart ist, d. h. in dem gekrümmten Abschnitt 111E, ein Bild, das sich von einem auf dem ersten Anzeigefeld 300(1) angezeigten Bild fortsetzt, auf der zweiten abwickelbaren Fläche des zweiten Anzeigefeldes 300(2) angezeigt wird.
Auf diese Weise können beispielsweise sich fortsetzende Bilder auf einer konkaven Oberfläche, die unter Verwendung einer Vielzahl von Anzeigefeldern ausgebildet wird, angezeigt werden, so dass ein Benutzer die Bilder als ein Bild erkennt.
Wenn insbesondere die Anzeigevorrichtung 1002 die Größe einer Schüssel, die groß genug ist, um das Gesicht des Benutzers der Anzeigevorrichtung 1002 zu verdecken, oder die Größe einer Kuppel aufweist, die groß genug ist, um den Benutzer zu enthalten, kann ein Bild, das dem Benutzer ein starkes Realitätsgefühl vermittelt, angezeigt werden.
Darüber hinaus kann ein Bild mit einer höheren Leuchtdichte angezeigt werden als ein mit einem Projektor angezeigtes Bild. Außerdem kann ein Bild mit einer höheren Auflösung angezeigt werden als ein mit einem Projektor angezeigtes Bild.
Insbesondere weist die Anzeigevorrichtung 1002 vorzugsweise einen Durchmesser von 20 cm oder größer, 1 m oder größer, 2 m oder größer, 5 m oder größer, 10 m oder größer, 20 m oder größer oder 30 m oder größer und 250 m oder kleiner auf.
Es sei angemerkt, dass ein Beispiel für eine Struktur eines Anzeigefeldes, das als erstes Anzeigefeld 300(1) oder zweites Anzeigefeld 300(2) verwendet werden kann, detailliert bei der Ausführungsform 5 beschrieben wird.
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 4)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand von 7A und 7D beschrieben.
7A bis 7D stellen eine Struktur einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
7A ist eine Projektionsansicht der Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die schräg von oben betrachtet wird, und 7B ist eine Projektionsansicht der Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003, in der einige Komponenten nicht dargestellt sind, 7C ist eine Projektionsansicht eines Gestells 100F, das bei der Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 in 7A verwendet werden kann, und 7D ist eine Seitenansicht, die eine Struktur eines Querschnitts entlang der Linie X7-X8 in 7A und eine innere Struktur darstellt.
<Strukturbeispiel der Eingabe-/Ausgabevorrichtung>
Die Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003, die bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, beinhaltet das Gestell 100F, einen flexiblen ersten Touchscreen 500(1), der von dem Gestell 100F getragen wird, und einen flexiblen zweiten Touchscreen 500(2), der von dem Gestell 100F getragen wird (siehe 7A und 7C).
Das Gestell 100F umfasst einen ersten gekrümmten Abschnitt 111F, der den ersten Touchscreen 500(1) trägt, einen ersten geraden Abschnitt 101F, der den ersten Touchscreen 500(1) derart trägt, dass eine erste abwickelbare Fläche zwischen dem ersten gekrümmten Abschnitt 111F und dem ersten geraden Abschnitt 101F gebildet ist, einen zweiten geraden Abschnitt 102F, der dem ersten geraden Abschnitt 101F entgegengesetzt ist, und einen zweiten gekrümmten Abschnitt, der den zweiten Touchscreen 500(2) derart trägt, dass die zweite abwickelbare Fläche zwischen dem zweiten geraden Abschnitt 102F und dem zweiten gekrümmten Abschnitt gebildet ist (siehe 7A und 7C).
Der erste Touchscreen 500(1) beinhaltet ein erstes lichtemittierendes Element, einen ersten Anschlussabschnitt 519(1), der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts 101F zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt 519(1) gebogen ist (siehe 7D).
Der zweite Touchscreen 500(2) beinhaltet ein zweites lichtemittierendes Element, einen zweiten Anschlussabschnitt 519(2), der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich, der entlang der Außenform des zweiten geraden Abschnitts 102F zwischen dem zweiten lichtemittierenden Element und dem zweiten Anschlussabschnitt 519(2) gebogen ist.
Die Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell 100F, das den ersten gekrümmten Abschnitt 111F, den ersten geraden Abschnitt 101F und den zweiten geraden Abschnitt 102F umfasst, den flexiblen ersten Touchscreen 500(1), der von dem Gestell 100F derart getragen wird, dass die erste abwickelbare Fläche gebildet ist, und den flexiblen zweiten Touchscreen 500(2), der von dem zweiten geraden Abschnitt 102F, der dem ersten geraden Abschnitt 101F entgegengesetzt ist, derart getragen wird, dass die zweite abwickelbare Fläche gebildet ist. Des Weiteren werden der erste Anschlussabschnitt 519(1), der in dem ersten Touchscreen 500(1) enthalten ist, und der zweite Anschlussabschnitt 519(2), der in dem zweiten Touchscreen 500(2) enthalten ist, entlang den Außenformen des ersten geraden Abschnitts 101F bzw. des zweiten geraden Abschnitts 102F eingeklappt.
Daher kann ein dreidimensionaler Teil ausgebildet werden, der die gekrümmte erste abwickelbare Fläche des ersten Touchscreens und die zweite abwickelbare Fläche des zweiten Touchscreens umfasst, der von dem zweiten geraden Abschnitt getragen wird, der dem ersten geraden Abschnitt entgegengesetzt ist, der den ersten Touchscreen trägt. Des Weiteren können der erste Anschlussabschnitt des ersten Touchscreens und der zweite Anschlussabschnitt des zweiten Touchscreens aus einem Bereich zwischen dem ersten geraden Abschnitt und dem zweiten geraden Abschnitt herausgezogen werden. Folglich kann eine neuartige Eingabe-/Ausgabevorrichtung bereitgestellt werden, die sehr zweckmäßig oder zuverlässig ist. Beispielsweise wird eine Landkarte oder dergleichen auf der Eingabe-/Ausgabevorrichtung dieser Ausführungsform angezeigt, wodurch die Eingabe-/Ausgabevorrichtung für einen Erdglobus, einen Sternenglobus oder dergleichen verwendet werden kann. Zudem kann man einen Befehl geben, um einen Teil einer Landkarte oder dergleichen, die unter Verwendung eines Touchscreens angezeigt wird, zu vergrößern und den vergrößerten Teil anzuzeigen.
<<Gesamtstruktur>>
Die Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Gestell 100F, den ersten Touchscreen 500(1) und den zweiten Touchscreen 500(2).
<<Gestell>>
Das Gestell 100F umfasst den gekrümmten Abschnitt 111F, den ersten geraden Abschnitt 101F und den zweiten geraden Abschnitt 102F.
Das Gestell 100F kann vierundzwanzig gekrümmte Abschnitte und vierundzwanzig gerade Abschnitte umfassen.
Das Gestell 100F kann sechs Paare gekrümmter Abschnitte umfassen, wobei jedes Paar vier gekrümmte Abschnitte mit einer Form entlang einem Bogen umfasst.
<<Touchscreen>>
Der erste Touchscreen 500(1) weist Flexibilität auf und beinhaltet das lichtemittierende Element und den ersten Anschlussabschnitt 519(1), der elektrisch mit dem lichtemittierenden Element verbunden ist.
Der zweite Touchscreen 500(2) weist Flexibilität auf und beinhaltet das lichtemittierende Element und den zweiten Anschlussabschnitt 519(2), der elektrisch mit dem lichtemittierenden Element verbunden ist.
Erste Bilddaten werden dem ersten Anschlussabschnitt 519(1) zugeführt, und der erste Touchscreen 500(1) zeigt die ersten Bilddaten an.
Zweite Bilddaten werden dem zweiten Anschlussabschnitt 519(2) zugeführt, und der zweite Touchscreen 500(2) zeigt die zweiten Bilddaten an.
Der erste Touchscreen 500(1) wird von dem Gestell 100F derart getragen, dass die ersten Bilddaten auf einer Seite angezeigt werden, auf der die konvexe abwickelbare Fläche gebildet ist (siehe 7B).
Der zweite Touchscreen 500(2) wird von dem Gestell 100F derart getragen, dass die zweiten Bilddaten auf einer Seite angezeigt werden, auf der die konvexe abwickelbare Fläche gebildet ist.
Es sei angemerkt, dass die ersten Bilddaten dem ersten Touchscreen 500(1) zugeführt werden können und die zweiten Bilddaten, die in Zusammenhang mit den ersten Bilddaten stehen, dem zweiten Touchscreen 500(2) zugeführt werden können, so dass in einem Abschnitt, der der ersten abwickelbaren Fläche des ersten Touchscreens 500(1) benachbart ist, d. h. in dem ersten gekrümmten Abschnitt 111F, ein Bild, das sich von einem auf dem ersten Touchscreen 500(1) angezeigten Bild fortsetzt, auf der zweiten abwickelbaren Fläche des zweiten Touchscreens 500(2) angezeigt wird.
Daher kann beispielsweise ein Bild, das von einem Benutzer der Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 zu sehen ist, auf dem ersten Touchscreen 500(1) und dem zweiten Touchscreen 500(2) angezeigt werden, als ob sich ein Gegenstand innerhalb des dreidimensionalen Teils befindet, der die erste abwickelbare Fläche des ersten Touchscreens 500(1) und die zweite abwickelbare Fläche des zweiten Touchscreens 500(2) umfasst.
Insbesondere kann ein Bild, das mit dem rechten Auge des Benutzers zu sehen ist, auf dem ersten Touchscreen 500(1) angezeigt werden, der auf der rechten Seite des Benutzers angeordnet ist, und ein Bild, das mit dem linken Auge des Benutzers zu sehen ist, kann auf dem zweiten Touchscreen 500(2) angezeigt werden, der auf der linken Seite des Benutzers angeordnet ist.
Demzufolge kann der Benutzer der Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 das Bild sehen, als ob sich der Gegenstand, der auf der Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 angezeigt wird, wirklich innerhalb der Eingabe-/Ausgabevorrichtung 1003 befindet.
Darüber hinaus können dann, wenn Bedienbefehle im Voraus einem anzuzeigenden Bild zugeordnet werden, die Bedienbefehle unter Verwendung des ersten Touchscreens 500(1) oder des zweiten Touchscreens 500(2) gegeben werden.
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 5)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur eines Anzeigefeldes, das bei der Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, anhand von 8A bis 8C beschrieben.
8A ist eine Draufsicht, die die Struktur eines Anzeigefeldes darstellt, das bei der Anzeigevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann.
8B ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie A-B und der Linie C-D in 8A.
8C ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie E-F in 8A.
<Draufsicht>
Das Anzeigefeld 300, das beispielhaft bei dieser Ausführungsform beschrieben wird, beinhaltet einen Anzeigeabschnitt 301 (siehe 8A).
In dem Anzeigeabschnitt 301 ist eine Vielzahl von Pixeln 302 bereitgestellt, und eine Vielzahl von Subpixeln (z. B. ein Subpixel 302R) ist in jedem der Pixel 302 bereitgestellt. In den Subpixeln sind zudem lichtemittierende Elemente und Pixelschaltungen bereitgestellt, die elektrische Energie zum Betrieb der lichtemittierenden Elemente zuführen können.
Die Pixelschaltungen sind elektrisch mit Leitungen, über die Auswahlsignale zugeführt werden, und Leitungen verbunden, über die Datensignale zugeführt werden.
Des Weiteren ist der Anzeigeabschnitt 301 mit einer Abtastleitungstreiberschaltung 303g, die Auswahlsignale zuführen kann, und einer Datenleitungstreiberschaltung 303s versehen, die Datensignale zuführen kann.
<Querschnittsansicht>
Das Anzeigefeld 300 beinhaltet eine Basis 310 und eine Basis 370, die der Basis 310 zugewandt ist (siehe 8B).
Bei der Basis 310 handelt es sich um eine Schichtanordnung, die eine flexible Basis 310b, einen Sperrfilm 310a, der eine Diffusion von Verunreinigungen in die lichtemittierenden Elemente verhindert, und eine Klebeschicht 310c umfasst, mit der der Sperrfilm 310a an der Basis 310b befestigt ist.
Bei der Basis 370 handelt es sich um eine Schichtanordnung, die eine flexible Basis 370b, einen Sperrfilm 370a, der eine Diffusion von Verunreinigungen in die lichtemittierenden Elemente verhindert, und eine Klebeschicht 370c umfasst, mit der der Sperrfilm 370a an der Basis 370b befestigt ist.
Mit einem Dichtungsmittel 360, das auch als optische Klebeschicht dient, ist die Basis 370 an der Basis 310 befestigt. Die Pixelschaltungen und die lichtemittierenden Elemente (z. B. ein erstes lichtemittierendes Element 350R) sind zwischen der Basis 310 und der Basis 370 bereitgestellt.
<<Pixelstruktur>>
Jedes der Pixel 302 umfasst ein Subpixel 302R, ein Subpixel 302G und ein Subpixel 302B (siehe 8C). Das Subpixel 302R beinhaltet ein lichtemittierendes Modul 380R, das Subpixel 302G beinhaltet ein lichtemittierendes Modul 380G, und das Subpixel 302B beinhaltet ein lichtemittierendes Modul 380B.
Zum Beispiel beinhaltet das Subpixel 302R das erste lichtemittierende Element 350R und die Pixelschaltung, die dem ersten lichtemittierenden Element 350R elektrische Energie zuführen kann und einen Transistor 302t beinhaltet (siehe 8B). Das lichtemittierende Modul 380R beinhaltet ferner das erste lichtemittierende Element 350R und ein optisches Element (z. B. eine erste Farbschicht 367R).
Das erste lichtemittierende Element 350R beinhaltet eine untere Elektrode 351R, eine obere Elektrode 352 und eine Schicht 353, die eine lichtemittierende organische Verbindung enthält und zwischen der unteren Elektrode 351R und der oberen Elektrode 352 liegt.
Die Schicht 353, die eine lichtemittierende organische Verbindung enthält, umfasst eine lichtemittierende Einheit 353a, eine lichtemittierende Einheit 353b und eine Zwischenschicht 354 zwischen den lichtemittierenden Einheiten 353a und 353b.
Das lichtemittierende Modul 380R beinhaltet die erste Farbschicht 367R auf der Basis 370. Die Farbschicht lässt Licht einer bestimmten Wellenlänge durch und ist beispielsweise eine Schicht, die selektiv Licht in der Farbe Rot, Grün oder Blau durchlässt. Ein Bereich, der Licht, das von dem lichtemittierenden Element emittiert wird, als solches durchlässt, kann ebenfalls bereitgestellt sein.
