DE112014005415T5 - Leistungsmodul und Verfahren zum Herstellen eines Leistungsmoduls - Google Patents
Leistungsmodul und Verfahren zum Herstellen eines Leistungsmoduls Download PDFInfo
- Publication number
- DE112014005415T5 DE112014005415T5 DE112014005415.1T DE112014005415T DE112014005415T5 DE 112014005415 T5 DE112014005415 T5 DE 112014005415T5 DE 112014005415 T DE112014005415 T DE 112014005415T DE 112014005415 T5 DE112014005415 T5 DE 112014005415T5
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- power module
- connection
- semiconductor device
- power semiconductor
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 142
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 45
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 45
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 22
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 18
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 15
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 8
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 4
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
- H01L23/053—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
- H01L21/4853—Connection or disconnection of other leads to or from a metallisation, e.g. pins, wires, bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3142—Sealing arrangements between parts, e.g. adhesion promotors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3735—Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49838—Geometry or layout
- H01L23/49844—Geometry or layout for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/535—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including internal interconnections, e.g. cross-under constructions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L24/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L24/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
- H01L25/072—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/18—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/50—Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04026—Bonding areas specifically adapted for layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05617—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/05624—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05647—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/32227—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the layer connector connecting to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/35—Manufacturing methods
- H01L2224/358—Post-treatment of the connector
- H01L2224/3583—Reworking
- H01L2224/35847—Reworking with a mechanical process, e.g. with flattening of the connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/37005—Structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/3701—Shape
- H01L2224/37011—Shape comprising apertures or cavities
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/3701—Shape
- H01L2224/37012—Cross-sectional shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/37025—Plural core members
- H01L2224/3703—Stacked arrangements
- H01L2224/37032—Two-layer arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/37099—Material
- H01L2224/371—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/37117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/37124—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/37099—Material
- H01L2224/371—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/37138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/37147—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/4005—Shape
- H01L2224/4007—Shape of bonding interfaces, e.g. interlocking features
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/40137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/404—Connecting portions
- H01L2224/4046—Connecting portions with multiple bonds on the same bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/4501—Shape
- H01L2224/45012—Cross-sectional shape
- H01L2224/45014—Ribbon connectors, e.g. rectangular cross-section
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/4501—Shape
- H01L2224/45012—Cross-sectional shape
- H01L2224/45015—Cross-sectional shape being circular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73263—Layer and strap connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8338—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/83399—Material
- H01L2224/834—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/83438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/83447—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
- H01L2224/83815—Reflow soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/842—Applying energy for connecting
- H01L2224/84201—Compression bonding
- H01L2224/84205—Ultrasonic bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/8438—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/84399—Material
- H01L2224/844—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/84438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/84447—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8538—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/85399—Material
- H01L2224/854—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/85438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/85447—Copper (Cu) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/16—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
- H01L23/18—Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device
- H01L23/24—Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device solid or gel at the normal operating temperature of the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/35—Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00015—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed as prior art
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
- H01L2924/3512—Cracking
- H01L2924/35121—Peeling or delaminating
Abstract
Es wird ein Leistungsmodul angegeben, das eine verbesserte Herstellungsausbeute bietet und eine verbesserte stabile Verbindungsstärke hat und dessen Zuverlässigkeit demzufolge verbessert ist. Das Leistungsmodul weist Folgendes auf: einen Basisbereich (3) mit einer Fläche, auf welcher ein Elektrodenbereich (4) ausgebildet ist; einen Leiterbereich (5), der so angeordnet ist, dass er der einen Fläche des Basisbereichs (3) zugewandt ist, an welcher der Elektrodenbereich (4) ausgebildet ist, um eine elektrische Verbindung nach außen herzustellen; und einen Verbindungsbereich (7), der mit dem Elektrodenbereich (4) verbunden ist, der an der einen Fläche des Basisbereichs (3) ausgebildet ist, und der mit der Fläche des Leiterbereichs (5) verbunden ist, der der einen Fläche des Basisbereichs (3) zugewandt ist, um den Elektrodenbereich (4) mit dem Leiterbereich (5) elektrisch zu verbinden.
Description
- Technisches Gebiet
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Leistungsmodul. Sie betrifft insbesondere eine Verbindungsstruktur und eine Gehäusestruktur eines Leistungsmoduls.
- Stand der Technik
- Ein Leistungsmodul, welches eine Leistungs-Halbleitereinrichtung (z. B. einen IGBT (Bipolartransistor mit isoliertem Gate), einen MOSFET (Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor), einen Bipolartransistor, eine Diode oder dergleichen) enthält, die auf einer Leiterplatte montiert ist und mit einem Dichtungsharz verpackt ist, wird z. B. in einer Motorantriebsvorrichtung oder dergleichen verwendet.
- Eine Gehäusestruktur, die auch als Einfassungsstruktur bezeichnet werden kann, wird hauptsächlich für das Leistungsmodul verwendet. Diese Gehäusestruktur ist eine Struktur, bei welcher eine Leistungs-Halbleitereinrichtung auf einer Wärmeableitungs-Metallbasisplatte mit dazwischengefügtem Isoliersubstrat montiert ist und bei welcher ein Gehäuse mit der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte verbunden ist.
- Die in diesem Modul montierte Leistungs-Halbleitereinrichtung ist mit einer Hauptelektrode verbunden. Zum Verbinden der Leistungs-Halbleitereinrichtung mit der Hauptelektrode wird eine Verdrahtung verwendet. Als Draht wird allgemein ein aus einer Aluminiumlegierung hergestellter Draht verwendet, der einen Durchmesser von 0,1 bis 0,5 mm hat.
- Für den Fall, dass Drähte mit Ultraschall verschweißt werden, ist es notwendig, den Abstand zwischen den Drähten, die einander benachbart sind, so zu wählen, dass ein Kopf eines Ultraschall-Schweißwerkzeugs keinen Draht beeinflusst, der bereits montiert wurde. Um ein Leistungsmodul für größere Ströme zu erhalten, ist es notwendig, die Anzahl von Drähten zu erhöhen, die mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung verbunden sind. Infolge von Größenbeschränkungen der Leistungs-Halbleitereinrichtung ist jedoch die Zahl der Drähte begrenzt, die montiert werden können, und es ergab sich ein dahingehendes Problem, dass ein Leistungsmodul für größere Ströme schwierig zu erhalten ist.
- Mit dem Ziel, dieses Problem zu lösen, wurde das Direkt-Drahtbonden vorgeschlagen und in der Praxis verwendet, und zwar als eine Technik, welche das Drahtbonden ersetzt. Das Direkt-Drahtbonden verbindet einen plattenförmigen Hauptanschluss (Draht bzw. Lead) mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung, und zwar mit einem Lötmittel. Das Direkt-Drahtbonden hat eine dahingehende Eigenschaft, dass es an höhere Ströme angepasst werden kann und den Verbindungswiderstand sowie die Verbindungsinduktivität verringern kann, im Vergleich mit dem Drahtbonden (siehe z. B. PTD 1).
- In dem Fall des Direkt-Drahtbondens wird jedoch eine Belastung ausgeübt, die von der Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen der Leistungs-Halbleitereinrichtung und dem plattenförmigen Hauptanschluss verursacht wird, und zwar auf den Lötmittelbereich, der ein Verbindungsmaterial ist, was Risse in dem Lötmittel verursacht. Dies führt zu einem dahingehenden Problem, dass die Zuverlässigkeit verschlechtert wird.