Das lichtemittierende Modul 380R beinhaltet beispielsweise das Dichtungsmittel 360, das auch als optische Klebeschicht dient und in Kontakt mit dem ersten lichtemittierenden Element 350R und der ersten Farbschicht 367R ist.
Die erste Farbschicht 367R ist in einem Bereich positioniert, der das erste lichtemittierende Element 350R überlappt. Demzufolge passiert ein Teil von Licht, das von dem ersten lichtemittierenden Element 350R emittiert wird, das auch als optische Klebeschicht dienende Dichtungsmittel 360 und die erste Farbschicht 367R und wird zur Außenseite des lichtemittierenden Moduls 380R emittiert, wie Pfeile in 8B und 8C zeigen.
<<Struktur des Anzeigefeldes>>
Das Anzeigefeld 300 beinhaltet eine lichtundurchlässige Schicht 367BM auf der Basis 370. Die lichtundurchlässige Schicht 367BM ist derart bereitgestellt, dass sie die Farbschicht (z. B. die erste Farbschicht 367R) umgibt.
Das Anzeigefeld 300 beinhaltet eine Antireflexionsschicht 367p, die in einem Bereich positioniert ist, der den Anzeigeabschnitt 301 überlappt.
Das Anzeigefeld 300 beinhaltet einen isolierenden Film 321. Der isolierende Film 321 bedeckt den Transistor 302t. Es sei angemerkt, dass der isolierende Film 321 als Schicht zum Planarisieren der durch die Pixelschaltungen hervorgerufenen Unebenheit verwendet werden kann. Ein isolierender Film, auf dem eine Schicht angeordnet ist, die eine Diffusion von Verunreinigungen in den Transistor 302t und dergleichen verhindern kann, kann als isolierender Film 321 verwendet werden.
Das Anzeigefeld 300 beinhaltet die lichtemittierenden Elemente (z. B. das erste lichtemittierende Element 350R) über dem isolierenden Film 321.
Das Anzeigefeld 300 beinhaltet eine Trennwand 328, die über dem isolierenden Film 321 liegt und einen Endabschnitt der unteren Elektrode 351R überlappt (siehe 8C). Zusätzlich ist ein Abstandshalter 329, der den Abstand zwischen der Basis 310 und der Basis 370 steuert, auf der Trennwand 328 bereitgestellt.
<<Struktur der Datenleitungstreiberschaltung>>
Die Datenleitungstreiberschaltung 303s beinhaltet einen Transistor 303t und einen Kondensator 303c. Es sei angemerkt, dass die Treiberschaltung im gleichen Prozess über demselben Substrat wie die Pixelschaltungen ausgebildet werden kann.
<<Weitere Komponenten>>
Das Anzeigefeld 300 beinhaltet eine Leitung 311, über die ein Signal zugeführt wird. Die Leitung 311 ist mit einem Anschlussabschnitt 319 versehen. Es sei angemerkt, dass eine flexible gedruckte Schaltung 309, über die ein Signal, wie z. B. ein Datensignal oder ein Synchronisationssignal, zugeführt werden kann, elektrisch mit dem Anschlussabschnitt 319 verbunden ist.
Es sei angemerkt, dass eine gedruckte Leiterplatte (printed wiring board, PWB) an der flexiblen gedruckten Schaltung 309 befestigt sein kann. Die Kategorie der lichtemittierenden Vorrichtung in dieser Beschreibung umfasst nicht nur die lichtemittierende Vorrichtung als solche, sondern auch die lichtemittierende Vorrichtung, die mit einer flexiblen gedruckten Schaltung oder einer gedruckten Leiterplatte versehen ist.
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 6)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur eines faltbaren Touchscreens, der bei einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, anhand von 9A und 9B sowie 10A bis 10C beschrieben.
9A ist eine perspektivische Ansicht eines Touchscreens 500, der bei dieser Ausführungsform beschrieben wird. Es sei angemerkt, dass 9A und 9B der Einfachheit halber nur Hauptbestandteile darstellen. 9B ist eine perspektivische Ansicht des Touchscreens 500.
10A ist eine Querschnittsansicht des Touchscreens 500 entlang der Linie X1-X2 in 9A.
Der Touchscreen 500 beinhaltet einen Anzeigeabschnitt 501 und einen Berührungssensor 595 (siehe 9B). Der Touchscreen 500 beinhaltet ferner die Basis 510, eine Basis 570 und eine Basis 590. Es sei angemerkt, dass die Basis 510, die Basis 570 und die Basis 590 jeweils Flexibilität aufweisen.
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet die Basis 510, eine Vielzahl von Pixeln über der Basis 510 und eine Vielzahl von Leitungen 511, über die den Pixeln Signale zugeführt werden. Die Vielzahl von Leitungen 511 erstreckt sich bis zu einem peripheren Abschnitt der Basis 510, und ein Teil der Vielzahl von Leitungen 511 bildet einen Anschlussabschnitt 519. Der Anschlussabschnitt 519 ist elektrisch mit einer flexiblen gedruckten Schaltung 509(1) verbunden.
<Berührungssensor>
Die Basis 590 beinhaltet den Berührungssensor 595 und eine Vielzahl von Leitungen 598, die elektrisch mit dem Berührungssensor 595 verbunden sind. Die Vielzahl von Leitungen 598 erstreckt sich bis zu einem peripheren Abschnitt der Basis 590, und ein Teil der Vielzahl von Leitungen 598 bildet den Anschlussabschnitt 519. Der Anschlussabschnitt 519 ist elektrisch mit einer flexiblen gedruckten Schaltung 509(2) verbunden. Es sei angemerkt, dass in 9B Elektroden, Leitungen und dergleichen des Berührungssensors 595, der auf der Basis 590 bereitgestellt ist, der Deutlichkeit halber durch durchgezogene Linien dargestellt sind.
Als Berührungssensor 595 kann ein kapazitiver Berührungssensor verwendet werden. Beispiele für den kapazitiven Berührungssensor sind ein Oberflächen-kapazitiver Berührungssensor und ein projiziert-kapazitiver Berührungssensor.
Beispiele für den projiziert-kapazitiven Berührungssensor sind ein eigenkapazitiver Berührungssensor und ein gegenseitig kapazitiver Berührungssensor, welche sich hauptsächlich im Betriebsverfahren voneinander unterscheiden. Die Verwendung eines gegenseitig kapazitiven Typs wird bevorzugt, weil mehrere Punkte gleichzeitig erkannt werden können.
Der Fall der Verwendung eines projiziert-kapazitiven Berührungssensors wird nachfolgend anhand von 9B beschrieben.
Es sei angemerkt, dass verschiedene Sensoren verwendet werden können, die die Nähe oder den Kontakt eines zu erfassenden Gegenstandes, wie z. B. eines Fingers, erkennen können.
Der projiziert-kapazitive Berührungssensor 595 beinhaltet Elektroden 591 und Elektroden 592. Die Elektroden 591 sind elektrisch mit einer der Vielzahl von Leitungen 598 verbunden, und die Elektroden 592 sind elektrisch mit einer der anderen Leitungen 598 verbunden.
Die Elektroden 592 weisen jeweils die Form einer Vielzahl von Vierecken auf, die in einer Richtung angeordnet sind, wobei eine Ecke eines Vierecks mit einer Ecke eines weiteren Vierecks verbunden ist, wie in 9A und 9B dargestellt.
Die Elektroden 591 weisen jeweils eine viereckige Form auf und sind in einer Richtung angeordnet, die die Richtung schneidet, in die sich die Elektroden 592 erstrecken.
Eine Leitung 594 verbindet zwei Elektroden 591 elektrisch, zwischen denen die Elektrode 592 positioniert ist. Die Schnittfläche der Elektrode 592 und der Leitung 594 ist vorzugsweise so klein wie möglich. Eine derartige Struktur ermöglicht eine Verringerung der Fläche eines Bereichs, in dem die Elektroden nicht bereitgestellt sind, so dass eine Ungleichmäßigkeit der Durchlässigkeit verringert wird. Das hat zur Folge, dass eine Ungleichmäßigkeit der Leuchtdichte von Licht von dem Berührungssensor 595 verringert werden kann.
Es sei angemerkt, dass die Formen der Elektroden 591 und der Elektroden 592 nicht auf die oben erwähnten Formen beschränkt sind und sie verschiedene Formen aufweisen können. Beispielsweise kann die Vielzahl von Elektroden 591 derart bereitgestellt sein, dass der Zwischenraum zwischen den Elektroden 591 möglichst verringert wird, und eine Vielzahl von Elektroden 592 kann mit einer isolierenden Schicht versehen sein, die zwischen den Elektroden 591 und den Elektroden 592 liegt, und kann voneinander getrennt angeordnet sein, um einen Bereich zu bilden, der die Elektroden 591 nicht überlappt. In diesem Fall wird bevorzugt, dass zwischen zwei benachbarten Elektroden 592 eine Dummy-Elektrode, die elektrisch von diesen Elektroden isoliert ist, bereitgestellt wird, wodurch die Fläche eines Bereichs mit einer unterschiedlichen Durchlässigkeit verringert werden kann.
Die Struktur des Berührungssensors 595 wird anhand von 10A bis 10C beschrieben.
Der Berührungssensor 595 beinhaltet die Basis 590, die Elektroden 591 und die Elektroden 592, welche in einer versetzten Anordnung auf der Basis 590 angeordnet sind, eine isolierende Schicht 593, die die Elektroden 591 und die Elektroden 592 bedeckt, sowie die Leitung 594, die die benachbarten Elektroden 591 elektrisch miteinander verbindet.
Mit einer Harzschicht 597 ist die Basis 590 an der Basis 570 befestigt, so dass der Berührungssensor 595 den Anzeigeabschnitt 501 überlappt.
Die Elektroden 591 und die Elektroden 592 werden unter Verwendung eines lichtdurchlässigen leitenden Materials ausgebildet. Als lichtdurchlässiges leitendes Material kann ein leitendes Oxid, wie z. B. Indiumoxid, Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Zinkoxid oder Zinkoxid, dem Gallium zugesetzt ist, verwendet werden. Es sei angemerkt, dass auch ein Film, der Graphen enthält, verwendet werden kann. Der Film, der Graphen enthält, kann beispielsweise durch eine Reduktion eines Films, der Graphenoxid enthält, ausgebildet werden. Als Reduktionsverfahren kann ein Verfahren, bei dem Wärme geliefert wird, oder dergleichen zum Einsatz kommen.
Die Elektroden 591 und die Elektroden 592 können ausgebildet werden, indem ein lichtdurchlässiges leitendes Material durch ein Sputterverfahren auf der Basis 590 abgeschieden wird und dann ein unnötiger Teil durch eine beliebige verschiedener Strukturierungstechniken, wie z. B. Photolithographie, entfernt wird.
Beispiele für ein Material für die isolierende Schicht 593 umfassen Harze, wie z. B. ein Acrylharz und ein Epoxidharz, ein Harz mit einer Siloxanbindung und anorganische isolierende Materialien, wie z. B. Siliziumoxid, Siliziumoxynitrid und Aluminiumoxid.
Des Weiteren sind Öffnungen, die die Elektroden 591 erreichen, in der isolierenden Schicht 593 ausgebildet, und die Leitung 594 verbindet die benachbarten Elektroden 591 elektrisch. Ein lichtdurchlässiges leitendes Material kann für die Leitung 594 vorteilhaft verwendet werden, da das Öffnungsverhältnis des Touchscreens erhöht werden kann. Außerdem kann ein Material, das höhere Leitfähigkeit aufweist als die Elektroden 591 und 592, für die Leitung 594 vorteilhaft verwendet werden, da der elektrische Widerstand verringert werden kann.
Eine Elektrode 592 erstreckt sich in eine Richtung, und eine Vielzahl von Elektroden 592 ist in Streifenform bereitgestellt.
Die Leitung 594 schneidet die Elektrode 592.
Zwischen benachbarten Elektroden 591 ist eine Elektrode 592 bereitgestellt. Die Leitung 594 verbindet die benachbarten Elektroden 591 elektrisch.
Es sei angemerkt, dass die Vielzahl von Elektroden 591 nicht notwendigerweise in der Richtung orthogonal zu einer Elektrode 592 angeordnet ist und derart angeordnet sein kann, dass sie eine Elektrode 592 in einem Winkel von weniger als 90° schneidet.
Eine Leitung 598 ist elektrisch mit einer der Elektroden 591 und 592 verbunden. Ein Teil der Leitung 598 dient als Anschlussabschnitt. Für die Leitung 598 kann ein Metallmaterial, wie z. B. Aluminium, Gold, Platin, Silber, Nickel, Titan, Wolfram, Chrom, Molybdän, Eisen, Kobalt, Kupfer oder Palladium, oder ein Legierungsmaterial verwendet werden, das ein beliebiges dieser Metallmaterialien enthält.
Es sei angemerkt, dass eine isolierende Schicht, die die isolierende Schicht 593 und die Leitung 594 bedeckt, bereitgestellt sein kann, um den Berührungssensor 595 zu schützen.
Eine Verbindungsschicht 599 verbindet ferner die Leitung 598 elektrisch mit der flexiblen gedruckten Schaltung 509(2).
Als Verbindungsschicht 599 kann ein beliebiges Material aus verschiedenen anisotropen leitenden Filmen (anisotropic conductive film, ACF), anisotropen leitenden Pasten (anisotropic conductive paste, ACP) oder dergleichen verwendet werden.
Die Harzschicht 597 weist eine lichtdurchlässige Eigenschaft auf. Zum Beispiel kann ein wärmehärtendes Harz oder ein ultravioletthärtendes Harz verwendet werden; insbesondere kann ein Harz, wie z. B. ein Acrylharz, ein Urethanharz, ein Epoxidharz oder ein Harz mit einer Siloxanbindung, verwendet werden.
<Anzeigeabschnitt>
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet eine Vielzahl von Pixeln, die in einer Matrix angeordnet sind. Jedes der Pixel beinhaltet ein Anzeigeelement und eine Pixelschaltung zum Betrieb des Anzeigeelementes.
Bei dieser Ausführungsform wird ein Beispiel beschrieben, bei dem ein organisches Elektrolumineszenzelement, das weißes Licht emittiert, als Anzeigeelement verwendet wird; jedoch ist das Anzeigeelement nicht auf ein derartiges Element beschränkt.
Beispielsweise können organische Elektrolumineszenzelemente, die Licht in verschiedenen Farben emittieren, in Subpixeln enthalten sein, so dass das Licht in verschiedenen Farben von den jeweiligen Subpixeln emittiert werden kann.