- Im Gegensatz dazu wurde ein Verfahren vorgeschlagen, bei welchem viele Metallperlen auf einer Fläche eines plattenförmigen Hauptanschlusses ausgebildet werden, und diese Leiterplatte wird mit einer Oberflächenelektrode einer Leistungs-Halbleitereinrichtung über die Metallperlen mittels Ultraschall-Schweißens verbunden (siehe z. B. PTD 2). Für den Fall, dass diese Technik verwendet wird, dienen die Metallperlen als Puffer-schicht, um die Belastung zu verringern, die auf die Verbindung ausgeübt werden.
- Literaturverzeichnis
- Patentdokument
-
- PTD 1: Japanische Patent-Offenlegungsschrift
JP 8-008 395 A 1 ) - PTD 2: Japanische Patent-Offenlegungsschrift
JP 2005-183 495 A 1 und4 ) - Zusammenfassung der Erfindung
- Technisches Problem
- Da viele Metallperlen in dem herkömmlichen Leistungsmodul ausgebildet werden, ist es jedoch schwierig, die jeweiligen Höhen der Metallperlen gleichmäßig zu machen. Falls die Höhen der Metallperlen nicht gleichmäßig sind, tragen einige Metallperlen nicht zu der Verbindung bei, oder ein Teil der Metallperlen hat eine schwache Verbindungsstärke. Demzufolge nimmt die Verbindungsstärke der gesamten Verbindung ab, was zu einem dahingehenden Problem führt, dass die Zuverlässigkeit des Leistungsmoduls verschlechtert wird.
- Die vorliegende Erfindung wurde konzipiert, um die oben beschriebenen Probleme zu lösen. Sie gibt ein Leistungsmodul an, dessen Zuverlässigkeit durch eine zuverlässige stabile Verbindungsstärke verbessert werden kann.
- Lösung des Problems
- Eine Halbleitereinrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung weist Folgendes auf: einen Basisbereich mit einer Fläche, auf welcher ein Elektrodenbereich ausgebildet ist; einen Leiterbereich, der so angeordnet ist, dass er dem Basisbereich zugewandt ist; und einen Verbindungsbereich, der mit dem Elektrodenbereich und einer Fläche des Leiterbereichs verbunden ist, wobei die Fläche des Leiterbereichs der einen Fläche des Elektrodenbereichs zugewandt ist.
- Vorteilhafte Wirkungen der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung gibt eine Struktur an, bei welcher der Verbindungsbereich mit der Fläche des Leiterbereichs verbunden ist und mit der Fläche des Basisbereichs verbunden ist, der der Fläche des Leiterbereichs zugewandt ist, und bei welcher sich der Verbindungsbereich biegt, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Leiterbereich und dem Basisbereich erzeugt werden. Daher können die Belastungen verringert werden, die an der Verbindung erzeugt werden. Folglich wird ein Leistungsmodul mit verbesserter Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Leiterbereich und dem Basisbereich erhalten.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
- In den Zeichnungen zeigen:
-
1 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. -
2 ein schematisches perspektivisches Strukturdiagramm, das ein Verfahren zum Herstellen eines Elektrodenbereichs des Leistungsmoduls gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. -
3 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm, das das Verfahren zum Herstellen des Elektrodenbereichs des Leistungsmoduls gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. -
4 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. -
5 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm, das das Verfahren zum Herstellen des Elektrodenbereichs des Leistungsmoduls gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. -
6 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. -
7 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. -
8 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß einer fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. -
9 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß einer sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. -
10 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls gemäß einer neunten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. -
11 ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls gemäß einer zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. - Beschreibung der Ausführungsformen
- Erste Ausführungsform
-
1 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Das Leistungsmodul100 in1 weist Folgendes auf: eine Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 , ein Isoliersubstrat2 , das ein erster Basisbereich ist, eine Leistungs-Halbleitereinrichtung3 , die ein zweiter Basisbereich ist, eine Oberflächenelektrode4 , Hauptanschlüsse5 und10 , die jeweils einen Leiterbereich bilden, eine Öffnung6 , ein Bonding-Band7 , das einen Verbindungsbereich bildet, ein Gehäuse8 sowie ein Dichtungsharz11 . - Das Isoliersubstrat
2 ist auf der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 mit einem Lötmittel oder dergleichen (nicht dargestellt) befestigt. Das Isoliersubstrat2 weist eine Isolierschicht21 und Metallplatten22 und23 auf. Das Isoliersubstrat2 hat eine Struktur, bei welcher die Metallplatten22 und23 aus Kupfer oder dergleichen auf jeweils gegenüberliegenden Seiten der Isolierschicht21 befestigt sind, die aus einem keramischen Material, wie z. B. Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid oder Siliciumnitrid gebildet sind, oder die aus Epoxidharz oder dergleichen gebildet sind. Auf der frontseitigen Metallplatte23 ist ein (nicht dargestelltes) Verbindungsmuster ausgebildet. An dieser frontseitigen Metallplatte23 ist eine Leistungs-Halbleitereinrichtung3 mit einem Lötmittel oder dergleichen (nicht dargestellt) befestigt. - Eine Leistungssteuerungs-Halbleitereinrichtung, wie z. B. ein MOSFET (Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor) oder ein IGBT (Bipolartransistor mit isoliertem Gate) oder eine Leistungs-Halbleitereinrichtung, wie z. B. eine Freilaufdiode werden als Leistungs-Halbleitereinrichtung
3 verwendet. An der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 ist eine Oberflächenelektrode4 aus Aluminium, Kupfer oder dergleichen ausgebildet. - Die Oberflächenelektrode
4 ist elektrisch mit dem Hauptanschluss5 mittels des Bonding-Bands7 verbunden, das aus einer Aluminiumlegierung oder einer Kupferlegierung hergestellt ist. Während das Bonding-Band7 bei der ersten Ausführungsform verwendet wird, kann es auch ein Bondingdraht sein. Für den Fall, dass der Bondingdraht verwendet wird, hat der Bondingdraht vorzugsweise einen großen Durchmesser. - Der Hauptanschluss
5 ist eine Plattenelektrode aus Kupfer, und er hat eine Öffnung6 , die an einer Position ausgebildet ist, welche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist. Das Bonding-Band7 ist in der Form einer Schleife über die Öffnung6 hinweg ausgebildet, die in dem Hauptanschluss5 ausgebildet ist, und die gegenüberliegenden Enden des Bonding-Bands7 sind mit dem Hauptanschluss5 durch Ultraschall-Schweißen verbunden, was eine Art des Ultraschallverbindens ist. Der Schleifenbereich des Bonding-Bands7 ist mittels Ultraschalls mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verschweißt. Der Hauptanschluss5 ist mit Inserttechnik geformt oder mit Outserttechnik geformt, und zwar in dem Gehäuse8 , und er wird für die Eingabe/Ausgabe von Strom und Spannung verwendet. - Ein weiterer Hauptanschluss
10 , der auf ähnliche Weise mit Inserttechnik oder mit Outserttechnik in dem Gehäuse8 geformt ist, ist mit der frontseitigen Metallplatte22 des Isoliersubstrats2 mit einem Lötmittel oder dergleichen verbunden. Das Gehäuse8 ist mit der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 mittels eines Klebstoffs verbunden. Um die elektrische Isolierung des Inneren des Moduls sicherzustellen, füllt ein Dichtungsharz11 , wie z. B. Silikongel oder Epoxidharz den Bereich aus, der von dem Gehäuse8 und der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 umgeben ist. -