Neben organischen Elektrolumineszenzelementen kann ein beliebiges verschiedener Anzeigeelemente verwendet werden, wie beispielsweise Anzeigeelemente, bei denen durch ein Elektrophoreseverfahren (elektronische Tinte), ein Verfahren mit Electronic Liquid Powder (eingetragenes Warenzeichen), ein Elektrobenetzungsverfahren oder dergleichen eine Anzeige erfolgt, MEMS-Shutter-Anzeigeelemente, MEMS-Anzeigeelemente vom optischen Interferenztyp und Flüssigkristallelemente.
Ferner kann diese Ausführungsform für eine durchlässige Flüssigkristallanzeige, eine halbdurchlässige bzw. transflektive Flüssigkristallanzeige, eine reflektierende Flüssigkristallanzeige, eine Direktsicht-Flüssigkristallanzeige oder dergleichen verwendet werden. Im Fall einer transflektiven Flüssigkristallanzeige oder einer reflektierenden Flüssigkristallanzeige dienen einige oder alle Pixelelektroden als reflektierende Elektroden. Beispielsweise sind einige oder alle Pixelelektroden derart ausgebildet, dass sie Aluminium, Silber oder dergleichen enthalten. In einem solchen Fall kann eine Speicherschaltung, wie z. B. ein SRAM, unter den reflektierenden Elektroden bereitgestellt sein, was zu einem niedrigeren Stromverbrauch führt. Eine Struktur, die für die zu verwendenden Anzeigeelemente geeignet ist, kann aus verschiedenen Strukturen der Pixelschaltungen ausgewählt werden.
In dem Anzeigeabschnitt kann ein Aktivmatrixverfahren, bei dem ein aktives Element in einem Pixel enthalten ist, oder ein Passivmatrixverfahren verwendet werden, bei dem kein aktives Element in einem Pixel enthalten ist.
Bei einem Aktivmatrixverfahren können als aktives Element (nichtlineares Element) nicht nur ein Transistor, sondern auch verschiedene aktive Elemente (nichtlineare Elemente) verwendet werden. Beispielsweise kann auch ein Metall-Isolator-Metall (MIM), eine Dünnschichtdiode (thin film diode, TFD) oder dergleichen verwendet werden. Da ein derartiges Element eine kleine Anzahl von Herstellungsschritten aufweist, können die Herstellungskosten verringert werden oder kann die Ausbeute verbessert werden. Alternativ kann, da die Größe des Elementes klein ist, das Öffnungsverhältnis verbessert werden, so dass der Stromverbrauch verringert oder eine höhere Leuchtdichte erzielt werden kann.
Als anderes Verfahren als das Aktivmatrixverfahren kann auch das Passivmatrixverfahren verwendet werden, bei dem kein aktives Element (kein nichtlineares Element) verwendet wird. Da kein aktives Element (kein nichtlineares Element) verwendet wird, ist die Anzahl von Herstellungsschritten klein, so dass die Herstellungskosten verringert werden können oder die Ausbeute verbessert werden kann. Alternativ kann, da kein aktives Element (kein nichtlineares Element) verwendet wird, das Öffnungsverhältnis verbessert werden, so dass beispielsweise der Stromverbrauch verringert oder eine höhere Leuchtdichte erzielt werden kann.
Flexible Materialien können bei der Basis 510 und der Basis 570 vorteilhaft verwendet werden.
Materialien, die einen Durchgang von Verunreinigungen verhindern, können bei der Basis 510 und der Basis 570 vorteilhaft verwendet werden. Beispielsweise können Materialien mit einer Wasserdampfdurchlässigkeit von niedriger als oder gleich 10^–5 g/(m²·Tag), bevorzugt niedriger als oder gleich 10^–6 g/(m²·Tag) vorteilhaft verwendet werden.
Die Basis 510 kann unter Verwendung eines Materials vorteilhaft ausgebildet werden, deren Längenausdehnungskoeffizient im Wesentlichen gleich demjenigen der Basis 570 ist. Zum Beispiel sind die Längenausdehnungskoeffizienten der Materialien bevorzugt niedriger als oder gleich 1 × 10^–3/K, bevorzugter niedriger als oder gleich 5 × 10^–5/K und noch bevorzugter niedriger als oder gleich 1 × 10^–5/K.
Bei der Basis 510 handelt es sich um eine Schichtanordnung, bei der eine flexible Basis 510b, ein Sperrfilm 510a, der eine Diffusion von Verunreinigungen in lichtemittierende Elemente verhindert, und eine Harzschicht 510c, mit der der Sperrfilm 510a an der Basis 510b befestigt ist, übereinander angeordnet sind.
Für die Harzschicht 510c können beispielsweise Materialien verwendet werden, die Polyester, Polyolefin, Polyamid (z. B. Nylon, Aramid), Polyimid, Polycarbonat oder ein Harz mit einer Acrylbindung, einer Urethanbindung, einer Epoxidbindung oder einer Siloxanbindung enthalten.
Bei der Basis 570 handelt es sich um eine Schichtanordnung, bei der eine flexible Basis 570b, ein Sperrfilm 570a, der eine Diffusion von Verunreinigungen in die lichtemittierenden Elemente verhindert, und eine Harzschicht 570c, mit der der Sperrfilm 570a an der Basis 570b befestigt ist, übereinander angeordnet sind.
Mit einem Dichtungsmittel 560 ist die Basis 570 an der Basis 510 befestigt. Das Dichtungsmittel 560 weist einen höheren Brechungsindex auf als die Luft. In dem Fall, in dem Licht an der Seite des Dichtungsmittels 560 extrahiert wird, dient das Dichtungsmittel 560 auch als optische Klebeschicht. Die Pixelschaltungen und die lichtemittierenden Elemente (z. B. ein erstes lichtemittierendes Element 550R) sind zwischen der Basis 510 und der Basis 570 bereitgestellt.
<<Pixelstruktur>>
Ein Pixel beinhaltet ein Subpixel 502R, und das Subpixel 502R beinhaltet ein lichtemittierendes Modul 580R.
Das Subpixel 502R beinhaltet das erste lichtemittierende Element 550R und die Pixelschaltung, die dem ersten lichtemittierenden Element 550R elektrische Energie zuführen kann und einen Transistor 502t beinhaltet. Das lichtemittierende Modul 580R beinhaltet ferner das erste lichtemittierende Element 550R und ein optisches Element (z. B. eine Farbschicht 567R).
Das erste lichtemittierende Element 550R beinhaltet eine untere Elektrode, eine obere Elektrode und eine Schicht, die eine lichtemittierende organische Verbindung enthält und zwischen der unteren Elektrode und der oberen Elektrode liegt.
Das lichtemittierende Modul 580R beinhaltet die erste Farbschicht 567R auf der Lichtaustrittsseite. Die Farbschicht lässt Licht einer bestimmten Wellenlänge durch und ist beispielsweise eine Schicht, die selektiv Licht in der Farbe Rot, Grün oder Blau durchlässt. Es sei angemerkt, dass ein Bereich, der das von dem lichtemittierenden Element emittierte Licht als solches durchlässt, ebenfalls in einem weiteren Subpixel bereitgestellt sein kann.
In dem Fall, in dem das Dichtungsmittel 560 auf der Lichtaustrittsseite bereitgestellt ist, ist das Dichtungsmittel 560 in Kontakt mit dem ersten lichtemittierenden Element 550R und der ersten Farbschicht 567R.
Die erste Farbschicht 567R ist in einem Bereich positioniert, der das erste lichtemittierende Element 550R überlappt. Demzufolge passiert ein Teil von Licht, das von dem lichtemittierenden Element 550R emittiert wird, die erste Farbschicht 567R und wird zur Außenseite des lichtemittierenden Moduls 580R emittiert, wie ein Pfeil in 10A zeigt.
<<Struktur des Anzeigeabschnitts>>
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet eine lichtundurchlässige Schicht 567BM auf der Lichtemissionsseite. Die lichtundurchlässige Schicht 567BM ist derart bereitgestellt, dass sie die Farbschicht (z. B. die erste Farbschicht 567R) umgibt.
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet eine Antireflexionsschicht 567p, die in einem Bereich positioniert ist, der Pixel überlappt. Als Antireflexionsschicht 567p kann beispielsweise eine zirkular polarisierende Platte verwendet werden.
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet einen isolierenden Film 521. Der isolierende Film 521 bedeckt den Transistor 502t. Es sei angemerkt, dass der isolierende Film 521 als Schicht zum Planarisieren der durch die Pixelschaltung hervorgerufenen Unebenheit verwendet werden kann. Ein mehrschichtiger Film, der eine Schicht umfasst, die eine Diffusion von Verunreinigungen verhindern kann, kann als isolierender Film 521 verwendet werden. Dies kann verhindern, dass die Zuverlässigkeit des Transistors 502t oder dergleichen durch ungewollte Diffusion von Verunreinigungen verschlechtert wird.
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet die lichtemittierenden Elemente (z. B. das erste lichtemittierende Element 550R) über dem isolierenden Film 521.
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet eine Trennwand 528, die über dem isolierenden Film 521 liegt und einen Endabschnitt der unteren Elektrode überlappt. Zusätzlich ist ein Abstandshalter, der den Abstand zwischen der Basis 510 und der Basis 570 steuert, auf der Trennwand 528 bereitgestellt.
<<Strukturbeispiel einer Abtastleitungstreiberschaltung>>
Eine Abtastleitungstreiberschaltung 503g(1) beinhaltet einen Transistor 503t und einen Kondensator 503c. Es sei angemerkt, dass die Treiberschaltung im gleichen Prozess über demselben Substrat wie die Pixelschaltungen ausgebildet werden kann.
<<Weitere Komponenten>>
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet die Leitungen 511, über die Signale zugeführt werden können. Die Leitungen 511 sind mit dem Anschlussabschnitt 519 versehen. Es sei angemerkt, dass die flexible gedruckte Schaltung 509(1), über die ein Signal, wie z. B. ein Bildsignal oder ein Synchronisationssignal, zugeführt wird, elektrisch mit dem Anschlussabschnitt 519 verbunden ist.
Es sei angemerkt, dass eine gedruckte Leiterplatte (PWB) an der flexiblen gedruckten Schaltung 509(1) befestigt sein kann.
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet Leitungen, wie z. B. Abtastleitungen, Signalleitungen und Stromversorgungsleitungen. Als Leitungen können beliebige verschiedene leitende Filme verwendet werden.
Insbesondere kann ein Metallelement, das aus Aluminium, Gold, Platin, Silber, Kupfer, Chrom, Tantal, Titan, Molybdän, Wolfram, Nickel, Eisen, Kobalt, Palladium und Mangan ausgewählt wird, oder dergleichen verwendet werden. Alternativ kann eine Legierung, die ein beliebiges der oben erwähnten Metallelemente enthält, oder dergleichen verwendet werden. Eine Legierung aus Kupfer und Mangan wird im Besonderen bei der Mikrostrukturierung mittels eines Nassätzverfahrens vorteilhaft verwendet.
Insbesondere kann eine zweischichtige Struktur, bei der ein Titanfilm über einem Aluminiumfilm angeordnet ist, eine zweischichtige Struktur, bei der ein Titanfilm über einem Titannitridfilm angeordnet ist, eine zweischichtige Struktur, bei der ein Wolframfilm über einem Titannitridfilm angeordnet ist, eine zweischichtige Struktur, bei der ein Wolframfilm über einem Tantalnitridfilm oder einem Wolframnitridfilm angeordnet ist, eine dreischichtige Struktur, bei der ein Titanfilm, ein Aluminiumfilm und ein Titanfilm in dieser Reihenfolge übereinander angeordnet sind, oder dergleichen verwendet werden.
Insbesondere kann ein Legierungsfilm oder ein Nitridfilm verwendet werden, in dem Aluminium und ein oder mehrere Element/e kombiniert werden, das/die aus Titan, Tantal, Wolfram, Molybdän, Chrom, Neodym und Scandium ausgewählt wird/werden.
Alternativ kann auch ein lichtdurchlässiges leitendes Material, das Indiumoxid, Zinnoxid oder Zinkoxid enthält, verwendet werden.
<Modifikationsbeispiel 1 des Anzeigeabschnitts>
Verschiedene Arten von Transistoren können in dem Anzeigeabschnitt 501 verwendet werden.
10A und 10B stellen eine Struktur in dem Fall dar, in dem Bottom-Gate-Transistoren in dem Anzeigeabschnitt 501 verwendet werden.
Beispielsweise kann eine Halbleiterschicht, die einen Oxidhalbleiter, amorphes Silizium oder dergleichen enthält, bei dem Transistor 502t und dem Transistor 503t verwendet werden, welche in 10A dargestellt sind.
Zum Beispiel ist vorzugsweise ein Film enthalten, der durch ein In-M-Zn-Oxid repräsentiert wird, das mindestens Indium (In), Zink (Zn) und M enthält (M ist ein Metall, wie z. B. Al, Ga, Ge, Y, Zr, Sn, La, Ce oder Hf). Alternativ sind vorzugsweise sowohl In als auch Zn enthalten.
Als Stabilisator können Gallium (Ga), Zinn (Sn), Hafnium (Hf), Aluminium (Al), Zirkonium (Zr) und dergleichen angegeben werden. Als weiterer Stabilisator kann ein Lanthanoid, wie z. B. Lanthan (La), Cer (Ce), Praseodym (Pr), Neodym (Nd), Samarium (Sm), Europium (Eu), Gadolinium (Gd), Terbium (Tb), Dysprosium (Dy), Holmium (Ho), Erbium (Er), Thulium (Tm), Ytterbium (Yb) oder Lutetium (Lu), angegeben werden.
Als Oxidhalbleiter, der in einem Oxidhalbleiterfilm enthalten ist, kann beispielsweise ein beliebiges der folgenden Oxide verwendet werden: ein Oxid auf In-Ga-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Al-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Sn-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Hf-Zn-Basis, ein Oxid auf In-La-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Ce-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Pr-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Nd-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Sm-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Eu-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Gd-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Tb-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Dy-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Ho-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Er-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Tm-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Yb-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Lu-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Sn-Ga-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Hf-Ga-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Al-Ga-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Sn-Al-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Sn-Hf-Zn-Basis, ein Oxid auf In-Hf-Al-Zn-Basis und ein Oxid auf In-Ga-Basis.
Es sei angemerkt, dass mit einem „Oxid auf In-Ga-Zn-Basis” hier beispielsweise ein Oxid gemeint ist, das In, Ga und Zn als seine Hauptbestandteile enthält, und es gibt keine Beschränkung bezüglich des Verhältnisses von In:Ga:Zn. Das Oxid auf In-Ga-Zn-Basis kann zusätzlich zu In, Ga und Zn ein weiteres Metallelement enthalten.
Beispielsweise kann eine Halbleiterschicht, die polykristallines Silizium enthält, das durch einen Kristallisationsprozess, wie z. B. Laserglühen (laser annealing), erhalten wird, bei dem Transistor 502t und dem Transistor 503t verwendet werden, welche in 10B gezeigt sind.
10C stellt eine Struktur des Falls dar, in dem Top-Gate-Transistoren in dem Anzeigeabschnitt 501 verwendet werden.
Beispielsweise kann eine Halbleiterschicht, die polykristallines Silizium, einen einkristallinen Siliziumfilm, der von einem einkristallinen Siliziumsubstrat übertragen worden ist, oder dergleichen enthält, bei dem Transistor 502t und dem Transistor 503t verwendet werden, welche in 10C dargestellt sind.
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 7)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur eines faltbaren Touchscreens, der bei einer Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, anhand von 11A bis 11C beschrieben.
11A bis 11C sind Querschnittsansichten, die einen Touchscreen 500B darstellen.
Der bei dieser Ausführungsform beschriebene Touchscreen 500B unterscheidet sich von dem bei der Ausführungsform 6 beschriebenen Touchscreen 500 darin, dass der Anzeigeabschnitt 501 empfangene Bilddaten auf der Seite anzeigt, auf der die Transistoren bereitgestellt sind, und dass der Berührungssensor auf der Seite der Basis 510 des Anzeigeabschnitts bereitgestellt ist. Unterschiedliche Komponenten werden nachstehend detailliert beschrieben, und bezüglich der anderen ähnlichen Komponenten wird auf die vorstehende Beschreibung Bezug genommen.
<Anzeigeabschnitt>
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet eine Vielzahl von Pixeln, die in einer Matrix angeordnet sind. Jedes der Pixel beinhaltet ein Anzeigeelement und eine Pixelschaltung zum Betrieb des Anzeigeelementes.
<<Pixelstruktur>>
Ein Pixel beinhaltet das Subpixel 502R, und das Subpixel 502R beinhaltet ein lichtemittierendes Modul 580R.
Das Subpixel 502R beinhaltet das erste lichtemittierende Element 550R und die Pixelschaltung, die dem ersten lichtemittierenden Element 550R elektrische Energie zuführen kann und einen Transistor 502t beinhaltet.
Das lichtemittierende Modul 580R beinhaltet ferner das erste lichtemittierende Element 550R und ein optisches Element (z. B. die Farbschicht 567R).
Das erste lichtemittierende Element 550R beinhaltet eine untere Elektrode, eine obere Elektrode und eine Schicht, die eine lichtemittierende organische Verbindung enthält und zwischen der unteren Elektrode und der oberen Elektrode liegt.
Das lichtemittierende Modul 580R beinhaltet die erste Farbschicht 567R auf der Lichtaustrittsseite. Die Farbschicht lässt Licht einer bestimmten Wellenlänge durch und ist beispielsweise eine Schicht, die selektiv Licht in der Farbe Rot, Grün oder Blau durchlässt. Es sei angemerkt, dass ein Bereich, der das von dem lichtemittierenden Element emittierte Licht als solches durchlässt, ebenfalls in einem weiteren Subpixel bereitgestellt sein kann.
Die erste Farbschicht 567R ist in einem Bereich positioniert, der das erste lichtemittierende Element 550R überlappt. Das erste lichtemittierende Element 550R, das in 11A gezeigt ist, emittiert Licht zu der Seite, auf der der Transistor 502t bereitgestellt ist. Demzufolge passiert ein Teil von Licht, das von dem ersten lichtemittierenden Element 550R emittiert wird, die erste Farbschicht 567R und wird zur Außenseite des lichtemittierenden Moduls 580R emittiert, wie ein Pfeil in 11A zeigt.
<<Struktur des Anzeigeabschnitts>>
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet eine lichtundurchlässige Schicht 567BM auf der Lichtemissionsseite. Die lichtundurchlässige Schicht 567BM ist derart bereitgestellt, dass sie die Farbschicht (z. B. die erste Farbschicht 567R) umgibt.
Der Anzeigeabschnitt 501 beinhaltet den isolierenden Film 521. Der isolierende Film 521 bedeckt den Transistor 502t. Es sei angemerkt, dass der isolierende Film 521 als Schicht zum Planarisieren der durch die Pixelschaltung hervorgerufenen Unebenheit verwendet werden kann. Ein mehrschichtiger Film, der eine Schicht umfasst, die eine Diffusion von Verunreinigungen verhindern kann, kann als isolierender Film 521 verwendet werden. Dies kann die Verschlechterung der Zuverlässigkeit des Transistors 502t oder dergleichen verhindern, die durch Diffusion von Verunreinigungen aus der Farbschicht 567R hervorgerufen wird.
<Berührungssensor>
Der Berührungssensor 595 ist auf der Seite der Basis 510 des Anzeigeabschnitts 501 bereitgestellt (siehe 11A).
Zwischen der Basis 510 und der Basis 590 ist die Harzschicht 597 bereitgestellt, mit der der Berührungssensor 595 an dem Anzeigeabschnitt 501 befestigt ist.
<Modifikationsbeispiel 1 des Anzeigeabschnitts>
Verschiedene Arten von Transistoren können in dem Anzeigeabschnitt 501 verwendet werden.
11A und 11B stellen eine Struktur dar, bei der Bottom-Gate-Transistoren in dem Anzeigeabschnitt 501 verwendet werden.
Beispielsweise kann eine Halbleiterschicht, die einen Oxidhalbleiter, amorphes Silizium oder dergleichen enthält, bei dem Transistor 502t und dem Transistor 503t verwendet werden, welche in 11A gezeigt sind. Bei den Transistoren kann ein Kanalbildungsbereich zwischen einer oberen und einer unteren Gate-Elektrode angeordnet sein, in welchem Falle Schwankungen der Eigenschaften der Transistoren verhindert werden können; somit kann die Zuverlässigkeit erhöht werden.
Beispielsweise kann eine Halbleiterschicht, die polykristallines Silizium oder dergleichen enthält, bei dem Transistor 502t und dem Transistor 503t verwendet werden, welche in 11B gezeigt sind.
11C zeigt eine Struktur, bei der Top-Gate-Transistoren in dem Anzeigeabschnitt 501 verwendet werden.
Beispielsweise kann eine Halbleiterschicht, die polykristallines Silizium, einen übertragenen einkristallinen Siliziumfilm oder dergleichen enthält, bei dem Transistor 502t und dem Transistor 503t verwendet werden, welche in 11C gezeigt sind.
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen in dieser Beschreibung kombiniert werden.
(Ausführungsform 8)
Bei dieser Ausführungsform wird ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung, das bei der Herstellung der Anzeigevorrichtung oder Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, anhand von 12A1 bis 12E2 beschrieben.
12A1 bis 12E2 sind schematische Ansichten, die einen Prozess zur Herstellung der Schichtanordnung darstellen. Unter 12A1 bis 12E2 sind Querschnittsansichten, die Strukturen eines zu verarbeitenden Elementes und der Schichtanordnung darstellen, auf der linken Seite gezeigt, und sind Draufsichten, die den Querschnittsansichten entsprechen, mit Ausnahme von 12C auf der rechten Seite gezeigt.
<Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung>
Ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung 81 aus einem zu verarbeitenden Element 80 wird anhand von 12A1 bis 12E2 beschrieben.
Das zu verarbeitende Element 80 beinhaltet ein erstes Substrat F1, eine erste Trennschicht F2 in Kontakt mit dem ersten Substrat F1, eine erste abzutrennende Schicht F3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten Trennschicht F2 ist, eine Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, und eine Basisschicht S5 in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 (siehe 12A1 bis 12A2).
Es sei angemerkt, dass eine Struktur des zu verarbeitenden Elementes 80 detailliert bei der Ausführungsform 10 beschrieben wird.
<<Ausbildung von Anfangspunkten der Trennung>>
Es wird das zu verarbeitende Element 80 hergestellt, bei dem Anfangspunkte F3s der Trennung in der Nähe von Kanten der Haftschicht 30 ausgebildet sind.
Die Anfangspunkte F3s der Trennung werden ausgebildet, indem ein Teil der ersten abzutrennenden Schicht F3 von dem ersten Substrat F1 abgetrennt wird.
Ein Teil der ersten abzutrennenden Schicht F3 kann von der Trennschicht F2 abgetrennt werden, indem eine scharfe Spitze von der Seite des ersten Substrats F1 in die erste abzutrennende Schicht F3 eingeschoben wird, oder sie kann durch ein Verfahren mit einem Laser oder dergleichen (z. B. ein Laserablationsverfahren) abgetrennt werden. Auf diese Weise kann der Anfangspunkt F3s der Trennung ausgebildet werden.
<<Erster Schritt>>
Es wird das zu verarbeitende Element 80 hergestellt, bei dem die Anfangspunkte F3s der Trennung im Voraus in der Nähe der Kanten der Haftschicht 30 ausgebildet worden sind (siehe 12B1 und 12B2).
<<Zweiter Schritt>>
Eine Oberflächenschicht 80b des zu verarbeitenden Elementes 80 wird abgetrennt. Als Ergebnis wird ein erster verbleibender Abschnitt 80a aus dem zu verarbeitenden Element 80 erhalten.
Insbesondere wird ausgehend von dem Anfangspunkt F3s der Trennung, der in der Nähe der Kante der Haftschicht 30 ausgebildet ist, das erste Substrat F1 zusammen mit der ersten Trennschicht F2 von der ersten abzutrennenden Schicht F3 abgetrennt (siehe 12C). Demzufolge wird der erste verbleibende Abschnitt 80a erhalten, der die erste abzutrennende Schicht F3, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, und die Basisschicht S5 in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 umfasst.
Die Trennung kann durchgeführt werden, während die nähere Umgebung der Grenzfläche zwischen der ersten Trennschicht F2 und der ersten abzutrennenden Schicht F3 mit Ionen bestrahlt wird, um statische Elektrizität zu entfernen. Insbesondere können die Ionen durch einen Ionisator erzeugt werden.
Des Weiteren wird dann, wenn die erste abzutrennende Schicht F3 von der ersten Trennschicht F2 abgetrennt wird, eine Flüssigkeit in die Grenzfläche zwischen der ersten Trennschicht F2 und der ersten abzutrennenden Schicht F3 injiziert. Alternativ kann eine Flüssigkeit durch eine Düse 99 ausgestoßen und gesprüht werden. Als zu injizierende Flüssigkeit oder als zu sprühende Flüssigkeit kann beispielsweise Wasser, ein polares Lösungsmittel oder dergleichen verwendet werden.
Indem die Flüssigkeit injiziert wird, kann ein Einfluss der durch die Trennung erzeugten statischen Elektrizität und dergleichen verringert werden. Alternativ kann die Trennung durchgeführt werden, während eine Flüssigkeit, die die Trennschicht auflöst, injiziert wird.
In dem Fall, in dem im Besonderen ein Film, der Wolframoxid enthält, als erste Trennschicht F2 verwendet wird, wird vorzugsweise die erste abzutrennende Schicht F3 abgetrennt, während eine wasserhaltige Flüssigkeit injiziert oder gesprüht wird. Das liegt daran, dass eine Spannung, die durch die Trennung an die erste abzutrennende Schicht F3 angelegt wird, verringert werden kann.
<<Dritter Schritt>>
Eine erste Klebeschicht 31 wird auf dem ersten verbleibenden Abschnitt 80a ausgebildet, und der erste verbleibende Abschnitt 80a wird mit der ersten Klebeschicht 31 an einen ersten Träger 41 geklebt (siehe 12D1, 12D2, 12E1, und 12E2). Demzufolge wird die Schichtanordnung 81 aus dem ersten verbleibenden Abschnitt 80a erhalten.
Insbesondere wird die Schichtanordnung 81 erhalten, die den ersten Träger 41, die erste Klebeschicht 31, die erste abzutrennende Schicht F3, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, und die Basisschicht S5 in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 umfasst.
Um die Haftschicht 30 auszubilden, können verschiedene Verfahren verwendet werden. Beispielsweise kann die Haftschicht 30 mit einem Dispenser durch ein Schiebdruckverfahren oder dergleichen ausgebildet werden. Die Haftschicht 30 wird durch ein Verfahren ausgehärtet, das je nach ihrem Material gewählt wird. Wenn beispielsweise ein lichthärtender Klebstoff für die Haftschicht 30 verwendet wird, wird Licht einschließlich des Lichts einer vorbestimmten Wellenlänge emittiert.
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen, die in dieser Beschreibung beschrieben werden, kombiniert werden.
(Ausführungsform 9)
Bei dieser Ausführungsform wird ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung, das bei der Herstellung der Anzeigevorrichtung oder Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, anhand von 13A1 bis 13E2 und 14A1 bis 14E2 beschrieben.
13A1 bis 13E2 und 14A1 bis 14E2 sind schematische Ansichten, die einen Prozess zur Herstellung der Schichtanordnung darstellen. Unter 13A1 bis 13E2 und 14A1 bis 14E2 sind Querschnittsansichten, die Strukturen eines zu verarbeitenden Elementes und der Schichtanordnung darstellen, auf der linken Seite gezeigt, und sind Draufsichten, die den Querschnittsansichten entsprechen, mit Ausnahme von 13C sowie 14B und 14C auf der rechten Seite gezeigt.
<Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung>
Ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung 92 aus einem zu verarbeitenden Element 90 wird anhand von 13A1 bis 13E2 und 14A1 bis 14E2 beschrieben.
Das zu verarbeitende Element 90 unterscheidet sich von dem zu verarbeitenden Element 80 darin, dass die andere Oberfläche der Haftschicht 30 in Kontakt mit einer Oberfläche einer zweiten abzutrennenden Schicht S3 anstatt mit dem Material S5 ist.
Insbesondere besteht der Unterschied darin, dass anstelle der Basisschicht S5 das zweite Substrat S1, eine zweite Trennschicht S2 über dem zweiten Substrat S1 und die zweite abzutrennende Schicht S3, deren andere Oberfläche in Kontakt mit der zweiten Trennschicht S2 ist, enthalten sind und dass eine Oberfläche der zweiten abzutrennenden Schicht S3 in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 ist.
Bei dem zu verarbeitenden Element 90 sind das erste Substrat F1, die erste Trennschicht F2, die erste abzutrennende Schicht F3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten Trennschicht F2 ist, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, die zweite abzutrennende Schicht S3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 ist, die zweite Trennschicht 52, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der zweiten abzutrennenden Schicht S3 ist, und das zweite Substrat S1 in dieser Reihenfolge angeordnet (siehe 13A1 und 13A2).
Es sei angemerkt, dass eine Struktur des zu verarbeitenden Elementes 90 detailliert bei der Ausführungsform 10 beschrieben wird.