2 ist ein schematisches perspektivisches Strukturdiagramm, das ein Verfahren zum Herstellen eines Elektrodenbereichs des Leistungsmoduls gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.3 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm, das das Verfahren zum Herstellen des Elektrodenbereichs des Leistungsmoduls gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die2 und3 veranschaulichen den Schritt, in welchem die Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 mit dem Hauptanschluss5 insbesondere mittels des Bonding-Bandes7 verbunden wird. - Das Leistungsmodul gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann durch die nachstehend beschriebenen Schritte hergestellt werden. Die Wärmeableitungs-Metallbasisplatte
1 , das Lötmittel, das Isoliersubstrat2 , das Lötmittel und die Leistungs-Halbleitereinrichtung3 werden in dieser Reihenfolge geschichtet und einem Reflow-Lötvorgang unterzogen. Folglich werden die Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 , das Isoliersubstrat2 und die Leistungs-Halbleitereinrichtung3 durch Löten verbunden. Das Gehäuse8 wird anschließend mit der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 mittels eines Klebstoffs verbunden. Der Hauptanschluss5 , mit welchem das Bonding-Band7 in dem unten beschriebenen Schritt durch Ultraschall verschweißt wird, wird im Voraus mit Inserttechnik in dem Gehäuse8 geformt. - Wie in
2(a) gezeigt, wird die Öffnung6 in dem Hauptanschluss5 ausgebildet. Wie in2(b) und3(a) gezeigt, wird dann in dem Schritt, in welchem der Verbindungsbereich mit dem Leiterbereich mittels Ultraschall-Schweißens verbunden wird, ein Band-Bonden durchgeführt, um die gegenüberliegenden Enden des Bonding-Bands7 mit dem Hauptanschluss5 durch Ultraschall zu verschweißen, und zwar über die Öffnung6 des Hauptanschlusses5 hinweg. Für die Bildung eines Bonding-Bandes kann ein kommerziell erhältlicher Band-Bonder verwendet werden. - Wie in
2(c) und3(c) gezeigt, wird anschließend in dem Schritt, in welchem der Leiterbereich gedreht wird, um zu erreichen, dass eine Fläche des Leiterbereichs, mit welcher der Verbindungsbereich verbunden wird, nach unten weist, der Hauptanschluss5 , mit welchem das Bonding-Band7 über die Öffnung6 hinweg, die in dem Hauptanschluss5 ausgebildet ist, durch Ultraschall verschweißt wird, gedreht, so dass die Fläche des Hauptanschlusses5 , mit welchem das Bonding-Band7 durch Ultraschall verschweißt ist, der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist. In diesem Zustand wird das Gehäuse8 an die Wärmeableitungs-Metalbasisplatte1 gebondet, und der Hauptanschluss10 wird mit einem Lötmittel mit dem Isoliersubstrat2 verbunden. - Wie in
3(c) gezeigt, hat anschließend der Leiterbereich die Öffnung, und es wird in dem Schritt, in welchem der Verbindungsbereich mit dem Elektrodenbereich, der auf dem Basisbereich ausgebildet ist, mittels Ultraschall-Verbindens unter Verwendung einer durch die Öffnung geführten Bonding-Lehre verbunden wird, ein Kopf91 eines Ultraschall-Schweißwerkzeugs9 , das eine Bonding-Lehre ist, in die Öffnung6 eingeführt, um den Schleifenbereich des Bonding-Bandes7 mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 durch Ultraschall zu verschweißen. - In dem Schritt der Harzabdichtung wird anschließend ein isolierendes Dichtungsharz
11 , wie z. B. Silikongel oder Epoxidharz, injiziert und gehärtet, um das Innere des Bereichs abzudichten, der von dem Gehäuse8 und der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 umgeben ist. Auf diese Weise werden das Isoliersubstrat2 , die Leistungs-Halbleitereinrichtung3 , die Oberflächenelektrode4 , die Hauptanschlüsse5 und10 , die Öffnung6 und das Bonding-Band7 mit dem Harz abgedichtet. - Durch die oben beschriebenen Schritte kann das Leistungsmodul in der ersten Ausführungsform hergestellt werden. Durch diese Schritte kann das Bonding-Band
7 mittels Ultraschall direkt mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verschweißt werden. Daher kann eine stabile Verbindungsstärke gewährleistet werden. - Hierbei kann die Größe der Öffnung
6 , die in dem Hauptanschluss5 ausgebildet ist, in Abhängigkeit der Größe und der Strombelastungskapazität der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 sowie der Größe des Ultraschall-Schweißwerkzeugs9 bestimmt werden. Es ist notwendig, die Größe der Öffnung6 so zu bestimmen, dass die Größe der Öffnung6 größer ist als die Größe des Kopfes91 des Ultraschall-Schweißwerkzeugs9 , und so dass die Öffnung6 den Kopf91 während des Ultraschall-Schweißens nicht beeinflusst. Da die minimale Fläche, die zum Ultraschall-Schweißen notwendig ist, durch die Strombelastbarkeit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 bestimmt wird, kann die Größe des Kopfes91 gleich der oder größer als diese erforderliche minimale Fläche gewählt werden. - Es ist auch notwendig, die Dicke und die Weite des Bonding-Bandes
7 zu bestimmen, so dass die Temperatur der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 nicht so stark ansteigt, dass sie einen zulässigen Wert überschreitet, und zwar durch die Wärme, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn der maximale Belastungsstrom in der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 fließt. Die Öffnung6 kann durch Pressen oder Schneiden ausgebildet werden. Während die Form der Öffnung6 , die in den Zeichnungen gezeigt ist, eine Rechteckform ist, ist die Form nicht unbedingt auf eine Rechteckform beschränkt. - Sie kann vielmehr eine beliebige Form besitzen, die den Kopf
91 des Ultraschall-Schweißwerkzeugs9 nicht beeinflusst. Während ferner hier das Ultraschall-Schweißen als ein Verfahren zum Ausbilden der Verbindung verwendet wird, ist ein solches Verfahren nicht auf das Ultraschall-Schweißen beschränkt, und es kann ein beliebiges Verfahren zum Ausbilden der Verbindung in geeigneter Weise ausgewählt werden, und zwar z. B. in Abhängigkeit des zu verwendenden Materials. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird das Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Zweite Ausführungsform
- Die zweite Ausführungsform unterscheidet sich wie folgt von der ersten Ausführungsform: Während der bei der ersten Ausführungsform verwendete Hauptanschluss
5 eine Öffnung6 hat, besitzt der Hauptanschluss5 gemäß der zweiten Ausführungsform keine Öffnung6 ; und bei der zweiten Ausführungsform ist das eine Ende des Bonding-Bandes7 mit der Fläche des Hauptanschlusses5 durch Ultraschall verschweißt, die der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist, und das andere Ende des Bonding-Bandes7 ist mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 durch Ultraschall verschweißt. Folglich ist der Abstand kurz, über welchen hinweg das Bonding-Band7 den Hauptanschluss5 mit der Oberflächenelektrode4 verbindet. Daher kann die Menge des Bonding-Bandes7 verringert werden, das zum Verbinden verwendet wird. -
4 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In4 weist ein Verbindungsbereich zwischen der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 und dem Hauptanschluss5 Folgendes auf: Die Leistungs-Halbleitereinrichtung3 , eine Oberflächenelektrode4 , einen Hauptanschluss5 und ein Bonding-Band7 . - Der Hauptanschluss