<<Erster Schritt>>
Es wird das zu verarbeitende Element 90 hergestellt, bei dem die Anfangspunkte F3s der Trennung in der Nähe der Kanten der Haftschicht 30 ausgebildet sind (siehe 13B1 und 13B2).
Der Anfangspunkt F3s der Trennung wird ausgebildet, indem ein Teil der ersten abzutrennenden Schicht F3 von dem ersten Substrat F1 abgetrennt wird.
Beispielsweise kann ein Teil der ersten abzutrennenden Schicht F3 von der Trennschicht F2 abgetrennt werden, indem eine scharfe Spitze von der Seite des ersten Substrats F1 in die erste abzutrennende Schicht F3 eingeschoben wird, oder sie kann durch ein Verfahren mit einem Laser oder dergleichen (z. B. ein Laserablationsverfahren) abgetrennt werden. Auf diese Weise kann der Anfangspunkt F3s der Trennung ausgebildet werden.
<<Zweiter Schritt>>
Eine Oberflächenschicht 90b des zu verarbeitenden Elementes 90 wird abgetrennt. Als Ergebnis wird ein erster verbleibender Abschnitt 90a aus dem zu verarbeitenden Element 90 erhalten.
Insbesondere wird ausgehend von dem Anfangspunkt F3s der Trennung, der in der Nähe der Kante der Haftschicht 30 ausgebildet ist, das erste Substrat F1 zusammen mit der ersten Trennschicht F2 von der ersten abzutrennenden Schicht F3 abgetrennt (siehe 13C). Demzufolge wird der erste verbleibende Abschnitt 90a erhalten, in dem die erste abzutrennende Schicht F3, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, die zweite abzutrennende Schicht S3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 ist, die zweite Trennschicht S2, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der zweiten abzutrennenden Schicht S3 ist, und das zweite Substrat S1 in dieser Reihenfolge angeordnet sind.
Es sei angemerkt, dass die Trennung durchgeführt werden kann, während die nähere Umgebung der Grenzfläche zwischen der zweiten Trennschicht S2 und der zweiten abzutrennenden Schicht S3 mit Ionen bestrahlt wird, um statische Elektrizität zu entfernen. Insbesondere können die Ionen durch einen Ionisator erzeugt werden.
Des Weiteren wird dann, wenn die zweite abzutrennende Schicht S3 von der zweiten Trennschicht S2 abgetrennt wird, eine Flüssigkeit in die Grenzfläche zwischen der zweiten Trennschicht S2 und der zweiten abzutrennenden Schicht S3 injiziert. Alternativ kann eine Flüssigkeit durch eine Düse 99 ausgestoßen und gesprüht werden. Als zu injizierende Flüssigkeit oder als zu sprühende Flüssigkeit kann beispielsweise Wasser, ein polares Lösungsmittel oder dergleichen verwendet werden.
Indem die Flüssigkeit injiziert wird, kann ein Einfluss der durch die Trennung erzeugten statischen Elektrizität und dergleichen verringert werden. Alternativ kann die Trennung durchgeführt werden, während eine Flüssigkeit, die die Trennschicht auflöst, injiziert wird.
In dem Fall, in dem im Besonderen ein Film, der Wolframoxid enthält, als zweite Trennschicht S2 verwendet wird, wird vorzugsweise die zweite abzutrennende Schicht S3 abgetrennt, während eine wasserhaltige Flüssigkeit injiziert oder gesprüht wird. Das liegt daran, dass eine Spannung, die durch die Trennung an die zweite abzutrennende Schicht S3 angelegt wird, verringert werden kann.
<<Dritter Schritt>>
Eine erste Klebeschicht 31 wird auf dem ersten verbleibenden Abschnitt 90a ausgebildet (siehe 13D1 und 13D2), und der erste verbleibende Abschnitt 90a wird mit der ersten Klebeschicht 31 an einen ersten Träger 41 geklebt. Demzufolge wird eine Schichtanordnung 91 aus dem ersten verbleibenden Abschnitt 90a erhalten.
Insbesondere wird die Schichtanordnung 91 erhalten, in der der erste Träger 41, die erste Klebeschicht 31, die erste abzutrennende Schicht F3, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, die zweite abzutrennende Schicht S3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 ist, die zweite Trennschicht 52, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der zweiten abzutrennenden Schicht S3 ist, und das zweite Substrat S1 in dieser Reihenfolge angeordnet sind (siehe 13E1 und 13E2).
<<Vierter Schritt>>
Von dem zweiten Substrat S1 wird ein Teil der zweiten abzutrennenden Schicht S3 in der Nähe der Kante der ersten Klebeschicht 31 der Schichtanordnung 91 abgetrennt, um einen zweiten Anfangspunkt 91s der Trennung auszubilden.
Beispielsweise werden der erste Träger 41 und die erste Klebeschicht 31 von der Seite des ersten Trägers 41 geschnitten, und ein Teil der zweiten abzutrennenden Schicht S3 wird von dem zweiten Substrat S1 entlang einer neu gebildeten Kante der ersten Klebeschicht 31 abgetrennt.
Insbesondere werden die erste Klebeschicht 31 und der erste Träger 41 in einem Bereich, der über der zweiten Trennschicht S2 liegt und in dem die zweite abzutrennende Schicht S3 bereitgestellt ist, mit einem Messer oder dergleichen mit einer scharfen Spitze geschnitten, und entlang einer neu gebildeten Kante der ersten Klebeschicht 31 wird die zweite abzutrennende Schicht S3 teilweise von dem zweiten Substrat S1 abgetrennt (siehe 14A1 und 14A2).
Demzufolge werden die Anfangspunkte 91s der Trennung in der Nähe der neu gebildeten Kanten des ersten Trägers 41b und der ersten Klebeschicht 31 ausgebildet.
<<Fünfter Schritt>>
Ein zweiter verbleibender Abschnitt 91a wird von der Schichtanordnung 91 abgetrennt. Als Ergebnis wird der zweite verbleibende Abschnitt 91a aus der Schichtanordnung 91 erhalten (siehe 14C).
Insbesondere wird ausgehend von dem Anfangspunkt 91s der Trennung, der in der Nähe der Kante der ersten Klebeschicht 31 ausgebildet ist, das zweite Substrat S1 zusammen mit der zweiten Trennschicht S2 von der zweiten abzutrennenden Schicht S3 abgetrennt. Demzufolge wird der zweite verbleibende Abschnitt 91a erhalten, in dem der erste Träger 41b, die erste Klebeschicht 31, die erste abzutrennende Schicht F3, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, und die zweite abzutrennende Schicht S3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 ist, in dieser Reihenfolge angeordnet sind.
Es sei angemerkt, dass die Trennung durchgeführt werden kann, während die nähere Umgebung der Grenzfläche zwischen der zweiten Trennschicht S2 und der zweiten abzutrennenden Schicht S3 mit Ionen bestrahlt wird, um statische Elektrizität zu entfernen. Insbesondere können die Ionen durch einen Ionisator erzeugt werden.
Des Weiteren wird dann, wenn die zweite abzutrennende Schicht S3 von der zweiten Trennschicht S2 abgetrennt wird, eine Flüssigkeit in die Grenzfläche zwischen der zweiten Trennschicht S2 und der zweiten abzutrennenden Schicht S3 injiziert. Alternativ kann eine Flüssigkeit durch eine Düse 99 ausgestoßen und gesprüht werden. Als zu injizierende Flüssigkeit oder als zu sprühende Flüssigkeit kann beispielsweise Wasser, ein polares Lösungsmittel oder dergleichen verwendet werden.
Indem die Flüssigkeit injiziert wird, kann ein Einfluss der durch die Trennung erzeugten statischen Elektrizität und dergleichen verringert werden. Alternativ kann die Trennung durchgeführt werden, während eine Flüssigkeit, die die Trennschicht auflöst, injiziert wird.
In dem Fall, in dem im Besonderen ein Film, der Wolframoxid enthält, als zweite Trennschicht S2 verwendet wird, wird vorzugsweise die zweite abzutrennende Schicht S3 abgetrennt, während eine wasserhaltige Flüssigkeit injiziert oder gesprüht wird. Das liegt daran, dass eine Spannung, die durch die Trennung an die zweite abzutrennende Schicht S3 angelegt wird, verringert werden kann.
<<Sechster Schritt>>
Eine zweite Klebeschicht 32 wird auf dem zweiten verbleibenden Abschnitt 91a ausgebildet (siehe 14D1 und 14D2).
Der zweite verbleibende Abschnitt 91a wird mit der zweiten Klebeschicht 32 an den zweiten Träger 42 geklebt. Demzufolge wird eine Schichtanordnung 92 aus dem zweiten verbleibenden Abschnitt 91a erhalten (siehe 14E1 und 14E2).
Insbesondere wird die Schichtanordnung 92 erhalten, in der der erste Träger 41b, die erste Klebeschicht 31, die erste abzutrennende Schicht F3, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, die zweite abzutrennende Schicht S3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 ist, die zweite Klebeschicht 32 und der zweite Träger 42 in dieser Reihenfolge angeordnet sind.
<Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung, die einen Öffnungsabschnitt in einem Träger umfasst>
Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung, die einen Öffnungsabschnitt in einem Träger umfasst, anhand von 15A1 und 15D2 beschrieben.
15A1 bis 15D2 stellen das Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung dar, die einen Öffnungsabschnitt umfasst, der sich in einem Träger befindet und in dem ein Teil einer abzutrennenden Schicht freiliegt. Unter 15A1 bis 15D2 sind Querschnittsansichten, die Strukturen der Schichtanordnung darstellen, auf der linken Seite gezeigt, und sind Draufsichten, die den Querschnittsansichten entsprechen, auf der rechten Seite gezeigt.
15A1 bis 15B2 stellen ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung 92c dar, die einen Öffnungsabschnitt in einem zu verarbeitenden Element 92b umfasst, wobei ein zweiter Träger 42b verwendet wird, der kleiner ist als der erste Träger 41b.
15C1 bis 15D2 stellen ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung 92d dar, die einen Öffnungsabschnitt umfasst, der in dem zweiten Träger 42 ausgebildet ist.
<<Beispiel 1 für ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung, die einen Öffnungsabschnitt in einem Träger umfasst>>
Ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung weist einen Schritt auf, der gleich dem vorstehenden sechsten Schritt ist, mit der Ausnahme, dass der zweite Träger 42b, der kleiner ist als der erste Träger 41b, anstelle des zweiten Trägers 42 verwendet wird und dass eine zweite Klebeschicht 32b, die kleiner ist als die zweite Klebeschicht 32, anstelle der zweiten Klebeschicht 32 verwendet wird. Durch dieses Verfahren kann eine Schichtanordnung hergestellt werden, in der ein Teil der zweiten abzutrennenden Schicht S3 freiliegt (siehe 15A1 und 15A2).
Als zweite Klebeschicht 32 kann ein flüssiger Klebstoff verwendet werden. Als Alternative kann ein Klebstoff, dessen Fließfähigkeit gehemmt wird und der im Voraus in einer einzelnen Waferform ausgebildet worden ist (auch als folienartiger Klebstoff bezeichnet) verwendet werden. Unter Verwendung des folienartigen Klebstoffs kann die Größe eines Teils der Klebeschicht 32, der sich über den zweiten Träger 42b hinaus erstreckt, klein sein. Zudem kann die Klebeschicht 32 leicht eine gleichmäßige Dicke aufweisen.
Ein Teil des freiliegenden Teils der zweiten abzutrennenden Schicht S3 wird abgeschnitten, so dass die erste abzutrennende Schicht F3 freiliegen kann (siehe 15B1 und 15B2).
Insbesondere wird mit einem Messer oder dergleichen mit einer scharfen Spitze ein Schlitz in der freiliegenden zweiten abzutrennenden Schicht S3 ausgebildet. Dann wird beispielsweise ein Klebeband oder dergleichen an einen Teil der freiliegenden zweiten abzutrennenden Schicht S3 geheftet, um eine Spannung auf die nähere Umgebung des Schlitzes zu konzentrieren, und der Teil der freiliegenden zweiten abzutrennenden Schicht S3 wird zusammen mit dem gehefteten Band oder dergleichen abgetrennt, wodurch der Teil der zweiten abzutrennenden Schicht S3 selektiv entfernt werden kann.
Außerdem kann eine Schicht, die das Haftvermögen der Haftschicht 30 an der ersten abzutrennenden Schicht F3 unterdrücken kann, selektiv auf einem Teil der ersten abzutrennenden Schicht F3 ausgebildet werden. Beispielsweise kann ein Material, das nicht leicht an die Haftschicht 30 geheftet wird, selektiv ausgebildet werden. Insbesondere kann ein organisches Material inselförmig abgeschieden werden. Daher kann es leicht sein, einen Teil der Haftschicht 30 zusammen mit der zweiten abzutrennenden Schicht S3 selektiv zu entfernen. Als Ergebnis kann die erste abzutrennende Schicht F3 freiliegen.
Es sei angemerkt, dass beispielsweise in dem Fall, in dem die erste abzutrennende Schicht F3 eine Funktionsschicht und eine leitende Schicht F3b umfasst, die elektrisch mit der Funktionsschicht verbunden ist, die leitende Schicht F3b in einem Öffnungsabschnitt der zweiten Schichtanordnung 92c freiliegen kann. Daher kann die leitende Schicht F3b, die in dem Öffnungsabschnitt freiliegt, als Anschluss, der mit einem Signal versorgt wird, verwendet werden.
Als Ergebnis kann die leitende Schicht F3b, die teilweise in dem Öffnungsabschnitt freiliegt, als Anschluss, der ein über die Funktionsschicht zugeführtes Signal extrahieren kann, oder als Anschluss verwendet werden, dem durch eine externe Vorrichtung ein der Funktionsschicht zugeführten Signal zugeführt werden kann.
<<Beispiel 2 für ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung, die einen Öffnungsabschnitt in einem Träger umfasst>>
Auf der Schichtanordnung 92 wird eine Maske 48 ausgebildet, die einen Öffnungsabschnitt umfasst, der derart ausgebildet ist, dass er einen in dem zweiten Träger 42 ausgebildeten Öffnungsabschnitt überlappt. Als Nächstes wird ein Lösungsmittel 49 in den Öffnungsabschnitt der Maske 48 getropft. Mit dem Lösungsmittel 49 kann daher der zweite Träger 42, der in dem Öffnungsabschnitt der Maske 48 freiliegt, quellen oder aufgelöst werden (siehe 15C1 und 15C2).
Nachdem das überschüssige Lösungsmittel 49 entfernt worden ist, wird eine Spannung angelegt, indem beispielsweise der zweite Träger 42, der in dem Öffnungsabschnitt der Maske 48 freiliegt, gerieben wird. Auf diese Weise kann der zweite Träger 42 oder dergleichen in einem Abschnitt, der den Öffnungsabschnitt in der Maske 48 überlappt, entfernt werden.