5 hat keine Öffnung6 , und er ist so angeordnet, dass er der Seite der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist, an welcher die Oberflächenelektrode4 ausgebildet ist. Das eine Ende des Bonding-Bandes7 ist mit der Fläche des Hauptanschlusses5 durch Ultraschall verschweißt, welche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist. Das andere Ende des Bonding-Bandes7 ist ebenfalls durch Ultraschall verschweißt, und zwar mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 . -
5 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm, das das Verfahren zum Herstellen des Elektrodenbereichs des Leistungsmoduls gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in5(a) gezeigt, wird in dem Schritt, in welchem der Verbindungsbereich verbunden wird, das eine Ende des Bonding-Bandes7 mit der Fläche des Hauptanschlusses5 durch Ultraschall verschweißt, welche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt sein wird. - Zu diesem Zeitpunkt ist das andere Ende (ein anderes Ende) des Bonding-Bandes
7 so angeordnet, dass es mit dem Hauptanschluss5 bei Betrachtung von der Rückseite des Hauptanschlusses5 nicht überlappt, d. h. von der Rückseite in Bezug auf dessen Fläche, welche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt sein wird. Wie in5(b) gezeigt, wird dann der Hauptanschluss5 , mit welchem das eine Ende des Bonding-Bandes7 durch Ultraschall verschweißt wird, so angeordnet, dass dessen Fläche, mit welcher das Bonding-Band7 durch Ultraschall verschweißt ist, der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist. - Wie in
5(c) gezeigt, wird in dem Schritt, in welchem der Verbindungsbereich mittels Ultraschall-Schweißens mit dem Elektrodenbereich verbunden wird, der an dem Basisbereich ausgebildet ist, das Ultraschall-Schweißwerkzeug9 verwendet, um das andere Ende des Bonding-Bandes7 durch Ultraschall zu verschweißen, das nicht mit dem Hauptanschluss5 verbunden ist, und zwar mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 . - Auf diese Weise wird der Hauptanschluss
5 durch das Bonding-Band7 mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 bei der zweiten Ausführungsform verbunden. Während hier das Ultraschall-Schweißen als ein Verfahren zum Ausbilden der Verbindung verwendet wird, ist ein solches Verfahren aber nicht auf das Ultraschall-Schweißen beschränkt, und es kann ein beliebiges Verfahren zum Ausbilden der Verbindung in geeigneter Weise ausgewählt werden, und zwar z. B. in Abhängigkeit des zu verwendenden Materials. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Da es unnötig ist, die Öffnung
6 in dem Hauptanschluss5 auszubilden, wird die Materialverwertungseffizienz beim Herstellen des Hauptanschlusses5 verbessert. Da die Anzahl von Verbindungen verringert werden kann, kann die Herstellungsausbeute verbessert werden, und die Bearbeitungszeit kann verkürzt werden. Der Freiheitsgrad beim Anordnen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 wird außerdem erhöht. Insbesondere für den Fall, dass die Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 eine kleine Größe hat, wird daher das Design vereinfacht. - Da die Länge des Bonding-Bandes
7 , das zum Verbinden des Hauptanschlusses5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verwendet wird, minimiert werden kann, wird ferner der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 verringert, und folglich kann die Wärmemenge verringert werden, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Demzufolge wird eine dahingehende Wirkung erzielt, dass die Zuverlässigkeit der Verbindung verbessert wird. Da die Länge des Bonding-Bandes7 minimiert werden kann, wird ferner die thermische Leitfähigkeit zwischen der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 und dem Hauptanschluss5 verringert. - Folglich kann die Wärme, die in der Leistungs-Halbleitereinrichtung
3 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, wirksam durch das Bonding-Band7 an den Hauptanschluss5 abgeführt werden. Demzufolge kann ein Temperaturanstieg der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 unterbunden werden, und folglich kann die Zuverlässigkeit der Verbindung verbessert werden. Im Vergleich zu der ersten Ausführungsform wird außerdem die Begrenzung der Größe des Kopfes91 des Ultraschall-Schweißwerkzeugs9 verringert. - Dritte Ausführungsform
- Die dritte Ausführungsform unterscheidet sich wie folgt von der ersten Ausführungsform: Während bei der ersten Ausführungs ein Lötverbinden für den Verbindungsbereich zwischen dem Hauptanschluss
10 und dem Isoliersubstrat2 stattfindet, wird bei der dritten Ausführungsform die Öffnung6 in dem Hauptanschluss10 wie dem Hauptanschluss5 ausgebildet, und der Hauptanschluss10 wird mit dem Isoliersubstrat2 mittels des Bonding-Bandes7 verbunden. Folglich können die Verbindung für den Hauptanschluss5 und die Verbindung für den Hauptanschluss10 in demselben Schritt ausgebildet werden, und die Anzahl von Schritten kann verringert werden. Außerdem kann die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss10 und dem Isoliersubstrat2 verbessert werden. -
6 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls in der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Das Leistungsmodul200 gemäß6 weist Folgendes auf: eine Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 , ein Isoliersubstrat2 , eine Leistungs-Halbleitereinrichtung3 , eine Oberflächenelektrode4 , Hauptanschlüsse5 und10 , eine Öffnung6 , ein Bonding-Band7 , ein Gehäuse8 , und ein Dichtungsharz11 . Während der Hauptanschluss10 mit dem Isoliersubstrat2 mittels eines Lötmittels in der ersten Ausführungsform in1 verbunden ist, wird bei der dritten Ausführungsform die Öffnung6 in dem Hauptanschluss10 wie in dem Hauptanschluss5 ausgebildet, und der Hauptanschluss10 ist mit dem Isoliersubstrat2 mittels des Bonding-Bandes7 verbunden. - Das Isoliersubstrat
2 ist auf der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 mit einem Lötmittel oder dergleichen (nicht dargestellt) befestigt. Das Isoliersubstrat2 weist eine Isolierschicht21 und Metallplatten22 und23 auf. Das Isoliersubstrat2 hat eine Struktur, bei welcher die Metallplatten22 und23 aus Kupfer oder dergleichen auf jeweils gegenüberliegenden Seiten der Isolierschicht21 befestigt sind, die aus einem keramischen Material, wie z. B. Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid oder Siliciumnitrid gebildet sind, oder die aus Epoxidharz oder dergleichen gebildet sind. Auf der frontseitigen Metallplatte23 ist ein (nicht dargestelltes) Verbindungsmuster ausgebildet. An dieser frontseitigen Metallplatte23 ist eine Leistungs-Halbleitereinrichtung3 mit einem Lötmittel oder dergleichen (nicht dargestellt) befestigt. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Da die Öffnung
6 auch in dem Hauptanschluss10 ausgebildet ist und die Fläche des Hauptanschlusses10 mit der Fläche des Isoliersubstrats2 verbunden ist, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses10 zugewandt ist, und zwar mittels des Bonding-Bandes7 , können die Verbindung für den Hauptanschluss5 und die Verbindung für den Hauptanschluss10 in demselben Schritt ausgebildet werden, und die Anzahl von Schritten kann verringert werden. Außerdem kann die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss10 und dem Isoliersubstrat2 verbessert werden. - Vierte Ausführungsform
- Die vierte Ausführungsform unterscheidet sich wie folgt von der ersten Ausführungsform: Während bei der ersten Ausführungsform eine Öffnung
6 des Hauptanschlusses5 verwendet wird, ist bei der vierten Ausführungsform eine Mehrzahl von Öffnungen in dem Hauptanschluss5 ausgebildet, und eine Mehrzahl von Verbindungen wird über Bonding-Bänder7 ausgebildet. - Die Anzahl von Verbindungen kann folglich vergrößert werden, um die Stromdichte der Leistungs-Halbleitereinrichtung
3 zu erhöhen. Unter der Bedingung, dass die Stromdichte der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 die gleiche ist, kann außerdem die Dichte des Stroms verringert werden, der in jedem Bonding-Band7 fließt. Daher kann die Zuverlässigkeit der Verbindung weiter verbessert werden. -
7 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß der vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In7 weist der Verbindungsbereich zwischen der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 und dem Hauptanschluss5 Folgendes auf: die Leistungs-Halbleitereinrichtung3 , eine Oberflächenelektrode4 , einen Hauptanschluss5 , Öffnungen6 und ein Bonding-Band7 . Während7 zwei Verbindungen mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zeigt, kann die Anzahl von Verbindungen Zwei oder mehr betragen. - Während eine Mehrzahl von Verbindungen in der Longitudinalrichtung des Hauptanschlusses
5 angeordnet sind, ist die Anordnung der Verbindungen nicht auf diese Anordnung beschränkt, und die Verbindungen können an beliebigen Orten und in beliebiger Richtung innerhalb der Reichweite angeordnet sein, wo sich die Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 befindet. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Da eine Mehrzahl von Öffnungen
6 in dem Hauptanschluss5 ausgebildet ist und die Anzahl von Verbindungen mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 vergrößert wird, kann die Stromdichte der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erhöht werden. Unter der Bedingung, dass die Stromdichte der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 die gleiche ist, kann außerdem die Dichte des Stroms verringert werden, der in jedem Bonding-Band7 fließt. Daher kann die Zuverlässigkeit der Verbindung weiter verbessert werden. - Fünfte Ausführungsform
- Die fünfte Ausführungsform unterscheidet sich von der vierten Ausführungsform in folgender Hinsicht. Bei der fünften Ausführungsform ist eine Mehrzahl von Öffnungen
6 in dem Hauptanschluss5 ausgebildet, wie bei der vierten Ausführungsform, und der Hauptanschluss5 ist mit einer Mehrzahl von Orten über das Bonding-Band7 mittels einer Heftverbindung verbunden. Da der Hauptanschluss5 mittels dieser Heftverbindung verbunden ist, wird die Anzahl von Orten verringert, an welchen ein Ultraschall-Schweißen erfolgt, und folglich kann die Bearbeitungszeit des Schrittes verkürzt werden. -
8 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß der fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In8 weist der Verbindungsbereich zwischen der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 und dem Hauptanschluss5 Folgendes auf: die Leistungs-Halbleitereinrichtung3 , eine Oberflächenelektrode4 , einen Hauptanschluss5 , Öffnungen6 und ein Bonding-Band7 . - Während
8 zwei Verbindungen mit der Oberflächenelektrode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zeigt, kann die Anzahl von Verbindungen mit der Oberflächenelek-trode4 der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 auch Zwei oder mehr betragen. Außerdem sind Verbindungen an einer Mehrzahl von Orten über das Bonding-Band7 mittels der Heftverbindung ausgebildet, die Anzahl von Orten der Verbindungen mit der Hauptfläche5 , die mittels Ultraschall-Schweißens hergestellt wird, kann verringert werden, und zwar im Vergleich zu dem Fall, in welchem das Bonding-Band7 über jede Öffnung6 hinweg mit dem Hauptanschluss5 verbunden wird. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz des linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Da die Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und dem Bonding-Band7 mittels einer Heftverbindung ausgeführt ist, wird die Anzahl von Orten, wo das Ultraschall-Schweißen erfolgt, verringert, und daher kann die Bearbeitungszeit des Schrittes verkürzt werden. - Sechste Ausführungsform
- Die sechste Ausführungsform unterscheidet sich von der vierten Ausführungsform in folgender Hinsicht. Bei der sechsten Ausführungsform sind in der Fläche des Hauptanschlusses
5 , die bei der vierten Ausführungsform verwendet wird und die der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist, eine oder mehrere Öffnungen12 ebenfalls an einem Ort (an Orten) ausgebildet, wo das Bonding-Band7 nicht ausgebildet ist. Auf diese Weise kann die Einfachheit der Injektion des Dichtungsharzes11 in den Bereich zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 vergrößert werden, und folglich kann die Herstellungsausbeute verbessert werden. -
9 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Elektrodenbereichs eines Leistungsmoduls gemäß der sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In9 weist der Verbindungsbereich zwischen der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 und dem Hauptanschluss5 Folgendes auf: die Leistungs-Halbleitereinrichtung3 , eine Oberflächenelektrode4 , einen Hauptanschluss5 , eine Öffnung6 , ein Bonding-Band7 und eine Öffnung12 . - In der Fläche des Hauptanschlusses
5 , die der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 zugewandt ist, sind eine oder mehrere Öffnungen12 ebenfalls an einem Ort (an Orten) ausgebildet, wo das Bonding-Band7 nicht ausgebildet ist. Mit solch einer Konfiguration kann die Einfachheit der Injektion des Dichtungsharzes11 in den Bereich zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 vergrößert werden, und folglich kann die Herstellungsausbeute verbessert werden. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird der Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Da eine oder mehrere Öffnungen
6 , über welche hinweg das Bonding-Band7 nicht ausgebildet ist, in dem Hauptanschluss5 vorgesehen sind, kann die Einfachheit der Injektion des Dichtungsharzes11 in den Bereich zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 vergrößert werden, und folglich kann die Herstellungsausbeute verbessert werden. - Siebente Ausführungsform
- Die siebente Ausführungsform unterscheidet sich in folgender Hinsicht. Wie bei der vierten und fünften Ausführungsformen, bei welchen der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 an einer Mehrzahl von Orten verbunden ist, ist der Hauptanschluss10 der dritten Ausführungsform ebenfalls mit dem Isoliersubstrat2 an einer Mehrzahl von Orten verbunden. Auf diese Weise kann die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss10 und dem Isoliersubstrat2 ebenfalls verbessert werden. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Außerdem sind eine Mehrzahl von Öffnungen
6 auch in dem Hauptanschluss10 vorgesehen, und folglich wird die Anzahl an Orten vergrößert, wo der Hauptanschluss10 mit dem Isoliersubstrat2 verbunden ist. Daher kann die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss10 und dem Isoliersubstrat2 ebenfalls verbessert werden. - Achte Ausführungsform
- Die achte Ausführungsform unterscheidet sich in folgender Hinsicht. Bei der sechsten Ausführungsform sind für die Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 eine oder mehrere Öffnungen12 auch an einem Ort (an Orten) gebildet, wo das Bonding-Band7 nicht ausgebildet ist. Dies wird bei der achten Ausführungsform auf die Verbindung zwischen dem Hauptanschluss10 und dem Isoliersubstrat2 angewendet. - Eine oder mehrere Öffnungen