Außerdem kann mit einem Lösungsmittel, mit dem die Haftschicht 30 quillt oder aufgelöst wird, die erste abzutrennende Schicht F3 freiliegen (siehe 15D1 und 15D2).
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen, die in dieser Beschreibung beschrieben werden, kombiniert werden.
(Ausführungsform 10)
Bei dieser Ausführungsform wird eine Struktur eines zu verarbeitenden Elementes, das zu der Anzeigevorrichtung oder Eingabe-/Ausgabevorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verarbeitet werden kann, anhand von 16A1 bis 16B2 beschrieben.
16A1 bis 16B2 sind schematische Ansichten, die eine Struktur eines zu verarbeitenden Elementes darstellen, das zu der Schichtanordnung verarbeitet werden kann.
16A1 ist eine Querschnittsansicht, die eine Struktur des zu verarbeitenden Elementes 80 darstellt, das zu der Schichtanordnung verarbeitet werden kann, und 16A2 ist eine Draufsicht, die der Querschnittsansicht entspricht.
16B1 ist eine Querschnittsansicht, die eine Struktur des zu verarbeitenden Elementes 90 darstellt, das zu der Schichtanordnung verarbeitet werden kann, und 16B2 ist eine Draufsicht, die der Querschnittsansicht entspricht.
<1. Strukturbeispiel 1 des zu verarbeitenden Elementes>
Das zu verarbeitende Element 80 beinhaltet ein erstes Substrat F1, die erste Trennschicht F2 in Kontakt mit dem ersten Substrat F1, die erste abzutrennende Schicht F3, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten Trennschicht F2 ist, die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist, und die Basisschicht S5 in Kontakt mit der anderen Oberfläche der Haftschicht 30 (siehe 16A1 und 16A2).
Es sei angemerkt, dass die Anfangspunkte F3s der Trennung in der Nähe der Kanten der Haftschicht 30 ausgebildet sein können.
<<Erstes Substrat>>
Es gibt keine besondere Beschränkung bezüglich des ersten Substrats F1, solange es eine ausreichend hohe Wärmebeständigkeit aufweist, um einem Herstellungsprozess standzuhalten, und seine Dicke und Größe dazu geeignet sind, bei einer Fertigungseinrichtung verwendet zu werden.
Für das erste Substrat F1 kann ein organisches Material, ein anorganisches Material, ein Verbundmaterial aus einem organischen Material und einem anorganischen Material oder dergleichen verwendet werden.
Beispielsweise kann ein anorganisches Material, wie z. B. Glas, Keramik oder Metall, für das erste Substrat F1 verwendet werden.
Insbesondere kann alkalifreies Glas, Kalknatronglas, Kaliglas, Kristallglas oder dergleichen für das erste Substrat F1 verwendet werden.
Insbesondere kann ein Metalloxidfilm, ein Metallnitridfilm, ein Metalloxynitridfilm oder dergleichen für das erste Substrat F1 verwendet werden. Beispielsweise kann Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxynitrid, ein Aluminiumoxidfilm oder dergleichen für das erste Substrat F1 verwendet werden.
Insbesondere kann Edelstahl (SUS), Aluminium oder dergleichen für das erste Substrat F1 verwendet werden.
Beispielsweise kann ein organisches Material, wie z. B. ein Harz, ein Harzfilm oder ein Kunststoff, für das erste Substrat F1 verwendet werden.
Insbesondere kann ein Harzfilm oder eine Harzplatte aus Polyester, Polyolefin, Polyamid, Polyimid, Polycarbonat, einem Acrylharz oder dergleichen für das erste Substrat F1 verwendet werden.
Beispielsweise kann ein Verbundmaterial, wie z. B. ein Harzfilm, an dem eine Metallplatte, eine dünne Glasplatte oder ein Film aus einem anorganischen Material befestigt ist, als erstes Substrat F1 verwendet werden.
Als erstes Substrat F1 kann beispielsweise ein Verbundmaterial verwendet werden, das ausgebildet wird, indem eine Metallfaser, ein Metallpartikel, Glas, ein anorganisches Material oder dergleichen in einen Harzfilm dispergiert wird.
Als erstes Substrat F1 kann beispielsweise ein Verbundmaterial verwendet werden, das ausgebildet wird, indem eine Harzfaser, ein Harzpartikel, ein organisches Material oder dergleichen in ein anorganisches Material dispergiert wird.
Für das erste Substrat F1 kann ein einschichtiges Material oder ein mehrschichtiges Material verwendet werden, in dem mehrere Schichten übereinander angeordnet sind. Für das erste Substrat F1 kann beispielsweise ein mehrschichtiges Material verwendet werden, in dem eine Basisschicht, eine isolierende Schicht, die eine Diffusion der in der Basisschicht enthaltenen Verunreinigungen verhindert, und dergleichen übereinander angeordnet sind.
Für das erste Substrat F1 kann insbesondere ein mehrschichtiges Material verwendet werden, in dem Glas und ein oder mehrere Film/e, der/die eine Diffusion der in dem Glas enthaltenen Verunreinigungen verhindert/verhindern und aus einem Siliziumoxidfilm, einem Siliziumnitridfilm, einem Siliziumoxynitridfilm und dergleichen ausgewählt wird/werden, übereinander angeordnet sind.
Für das erste Substrat F1 kann alternativ ein mehrschichtiges Material verwendet werden, in dem ein Harz und ein Film, der eine Diffusion der in dem Harz enthaltenen Verunreinigungen verhindert, wie z. B. ein Siliziumoxidfilm, ein Siliziumnitridfilm und ein Siliziumoxynitridfilm, übereinander angeordnet sind.
<<Erste Trennschicht>>
Die erste Trennschicht F2 ist zwischen dem ersten Substrat F1 und der ersten abzutrennenden Schicht F3 bereitgestellt. In der Nähe der ersten Trennschicht F2 ist eine Grenze gebildet, an der die erste abzutrennende Schicht F3 von dem ersten Substrat F1 abgetrennt werden kann. Es gibt keine besondere Beschränkung bezüglich der ersten Trennschicht F2, solange sie eine ausreichend hohe Wärmebeständigkeit aufweist, um dem Herstellungsprozess der darauf auszubildenden ersten abzutrennenden Schicht F3 standzuhalten.
Für die erste Trennschicht F2 kann beispielsweise ein anorganisches Material, ein organisches Harz oder dergleichen verwendet werden.
Für die erste Trennschicht F2 kann insbesondere ein anorganisches Material verwendet werden, wie beispielsweise ein Metall, das ein Element enthält, das aus Wolfram, Molybdän, Titan, Tantal, Niob, Nickel, Kobalt, Zirkonium, Zink, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Osmium, Iridium und Silizium ausgewählt wird, eine Legierung, die das Element enthält, oder eine Verbindung, die das Element enthält.
Insbesondere kann ein organisches Material, wie z. B. Polyimid, Polyester, Polyolefin, Polyamid, Polycarbonat oder ein Acrylharz, verwendet werden.
Für die erste Trennschicht F2 kann beispielsweise ein einschichtiges Material oder ein mehrschichtiges Material verwendet werden, in dem mehrere Schichten übereinander angeordnet sind.
Für die erste Trennschicht F2 kann insbesondere ein Material verwendet werden, in dem eine Wolfram enthaltende Schicht und eine Wolframoxid enthaltende Schicht übereinander angeordnet sind.
Die Wolframoxid enthaltende Schicht kann durch ein Verfahren ausgebildet werden, bei dem eine weitere Schicht auf einer Wolfram enthaltenden Schicht ausgebildet wird. Insbesondere kann die Wolframoxid enthaltende Schicht durch ein Verfahren ausgebildet werden, bei dem Siliziumoxid, Siliziumoxynitrid oder dergleichen auf einer Wolfram enthaltenden Schicht angeordnet wird.
Die Wolframoxid enthaltende Schicht kann ausgebildet werden, indem eine Oberfläche einer Wolfram enthaltenden Schicht einer thermischen Oxidationsbehandlung, einer Sauerstoffplasmabehandlung, einer Distickstoffoxid-(N₂O-)Plasmabehandlung, einer Behandlung mit einer stark oxidierenden Lösung (z. B. Ozonwasser) oder dergleichen unterzogen wird.
Insbesondere kann eine Polyimid enthaltende Schicht als erste Trennschicht F2 verwendet werden. Die Polyimid enthaltende Schicht weist eine ausreichend hohe Wärmebeständigkeit auf, um den verschiedenen Herstellungsschritten standzuhalten, die zum Ausbilden der ersten abzutrennenden Schicht F3 erforderlich sind.
Die Polyimid enthaltende Schicht ist beispielsweise bei 200°C oder höher, bevorzugt 250°C oder höher, bevorzugter 300°C oder höher, noch bevorzugter 350°C oder höher wärmebeständig.
Ein Polyimid enthaltender Film kann verwendet werden, der erhalten wird, indem ein Film, der ein Monomer enthält und auf dem ersten Substrat F1 ausgebildet ist, erwärmt wird und das Monomer kondensiert wird.
<<Erste abzutrennende Schicht>>
Es gibt keine besondere Beschränkung bezüglich der ersten abzutrennenden Schicht F3, solange sie von dem ersten Substrat F1 abgetrennt werden kann und eine ausreichend hohe Wärmebeständigkeit aufweist, um dem Herstellungsprozess standzuhalten.
Die Grenze, an der die erste abzutrennende Schicht F3 von dem ersten Substrat F1 abgetrennt werden kann, kann zwischen der ersten abzutrennenden Schicht F3 und der ersten Trennschicht F2 oder zwischen der ersten Trennschicht F2 und dem ersten Substrat F1 gebildet werden.
In dem Fall, in dem die Grenze zwischen der ersten abzutrennenden Schicht F3 und der ersten Trennschicht F2 gebildet wird, ist die erste Trennschicht F2 nicht in der Schichtanordnung enthalten. In dem Fall, in dem die Grenze zwischen der ersten Trennschicht F2 und dem ersten Substrat F1 gebildet wird, ist die erste Trennschicht F2 in der Schichtanordnung enthalten.
Für die erste abzutrennende Schicht F3 kann ein anorganisches Material, ein organisches Material, ein einschichtiges Material, ein mehrschichtiges Material, in dem mehrere Schichten übereinander angeordnet sind, oder dergleichen verwendet werden.
Beispielsweise kann ein anorganisches Material, wie z. B. ein Metalloxidfilm, ein Metallnitridfilm oder ein Metalloxynitridfilm, für die erste abzutrennende Schicht F3 verwendet werden.
Insbesondere kann Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxynitrid, ein Aluminiumoxidfilm oder dergleichen für die erste abzutrennende Schicht F3 verwendet werden.
Insbesondere kann ein Harz, ein Harzfilm, ein Kunststoff oder dergleichen für die erste abzutrennende Schicht F3 verwendet werden.
Insbesondere kann ein Polyimidfilm oder dergleichen für die erste abzutrennende Schicht F3 verwendet werden.
Beispielsweise kann ein Material mit einer Struktur verwendet werden, bei der eine Funktionsschicht, die die erste Trennschicht F2 überlappt, und eine isolierende Schicht übereinander angeordnet sind, die zwischen der ersten Trennschicht F2 und der Funktionsschicht bereitgestellt ist und eine ungewollte Diffusion von Verunreinigungen verhindern kann, die die Funktion der Funktionsschicht beeinträchtigt.
Insbesondere wird eine 0,7 mm dicke Glasplatte als erstes Substrat F1 verwendet, und für die erste Trennschicht F2 wird ein mehrschichtiges Material verwendet, in dem ein 200 nm dicker Siliziumoxynitridfilm und ein 30 nm dicker Wolframfilm in dieser Reihenfolge von der Seite des ersten Substrats F1 übereinander angeordnet sind. Als erste abzutrennende Schicht F3 kann zudem ein Film verwendet werden, der ein mehrschichtiges Material enthält, in dem ein 600 nm dicker Siliziumoxynitridfilm und ein 200 nm dicker Siliziumnitridfilm in dieser Reihenfolge von der Seite der ersten Trennschicht F2 übereinander angeordnet sind. Es sei angemerkt, dass ein Siliziumoxynitridfilm einen Film bezeichnet, der mehr Sauerstoff als Stickstoff enthält, und dass ein Siliziumnitridoxidfilm einen Film bezeichnet, der mehr Stickstoff als Sauerstoff enthält.
Anstelle der vorstehenden ersten abzutrennenden Schicht F3 kann als erste abzutrennende Schicht F3 insbesondere ein Film verwendet werden, der ein mehrschichtiges Material aus einem 600 nm dicken Siliziumoxynitridfilm, einem 200 nm dicken Siliziumnitridfilm, einem 200 nm dicken Siliziumoxynitridfilm, einem 140 nm dicken Siliziumnitridoxidfilm und einem 100 nm dicken Siliziumoxynitridfilm enthält, welche in dieser Reihenfolge von der Seite der ersten Trennschicht F2 übereinander angeordnet sind.
Insbesondere kann ein mehrschichtiges Material verwendet werden, in dem ein Polyimidfilm, eine Schicht, die Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder dergleichen enthält, und die Funktionsschicht in dieser Reihenfolge von der Seite der ersten Trennschicht F2 übereinander angeordnet sind.
<<Funktionsschicht>>
Die Funktionsschicht ist in der ersten abzutrennenden Schicht F3 enthalten.
Beispielsweise kann eine Funktionsschaltung, ein Funktionselement, ein optisches Element, ein Funktionsfilm oder eine Schicht mit einer Vielzahl von Elementen, die aus diesen ausgewählt werden, als Funktionsschicht verwendet werden.
Insbesondere können ein Anzeigeelement, das für eine Anzeigevorrichtung verwendet werden kann, eine Pixelschaltung, die das Anzeigeelement ansteuert, eine Treiberschaltung, die die Pixelschaltung ansteuert, ein Farbfilter, ein feuchtigkeitsbeständiger Film und dergleichen sowie eine Schicht, die zwei oder mehrere von diesen umfasst, bereitgestellt werden.
<<Haftschicht>>
Es gibt keine besondere Beschränkung bezüglich der Haftschicht 30, solange mit ihr die erste abzutrennende Schicht F3 und die Basisschicht S5 aneinander geklebt werden.
Für die Haftschicht 30 kann ein anorganisches Material, ein organisches Material, ein Verbundmaterial aus einem anorganischen Material und einem organischen Material oder dergleichen verwendet werden.
Beispielsweise kann eine Glasschicht mit einem Schmelzpunkt von 400°C oder niedriger, bevorzugt 300°C oder niedriger, ein Klebstoff oder dergleichen verwendet werden.
Beispielsweise kann ein organisches Material, wie z. B. ein lichthärtender Klebstoff, ein reaktiv härtender Klebstoff, ein wärmehärtender Klebstoff und/oder ein anaerober Klebstoff, für die Haftschicht 30 verwendet werden.
Insbesondere kann ein Klebstoff, der ein Epoxidharz, ein Acrylharz, ein Silikonharz, ein Phenolharz, ein Polyimidharz, ein Imidharz, ein Polyvinylchlorid-(PVC-)Harz, ein Polyvinylbutyral-(PVB-)Harz und ein Ethylenvinylacetat-(EVA-)Harz enthält, oder dergleichen verwendet werden.
<<Basisschicht>>
Es gibt keine besondere Beschränkung bezüglich der Basisschicht S5, solange sie eine ausreichend hohe Wärmebeständigkeit aufweist, um einem Herstellungsprozess standzuhalten, und ihre Dicke und Größe dazu geeignet sind, bei einer Fertigungseinrichtung verwendet zu werden.
Beispielsweise kann ein Material, das für die Basisschicht S5 verwendet werden kann, gleich demjenigen des ersten Substrats F1 sein.
<<Anfangspunkt der Trennung>>
Bei dem zu verarbeitenden Element 80 kann der Anfangspunkt F3s der Trennung in der Nähe der Kanten der Haftschicht 30 ausgebildet sein.
Der Anfangspunkt F3s der Trennung wird ausgebildet, indem ein Teil der ersten abzutrennenden Schicht F3 von dem ersten Substrat F1 abgetrennt wird.
Ein Teil der ersten abzutrennenden Schicht F3 kann von der Trennschicht F2 abgetrennt werden, indem eine scharfe Spitze von der Seite des ersten Substrats F1 in die erste abzutrennende Schicht F3 eingeschoben wird, oder sie kann durch ein Verfahren mit einem Laser oder dergleichen (z. B. ein Laserablationsverfahren) abgetrennt werden. Auf diese Weise kann der Anfangspunkt F3s der Trennung ausgebildet werden.
<Strukturbeispiel 2 des zu verarbeitenden Elementes>
Es wird eine Struktur des zu verarbeitenden Elementes, das zu der Schichtanordnung werden kann und sich von dem vorstehenden Beispiel unterscheidet, anhand von 16B1 und 16B2 beschrieben.
Das zu verarbeitende Element 90 unterscheidet sich von dem zu verarbeitenden Element 80 darin, dass die andere Oberfläche der Haftschicht 30 in Kontakt mit einer Oberfläche der zweiten abzutrennenden Schicht S3 anstatt mit dem Material S5 ist.
Das zu verarbeitende Element 90 umfasst insbesondere das erste Substrat F1, auf dem die erste Trennschicht F2 und die erste abzutrennende Schicht F3 ausgebildet sind, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der ersten Trennschicht F2 ist, das zweite Substrat S1, auf dem die zweite Trennschicht S2 und die zweite abzutrennende Schicht S3 ausgebildet sind, deren andere Oberfläche in Kontakt mit der zweiten Trennschicht S2 ist, und die Haftschicht 30, deren eine Oberfläche in Kontakt mit der anderen Oberfläche der ersten abzutrennenden Schicht F3 ist und deren andere Oberfläche in Kontakt mit der einen Oberfläche der zweiten abzutrennenden Schicht S3 ist (siehe 16B1 und 16B2).
<<Zweites Substrat>>
Als zweites Substrat S1 kann ein Substrat verwendet werden, das dem ersten Substrat F1 ähnlich ist. Es sei angemerkt, dass das zweite Substrat S1 nicht notwendigerweise die gleiche Struktur wie das erste Substrat F1 aufweist.
<<Zweite Trennschicht>>
Für die zweite Trennschicht S2 kann eine Struktur verwendet werden, die derjenigen der ersten Trennschicht F2 ähnlich ist. Für die zweite Trennschicht S2 kann auch eine Struktur verwendet werden, die sich von derjenigen der ersten Trennschicht F2 unterscheidet.
<<Zweite abzutrennende Schicht>>
Für die zweite abzutrennende Schicht S3 kann eine Struktur verwendet werden, die derjenigen der ersten abzutrennenden Schicht F3 ähnlich ist. Für die zweite abzutrennende Schicht S3 kann auch eine Struktur verwendet werden, die sich von derjenigen der ersten abzutrennenden Schicht F3 unterscheidet.
Insbesondere kann eine Struktur zum Einsatz kommen, bei der die erste abzutrennende Schicht F3 eine Funktionsschaltung umfasst und die zweite abzutrennende Schicht S3 eine Funktionsschicht umfasst, die eine Diffusion von Verunreinigungen in die Funktionsschaltung verhindert.
Insbesondere kann eine Struktur zum Einsatz kommen, bei der die erste abzutrennende Schicht F3 ein lichtemittierendes Element, das Licht zu der zweiten abzutrennenden Schicht S3 emittiert, eine Pixelschaltung, die das lichtemittierende Element ansteuert, und eine Treiberschaltung umfasst, die die Pixelschaltung ansteuert, und bei der die zweite abzutrennende Schicht S3 einen Farbfilter, der einen Teil des von dem lichtemittierenden Element emittierten Lichts durchlässt, und einen feuchtigkeitsbeständigen Film umfasst, der eine Diffusion von Verunreinigungen in das lichtemittierende Element verhindert. Es sei angemerkt, dass das zu verarbeitende Element mit einer derartigen Struktur für eine Schichtanordnung verwendet werden kann, die als flexible Anzeigevorrichtung verwendet werden kann.
Diese Ausführungsform kann gegebenenfalls mit einer der anderen Ausführungsformen, die in dieser Beschreibung beschrieben werden, kombiniert werden.
In dieser Beschreibung und dergleichen bedeutet beispielsweise eine explizite Beschreibung „X und Y sind verbunden”, dass X und Y elektrisch verbunden sind, dass X und Y funktional verbunden sind und dass X und Y direkt verbunden sind. Dementsprechend ist, ohne Beschränkung auf eine vorbestimmte Verbindungsbeziehung, beispielsweise auf eine in Zeichnungen oder Texten gezeigte Verbindungsbeziehung, eine weitere Verbindungsbeziehung in den Zeichnungen oder den Texten enthalten.
Hier stellen X und Y jeweils einen Gegenstand (z. B. eine Vorrichtung, ein Element, eine Schaltung, eine Leitung, eine Elektrode, einen Anschluss, einen leitenden Film oder eine Schicht) dar.
In dem Fall, in dem beispielsweise X und Y direkt verbunden sind, sind X und Y verbunden, wobei kein Element, das eine elektrische Verbindung zwischen X und Y ermöglicht (z. B. ein Schalter, ein Transistor, ein Kondensator, ein Induktor, ein Widerstand, eine Diode, ein Anzeigeelement, ein lichtemittierendes Element oder eine Last), zwischen X und Y liegt.
In dem Fall, in dem beispielsweise X und Y elektrisch verbunden sind, kann/können ein oder mehrere Element/e, das/die eine elektrische Verbindung zwischen X und Y ermöglicht/ermöglichen (z. B. ein Schalter, ein Transistor, ein Kondensator, ein Induktor, ein Widerstand, eine Diode, ein Anzeigeelement, ein lichtemittierendes Element oder eine Last), zwischen X und Y angeschlossen sein. Es sei angemerkt, dass der Schalter derart gesteuert wird, dass er ein- oder ausgeschaltet wird. Das heißt, dass der Schalter leitend oder nicht leitend ist (ein- oder ausgeschaltet wird), um zu bestimmen, ob ein Strom dort hindurch fließt oder nicht. Alternativ weist der Schalter eine Funktion auf, einen Strompfad auszuwählen und zu ändern. Es sei angemerkt, dass der Fall, in dem X und Y elektrisch verbunden sind, den Fall umfasst, in dem X und Y direkt verbunden sind.
In dem Fall, in dem beispielsweise X und Y funktional verbunden sind, kann/können eine oder mehrere Schaltung/en, die eine funktionale Verbindung zwischen X und Y ermöglicht/ermöglichen (z. B. eine Logikschaltung, wie z. B. ein Inverter, eine NAND-Schaltung oder eine NOR-Schaltung; eine Signalwandlerschaltung, wie z. B. eine D/A-Wandlerschaltung, eine A/D-Wandlerschaltung oder eine Gammakorrekturschaltung; eine Potentialpegel-Wandlerschaltung, wie z. B. eine Stromversorgungsschaltung (z. B. eine Aufwärtsschaltung oder eine Abwärtsschaltung) oder eine Pegelverschiebungsschaltung zum Ändern des Potentialpegels eines Signals; eine Spannungsquelle; eine Stromquelle; ein Schaltstromkreis; eine Verstärkerschaltung, wie z. B. eine Schaltung, die die Signalamplitude, die Strommenge oder dergleichen erhöhen kann, ein Operationsverstärker, eine Differenzverstärkerschaltung, eine Source-Folgerschaltung und eine Pufferschaltung; eine Signalerzeugungsschaltung; eine Speicherschaltung; oder eine Steuerschaltung), zwischen X und Y angeschlossen sein. Auch wenn beispielsweise eine weitere Schaltung zwischen X und Y liegt, sind X und Y funktional verbunden, wenn ein Ausgangssignal von X an Y gesendet wird. Es sei angemerkt, dass der Fall, in dem X und Y funktional verbunden sind, den Fall umfasst, in dem X und Y direkt verbunden sind und X und Y elektrisch verbunden sind.
Es sei angemerkt, dass in dieser Beschreibung und dergleichen eine explizite Beschreibung „X und Y sind verbunden” bedeutet, dass X und Y elektrisch verbunden sind (d. h. den Fall, in dem X und Y verbunden sind, wobei ein weiteres Element oder eine weitere Schaltung dazwischen bereitgestellt ist), dass X und Y funktional verbunden sind (d. h. den Fall, in dem X und Y funktional verbunden sind, wobei eine weitere Schaltung dazwischen bereitgestellt ist) und dass X und Y direkt verbunden sind (d. h. den Fall, in dem X und Y verbunden sind, wobei kein weiteres Element oder keine weitere Schaltung dazwischen bereitgestellt ist). Das heißt, dass in dieser Beschreibung und dergleichen der explizite Ausdruck „X und Y sind elektrisch verbunden” gleich dem expliziten einfachen Ausdruck „X und Y sind verbunden” ist.
Es sei angemerkt, dass beispielsweise der Fall, in dem eine Source (oder ein erster Anschluss oder dergleichen) eines Transistors über (oder nicht über) Z1 elektrisch mit X verbunden ist und ein Drain (oder ein zweiter Anschluss oder dergleichen) des Transistors über (oder nicht über) Z2 elektrisch mit Y verbunden ist, oder der Fall, in dem eine Source (oder ein erster Anschluss oder dergleichen) eines Transistors direkt mit einem Teil von Z1 verbunden ist und ein weiterer Teil von Z1 direkt mit X verbunden ist, während ein Drain (oder ein zweiter Anschluss oder dergleichen) des Transistors direkt mit einem Teil von Z2 verbunden ist und ein weiterer Teil von Z2 direkt mit Y verbunden ist, durch einen beliebigen der folgenden Ausdrücke dargestellt werden kann.
Die Ausdrücke umfassen beispielsweise „X, Y, eine Source (oder ein erster Anschluss oder dergleichen) eines Transistors und ein Drain (oder ein zweiter Anschluss oder dergleichen) des Transistors sind elektrisch miteinander verbunden, und X, die Source (oder der erste Anschluss oder dergleichen) des Transistors, der Drain (oder der zweite Anschluss oder dergleichen) des Transistors und Y sind in dieser Reihenfolge elektrisch miteinander verbunden”, „eine Source (oder ein erster Anschluss oder dergleichen) eines Transistors ist elektrisch mit X verbunden, ein Drain (oder ein zweiter Anschluss oder dergleichen) des Transistors ist elektrisch mit Y verbunden, und X, die Source (oder der erste Anschluss oder dergleichen) des Transistors, der Drain (oder der zweite Anschluss oder dergleichen) des Transistors und Y sind in dieser Reihenfolge elektrisch miteinander verbunden” und „X ist über eine Source (oder einen ersten Anschluss oder dergleichen) und einen Drain (oder einen zweiten Anschluss oder dergleichen) eines Transistors elektrisch mit Y verbunden, und X, die Source (oder der erste Anschluss oder dergleichen) des Transistors, der Drain (oder der zweite Anschluss oder dergleichen) des Transistors und Y sind derart bereitgestellt, dass sie in dieser Reihenfolge verbunden sind”. Wenn die Reihenfolge der Verbindung in einer Schaltungskonfiguration durch einen Ausdruck, der den vorstehenden Beispielen ähnlich ist, definiert wird, kann man eine Source (oder einen ersten Anschluss oder dergleichen) und einen Drain (oder einen zweiten Anschluss oder dergleichen) eines Transistors voneinander unterscheiden, um den technischen Einflussbereich zu bestimmen.
Weitere Beispiele für die Ausdrücke umfassen „eine Source (oder ein erster Anschluss oder dergleichen) eines Transistors ist über mindestens einen ersten Verbindungspfad elektrisch mit X verbunden, der erste Verbindungspfad weist keinen zweiten Verbindungspfad auf, es handelt sich bei dem zweiten Verbindungspfad um einen Pfad zwischen der Source (oder dem ersten Anschluss oder dergleichen) des Transistors und einem Drain (oder einem zweiten Anschluss oder dergleichen) des Transistors, Z1 liegt auf dem ersten Verbindungspfad, der Drain (oder der zweite Anschluss oder dergleichen) des Transistors ist über mindestens einen dritten Verbindungspfad elektrisch mit Y verbunden, der dritte Verbindungspfad weist den zweiten Verbindungspfad nicht auf, und Z2 liegt auf dem dritten Verbindungspfad”. Es ist auch möglich, den Ausdruck zu verwenden, nämlich „eine Source (oder ein erster Anschluss oder dergleichen) eines Transistors ist über mindestens Z1 auf einem ersten Verbindungspfad elektrisch mit X verbunden, der erste Verbindungspfad weist keinen zweiten Verbindungspfad auf, der zweite Verbindungspfad weist einen Verbindungspfad über den Transistor auf, ein Drain (oder ein zweiter Anschluss oder dergleichen) des Transistors ist über mindestens Z2 auf einem dritten Verbindungspfad elektrisch mit Y verbunden, und der dritte Verbindungspfad weist den zweiten Verbindungspfad nicht auf”. Noch ein weiteres Beispiel für den Ausdruck ist „eine Source (oder ein erster Anschluss oder dergleichen) eines Transistors ist über mindestens Z1 auf einem ersten elektrischen Pfad elektrisch mit X verbunden, der erste elektrische Pfad weist keinen zweiten elektrischen Pfad auf, es handelt sich bei dem zweiten elektrischen Pfad um einen elektrischen Pfad von der Source (oder dem ersten Anschluss oder dergleichen) des Transistors bis zu einem Drain (oder einem zweiten Anschluss oder dergleichen) des Transistors, der Drain (oder der zweite Anschluss oder dergleichen) des Transistors ist über mindestens Z2 auf einem dritten elektrischen Pfad elektrisch mit Y verbunden, der dritte elektrische Pfad weist keinen vierten elektrischen Pfad auf, und es handelt sich bei dem vierten elektrischen Pfad um einen elektrischen Pfad von dem Drain (oder dem zweiten Anschluss oder dergleichen) des Transistors bis zu der Source (oder dem ersten Anschluss oder dergleichen) des Transistors”. Wenn der Verbindungspfad in einer Schaltungsstruktur durch einen Ausdruck, der den vorstehenden Beispielen ähnlich ist, definiert wird, kann man eine Source (oder einen ersten Anschluss oder dergleichen) und einen Drain (oder einen zweiten Anschluss oder dergleichen) eines Transistors voneinander unterscheiden, um den technischen Einflussbereich zu bestimmen.
Es sei angemerkt, dass diese Ausdrücke nur Beispiele sind und eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung nicht auf die Ausdrücke beschränkt ist. Hier stellen X, Y, Z1 und Z2 jeweils einen Gegenstand (z. B. eine Vorrichtung, ein Element, eine Schaltung, eine Leitung, eine Elektrode, einen Anschluss, einen leitenden Film und eine Schicht) dar.
Selbst wenn unabhängige Komponenten in einem Schaltplan elektrisch miteinander verbunden sind, weist eine Komponente in einigen Fällen Funktionen einer Vielzahl von Komponenten auf. Wenn zum Beispiel ein Teil einer Leitung auch als Elektrode dient, dient ein leitender Film als Leitung und als Elektrode. Folglich umfasst die Kategorie „elektrische Verbindung” in dieser Beschreibung einen solchen Fall, in dem ein leitender Film Funktionen einer Vielzahl von Komponenten aufweist.
Bezugszeichen

30: Haftschicht, 31: Klebeschicht, 32: Klebeschicht, 32b: Klebeschicht, 41: Träger, 41b: Träger, 42: Träger, 42b: Träger, 48: Maske, 49: Lösungsmittel, 80: zu verarbeitendes Element, 80a: verbleibender Abschnitt, 80b: Oberflächenschicht, 81: Schichtanordnung, 90: zu verarbeitendes Element, 90a: verbleibender Abschnitt, 90b: Oberflächenschicht, 91: Schichtanordnung, 91a: verbleibender Abschnitt, 91s: Anfangspunkt, 92: Schichtanordnung, 92b: zu verarbeitendes Element, 92c: Schichtanordnung, 92d: Schichtanordnung, 99: Düse, 100: Gestell, 100C: Gestell, 100D: Gestell, 100E: Gestell, 100F: Gestell, 101: gerader Abschnitt, 101C: gerader Abschnitt, 101D: gerader Abschnitt, 101E: gerader Abschnitt, 101F: gerader Abschnitt, 102: gerader Abschnitt, 102C: gerader Abschnitt, 102D: gerader Abschnitt, 102E: gerader Abschnitt, 102F: gerader Abschnitt, 103: gerader Abschnitt, 103D: gerader Abschnitt, 104: gerader Abschnitt, 104D: gerader Abschnitt, 105D: gerader Abschnitt, 106D: gerader Abschnitt, 107D: gerader Abschnitt, 108D: gerader Abschnitt, 110: Verbindungsteil, 111: gekrümmter Abschnitt, 111C: gekrümmter Abschnitt, 111D: gekrümmter Abschnitt, 111E: gekrümmter Abschnitt, 111F: gekrümmter Abschnitt, 112: gekrümmter Abschnitt, 112D: gekrümmter Abschnitt, 113: gekrümmter Abschnitt, 113D: gekrümmter Abschnitt, 114: gekrümmter Abschnitt, 114D: gekrümmter Abschnitt, 115D: gekrümmter Abschnitt, 116D: gekrümmter Abschnitt, 117D: gekrümmter Abschnitt, 118D: gekrümmter Abschnitt, 200: lichtemittierendes Feld, 200C: lichtemittierendes Feld, 200D: lichtemittierendes Feld, 208: leitende Schicht, 210: Basis, 210a: Sperrfilm, 210b: Basis, 210c: Harzschicht, 219: Anschlussabschnitt, 219C: Anschlussabschnitt, 219D: Anschlussabschnitt, 250: lichtemittierendes Element, 250D: lichtemittierendes Element, 251: untere Elektrode, 252: obere Elektrode, 253: Schicht, 260: Dichtungsmittel, 270: Basis, 270a: Sperrfilm, 270b: Basis, 270c: Harzschicht, 300: Anzeigefeld, 301: Anzeigeabschnitt, 302: Pixel, 302B: Subpixel, 302G: Subpixel, 302R: Subpixel, 302t: Transistor, 303c: Kondensator, 303g: Abtastleitungstreiberschaltung, 303s: Datenleitungstreiberschaltung, 303t: Transistor, 309: flexible gedruckte Schaltung, 310: Basis, 310a: Sperrfilm, 310b: Basis, 310c: Klebeschicht, 311: Leitung, 319: Anschlussabschnitt, 321: isolierender Film, 328: Trennwand, 329: Abstandshalter, 350R: lichtemittierendes Element, 351R: untere Elektrode, 352: obere Elektrode, 353: Schicht, 353a: lichtemittierende Einheit, 353b: lichtemittierende Einheit, 354: Zwischenschicht, 360: Dichtungsmittel, 367BM: lichtundurchlässige Schicht, 367p: Antireflexionsschicht, 367R: Farbschicht, 370: Basis, 370a: Sperrfilm, 370b: Basis, 370c: Klebeschicht, 380B: lichtemittierendes Modul, 380G: lichtemittierendes Modul, 380R: lichtemittierendes Modul, 500: Touchscreen, 500B: Touchscreen, 501: Anzeigeabschnitt, 502R: Subpixel, 502t: Transistor, 503c: Kondensator, 503g: Abtastleitungstreiberschaltung, 503t: Transistor, 509: flexible gedruckte Schaltung, 510: Basis, 510a: Sperrfilm, 510b: Basis, 510c: Harzschicht, 511: Leitung, 519: Anschlussabschnitt, 521: isolierender Film, 528: Trennwand, 550R: lichtemittierendes Element, 560: Dichtungsmittel, 567BM: lichtundurchlässige Schicht, 567p: Antireflexionsschicht, 567R: Farbschicht, 570: Basis, 570a: Sperrfilm, 570b: Basis, 570c: Harzschicht, 580R: lichtemittierendes Modul, 590: Basis, 591: Elektrode, 592: Elektrode, 593: isolierende Schicht, 594: Leitung, 595: Berührungssensor, 597: Harzschicht, 598: Leitung, 599: Verbindungsschicht, 1001: lichtemittierende Vorrichtung, 1001B: lichtemittierende Vorrichtung, 1001C: lichtemittierende Vorrichtung, 1001D: lichtemittierende Vorrichtung, 1002: Anzeigevorrichtung, 1003: Eingabe-/Ausgabevorrichtung, F1: Substrat, F2: Trennschicht, F3: abzutrennende Schicht, F3b: leitende Schicht, F3s: Anfangspunkt, S1: Substrat, S2: Trennschicht, S3: abzutrennende Schicht, S5: Basis.

Diese Anmeldung basiert auf der japanischen Patentanmeldung mit der Seriennr. 2014-081828 , eingereicht beim japanischen Patentamt am 11. April 2014, deren gesamter Inhalt hiermit zum Gegenstand der vorliegenden Offenlegung gemacht ist.

Claims

Lichtemittierende Vorrichtung, die umfasst: ein Gestell; ein flexibles erstes lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell getragen wird; und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell getragen wird, wobei das Gestell einen gekrümmten Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld und das zweite lichtemittierende Feld trägt, einen ersten geraden Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine erste abwickelbare Fläche zwischen dem gekrümmten Abschnitt und dem ersten geraden Abschnitt gebildet ist, und einen zweiten geraden Abschnitt umfasst, der das zweite lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine zweite abwickelbare Fläche, die sich von der ersten abwickelbaren Fläche unterscheidet, zwischen dem gekrümmten Abschnitt und dem zweiten geraden Abschnitt gebildet ist, wobei das erste lichtemittierende Feld ein erstes lichtemittierendes Element und einen ersten Anschlussabschnitt umfasst, der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element verbunden ist, und wobei das zweite lichtemittierende Feld ein zweites lichtemittierendes Element und einen zweiten Anschlussabschnitt umfasst, der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element verbunden ist.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Gestell einen Eckpunkt aufweist, an dem der erste gerade Abschnitt, der zweite gerade Abschnitt und der gekrümmte Abschnitt miteinander verbunden sind.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei eine Seite des zweiten lichtemittierenden Feldes, die von dem gekrümmten Abschnitt getragen wird, eine Seite des ersten lichtemittierenden Feldes überlappt, die von dem gekrümmten Abschnitt getragen wird.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das erste lichtemittierende Feld einen Bereich umfasst, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt gebogen ist.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei der gekrümmte Abschnitt einen Bereich umfasst, der das erste lichtemittierende Feld überlappt, und wobei das erste lichtemittierende Feld Licht zu einer Seite emittiert, auf der der gekrümmte Abschnitt nicht bereitgestellt ist.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 1, die ferner ein Verbindungsteil umfasst, wobei das Verbindungsteil in den gekrümmten Abschnitt, den ersten geraden Abschnitt und den zweiten geraden Abschnitt eingreift, wobei der gekrümmte Abschnitt einen ersten Abschnitt, der in das Verbindungsteil eingreift, und einen zweiten Abschnitt umfasst, der nicht in das Verbindungsteil eingreift, wobei der erste gerade Abschnitt einen dritten Abschnitt, der in das Verbindungsteil eingreift, und einen vierten Abschnitt umfasst, der nicht in das Verbindungsteil eingreift, wobei der zweite gerade Abschnitt einen fünften Abschnitt, der in das Verbindungsteil eingreift, und einen sechsten Abschnitt umfasst, der nicht in das Verbindungsteil eingreift, wobei der erste Abschnitt dünner ist als der zweite Abschnitt, wobei der dritte Abschnitt dünner ist als der vierte Abschnitt, und wobei der fünfte Abschnitt dünner ist als der sechste Abschnitt.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das erste lichtemittierende Feld zwei gekrümmte Seiten, die sich an einer Ecke schneiden, und eine lineare Seite umfasst, die der einen Ecke gegenüberliegt.
Lichtemittierende Vorrichtung, die umfasst: ein Gestell; ein flexibles erstes lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell getragen wird; und ein flexibles zweites lichtemittierendes Feld, das von dem Gestell getragen wird, wobei das Gestell einen ersten gekrümmten Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld trägt, einen ersten geraden Abschnitt, der das erste lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine erste abwickelbare Fläche zwischen dem ersten gekrümmten Abschnitt und dem ersten geraden Abschnitt gebildet ist, einen zweiten geraden Abschnitt, der dem ersten geraden Abschnitt entgegengesetzt ist, und einen zweiten gekrümmten Abschnitt umfasst, der das zweite lichtemittierende Feld derart trägt, dass eine zweite abwickelbare Fläche zwischen dem zweiten geraden Abschnitt und dem zweiten gekrümmten Abschnitt gebildet ist, wobei das erste lichtemittierende Feld ein erstes lichtemittierendes Element, einen ersten Anschlussabschnitt, der elektrisch mit dem ersten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich umfasst, der entlang einer Außenform des ersten geraden Abschnitts zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt gebogen ist, und wobei das zweite lichtemittierende Feld ein zweites lichtemittierendes Element, einen zweiten Anschlussabschnitt, der elektrisch mit dem zweiten lichtemittierenden Element verbunden ist, und einen Bereich umfasst, der entlang einer Außenform des zweiten geraden Abschnitts zwischen dem zweiten lichtemittierenden Element und dem zweiten Anschlussabschnitt gebogen ist.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei das Gestell einen Eckpunkt aufweist, an dem der erste gerade Abschnitt, der zweite gerade Abschnitt, der erste gekrümmte Abschnitt und der zweite gekrümmte Abschnitt miteinander verbunden sind.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei das erste lichtemittierende Feld einen Bereich umfasst, der entlang der Außenform des ersten geraden Abschnitts zwischen dem ersten lichtemittierenden Element und dem ersten Anschlussabschnitt gebogen ist.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei der erste gekrümmte Abschnitt einen Bereich umfasst, der das erste lichtemittierende Feld überlappt, und wobei das erste lichtemittierende Feld Licht zu einer Seite emittiert, auf der der erste gekrümmte Abschnitt nicht bereitgestellt ist.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 8, die ferner ein Verbindungsteil umfasst, wobei das Verbindungsteil in den ersten gekrümmten Abschnitt, den zweiten gekrümmten Abschnitt, den ersten geraden Abschnitt und den zweiten geraden Abschnitt eingreift, wobei der erste gekrümmte Abschnitt einen ersten Abschnitt, der in das Verbindungsteil eingreift, und einen zweiten Abschnitt umfasst, der nicht in das Verbindungsteil eingreift, wobei der zweite gekrümmte Abschnitt einen dritten Abschnitt, der in das Verbindungsteil eingreift, und einen vierten Abschnitt umfasst, der nicht in das Verbindungsteil eingreift, wobei der erste gerade Abschnitt einen fünften Abschnitt, der in das Verbindungsteil eingreift, und einen sechsten Abschnitt umfasst, der nicht in das Verbindungsteil eingreift, wobei der zweite gerade Abschnitt einen siebten Abschnitt, der in das Verbindungsteil eingreift, und einen achten Abschnitt umfasst, der nicht in das Verbindungsteil eingreift, wobei der erste Abschnitt dünner ist als der zweite Abschnitt, wobei der dritte Abschnitt dünner ist als der vierte Abschnitt, wobei der fünfte Abschnitt dünner ist als der sechste Abschnitt, und wobei der siebte Abschnitt dünner ist als der achte Abschnitt.
Lichtemittierende Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei das erste lichtemittierende Feld zwei gekrümmte Seiten, die sich an einer Ecke schneiden, und eine lineare Seite umfasst, die der einen Ecke gegenüberliegt.