12 sind auch an einem Ort (an Orten) ausgebildet, wo das Bonding-Band7 nicht ausgebildet ist. Da die Öffnung (die Öffnungen)12 folglich in dem Hauptanschluss10 vorgesehen ist bzw. sind, kann die Einfachheit der Injektion des Dichtungsharzes11 auch für die Verbindung zwischen dem Hauptanschluss10 und dem Isoliersubstrat2 verbessert werden. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit der Fläche der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt ist. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit der Leistungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Da eine oder mehrere Öffnungen
12 , über welche hinweg das Bonding-Band7 nicht ausgebildet ist, in dem Hauptanschluss10 vorgesehen sind, kann die Einfachheit der Injektion des Dichtungsharzes11 in den Bereich zwischen dem Hauptanschluss10 und dem Isoliersubstrat2 vergrößert werden, und folglich kann die Herstellungsausbeute verbessert werden. - Neunte Ausführungsform
- Die neunte Ausführungsform unterscheidet sich wie folgt von der ersten Ausführungsform: Während bei der ersten Ausführungsform der Hauptanschluss
5 mit einer Leistungssteuerungs-Halbleitereinrichtung3 verbunden ist, ist bei der neunten Ausführungsform der Hauptanschluss5 mit einer Mehrzahl von Leistungs-Halbleitereinrichtungen3 verbunden. -
10 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls in der neunten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Das Leistungsmodul300 gemäß10 weist Folgendes auf: eine Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 , ein Isolier-substrat2 , Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 , eine Oberflächenelektrode4 , Hauptanschlüsse5 und10 , eine Öffnung6 , ein Bonding-Band7 , ein Gehäuse8 und ein Dichtungsharz11 . In einer Konfiguration, die in10 gezeigt ist, wird der Hauptanschluss5 mit zwei Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 verbunden. - Das Isoliersubstrat
2 ist auf der Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 mit einem Lötmittel oder dergleichen (nicht dargestellt) befestigt. Das Isoliersubstrat2 weist eine Isolierschicht21 und Metallplatten22 und23 auf. Das Isoliersubstrat2 hat eine Struktur, bei welcher die Metallplatten22 und23 aus Kupfer oder dergleichen auf jeweils gegenüberliegenden Seiten der Isolierschicht21 befestigt sind, die aus einem keramischen Material, wie z. B. Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid oder Siliciumnitrid gebildet sind, oder die aus Epoxidharz oder dergleichen gebildet sind. Auf der frontseitigen Metallplatte23 ist ein (nicht dargestelltes) Verbindungsmuster ausgebildet. An dieser frontseitigen Metallplatte23 sind die Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 mit einem Lötmittel oder dergleichen (nicht dargestellt) befestigt. - Ein Leistungsmodul, das zum Antreiben eines Motors oder dergleichen verwendet wird, führt ein Schalten des Stroms und der Spannung als seine Hauptvorgänge aus. Für den Fall, dass das Leistungsmodul ein Schalten einer induktiven Last, wie z. B. eines Motors durchführt, ist es notwendig, Freilaufdioden antiparallel zu schalten. Wie in
8 gezeigt, können die Schalteinrichtung31 und die Freilaufdiode32 , die zwei Leistungs-Halbleitereinrichtungen sind, jeweils mit dem Hauptanschluss5 verbunden werden, um die oben genannte Schaltung zu implementieren. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Hauptanschlusses
5 durch das Bonding-Band7 mit den jeweiligen Flächen der Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 verbunden, die der oben genannten Fläche des Hauptanschlusses5 zugewandt sind. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Hauptanschluss5 und den Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss
5 und den Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Hauptanschlusses5 und der Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Hauptanschluss5 und den Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Hauptanschluss
5 mit den Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Zehnte Ausführungsform
- Die zehnte Ausführungsform unterscheidet sich dahingehend, dass das Leistungsmodul bei der zehnten Ausführungsform vom Transferformtyp ist, im Gegensatz zu dem Leistungsmodul vom Gehäusetyp, das bei der ersten bis neunten Ausführungsform verwendet wurde. Da das Leistungsmodul vom Transferformtyp ist, kann das Formen in einem Schritt durchgeführt werden. Folglich werden die Herstellungskosten verringert, und die Produktivität kann verbessert werden.
-
11 ist ein schematisches Querschnittsstruktur-Diagramm eines Leistungsmoduls gemäß der zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In11 weist das Leistungsmodul400 Folgendes auf: ein Isoliersubstrat2 , Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 , eine Oberflächenelektrode4 , eine Öffnung6 , ein Bonding-Band7 , ein Gehäuse8 , ein Dichtungsharz11 und einen Leiterrahmen13 . Der Leiterrahmen13 ersetzt die Hauptanschlüsse5 und10 . - Außerdem ersetzt das Einschritt-Formen mit dem Transferformungsharz
14 den Schritt, in welchem das Dichtungsharz11 injiziert wird. Während11 eine Konfiguration ohne eine Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 zeigt, kann die Konfiguration auch mit einer Wärmeableitungs-Metallbasisplatte1 versehen werden, wie die Konfiguration vom Gehäusetyp. - Das Isoliersubstrat
2 weist eine Isolierschicht21 und Metallplatten22 und23 auf. Das Isoliersubstrat2 hat eine Struktur, bei welcher die Metallplatten22 und23 aus Kupfer oder dergleichen auf jeweils gegenüberliegenden Seiten der Isolierschicht21 befestigt sind, die aus einem keramischen Material, wie z. B. Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid oder Siliciumnitrid gebildet sind, oder die aus Epoxidharz oder dergleichen gebildet sind. Auf der frontseitigen Metallplatte23 ist ein (nicht dargestelltes) Verbindungsmuster ausgebildet. An dieser frontseitigen Metallplatte23 sind die Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 mit einem Lötmittel oder dergleichen (nicht dargestellt) befestigt. - Bei dem Leistungsmodul, das auf die oben beschriebene Art konfiguriert ist, wird die Fläche des Leiterrahmens
13 durch das Bonding-Band7 mit den jeweiligen Flächen der Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 verbunden, die der oben genannten Fläche des Leiterrahmens13 zugewandt sind. Daher kann sich das Bonding-Band7 verbiegen, um Belastungen zu absorbieren, die infolge einer Differenz des linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Leiterrahmen13 und den Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 erzeugt wird. - Demzufolge werden die Belastungen verringert, die an der Verbindung zwischen dem Leiterrahmen
13 und den Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 erzeugt werden. Folglich wird ein Ablösen des Leiterrahmens13 und der Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 voneinander unterbunden, und die Zuverlässigkeit der Verbindung zwischen dem Leiterrahmen13 und den Leistungs-Halbleitereinrichtungen3 kann verbessert werden. - Außerdem kann der Leiterrahmen
13 mit den Leistungs-Halbleitereinrichtungen31 und32 verbunden werden, wobei der Abstand zwischen ihnen so kurz wie möglich ist. Folglich kann der elektrische Widerstand des Bonding-Bandes7 , wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird, verringert werden. Demzufolge wird die Wärmemenge verringert, die von dem Bonding-Band7 erzeugt wird, wenn das Leistungsmodul unter Spannung gesetzt wird. Folglich wird ein Temperaturanstieg des Leistungsmoduls unterbunden. Demzufolge kann ein Leistungsmodul für höhere Ströme erhalten werden. - Da ein Transferformen verwendet wird, kann das Formen in einem Schritt durchgeführt werden. Folglich werden die Herstellungskosten verringert, und die Produktivität kann verbessert werden.
- Bezugszeichenliste
-
- 1
- Wärmeableitungs-Metallbasisplatte
- 2
- Isoliersubstrat
- 3
- Leistungs-Halbleitereinrichtung
- 4
- Oberflächenelektrode
- 5
- Hauptanschluss
- 6
- Öffnung
- 7
- Bonding-Band
- 8
- Gehäuse
- 9
- Ultraschall-Schweißwerkzeug
- 10
- Hauptanschluss
- 11
- Dichtungsharz
- 12
- Öffnung
- 13
- Leiterrahmen
- 14
- Transferformungsharz
- 21
- Isolierschicht
- 22
- Metallplatte
- 23
- Metallplatte
- 31
- Schalteinrichtung
- 32
- Freilaufdiode
- 91
- Kopf
- 100
- Leistungsmodul
- 200
- Leistungsmodul
- 300
- Leistungsmodul
- 400
- Leistungsmodul
Claims (17)
- Leistungsmodul, das Folgendes aufweist: – einen Basisbereich mit einer Fläche, auf welcher ein Elektrodenbereich ausgebildet ist; – einen Leiterbereich, der so angeordnet ist, dass er dem Basisbereich zugewandt ist; und – einen Verbindungsbereich, der mit dem Elektrodenbereich und einer Fläche des Leiterbereichs verbunden ist, wobei die Fläche des Leiterbereichs der einen Fläche des Elektrodenbereichs zugewandt ist.
- Leistungsmodul nach Anspruch 1, wobei das eine Ende des Verbindungsbereichs mit dem Elektrodenbereich verbunden ist, und wobei das andere Ende mit der Fläche des Leiterbereichs verbunden ist, die der einen Fläche des Elektrodenbereichs zugewandt ist.
- Leistungsmodul nach Anspruch 2, wobei der Leiterbereich eine Öffnung hat, und wobei an einer Position, die mit der Öffnung korrespondiert, das andere Ende des Verbindungsbereichs mit dem Elektrodenbereich verbunden ist.
- Leistungsmodul nach Anspruch 1, wobei der Leiterbereich eine Öffnung hat, gegenüberliegende Enden des Verbindungsbereichs mit dem Leiterbereich über die Öffnung hinweg verbunden sind, und wobei an einer Position, die mit der Öffnung korrespondiert, ein Teil des Verbindungsbereichs mit dem Elektrodenbereich verbunden ist.
- Leistungsmodul nach Anspruch 3 oder 4, wobei eine Mehrzahl von Öffnungen in dem Leiterbereich vorgesehen sind.
- Leistungsmodul nach Anspruch 5, wobei der Verbindungsbereich mit dem Leiterbereich über jede der Mehrzahl von Öffnungen hinweg verbunden ist.
- Leistungsmodul nach Anspruch 5, wobei der Leiterbereich die Öffnung hat, über welche hinweg der Verbindungsbereich nicht mit dem Leiterbereich verbunden ist.
- Leistungsmodul nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Basisbereich einen ersten Basisbereich und einen zweiten Basisbereich aufweist.
- Leistungsmodul nach Anspruch 8, wobei das Leistungsmodul eine Mehrzahl von zweiten Basisbereichen aufweist.
- Leistungsmodul nach Anspruch 8 oder 9, wobei der erste Basisbereich ein Isoliersubstrat ist.
- Leistungsmodul nach einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei der zweite Basisbereich eine Halbleitereinrichtung ist.
- Leistungsmodul nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei der Basisbereich, der Leiterbereich und der bandförmige Leiterbereich mit einem Harz mittels eines Gehäuses abgedichtet sind.
- Leistungsmodul nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei der Basisbereich, der Leiterbereich und der bandförmige Leiterbereich mit einem Transferformungsharz abgedichtet sind.
- Leistungsmodul nach einem der Ansprüche 1 bis 13, wobei der Verbindungsbereich ein Draht oder ein Band ist.
- Verfahren zum Herstellen eines Leistungsmoduls, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: – Verbinden eines Verbindungsbereichs mit einem Leiterbereich durch Ultraschall-Schweißen; – Drehen des Verbindungsbereichs, um zu bewirken, dass der Leiterbereich nach unten weist, wobei der Verbindungsbereich mit der Fläche des Leiterbereichs verbunden ist; und – Verbinden des Verbindungsbereichs mit einem Elektrodenbereich, der auf einem Basisbereich ausgebildet ist, durch Ultraschall-Schweißen.
- Verfahren zum Herstellen eines Leistungsmoduls nach Anspruch 15, wobei der Leiterbereich eine Öffnung hat, und wobei das Verfahren ein Verbinden des Verbindungsbereichs mit dem Elektrodenbereich aufweist, der an dem Basisbereich ausgebildet ist, und zwar durch Ultraschall-Schweißen unter Verwendung einer Bonding-Lehre, die durch die Öffnung geführt wird.
- Verfahren zum Herstellen eines Leistungsmoduls nach Anspruch 15 oder 16, wobei der Verbindungsbereich ein Draht oder ein Band ist.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013-243924 | 2013-11-26 | ||
JP2013243924 | 2013-11-26 | ||
PCT/JP2014/004028 WO2015079600A1 (ja) | 2013-11-26 | 2014-07-31 | パワーモジュール、及びパワーモジュールの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE112014005415T5 true DE112014005415T5 (de) | 2016-08-04 |
DE112014005415B4 DE112014005415B4 (de) | 2020-01-23 |
Family
ID=53198582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE112014005415.1T Expired - Fee Related DE112014005415B4 (de) | 2013-11-26 | 2014-07-31 | Leistungsmodul und Verfahren zum Herstellen eines Leistungsmoduls |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9673118B2 (de) |
JP (1) | JP6143884B2 (de) |
CN (1) | CN105765715B (de) |
DE (1) | DE112014005415B4 (de) |
WO (1) | WO2015079600A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3863045A1 (de) * | 2020-02-04 | 2021-08-11 | Infineon Technologies AG | Leistungshalbleitermodulanordnung und verfahren zur herstellung davon |
DE102018200161B4 (de) | 2017-04-17 | 2022-07-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleiteranordnung und verfahren zum herstellen der halbleiteranordnung |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105706236B (zh) * | 2014-01-27 | 2019-03-01 | 三菱电机株式会社 | 电极端子、电力用半导体装置以及电力用半导体装置的制造方法 |
JP6234630B2 (ja) * | 2015-02-25 | 2017-11-22 | 三菱電機株式会社 | パワーモジュール |
JP6540324B2 (ja) * | 2015-07-23 | 2019-07-10 | 富士電機株式会社 | 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法 |
KR102543528B1 (ko) * | 2015-12-07 | 2023-06-15 | 현대모비스 주식회사 | 전력 모듈 패키지 및 그 제조방법 |
JP6790684B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2020-11-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP6809294B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2021-01-06 | 三菱電機株式会社 | パワーモジュール |
US10882134B2 (en) * | 2017-04-04 | 2021-01-05 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Ultrasonic welding systems and methods of using the same |
JP6833986B2 (ja) * | 2017-05-11 | 2021-02-24 | 三菱電機株式会社 | パワーモジュール、電力変換装置、およびパワーモジュールの製造方法 |
WO2019008828A1 (ja) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
US10002821B1 (en) | 2017-09-29 | 2018-06-19 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor chip package comprising semiconductor chip and leadframe disposed between two substrates |
CN111725592B (zh) * | 2019-03-20 | 2022-10-18 | 华为技术有限公司 | 移相器、天线及基站 |
WO2020208713A1 (ja) * | 2019-04-09 | 2020-10-15 | 三菱電機株式会社 | パワー半導体モジュール及び電力変換装置 |
CN112289763A (zh) * | 2020-06-12 | 2021-01-29 | 无锡利普思半导体有限公司 | 一种功率半导体模块 |
CN112038245B (zh) * | 2020-07-22 | 2022-11-18 | 无锡利普思半导体有限公司 | 一种功率模块内部绑定线的连接工艺 |
CN113658934A (zh) * | 2021-08-23 | 2021-11-16 | 无锡利普思半导体有限公司 | 功率模块内部连接铜片及其制备方法、功率半导体模块 |
WO2023042372A1 (ja) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置、及び半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3022178B2 (ja) | 1994-06-21 | 2000-03-15 | 日産自動車株式会社 | パワーデバイスチップの実装構造 |
JP2001045634A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-16 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | ジャンクションブロックの回路導体接合構造 |
DE10223035A1 (de) * | 2002-05-22 | 2003-12-04 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Bauteil mit Hohlraumgehäuse, insbesondere Hochfrequenz-Leistungsmodul |
JP4265394B2 (ja) | 2003-12-17 | 2009-05-20 | 株式会社日立製作所 | 電力変換装置 |
JP4524570B2 (ja) | 2004-03-10 | 2010-08-18 | 富士電機システムズ株式会社 | 半導体装置 |
JP2009081198A (ja) | 2007-09-25 | 2009-04-16 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2009231685A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Mitsubishi Electric Corp | パワー半導体装置 |
JP2010092918A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Toyota Industries Corp | 板状電極とブロック状電極との接続構造及び接続方法 |
DE102009002191B4 (de) * | 2009-04-03 | 2012-07-12 | Infineon Technologies Ag | Leistungshalbleitermodul, Leistungshalbleitermodulanordnung und Verfahren zur Herstellung einer Leistungshalbleitermodulanordnung |
JP2011044452A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Denso Corp | 電子装置およびその製造方法 |
JP2012209444A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Panasonic Corp | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2012227320A (ja) * | 2011-04-19 | 2012-11-15 | Hitachi Cable Ltd | 半導体装置 |
CN104838493B (zh) * | 2012-11-28 | 2017-07-14 | 三菱电机株式会社 | 功率模块 |
US9275926B2 (en) * | 2013-05-03 | 2016-03-01 | Infineon Technologies Ag | Power module with cooling structure on bonding substrate for cooling an attached semiconductor chip |
WO2015004832A1 (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | 三菱電機株式会社 | パワーモジュール |
-
2014
- 2014-07-31 JP JP2015550534A patent/JP6143884B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-07-31 WO PCT/JP2014/004028 patent/WO2015079600A1/ja active Application Filing
- 2014-07-31 US US15/038,590 patent/US9673118B2/en active Active
- 2014-07-31 DE DE112014005415.1T patent/DE112014005415B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2014-07-31 CN CN201480064539.1A patent/CN105765715B/zh active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018200161B4 (de) | 2017-04-17 | 2022-07-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleiteranordnung und verfahren zum herstellen der halbleiteranordnung |
EP3863045A1 (de) * | 2020-02-04 | 2021-08-11 | Infineon Technologies AG | Leistungshalbleitermodulanordnung und verfahren zur herstellung davon |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9673118B2 (en) | 2017-06-06 |
US20160300770A1 (en) | 2016-10-13 |
WO2015079600A1 (ja) | 2015-06-04 |
CN105765715B (zh) | 2018-08-03 |
DE112014005415B4 (de) | 2020-01-23 |
JP6143884B2 (ja) | 2017-06-07 |
CN105765715A (zh) | 2016-07-13 |
JPWO2015079600A1 (ja) | 2017-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE112014005415B4 (de) | Leistungsmodul und Verfahren zum Herstellen eines Leistungsmoduls | |
DE112012007339B3 (de) | Halbleitermodul und Verfahren zur Herstellung des Halbleitermoduls | |
DE102009032973B4 (de) | Leistungshalbleitervorrichtung | |
DE112013003222B4 (de) | Halbleitervorrichtung und Halbleitervorrichtungsverbindungsstruktur | |
DE102012206596B4 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE112015002001B4 (de) | Halbleitermodul | |
DE102011003205B4 (de) | Halbleitervorrichtungsmodul | |
DE102015121680B4 (de) | Leistungshalbleitermodul, das eine flexible leiterplattenverbindung mit einer niedrigen gate-treiberinduktivität aufweist und verfahren zum herstellen | |
DE102011082781B4 (de) | Halbleitervorrichtung mit einer plattenelektrode zum verbinden einer mehrzahl an halbleiterchips | |
DE102009033321A1 (de) | Leistungshalbleitervorrichtung | |
DE112015000513T5 (de) | Elektrodenanschluss, Halbleitereinrichtung für elektrische Energie sowie Verfahren zur Herstellung einer Halbleitereinrichtung für elektrische Energie | |
DE102009011233A1 (de) | Halbleitervorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE112015000660T5 (de) | Leistungsmodul und Herstellungsverfahren dafür | |
DE112016002608T5 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Leistungs-Halbleitervorrichtung und Leistungs-Halbleitervorrichtung | |
DE112015000183T5 (de) | Halbleitermodul und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE10236455A1 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE212020000492U1 (de) | Halbleiterbauteil | |
DE112017007415T5 (de) | Halbleiterbauelement, Verfahren zur Herstellung desselben und Leistungswandlervorrichtung | |
DE102015103897B4 (de) | Leitungsrahmen mit Kühlerplatte, Verfahren zur Herstellung eines Leitungsrahmens mit Kühlerplatte, Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung | |
DE112019005303T5 (de) | Halbleitermodul, leistungsumsetzungsvorrichtung und herstellungsverfahren für das halbleitermodul | |
DE112021000700T5 (de) | Elektronische vorrichtung | |
DE102018217231B4 (de) | Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Fertigung derselben | |
DE102016223651A1 (de) | Halbleitermodul und halbleitervorrichtung | |
DE102016115221A1 (de) | Verfahren zum Verbinden von mindestens zwei Substraten zur Bildung eines Moduls | |
DE112021002452T5 (de) | Halbleitermodul |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R084 | Declaration of willingness to licence | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |