DE112004002068B4 - Temperaturkompensierte Akustischer-Filmvolumenresonator-(FBAR-) Bauelemente - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 129
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 21
- OQCGPOBCYAOYSD-UHFFFAOYSA-N cobalt palladium Chemical compound [Co].[Co].[Co].[Pd].[Pd] OQCGPOBCYAOYSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- DTSBBUTWIOVIBV-UHFFFAOYSA-N molybdenum niobium Chemical compound [Nb].[Mo] DTSBBUTWIOVIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 14
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- HEPLMSKRHVKCAQ-UHFFFAOYSA-N lead nickel Chemical compound [Ni].[Pb] HEPLMSKRHVKCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052664 nepheline Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010434 nepheline Substances 0.000 claims description 6
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OJLGWNFZMTVNCX-UHFFFAOYSA-N dioxido(dioxo)tungsten;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O OJLGWNFZMTVNCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 151
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 26
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 25
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 19
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 19
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 17
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 10
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 9
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 8
- 230000004044 response Effects 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 7
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 5
- -1 poly (para-xylylene) Polymers 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 2
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000005360 phosphosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- BDMHSCBWXVUPAH-UHFFFAOYSA-N cobalt niobium Chemical compound [Co].[Nb] BDMHSCBWXVUPAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006352 cycloaddition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical class [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001427 incoherent neutron scattering Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
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Abstract
Description
- Hintergrund
- FBAR-Bauelemente, die ein oder mehr akustische Filmvolumenresonatoren (FBARs – film bulk acoustic resonators) umfassen, gehören zu einer sich ständig vergrößernden Vielzahl von elektronischen Produkten, insbesondere drahtlosen Produkten. Zum Beispiel umfassen moderne Zellulartelefone einen Duplexer, bei dem jedes der Bandpassfilter eine Leiterschaltung umfasst, wobei jedes Element der Leiterschaltung ein FBAR ist. Ein Duplexer, der FBARs umfasst, ist von Bradley et al. in dem
US-Patent Nr. 6,262,637 mit dem Titel Duplexer Incorporating Thin-film Bulk Acoustic Resonators (FBARs) offenbart, das an den Anmelder dieser Offenbarung übertragen ist. Ein derartiger Duplexer ist aus einem Senderbandpassfilter, das in Reihe zwischen den Ausgang des Senders und die Antenne geschaltet ist, und einem Empfängerbandpassfilter gebildet, das in Reihe mit einem 90°-Phasenschieber zwischen die Antenne und den Eingang des Empfängers geschaltet ist. Die Mittenfrequenzen der Durchlassbänder des Senderbandpassfilters und des Empfängerbandpassfilters sind voneinander versetzt. Leiterfilter, die auf FBARs basieren, werden auch bei anderen Anwendungen verwendet. -
EP 1 100 196 A2 offenbart einen piezoelektrischen Resonator mit einem laminierten Aufbau, der ein piezoelektrisches Laminat, mindestens ein Paar von Elektroden und ein Substrat aufweist. Das piezoelektrische Laminat umfasst mindestens eine erste piezoelektrische Schicht, die aus Aluminiumnitrit (AlN) ausgebildet ist und einen positiven Temperaturkoeffizienten ihrer Resonanzfrequenz aufweist, und mindestens zweite piezoelektrische Schicht, die aus Zinkoxid (ZnO) ausgebildet ist einen negativen Temperaturkoeffizienten ihrer Resonanzfrequenz aufweist. Durch eine geeignete Anpassung der Dicken der piezoelektrischen Schichten kann erreicht werden, dass der Temperaturkoeffizient des piezoelektrischen Laminats nahezu Null wird. -
US 2003/0128081 A1 -
US 4,456,850 offenbart einen piezoelektrischen Resonator, der eine zwischen zwei Elektroden angeordnete Kompositschicht aufweist. Diese Kompositschicht umfasst zwei aus Zinkoxid (ZnO) ausgebildete, piezoelektrische, dünne Schichten und eine zwischen diesen angeordnete, einzelne dünne Schicht, die aus Siliziumoxid (SiO2) ausgebildet ist, damit sie einen im Vergleich zu den piezoelektrischen Schichten entgegengesetzten Temperaturkoeffizienten der Resonanzfrequenz aufweist. -
DE 29 38 158 offenbart eine Schallwellenvorrichtung, die ein Quarzsubstrat mit einer glatten Oberfläche, und eine erste und eine zweite sich längserstreckende Schallwellen-Verzögerungsleitung, die auf der glatten Oberfläche des Quarzsubstrat angeordnet sind, aufweist. Zum Ausbilden einer akustischen Oberflächenwellen-(SAW, surface acoustic wave)-Vorrichtung ist die glatte Oberfläche ein ST-Schnittquarz. Die erste Schallwellen-Verzögerungsleitung ist ausgerichtet, damit sich Oberflächen-Schallwellen entlang einer X-Achse ausbreiten. Die zweite Schallwellen-Verzögerungsleitung ist unter einem zu 41° gewählten Winkel ausgerichtet. Die Phasen der beiden Verzögerungsleitungen verändern sich mit der Temperatur. Die Ausrichtung der zweiten Verzögerungsleitung im Verhältnis zur ersten ist so gewählt, dass ein summierter Ausgang im Wesentlichen unabhängig von der Temperatur ist, d. h. zumindest über den Bereich von –40°C bis 70°C, was zu einer stabilen Oszillatorfrequenz führt. In einer Ausführungsform umfasst die Schallwellenvorrichtung ferner eine zweite Hilfsverzögerungsleitung, die gleich wie die zweite Schallwellen-Verzögerungsleitung, jedoch verschieden ausgerichtet ist, so dass deren Phasenänderung mit der Temperatur ein entgegengesetztes Vorzeichen zur Phasenänderung der zweiten Schallwellen-Verzögerungsleitung hat. -
1 zeigt ein exemplarisches Ausführungsbeispiel eines FBAR-basierten Bandpassfilters10 , das zur Verwendung als das Senderbandpassfilter eines Duplexers geeignet ist. Das Senderbandpassfilter ist aus Reihen-FBARs12 und Nebenschluss-FBARs14 gebildet, die in einer Leiterschaltung verbunden sind. Die Reihen-FBARs12 weisen eine höhere Resonanzfrequenz als die Nebenschluss-FBARs14 auf. -
2 zeigt ein exemplarisches Ausführungsbeispiel30 eines FBAR. Der FBAR30 ist aus einem Paar von Elektroden32 und34 und einem piezoelektrischen Element36 zwischen den Elektroden gebildet. Das piezoelektrische Element und die Elektroden hängen über einem Hohlraum44 , der in einem Substrat42 definiert ist. Diese Art des Hängens des FBAR ermöglicht, dass sich der FBAR ansprechend auf ein elektrisches Signal, das zwischen den Elektroden angelegt wird, mechanisch in Resonanz befindet. - Die US-Patentanmeldung Seriennummer 10/699,289 (veröffentlicht als
US 2005/0093653 A1 - Die US-Patentanmeldung Seriennummer 10/699,481 (veröffentlicht als
US 2005/0093656 A1 - Der FBAR, der im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf
2 beschrieben ist, und Bauelemente, wie zum Beispiel Leiterfilter, DSBARs und FACTs, die ein oder mehr FBARs umfassen, werden in dieser Offenbarung allgemein als FBAR-Bauelemente bezeichnet. - Die meisten FBAR-Bauelemente weisen eine Frequenzantwort auf, die eine Bandpasscharakteristik aufweist, die durch eine Mittenfrequenz charakterisiert ist. Die Komponenten-FBARs weisen eine Frequenzantwortcharakteristik auf, die durch eine Resonanzfrequenz charakterisiert ist. Bei praktischen Ausführungsbeispielen von aktuellen FBAR-Bauelementen, bei denen das Material des piezoelektrischen Elements Aluminiumnitrid (AlN) ist und das Material der Elektroden Molybdän (Mo) ist, weist die Resonanzfrequenz der ein oder mehr FBARs einen Temperaturkoeffizienten von etwa –20 ppm/°C bis etwa –35 ppm/°C auf. Derartige Temperaturkoeffizienten verringern den Temperaturbereich, über den das FBAR-Bauelement, das die FBARs umfasst, seine Durchlassbandbreitenspezifikation erfüllen kann. Derartige Temperaturkoeffizienten verringern außerdem eine Herstellungsausbeute, da die Bandbreitengrenzen, bis zu denen die FBAR-Bauelemente getestet werden, eingesetzt sein müssen, um sicherzustellen, dass das FBAR-Bauelement seine Bandbreitenspezifikation über seinen gesamten Betriebstemperaturbereich erfüllt.
- Deshalb wird ein FBAR benötigt, dessen Resonanzfrequenz einen verringerten Temperaturkoeffizienten aufweist.
- Zusammenfassung der Erfindung
- In einem ersten Aspekt liefert die Erfindung ein temperaturkompensiertes Akustischer-Filmvolumenresonator-(FBAR-)Bauelement, das einen FBAR-Stapel aufweist. Der FBAR-Stapel weist einen FBAR und ein Temperaturkompensationselement auf. Der FBAR ist durch eine Resonanzfrequenz gekennzeichnet, die einen Temperaturkoeffizienten aufweist, und weist gegenüberliegende planare Elektroden und ein piezoelektrisches Element zwischen den Elektroden auf. Das piezoelektrische Element weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz zumindest teilweise abhängt. Das Temperaturkompensationselement weist einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten des piezoelektrischen Elements entgegengesetzt ist, und es ist gemäß einer der folgenden Alternativen ausgebildet: (a) das Temperaturkompensationselement (
109 ) weist eine Niobium-Molybdän-(Nb-Mo-)Legierung auf, (b) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist eine Kobalt-Palladium-(Co-Pd-)Legierung auf, oder (c) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist ein ferroelektrisches Material auf. - Infolge des entgegengesetzten Vorzeichens seines Temperaturkoeffizienten verringert das Temperaturkompensationselement die Wirkung des Temperaturkoeffizienten des piezoelektrischen Elements und normalerweise außerdem die Wirkung des Temperaturkoeffizienten der Elektroden auf den Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements. Folglich ist der Betrag des Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements geringer als derjenige eines ähnlichen FBAR-Bauelements ohne ein Temperaturkompensationselement.
- Das Temperaturkompensationselement ist normalerweise als ein oder mehr Temperaturkompensationsschichten strukturiert, die in dem FBAR-Stapel angeordnet sind. Bei einem Ausführungsbeispiel ist eine Temperaturkompensationsschicht neben einer oder beiden der Elektroden angeordnet. Zum Beispiel ist die Temperaturkompensationsschicht zwischen der Elektrode und dem piezoelektrischen Element angeordnet. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel befindet sich die Temperaturkompensationsschicht auf der bezüglich des piezoelektrischen Elements anderen Seite der Elektrode. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist die Temperaturkompensationsschicht in dem piezoelektrischen Element eingebettet.
- Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel weisen eine oder beide der Elektroden einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens dem piezoelektrischen Element entgegengesetzt ist, und liefern das Temperaturkompensationselement.
- Beispiele eines FBAR-Bauelements umfassen einen FBAR, wie zum Beispiel einen FBAR, der ein Element eines Leiterfilters liefert, einen gestapelten akustischen Volumenresonator (SBAR – stacked bulk acoustic resonator), einen entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR), ein Bandpassfilter, ein Gekoppelter-Resonator-Filter und einen akustisch gekoppelten Filmtransformator (FACT).
- In einem zweiten Aspekt liefert die Erfindung ein akustisches Bauelement, das einen akustischen Ausbreitungsweg aufweist, der eine ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft aufweist. Die ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft weist einen Temperaturkoeffizienten auf. Der akustische Ausbreitungsweg weist ein akustisches Ausbreitungselement auf, das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, von dem die ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft des akustischen Ausbreitungswegs zumindest teilweise abhängt. Der akustische Ausbreitungsweg weist außerdem ein Temperaturkompensationselement auf, das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten des akustischen Ausbreitungselements entgegengesetzt ist, und das gemäß einer der folgenden Alternativen ausgebildet ist: (a) das Temperaturkompensationselement (
109 ) weist eine Niobium-Molybdän-(Nb-Mo-)Legierung auf, (b) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist eine Kobalt-Palladium-(Co-Pd-)Legierung auf, oder (c) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist ein ferroelektrisches Material auf. - Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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1 ist eine schematische Zeichnung eines Leiterfilters, das FBARs gemäß dem Stand der Technik umfasst. -
2 ist eine Querschnittsansicht eines FBAR gemäß dem Stand der Technik. -
3A ist eine Grundrissansicht eines ersten Ausführungsbeispiels eines FBAR-Bauelements gemäß der Erfindung. -
3B ist eine Querschnittsansicht des ersten Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements, das in3A gezeigt ist, entlang der Schnittlinie 3B-3B. -
3C –3F sind Querschnittsansichten von alternativen Strukturen des Temperaturkompensationselements des FBAR-Bauelements, das in3A gezeigt ist. -
4A ist eine Grundrissansicht eines zweiten Ausführungsbeispiels eines FBAR-Bauelements gemäß der Erfindung. -
4B ist eine Querschnittsansicht des zweiten Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements, das in4A gezeigt ist, entlang der Schnittlinie 4B-4B. -
5A ist eine Grundrissansicht eines dritten Ausführungsbeispiels eines FBAR-Bauelements gemäß der Erfindung. -
5B ist eine Querschnittsansicht des dritten Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements, das in5A gezeigt ist, entlang der Schnittlinie 5B-5B. -
5C ist eine Querschnittsansicht des dritten Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements, das in5A gezeigt ist, entlang der Schnittlinie 5C-5C. -
5D ist ein schematisches Diagramm der elektrischen Schaltungen des dritten Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements, das in5A gezeigt ist. -
6A –6J sind Grundrissansichten, die einen Prozess zum Herstellen eines Ausführungsbeispiels eines FBAR-Bauelements gemäß der Erfindung veranschaulichen. -
6K –6T sind Querschnittsansichten jeweils entlang der Schnittlinien 6K-6K bis 6T-6T jeweils in den6A –6J . - Detaillierte Beschreibung
- Wie derselbe in dieser Offenbarung verwendet wird, bezieht sich der Begriff FBAR-Stapel auf einen Stapel von Schichten aus verschiedenen Materialien, der ein oder mehr FBARs aufweist. Bei Ausführungsbeispielen, bei denen der FBAR-Stapel mehr als einen FBAR aufweist, können sich die FBARs auf der gleichen Ebene in dem FBAR-Stapel oder auf unterschiedlichen Ebenen in dem FBAR-Stapel befinden, oder einige der FBARs können sich auf der gleichen Ebene in dem FBAR-Stapel befinden, und einige der FBARs können sich auf unterschiedlichen Ebenen in dem FBAR-Stapel befinden. Zum Beispiel befinden sich die FBARs in einem FBAR-Leiterfilter normalerweise auf der gleichen Ebene in dem FBAR-Stapel, die FBARs in einem entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR) befinden sich auf unterschiedlichen Ebenen in dem FBAR-Stapel, und einige der FBARs eines akustisch gekoppelten Dünnfilmtransformators (FACT) befinden sich auf der gleichen Ebene in dem FBAR-Stapel und einige der FBARs des FACT befinden sich auf unterschiedlichen Ebenen in dem FBAR-Stapel.
- Ein FBAR weist eine Resonanzfrequenz auf, die direkt von der Geschwindigkeit der Ausbreitung von Schall in dem FBAR abhängt und die umgekehrt von den Dicken der Schichten abhängt, die den FBAR bilden. Die Ausbreitungsgeschwindigkeit in den meisten Materialien, aus denen FBARs derzeit hergestellt werden, weisen einen negativen Temperaturkoeffizienten auf, weil die interatomaren Kräfte mit zunehmender Temperatur schwächer werden. Eine Verringerung dieser Kräfte führt zu einer Verringerung der elastischen Konstante des Materials mit einer damit einhergehenden Verringerung der Ausbreitungsgeschwindigkeit. Eine Zunahme der Temperatur bewirkt, dass die Ausbreitungsgeschwindigkeit abnimmt, und bewirkt auch, dass die Schichten bezüglich der Dicke zunehmen. Diese beiden Wirkungen tendieren dazu, die Resonanzfrequenz des FBAR zu verringern, was zu dem im vorhergehenden beschriebenen negativen Temperaturkoeffizienten führt. Zum Beispiel betragen die Temperaturkoeffizienten von Aluminiumnitrid (AlN) und Molybdän (Mo), aus denen FBARs derzeit hergestellt werden, etwa –25 ppm/°C bzw. –60 ppm/°C.
- Die Beziehung zwischen einem Gesamttemperaturkoeffizienten der Resonanzfrequenz des FBAR und den Temperaturkoeffizienten der Elektroden und des piezoelektrischen Elements des FBAR wird durch die relativen Dicken der Elektroden und des piezoelektrischen Elements bestimmt. Ein FBAR-basierter Duplexer weist ein Empfängerleiterfilter auf, bei dem die FBARs normalerweise relativ dünne Elektroden und ein relativ dickes piezoelektrisches Element aufweisen. Die Resonanzfrequenz derartiger FBARs weist einen Temperaturkoeffizienten auf, der demjenigen von AlN ähnlich ist, d. h. etwa –25 ppm/°C. Das Senderleiterfilter des FBAR-basierten Duplexers weist normalerweise FBARs mit relativ dicken Elektroden und einem relativ dünnen piezoelektrischen Element auf. Der Temperaturkoeffizient des Molybdäns der Elektroden liefert einen größeren Beitrag zu dem Temperaturkoeffizienten der Resonanzfrequenz des FBAR. Folglich weist die Resonanzfrequenz derartiger FBARs einen Temperaturkoeffizienten in einem Bereich von etwa –35 ppm/°C bis etwa –40 ppm/°C auf.
- Gemäß der Erfindung umfasst der FBAR-Stapel außerdem ein Temperaturkompensationselement, das den Temperaturkoeffizienten der Resonanzfrequenz des FBAR-Bauelements verringert. Das Temperaturkompensationselement weist einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens dem piezoelektrischen Element, das zu dem FBAR-Stapel gehört, entgegengesetzt ist, d. h. das Temperaturkompensationselement weist bei dem obigen Beispiel, bei dem das piezoelektrische Element einen negativen Temperaturkoeffizienten aufweist, einen positiven Temperaturkoeffizienten auf. Mit dem Temperaturkompensationselement passt der effektive Temperaturkoeffizient TCeff des FBAR zu einer ersten Näherung:
TCeff = {(TCE·tE) + (TCP·tP) + (TCC·tC)}/(tE + tP + tC) (1) - Materialien, die eine Ausbreitungsgeschwindigkeit mit einem positiven Temperaturkoeffizienten aufweisen, die zur Aufnahme in einen FBAR-Stapel geeignet sind, sind relativ rar, aber es gibt sie. Einige erwünschte Eigenschaften des Temperaturkompensationselements umfassen:
- 1. Unlöslich oder von Ätzmitteln, die bei Prozessen verwendet werden, die ihrer Aufbringung folgen, nur langsam angegriffen.
- 2. Eine Erweichungs- und/oder Zersetzungstemperatur über der Aufbringungstemperatur des piezoelektrischen Materials (normalerweise etwa 450°C für AlN), falls dasselbe vor dem piezoelektrischen Element aufgebracht wird, oder ansonsten über der Aufbringungstemperatur des Elektrodenmaterials (normalerweise etwa 300°C für Mo).
- 3. Fähigkeit, stark an den Materialien der Elektroden und des piezoelektrischen Elements zu haften.
- 4. Fähigkeit, durch Photolithographie strukturiert zu werden und durch die gleichen Nass- oder Trockenätzmittel wie das Elektrodenmaterial geätzt zu werden.
- 5. Fähigkeit, in bis zu 1 μm dicken Schichten vakuumaufgebracht oder aufgesputtert zu werden.
- 6. Eine relativ einfache chemische Zusammensetzung, zum Beispiel eine Binärmetalllegierung oder eine anorganische Binärverbindung.
- 7. Ein Metalltemperaturkompensationselement weist eine geringe magnetische Permeabilität und eine hohe elektrische Leitfähigkeit auf und kann eine gesamte Elektrode oder einen Teil einer Elektrode bilden.
- 8. Ein isolierendes Temperaturkompensationselement weist einen geringen Verlustfaktor auf.
- Vor allem weist bei typischen FBAR-Bauelementen, bei denen die Resonanzfrequenz der FBARs einen negativen Temperaturkoeffizienten aufweist, die Ausbreitungsgeschwindigkeit des Temperaturkompensationselements einen positiven Temperaturkoeffizienten auf.
- Die
3A und3B sind eine Grundrissansicht bzw. eine Querschnittsansicht eines ersten exemplarischen Ausführungsbeispiels100 eines FBAR-Bauelements gemäß der Erfindung. Das FBAR-Bauelement100 weist einen FBAR-Stapel auf, der einen FBAR aufweist. Der FBAR ist ein exemplarischer FBAR eines FBAR-Leiterfilters, wie zum Beispiel des Leiterfilters, das in1 gezeigt ist, oder eine exemplarischer FBAR eines FBAR-Duplexers. Die restlichen FBARs eines derartigen Leiterfilters oder Duplexers bilden auch einen Teil des FBAR-Stapels. Die restlichen FBARs sind jedoch aus den3A und3B weggelassen, um die Zeichnung zu vereinfachen. - Das FBAR-Bauelement
100 weist einen FBAR-Stapel111 auf. Der FBAR-Stapel111 weist einen FBAR110 und ein Temperaturkompensationselement109 auf. Der FBAR110 weist gegenüberliegende planare Elektroden112 und114 und ein piezoelektrisches Element116 zwischen den Elektroden auf. Das piezoelektrische Element116 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR zumindest teilweise abhängt. Die Resonanzfrequenz hängt normalerweise außerdem von dem Temperaturkoeffizienten der Elektroden ab. Das Temperaturkompensationselement109 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten des piezoelektrischen Elements entgegengesetzt ist. Infolge des entgegengesetzten Vorzeichens seines Temperaturkoeffizienten verringert das Temperaturkompensationselement109 die Wirkung des Temperaturkoeffizienten des piezoelektrischen Elements auf den Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements100 . Folglich ist der Betrag des Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements100 geringer als derjenige eines ähnlichen FBAR-Bauelements ohne das Temperaturkompensationselement. - Bei dem Beispiel, das in
3B gezeigt ist, ist das Temperaturkompensationselement109 aus einer Temperaturkompensationsschicht113 , die zwischen der Elektrode112 und dem piezoelektrischen Element116 angeordnet ist, und einer Temperaturkompensationsschicht115 , die zwischen der Elektrode114 und dem piezoelektrischen Element116 angeordnet ist, gebildet. Die Temperaturkompensationsschichten113 und115 sind jede eine Schicht aus einem Temperaturkompensationsmaterial und weisen einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens den Temperaturkoeffizienten des piezoelektrischen Elements116 und der Elektroden112 und114 des FBAR110 entgegengesetzt ist. Ein Verwenden eines Temperaturkompensationsmaterials, das eine hohe elektrische Leitfähigkeit aufweist, als das Material der Temperaturkompensationsschichten113 und115 verhindert, dass die Temperaturkompensationsschichten auf unerwünschte Weise die Kopplungskonstante des FBAR110 verringern. Bei einem typischen Ausführungsbeispiel des FBAR-Bauelements100 weisen das piezoelektrische Element und die Elektroden einen negativen Temperaturkoeffizienten auf, und die Temperaturkompensationsschichten weisen einen positiven Temperaturkoeffizienten auf. - Wie derselbe in dieser Offenbarung verwendet wird, ist der Temperaturkoeffizient einer Komponente des FBAR-Stapels
111 , zum Beispiel des Temperaturkompensationselements109 , der Temperaturkompensationsschichten113 und115 , des piezoelektrischen Elements116 und der Elektroden112 und114 , der Temperaturkoeffizient eines Parameters der Komponente, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR110 abhängt. Normalerweise ist der Parameter eine Kombination der Ausbreitungsgeschwindigkeit von Schall in der Komponente und des Koeffizienten der thermischen Ausdehnung der Komponente. Der Parameter kann außerdem die akustische Impedanz der Komponente berücksichtigen. - Bei dem gezeigten Beispiel weisen die Temperaturkompensationsschichten
113 und115 , die das Temperaturkompensationselement109 bilden, im Wesentlichen die gleiche Form und Größe wie die Elektroden112 bzw.114 in einer Ebenen auf, die zu den Hauptoberflächen der Schichten parallel ist. Ebenfalls bei dem gezeigten Beispiel sind die Temperaturkompensationsschichten113 und115 neben den Elektroden112 bzw.114 angeordnet und sind zwischen der Elektrode112 und dem piezoelektrischen Element116 bzw. zwischen der Elektrode114 und dem piezoelektrischen Element116 angeordnet. Alternativ dazu weisen die Temperaturkompensationsschichten113 und115 im Wesentlichen die gleiche Form und Größe wie das piezoelektrische Element116 auf. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel sind die Temperaturkompensationsschichten
113 und115 jeweils auf den bezüglich des piezoelektrischen Elements116 entgegengesetzten Seiten der Elektrode112 und der Elektrode114 angeordnet, wie es in3C gezeigt ist. Bei Ausführungsbeispielen, bei denen die Temperaturkompensationsschichten außerhalb des elektrischen Feldes angeordnet sind, das an das piezoelektrische Element116 durch eine Spannungsdifferenz zwischen den Elektroden112 und114 angelegt wird, kann das Temperaturkompensationsmaterial der Temperaturkompensationsschichten113 und115 elektrisch leitend oder elektrisch isolierend sein. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist das Temperaturkompensationselement
109 aus nur einer einzigen Temperaturkompensationsschicht113 gebildet, wie es in3D gezeigt ist. Die einzige Temperaturkompensationsschicht113 weist eine Dicke auf, die gleich der Summe der Dicken der Temperaturkompensationsschichten113 und115 ist, und ist neben der Elektrode112 angeordnet. Bei dem gezeigten Beispiel ist die einzige Temperaturkompensationsschicht zwischen der Elektrode112 und dem piezoelektrischen Element116 angeordnet. Ein Verwenden eines Temperaturkompensationsmaterials, das eine hohe bis mittlere elektrische Leitfähigkeit aufweist, als das Material der Temperaturkompensationsschicht113 verhindert, dass die Temperaturkompensationsschicht auf unerwünschte Weise die Kopplungskonstante des FBAR110 verringert. Die einzige Temperaturkompensationsschicht kann alternativ dazu auf der bezüglich des piezoelektrischen Elements116 entgegengesetzten Seite der Elektrode112 auf eine Weise angeordnet sein, die derjenigen ähnlich ist, die in3C gezeigt ist. Das einzige Temperaturkompensationselement kann alternativ dazu neben der Elektrode114 auf eine beliebige der Arten angeordnet sein, die soeben bezüglich der Elektrode112 beschrieben wurden. - Bei dem Ausführungsbeispiel, das in
3D gezeigt ist, kann die Dicke der Elektrode114 erhöht werden, um die Symmetrie des FBAR-Bauelements100 wiederherzustellen. Ein Erhöhen der Dicke der Elektrode114 erhöht jedoch den Temperaturkoeffizienten, der durch das Temperaturkompensationselement109 kompensiert werden muss. Eine Bauelementasymmetrie verringert die Kopplungskonstante, aber eine derartige verringerte Kopplungskonstante ist normalerweise akzeptabel. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist das Temperaturkompensationselement
109 aus einer einzigen Temperaturkompensationsschicht113 gebildet, die in dem piezoelektrischen Element116 eingebettet ist, wie es in3E gezeigt ist. Dies ordnet die Temperaturkompensationsschicht113 ein Stück innerhalb, zum Beispiel bei der Hälfte, der Dicke des piezoelektrischen Elements116 an. Das piezoelektrische Element116 weist zwei Teile116A und116B auf, zwischen denen die Temperaturkompensationsschicht113 angeordnet ist. Ein Verwenden eines Temperaturkompensationsmaterials, das eine hohe bis mittlere elektrische Leitfähigkeit aufweist, als das Material der Temperaturkompensationsschicht113 verhindert, dass die Temperaturkompensationsschicht auf unerwünschte Weise die Kopplungskonstante des FBAR110 verringert. - Das Temperaturkompensationselement
109 liefert normalerweise eine wirksamere Temperaturkompensation bei Ausführungsbeispielen, bei denen dasselbe zwischen den Elektroden112 und114 angeordnet ist, als bei Ausführungsbeispielen wie z. B. demjenigen, das in3C gezeigt ist, bei denen dasselbe an einem anderen Ort angeordnet ist. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist das Temperaturkompensationselement
109 aus den Elektroden112 und114 gebildet, wie es in3F gezeigt ist. Bei diesem Ausführungsbeispiel weisen die Elektroden112 und114 einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens demjenigen des piezoelektrischen Elements116 entgegengesetzt ist. Die Resonanzfrequenz von Ausführungsbeispielen des FBAR110 , bei denen der Temperaturkoeffizient der Elektroden112 und114 bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten des piezoelektrischen Elements116 entgegengesetzt ist, weist einen niedrigeren Temperaturkoeffizienten als denjenigen von Ausführungsbeispielen auf, bei denen der Temperaturkoeffizient der Elektroden das gleiche Vorzeichen wie derjenige des piezoelektrischen Elements aufweist. Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel ist das Temperaturkompensationselement109 aus nur einer der Elektroden112 und114 gebildet, und das Material der anderen der Elektroden ist ein herkömmliches Elektrodenmaterial. Ein Verwenden eines Temperaturkompensationsmaterials, das eine hohe elektrische Leitfähigkeit aufweist, als das Material der Elektroden112 und114 verhindert, dass der Widerstand der Elektroden den Reihenwiderstand des FBAR110 erhöht. - Bei den im Vorhergehenden beschriebenen Ausführungsbeispielen verringert das Temperaturkompensationselement
109 den Temperaturkoeffizienten der Resonanzfrequenz des FBAR110 . Der positive Temperaturkoeffizient der Ausbreitungsgeschwindigkeit des Temperaturkompensationselements gleicht zumindest teilweise den negativen Temperaturkoeffizienten der Ausbreitungsgeschwindigkeit des piezoelektrischen Elements und der Elektroden aus. Bei einigen Ausführungsbeispielen ist die Dicke des Temperaturkompensationselements derart eingestellt, dass der effektive Temperaturkoeffizient des FBAR110 null ist. Bei anderen Ausführungsbeispielen ist die Dicke des Temperaturkompensationselements derart eingestellt, dass der effektive Temperaturkoeffizient des FBAR110 negativ bleibt, jedoch wesentlich geringer als der Temperaturkoeffizient eines herkömmlichen FBAR-Bauelements ist, bei dem der FBAR-Stapel111 kein Temperaturkompensationselement aufweist. Eine Verringerung des Temperaturkoeffizienten des FBAR110 erhöht entweder den Betriebstemperaturbereich oder die Herstellungsausbeute des FBAR110 oder beides. Eine nützliche Zunahme der Herstellungsausbeute wird einfach durch ein Verringern des Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements110 auf die Hälfte desjenigen des herkömmlichen FBAR-Bauelements erhalten. - Bei dem gezeigten Beispiel weist das FBAR-Bauelement
100 außerdem ein Substrat102 auf. Ein Hohlraum104 ist in dem Substrat102 definiert, und der FBAR-Stapel111 hängt über dem Hohlraum. Der Hohlraum104 isoliert den FBAR-Stapel111 akustisch von dem Substrat102 . Der FBAR-Stapel111 ist deshalb frei, um ansprechend auf ein elektrisches Signal, das zwischen den Elektroden112 und114 des FBAR110 angelegt wird, mechanisch zu schwingen. Der FBAR-Stapel111 kann alternativ dazu von dem Substrat102 durch einen akustischen Bragg-Reflektor isoliert sein, wie es von Lakin in demUS-Patent Nr. 6,107,721 offenbart ist. Akustische Bragg-Reflektoren, die aus abwechselnden Metall-Bragg-Schichten und Kunststoff-Bragg-Schichten gebildet sind, die eine akustische Isolation liefern, die mit derjenigen vergleichbar ist, die durch den Hohlraum104 geliefert wird, wobei nur ein oder zwei Paare von Bragg-Schichten verwendet werden, sind von Larson III et al. in der US-Patentanmeldung Seriennummer 10/969,744 (veröffentlicht alsUS 2005/104690 A1 - Elemente, die in dieser Offenbarung als nebeneinander angeordnet beschrieben sind, kontaktieren einander normalerweise physisch, wie es in
3B gezeigt ist. Nebeneinander angeordnete Elemente können jedoch durch dazwischenliegende Elemente getrennt sein, vorausgesetzt, dass solche dazwischenliegenden Elemente eine vernachlässigbare Wirkung auf die akustischen Eigenschaften der nebeneinander angeordneten Elemente aufweisen. - Das Temperaturkompensationselement
109 bildet einen Teil der akustisch resonanten Struktur des FBAR110 . Um einen FBAR mit einer spezifizierten Resonanzfrequenz zu bilden, ersetzt das Temperaturkompensationselement einen Teil von ein oder mehr der anderen Komponenten, d. h. des piezoelektrischen Elements und der Elektroden, des FBAR. Verfügbare Temperaturkompensationselemente weisen normalerweise elektroakustische Eigenschaften auf, die denjenigen der anderen Komponenten des FBAR unterlegen sind. Zum Beispiel weisen typische Metalltemperaturkompensationselemente einen höheren spezifischen elektrischen Widerstand auf als typische Elektrodenmaterialien. Folglich hat das Temperaturkompensationselement das Potential, die elektroakustischen Eigenschaften von Ausführungsbeispielen des FBAR110 relativ zu denjenigen eines ähnlichen herkömmlichen FBAR-Bauelements zu verschlechtern. Die Verschlechterung kann durch eine Verwendung eines Temperaturkompensationsmaterials mit einem großen positiven Temperaturkoeffizienten als das Material des Temperaturkompensationselements minimiert werden, da gemäß Gleichung (1) dies ermöglicht, dass die Dicke des Temperaturkompensationselements minimiert wird. Dies minimiert die Verringerung der Dicken der anderen Komponenten. Ein Minimieren der Dicke des Temperaturkompensationselements minimiert die Wirkung des Temperaturkompensationselements auf die elektroakustischen Eigenschaften des FBAR. - Bei einem Beispiel umfasst ein Empfängerleiterfilter ein Ausführungsbeispiel des FBAR
110 , das demjenigen ähnlich ist, das in3B gezeigt ist, bei dem die Elektroden112 und114 jede eine 110 nm dicke Schicht aus Molybdän sind, das piezoelektrische Element116 eine 1,5 μm dicke Schicht aus Aluminiumnitrid ist, und die Temperaturkompensationsschichten113 und115 jede eine 115 nm dicke Schicht aus einem Temperaturkompensationsmaterial sind, das einen Temperaturkoeffizienten von +200 ppm/°C aufweist. Die Temperaturkompensationsschichten113 und115 verringern den Temperaturkoeffizienten des FBAR110 auf null. Die Temperaturkompensationsschichten verringern außerdem die Dickekopplungskonstante kt 2 des FBAR-Bauelements110 auf etwa 5%. Die Kopplungskonstante charakterisiert den Wirkungsgrad, mit dem der FBAR elektrische Energie in mechanische Energie umwandelt, und sollte möglichst hoch sein. Zum Vergleich weist ein herkömmlicher FBAR mit der gleichen nominalen Resonanzfrequenz ein 2,2 μm dickes piezoelektrisches Element, einen Temperaturkoeffizienten von etwa –25 ppm/°C und eine Dickekopplungskonstante kt 2 von etwa 5,5% auf. Bei einem Ausführungsbeispiel des FBAR110 , bei dem das Temperaturkompensationsmaterial einen niedrigeren positiven Temperaturkoeffizienten aufweist, wären die Temperaturkompensationsschichten dicker als bei dem obigen Beispiel. Derartige dickere Temperaturkompensationsschichten könnten die Kopplungskonstante unter den Pegel verringern, der bei der Empfängerleiterfilteranwendung akzeptabel ist. - Bei einem weiteren Beispiel umfasst ein herkömmliches Senderleiterfilter einen FBAR, bei dem die Elektroden
112 und114 jede eine 440 nm dicke Schicht aus Molybdän sind, und das piezoelektrische Element116 eine 760 nm dicke Schicht aus Aluminiumnitrid ist. Senderfilter können auf eine hohe HF-Leistung treffen und benötigen ein zusätzliches Resonanzfrequenzbudget, um die sich ergebende HF-Erhitzung zu berücksichtigen. Senderfilter benötigen normalerweise eine niedrigere effektive Kopplungskonstante, um das spezifizierte Roll-Off zu erreichen. Dies wird dadurch erreicht, dass die Elektroden dicker gemacht werden. Dicke Elektroden aus herkömmlichen Elektrodenmaterialien weisen den unerwünschten Effekt eines Erhöhens des Temperaturkoeffizienten des FBAR auf. Gemäß der Erfindung werden die Elektroden jedoch aus dem Temperaturkompensationsmaterial anstelle von Molybdän hergestellt, wie es in3F gezeigt ist. Dies liefert den doppelten Vorteil eines Verringerns der effektiven Kopplungskonstante und eines Verringerns des Temperaturkoeffizienten des FBAR. - Die obigen Ausführungsbeispiele des FBAR
100 können als ein Beispiel eines akustischen Bauelements betrachtet werden, das einen akustischen Ausbreitungsweg aufweist, der eine ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft aufweist, die einen Temperaturkoeffizienten aufweist. Der Ausbreitungsweg ist aus ein oder mehr akustischen Ausbreitungselementen gebildet. Die akustischen Ausbreitungselemente weisen zusammen einen Temperaturkoeffizienten auf, der den Temperaturkoeffizienten der ausbreitungszeitbezogenen Eigenschaft zumindest teilweise bestimmt. Der Ausbreitungsweg ist außerdem aus einem Temperaturkompensationselement gebildet, das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten der akustischen Ausbreitungselemente entgegengesetzt ist. Wie dieselben in dieser Offenbarung verwendet werden, umfassen die Begriffe akustisch und Schall einen viel breiteren Bereich von Schwingungsfrequenzen als den Tonfrequenzbereich. - Bei dem Beispiel, das in
3B gezeigt ist, ist die ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft die Resonanzfrequenz des FBAR110 . Der akustische Ausbreitungsweg erstreckt sich von der Elektrode112 zu der Elektrode114 , und die akustischen Ausbreitungselemente sind die Elektrode112 , die Elektrode114 und das piezoelektrische Element116 . Die akustischen Ausbreitungselemente weisen zusammen einen Temperaturkoeffizienten auf, der bewirkt, dass die ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft des akustischen Ausbreitungswegs einen negativen Temperaturkoeffizienten aufweist. Ebenfalls in dem akustischen Ausbreitungsweg enthalten ist das Temperaturkompensationselement109 . Das Temperaturkompensationselement109 weist einen positiven Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens demjenigen der akustischen Ausbreitungselemente entgegengesetzt ist. Das Temperaturkompensationselement109 verringert den Betrag des Temperaturkoeffizienten der ausbreitungszeitbezogenen Eigenschaft des akustischen Ausbreitungswegs. Bei dem Ausführungsbeispiel, das in3C gezeigt ist, erstreckt sich der akustische Ausbreitungsweg von der Temperaturkompensationsschicht113 zu der Temperaturkompensationsschicht115 . - Andere Beispiele des im Vorhergehenden beschriebenen akustischen Bauelements umfassen Oberflächenwellen-(SAW-)Filter, Kristallfilter, Gekoppelter-Resonator-Filter und Verzögerungsleitungen.
- Die
4A und4B sind eine Grundrissansicht bzw. eine Querschnittsansicht eines zweiten exemplarischen Ausführungsbeispiels200 eines FBAR-Bauelements gemäß der Erfindung. Das FBAR-Bauelement200 ist ein Bandpassfilter, bei dem der FBAR-Stapel aus zwei FBARs und einem akustischen Entkoppler zwischen den FBARs gebildet ist. Die FBARs und der akustische Entkoppler bilden einen einzigen entkoppelten gestapelten akustischen Volumenresonator (DSBAR). - Das FBAR-Bauelement
200 weist einen FBAR-Stapel211 auf. Der FBAR-Stapel211 weist den FBAR110 , der im Vorhergehenden beschrieben ist, und ein Temperaturkompensationselement109 auf. Der FBAR110 ist ein unterer FBAR in dem FBAR-Stapel. Der FBAR-Stapel211 weist außerdem einen oberen FBAR120 , der auf den unteren FBAR110 gestapelt ist, und einen akustischen Entkoppler130 zwischen den FBARs auf. - Der untere FBAR
110 weist gegenüberliegende planare Elektroden112 und114 und ein piezoelektrisches Element116 zwischen den Elektroden auf. Das piezoelektrische Element116 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR110 zumindest teilweise abhängt. Die Resonanzfrequenz des FBAR110 hängt normalerweise außerdem von dem Temperaturkoeffizienten der Elektroden112 und114 ab. Der obere FBAR120 weist gegenüberliegende planare Elektroden122 und124 und ein piezoelektrisches Element126 zwischen den Elektroden auf. Das piezoelektrische Element126 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR120 zumindest teilweise abhängt. Die Resonanzfrequenz des FBAR120 hängt normalerweise außerdem von dem Temperaturkoeffizienten der Elektroden122 und124 ab. Das Temperaturkompensationselement109 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten der piezoelektrischen Elemente116 und126 entgegengesetzt ist. - Infolge des entgegengesetzten Vorzeichens seines Temperaturkoeffizienten verringert das Temperaturkompensationselement
109 die Wirkung des Temperaturkoeffizienten der piezoelektrischen Elemente116 und126 und normalerweise außerdem die Wirkung des Temperaturkoeffizienten der Elektroden112 ,114 ,122 und124 auf den Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements200 . Folglich ist der Betrag des Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements200 geringer als derjenige eines ähnlichen FBAR-Bauelements ohne ein Temperaturkompensationselement. - Bei dem Beispiel, das in
4B gezeigt ist, ist das Temperaturkompensationselement109 aus einer Temperaturkompensationsschicht115 , die bei dem FBAR110 zwischen der Elektrode114 und dem piezoelektrischen Element116 angeordnet ist, und einer Temperaturkompensationsschicht123 gebildet, die bei dem FBAR120 zwischen der Elektrode122 und dem piezoelektrischen Element126 angeordnet ist. Die Temperaturkompensationsschichten115 und123 sind jede eine Schicht aus dem im Vorhergehenden beschriebenen Temperaturkompensationsmaterial, das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, der bezüglich des Vorzeichens den piezoelektrischen Elementen116 und126 entgegengesetzt ist. Bei einem typischen Ausführungsbeispiel des FBAR-Bauelements200 weisen die piezoelektrischen Elemente116 und126 jedes einen negativen Temperaturkoeffizienten auf, und das Temperaturkompensationselement weist einen positiven Temperaturkoeffizienten auf. - Alternativ dazu kann das Temperaturkompensationselement
109 aus Temperaturkompensationsschichten gebildet sein, die in dem FBAR-Stapel211 relativ zu den FBARs110 und120 in einer beliebigen der Konfigurationen angeordnet sind, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die3B –3F beschrieben sind. Ein Ausführungsbeispiel des Temperaturkompensationselements109 , bei dem die Temperaturkompensationsschichten115 und123 neben der Elektrode114 des FBAR110 bzw. der Elektrode122 des FBAR120 angeordnet sind, und diese Elektroden114 und122 außerdem neben dem akustischen Entkoppler130 angeordnet sind, wie es in4B gezeigt ist, ist jedoch normalerweise wirksamer beim Liefern einer Temperaturkompensation als andere Ausführungsbeispiele des Temperaturkompensationselements. - Bei dem FBAR-Bauelement
200 ist der akustische Entkoppler130 zwischen den FBARs110 und120 , insbesondere zwischen der Elektrode114 des FBAR110 und der Elektrode122 des FBAR120 angeordnet. Der akustische Entkoppler steuert die Kopplung von akustischer Energie zwischen den FBARs110 und120 . Der akustische Entkoppler koppelt weniger akustische Energie zwischen den FBARs als durch einen direkten Kontakt zwischen den FBARs gekoppelt würde. Bei dem Beispiel, das in6B gezeigt ist, ist der akustische Entkoppler130 aus einer akustischen Entkopplungsschicht aus akustischem Entkopplungsmaterial gebildet. - Bei dem gezeigten Beispiel hängt der FBAR-Stapel
211 über einem Hohlraum104 , der in einem Substrat102 definiert ist. Der Hohlraum104 isoliert den FBAR-Stapel211 akustisch von dem Substrat102 . Die akustische Isolation zwischen dem FBAR-Stapel211 und dem Substrat102 ermöglicht, dass die FBARs110 und120 , die den DSBAR106 bilden, ansprechend auf ein elektrisches Eingangssignal, das zwischen den Elektroden eines derselben angelegt wird, mechanisch in Resonanz sind. Die akustische Energie, die in dem FBAR erzeugt wird, der das elektrische Eingangssignal empfängt, geht durch den akustischen Entkoppler130 in den anderen FBAR. Der FBAR, der die akustische Energie empfängt, wandelt einen Teil der akustischen Energie in ein elektrisches Ausgangssignal um, das zwischen seinen Elektroden geliefert wird. Die elektrische Signalausgabe zwischen den Elektroden des FBAR, der die akustische Energie empfängt, weist eine Bandpassfrequenzantwortcharakteristik auf, die im Wesentlichen frei von unerwünschten störenden Artefakten ist, die sich aus einer unerwünschten akustischen Kopplung zwischen dem FBAR-Stapel211 und dem Substrat102 ergeben. - Bei dem gezeigten Beispiel sind die Elektroden
112 und114 des FBAR110 mit Anschluss-Anschlussflächen132 bzw.134 durch elektrische Bahnen133 bzw.135 elektrisch verbunden. Außerdem sind die Elektroden122 und124 des FBAR120 durch elektrische Bahnen137 und139 elektrisch mit Anschluss-Anschlussflächen134 bzw.138 verbunden. Bei einem Ausführungsbeispiel, das eine elektrische Isolation zwischen Eingang und Ausgang liefert, ist die elektrische Bahn137 mit einer zusätzlichen Anschluss-Anschlussfläche (nicht gezeigt) anstelle der Anschluss-Anschlussfläche134 verbunden. Die Anschluss-Anschlussflächen132 ,134 und138 werden verwendet, um elektrische Verbindungen von dem FBAR-Bauelement200 zu externen elektrischen Schaltungen (nicht gezeigt) herzustellen. - Bei dem gezeigten Beispiel ist der akustische Entkoppler
130 eine Viertelwellenschicht aus akustischem Entkopplungsmaterial. Die akustische Impedanz des akustischen Entkopplungsmaterials ist geringer als diejenige der Materialien der FBARs110 und120 und ist wesentlich größer als diejenige von Luft. Die akustische Impedanz eines Materials ist das Verhältnis von Belastung zu Partikelgeschwindigkeit in dem Material und wird in Rayleighs gemessen, das als rayl abgekürzt wird. Die akustischen Impedanzen der Materialien der FBARs sind normalerweise größer als 30 Mrayl (35 Mrayl für AlN und 63 Mrayl für Mo), und die akustische Impedanz von Luft beträgt etwa 1 krayl. Bei Ausführungsbeispielen des FBAR-Bauelements200 , bei denen die Materialien der FBARs110 ,120 wie im Vorhergehenden angegeben sind, funktionieren akustische Entkopplungsmaterialien mit einer akustischen Impedanz in dem Bereich von etwa 2 Mrayl bis etwa 8 Mrayl gut als das akustische Kopplungsmaterial des akustischen Entkopplers130 . - Eine Viertelwellenschicht weist eine nominale Dicke t auf, die gleich einem ungeraden ganzzahligen Vielfachen eines Viertels der Wellenlänge λn in dem akustischen Entkopplungsmaterial eines akustischen Signals ist, das bezüglich der Frequenz gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbands des FBAR-Bauelements
200 ist, d. h. t ≈ (2m + 1)λn/4, wobei t und λn wie im Vorhergehenden definiert sind, und m eine Ganzzahl größer oder gleich null ist. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der Wert der Ganzzahl m null, d. h. t ≈ λn/4. Die Frequenzantwort eines Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements200 , das einen akustischen Entkoppler aufweist, bei dem der Wert der Ganzzahl m null ist, weist mit geringerer Wahrscheinlichkeit störende Artefakte auf als ein Ausführungsbeispiel, das einen akustischen Entkoppler aufweist, bei dem der Wert der Ganzzahl m größer als null ist. Die Frequenzantwort des letzteren Ausführungsbeispiels, bei dem der Wert der Ganzzahl m größer als null ist, weist aufgrund der Fähigkeit des dickeren akustischen Entkopplers, mehrere akustische Moden zu unterstützen, mit größerer Wahrscheinlichkeit störende Artefakte auf. - Ausführungsbeispiele des akustischen Entkopplers
130 , die sich bezüglich der Dicke von der nominalen Viertelwellendicke um etwa ±10% von λn/4 unterscheiden, können alternativ dazu verwendet werden. Eine Dicketoleranz außerhalb dieses Bereichs kann bei einer gewissen Leistungsverschlechterung verwendet werden. Der akustische Entkoppler130 sollte sich jedoch bezüglich der Dicke erheblich von einem ganzzahligen Vielfachen von λn/2 unterscheiden. - Viele Kunststoffmaterialien weisen akustische Impedanzen in dem im Vorhergehenden beschriebenen Bereich von etwa 2 Mrayl bis etwa 8 Mrayl auf und können in Schichten gleichmäßiger Dicke in den im Vorhergehenden genannten Dickebereichen aufgebracht werden. Derartige Kunststoffmaterialien sind deshalb potentiell zur Verwendung als das akustische Entkopplungsmaterial des akustischen Entkopplers
130 geeignet. Das akustische Entkopplungsmaterial muss jedoch auch in der Lage sein, den Temperaturen der Herstellungsoperationen zu widerstehen, die durchgeführt werden, nachdem der akustische Entkoppler130 hergestellt worden ist. Wie es im Folgenden genauer beschrieben ist, werden bei praktischen Ausführungsbeispielen des FBAR-Bauelements200 die Elektroden122 und124 und die piezoelektrische Schicht126 durch Sputtern aufgebracht, nachdem der akustische Entkoppler130 hergestellt worden ist. Temperaturen von bis zu 400°C werden während dieser Aufbringungsprozesse erreicht. Somit wird ein Kunststoff, der bei derartigen Temperaturen stabil bleibt, als das akustische Entkopplungsmaterial verwendet. - Kunststoffmaterialien weisen normalerweise eine sehr hohe akustische Dämpfung pro Einheitslänge verglichen mit den anderen Materialien der FBARs
110 und120 auf. Da jedoch der akustische Kunststoffentkoppler130 normalerweise weniger als 1 μm dick ist, z. B. 200 nm dick, ist die akustische Dämpfung, die durch ein derartiges Ausführungsbeispiel des akustischen Entkopplers130 eingeführt wird, normalerweise vernachlässigbar. - Bei einem Ausführungsbeispiel wird ein Polyimid als das akustische Entkopplungsmaterial des akustischen Entkopplers
130 verwendet. Polyimid wird unter dem Warenzeichen Kapton® von E. I. du Pont de Nemours and Company vertrieben. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel ist der akustische Entkoppler130 aus einer Viertelwellenschicht aus Polyimid gebildet, die auf die Elektrode114 durch Schleuderbeschichtung aufgebracht wird. Polyimid weist eine akustische Impedanz von etwa 4 Mrayl auf. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel wird ein Poly-(Para-Xylylen) als das akustische Entkopplungsmaterial des akustischen Entkopplers
130 verwendet. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel ist der akustische Entkoppler130 aus einer Viertelwellenschicht aus Poly-(Para-Xylylen) gebildet, die durch eine Vakuumaufbringung auf die Elektrode114 aufgebracht wird. Poly-(Para-Xylylen) ist in der Technik auch als Parylen bekannt. Der Dimer-Vorläufer Di-Para-Xylylen, aus dem Parylen hergestellt wird, und eine Ausrüstung zum Durchführen einer Vakuumaufbringung von Schichten von Parylen sind von vielen Lieferanten erhältlich. Parylen weist eine akustische Impedanz von etwa 2,8 Mrayl auf. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel wird ein vernetztes Polyphenylenpolymer als das akustische Entkopplungsmaterial des akustischen Entkopplers
130 verwendet. Bei einem derartigen Ausführungsbeispiel ist der akustische Entkoppler130 eine Viertelwellenschicht eines vernetzten Polyphenylenpolymers, das durch Schleuderbeschichtung aufgebracht wird. Vernetzte Polyphenylenpolymere wurden als dielektrische Materialen mit einer niedrigen dielektrischen Konstante zur Verwendung bei integrierten Schaltungen entwickelt und bleiben folglich bei den hohen Temperaturen stabil, denen der akustische Entkoppler130 während der nachfolgenden Herstellung des FBAR120 ausgesetzt wird. Die Erfinder haben festgestellt, dass vernetzte Polyphenylenpolymere außerdem eine berechnete akustische Impedanz von etwa 2 Mrayl aufweisen. Die akustische Impedanz liegt in dem Bereich von akustischen Impedanzen, der dem FBAR-Bauelement200 eine nützliche Durchlassbandbreite liefert. - Vorläuferlösungen, die verschiedene Oligomere enthalten, die sich polymerisieren, um jeweilige vernetzte Polyphenylenpolymere zu bilden, werden unter dem Warenzeichen SiLK von The Dow Chemical Company, Midland, MI, vertrieben. Die Vorläuferlösungen werden durch Schleuderbeschichtung aufgebracht. Das vernetzte Polyphenylenpolymer, das von einer dieser Vorläuferlösungen erhalten wird, die als SiLKTM J bezeichnet wird, die außerdem einen Haftungspromotor enthält, weist eine berechnete akustische Impedanz von 2,1 Mrayl, d. h. etwa 2 Mrayl auf.
- Die Oligomere, die sich polymerisieren, um vernetzte Polyphenylenpolymere zu bilden, werden aus Biscyclopentadienon und aromatisches Acetylen enthaltenden Monomeren hergestellt. Ein Verwenden derartiger Monomere bildet lösliche Oligomere ohne die Notwendigkeit einer unangemessenen Substitution. Die Vorläuferlösung enthält ein spezifisches Oligomer, das in Gammabutyrolacton- und Cyclohexanon-Lösungsmitteln aufgelöst ist. Der Anteil des Oligomers in der Vorläuferlösung bestimmt die Schichtdicke, wenn die Vorläuferlösung aufgeschleudert wird. Nach der Aufbringung verdampft ein Anwenden von Hitze die Lösungsmittel, härtet dann das Oligomer, um ein vernetztes Polymer zu bilden. Die Biscyclopentadienone reagieren mit den Acetylenen in einer 4 + 2-Cycloadditionsreaktion, die einen neuen aromatischen Ring bildet. Ein weiteres Härten führt zu dem vernetzten Polyphenylenpolymer. Die im Vorhergehenden beschriebenen vernetzten Polyphenylenpolymere sind von Godschalx u. a. in dem
US-Patent Nr. 5,965,679 offenbart. Zusätzliche praktische Details sind von Martin u. a., Development of Low-Dielectric Constant Polymer for the Fabrication of Integrated Circuit Interconnect, 12 ADVANCED MATERIALS, 1769 (2000), beschrieben. Verglichen mit Polyimid weisen vernetzte Polyphenylenpolymere eine niedrigere akustische Impedanz, eine niedrigere akustische Dämpfung und eine niedrigere dielektrische Konstante auf. Außerdem ist eine aufgeschleuderte Schicht der Vorläuferlösung in der Lage, einen qualitativ hochwertigen Film des vernetzten Polyphenylenpolymers mit einer Dicke der Größenordnung von 200 nm zu erzeugen, wobei es sich um eine typische Dicke des akustischen Entkopplers130 handelt. - Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel ist der akustische Entkoppler
130 aus akustischen Entkopplungsschichten (nicht gezeigt) aus akustischen Entkopplungsmaterialien gebildet, die unterschiedliche akustische Impedanzen aufweisen, wie es in der US-Patentanmeldung Seriennummer 10/965,449 (veröffentlicht alsUS 2005/0093658 A1 130 . Die akustische Impedanz des akustischen Entkopplers definiert wiederum die Durchlassbandbreite des FBAR-Bauelements200 . Das Ausführungsbeispiel des akustischen Entkopplers130 , der aus akustischen Entkopplungsschichten aus akustischen Entkopplungsmaterialien gebildet ist, die unterschiedliche akustische Impedanzen aufweisen, ist strukturiert, um eine nominale Phasenänderung eines ungeraden ganzzahligen Vielfachen von π/2 Radian bei einem akustischen Signal zu bewirken, das bezüglich der Frequenz gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FBAR-Bauelements200 ist. Bei einem Ausführungsbeispiel ist der akustische Entkoppler strukturiert, um eine nominale Phasenänderung von π/2 Radian bei einem akustischen Signal zu bewirken, das bezüglich der Frequenz gleich der Mittenfrequenz ist. Diese Phasenänderung ist gleich der nominalen Phasenänderung, die durch einen akustischen Entkoppler bewirkt wird, der aus einer einzigen Schicht aus akustischem Entkopplungsmaterial gebildet ist, die eine nominale Dicke aufweist, die gleich einem Viertel der Wellenlänge in dem akustischen Entkopplungsmaterial eines akustischen Signals ist, das bezüglich der Frequenz gleich der Mittenfrequenz ist. - Bei einem Beispiel war der akustische Entkoppler
130 aus einer akustischen Entkopplungsschicht aus einem vernetzten Polyphenylenpolymer, das eine akustische Impedanz von etwa 2 Mrayl aufweist, auf einer akustischen Entkopplungsschicht aus Polyimid, das eine akustische Impedanz von etwa 4 Mrayl aufweist, gebildet. Ein derartiger akustischer Entkoppler liefert ein Ausführungsbeispiel des FBAR-Bauelements200 mit einer Durchlassbandbreite, die zwischen den Durchlassbandbreiten von Ausführungsbeispielen liegt, bei denen die akustischen Entkoppler aus einer einzigen Viertelwellenschicht aus Polyimid oder einer einzigen Viertelwellenschicht aus dem vernetzen Polyphenylenpolymer gebildet sind. - Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel ist die akustische Impedanz des akustischen Entkopplungsmaterials des akustischen Entkopplers
130 wesentlich größer als diejenige der Materialien der FBARs110 und120 . Keine akustischen Entkopplungsmaterialien, die diese Eigenschaft aufweisen, sind derzeit bekannt, es kann jedoch sein, dass derartige Materialien in Zukunft verfügbar werden. Alternativ dazu kann es sein, dass FBAR-Materialien mit geringeren akustischen Impedanzen in Zukunft verfügbar werden. Die Dicke eines akustischen Entkopplers130 aus einem derartigen akustischen Entkopplungsmaterial hoher akustischer Impedanz ist wie im Vorhergehenden beschrieben. - Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel (nicht gezeigt) ist der akustische Entkoppler
130 als eine Bragg-Struktur strukturiert, die aus einem Bragg-Element niedriger akustischer Impedanz gebildet ist, das sandwichartig zwischen Bragg-Elementen hoher akustischer Impedanz angeordnet ist. Das Bragg-Element niedriger akustischer Impedanz ist eine Schicht aus einem Material niedriger akustischer Impedanz, wohingegen die Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz jedes eine Schicht aus Material hoher akustischer Impedanz sind. Die akustischen Impedanzen der Bragg-Elemente sind als „niedrig” und „hoch” mit Bezug aufeinander und außerdem mit Bezug auf die akustische Impedanz des piezoelektrischen Materials der piezoelektrischen Elemente116 und126 charakterisiert. Zumindest eines der Bragg-Elemente weist außerdem einen hohen elektrischen spezifischen Widerstand und eine niedrige dielektrische Permittivität auf, um eine elektrische Isolation zwischen Eingang und Ausgang des FBAR-Bauelements200 zu liefern. - Jede der Schichten, die das Bragg-Element bilden, ist nominal eine Viertelwellenschicht. Schichten, die sich von der nominalen Viertelwellendicke um etwa ±10% eines Viertels der Wellenlänge unterscheiden, können alternativ dazu verwendet werden. Eine Dicketoleranz außerhalb dieses Bereichs kann bei einer gewissen Leistungsverschlechterung verwendet werden, aber die Dicke der Schichten sollte sich wesentlich von einem ganzzahligen Vielfachen der Hälfte der Wellenlänge unterscheiden.
- Bei einem Ausführungsbeispiel ist das Bragg-Element niedriger akustischer Impedanz eine Schicht aus Siliziumdioxid (SiO2), das eine akustische Impedanz von etwa 13 Mrayl aufweist, und jedes der Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz ist eine Schicht aus dem gleichen Material wie die Elektroden
114 und122 , z. B. Molybdän, das eine akustische Impedanz von etwa 63 Mrayl aufweist. Ein Verwenden des gleichen Materials für die Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz und die Elektroden der FBARs110 und120 ermöglicht, dass die Bragg-Elemente hoher akustischer Impedanz zusätzlich als die Elektroden der FBARs dienen, die benachbart zu den akustischen Kopplungselementen sind. -
5A ist eine Grundrissansicht eines dritten exemplarischen Ausführungsbeispiels300 eines FBAR-Bauelements gemäß der Erfindung. Das FBAR-Bauelement300 ist ein akustisch gekoppelter Filmtransformator (FACT), bei dem der FBAR-Stapel aus vier FBARs gebildet ist, die als zwei entkoppelte gestapelte akustische Volumenresonatoren (DSBARs) angeordnet sind. Die5B und5C sind Querschnittsansichten entlang der Schnittlinien 5B-5B bzw. 5C-5C in5A .5D ist eine schematische Zeichnung der elektrischen Schaltungen des Beispiels des FACT300 , der in5A gezeigt und im Folgenden beschrieben ist. - Das FBAR-Bauelement
300 weist einen FBAR-Stapel311 auf. Der FBAR-Stapel311 weist einen FBAR110 , der im Vorhergehenden beschrieben ist, und ein Temperaturkompensationselement109 auf. Der FBAR110 ist ein unterer FBAR in dem FBAR-Stapel. Der FBAR-Stapel311 weist außerdem einen oberen FBAR120 , der auf den unteren FBAR110 gestapelt ist, und einen akustischen Entkoppler130 zwischen den FBARs110 und120 auf. Der FBAR110 , der FBAR120 und der akustische Entkoppler130 bilden den im Vorhergehenden beschriebenen DSBAR106 . Der FBAR-Stapel311 weist außerdem einen zweiten DSBAR108 auf, der aus einem unteren FBAR150 , einem oberen FBAR160 , der auf den unteren FBAR150 gestapelt ist, und einem akustischen Entkoppler170 zwischen den FBARs150 und160 gebildet ist. FBAR110 weist gegenüberliegende planare Elektroden112 und114 und ein piezoelektrisches Element116 zwischen den Elektroden auf. - Der FACT
300 ist außerdem aus einer elektrischen Schaltung, die die unteren FBARs110 und150 der DSBARs106 bzw.108 verbindet, und einer elektrischen Schaltung, die die oberen FBARs120 und160 der DSBARs106 bzw.108 verbindet, gebildet.5D zeigt ein Beispiel, bei dem eine elektrische Schaltung141 den unteren FBAR110 des DSBAR106 und den unteren FBAR150 des DSBAR108 antiparallel schaltet und eine elektrische Schaltung142 den oberen FBAR120 des DSBAR106 und den oberen FBAR160 des DSBAR108 in Reihe schaltet. - Bei dem DSBAR
106 ist der untere FBAR110 aus gegenüberliegenden planaren Elektroden112 und114 und einem piezoelektrischen Element116 zwischen den Elektroden gebildet. Das piezoelektrische Element116 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR110 zumindest teilweise abhängt. Die Resonanzfrequenz des FBAR110 hängt normalerweise außerdem von dem Temperaturkoeffizienten der Elektroden112 und114 ab. Der obere FBAR120 ist aus gegenüberliegenden planaren Elektroden122 und124 und einem piezoelektrischen Element126 zwischen den Elektroden gebildet. Der obere FBAR120 weist gegenüberliegende planare Elektroden122 und124 und ein piezoelektrisches Element126 zwischen den Elektroden auf. Das piezoelektrische Element126 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR120 zumindest teilweise abhängt. Die Resonanzfrequenz des FBAR120 hängt normalerweise außerdem von dem Temperaturkoeffizienten der Elektroden122 und124 ab. Das Temperaturkompensationselement109 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten der piezoelektrischen Elemente116 und126 entgegengesetzt ist. - Bei dem DSBAR
108 ist der untere FBAR150 aus gegenüberliegenden planaren Elektroden152 und154 und einem piezoelektrischen Element156 zwischen den Elektroden gebildet. Das piezoelektrische Element156 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR150 zumindest teilweise abhängt. Die Resonanzfrequenz des FBAR150 hängt normalerweise außerdem von dem Temperaturkoeffizienten der Elektroden152 und154 ab. Der obere FBAR160 ist aus gegenüberliegenden planaren Elektroden162 und164 und einem piezoelektrischen Element166 zwischen den Elektroden gebildet. Das piezoelektrische Element166 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz des FBAR160 zumindest teilweise abhängt. Die Resonanzfrequenz des FBAR160 hängt normalerweise außerdem von dem Temperaturkoeffizienten der Elektroden162 und164 ab. Das Temperaturkompensationselement109 weist einen Temperaturkoeffizienten auf, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten der piezoelektrischen Elemente156 und166 entgegengesetzt ist. - Infolge des entgegengesetzten Vorzeichens seines Temperaturkoeffizienten verringert das Temperaturkompensationselement
109 die Wirkung des Temperaturkoeffizienten der piezoelektrischen Elemente116 ,126 ,156 und166 und normalerweise außerdem die Wirkung des Temperaturkoeffizienten der Elektroden112 ,114 ,122 ,124 ,152 ,154 ,162 und166 auf den Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements300 . Folglich ist der Betrag des Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements300 geringer als derjenige eines ähnlichen FBAR-Bauelements ohne ein Temperaturkompensationselement. - Bei dem Beispiel, das in
5B gezeigt ist, ist das Temperaturkompensationselement109 aus einer Temperaturkompensationsschicht115 , die bei dem FBAR110 zwischen der Elektrode114 und dem piezoelektrischen Element116 angeordnet ist, einer Temperaturkompensationsschicht123 , die bei dem FBAR120 zwischen der Elektrode122 und dem piezoelektrischen Element126 angeordnet ist, einer Temperaturkompensationsschicht155 , die bei dem FBAR150 zwischen der Elektrode154 und dem piezoelektrischen Element156 angeordnet ist, und einer Temperaturkompensationsschicht163 , die bei dem FBAR160 zwischen der Elektrode162 und dem piezoelektrischen Element166 angeordnet ist, gebildet. Die Temperaturkompensationsschichten115 ,123 ,155 und163 sind jede eine Schicht aus dem im Vorhergehenden beschriebenen Temperaturkompensationsmaterial, das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, der bezüglich des Vorzeichens demjenigen der piezoelektrischen Elemente116 ,126 ,156 und166 entgegengesetzt ist. Bei einem typischen Ausführungsbeispiel des FBAR-Bauelements300 weisen die piezoelektrischen Elemente116 ,126 ,156 und166 jedes einen negativen Temperaturkoeffizienten auf, und das Temperaturkompensationselement weist einen positiven Temperaturkoeffizienten auf. - Alternativ dazu kann das Temperaturkompensationselement
109 aus Temperaturkompensationsschichten gebildet sein, die in dem FBAR-Stapel311 relativ zu den FBARs110 ,120 ,150 und160 in einer beliebigen der Konfigurationen angeordnet sind, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die3B –3F beschrieben sind. Ein Ausführungsbeispiel des Temperaturkompensationselements109 , bei dem die Temperaturkompensationsschichten115 und123 neben der Elektrode114 des FBAR110 bzw. der Elektrode122 des FBAR120 angeordnet sind, und die Elektroden114 und122 außerdem neben dem akustischen Entkoppler130 angeordnet sind, und bei dem die Temperaturkompensationsschichten155 und163 neben der Elektrode154 des FBAR150 bzw. der Elektrode162 des FBAR160 angeordnet sind, und die Elektroden154 und162 außerdem neben dem akustischen Entkoppler170 angeordnet sind, wie es in5B gezeigt ist, ist jedoch normalerweise wirksamer beim Liefern einer Temperaturkompensation als andere Ausführungsbeispiele des Temperaturkompensationselements. - Bei dem FACT
300 ist der akustische Entkoppler130 des DSBAR106 zwischen dem unteren FBAR110 und dem oberen FBAR120 angeordnet; insbesondere zwischen der Elektrode114 des unteren FBAR110 und der Elektrode122 des oberen FBAR120 . Der akustische Entkoppler130 steuert die Kopplung von akustischer Energie zwischen den FBARs110 und120 . Der akustische Entkoppler130 koppelt weniger akustische Energie zwischen den FBARs110 und120 als gekoppelt würde, wenn die FBARs sich in direktem Kontakt miteinander befänden, wie es bei einem herkömmlichen gestapelten akustischen Volumenresonator (SBAR) der Fall wäre. Außerdem ist der akustische Entkoppler170 des DSBAR108 zwischen den FBARs150 und160 angeordnet; insbesondere zwischen der Elektrode154 des unteren FBAR150 und der Elektrode162 des oberen FBAR160 . Der akustische Entkoppler170 steuert die Kopplung von akustischer Energie zwischen den FBARs150 und160 . Der akustische Entkoppler170 koppelt weniger akustische Energie zwischen den FBARs150 und160 als gekoppelt würde, wenn die FBARs sich in direktem Kontakt miteinander befänden. Die Kopplung von akustischer Energie, die durch die akustischen Entkoppler130 und170 definiert ist, bestimmt die Durchlassbandbreite des FACT300 . - Bei dem Beispiel, das in den
5A –5C gezeigt ist, sind die akustischen Entkoppler130 und170 jeweilige Teile einer akustischen Entkopplungsschicht131 . Bei anderen Ausführungsbeispielen sind die akustischen Entkoppler130 und170 jeder aus akustischen Entkopplungsschichten aus akustischen Entkopplungsmaterialen gebildet, die unterschiedliche akustische Impedanzen aufweisen, wie es in der internationalen PatentanmeldungWO 2005/043753 A1 130 und170 strukturell unabhängig. -
5D zeigt schematisch ein Beispiel der elektrischen Schaltungen, die die DSBARs106 und108 verbinden und die DSBARs106 und108 mit externen elektrischen Schaltungen (nicht gezeigt) verbinden. Die elektrische Schaltung141 verbindet die unteren FBARs110 und150 antiparallel und mit Signalanschluss143 und Masseanschluss144 . Bei dem Ausführungsbeispiel, das in den5A –5C gezeigt ist, liefert eine Anschluss-Anschlussfläche138 den Signalanschluss143 , und Anschluss-Anschlussflächen132 und172 liefern den Masseanschluss144 . Bei dem Ausführungsbeispiel wird die elektrische Schaltung141 durch eine elektrische Bahn133 , die sich von der Anschluss-Anschlussfläche132 zu der Elektrode112 des FBAR110 erstreckt, eine elektrische Bahn137 , die sich von der Elektrode114 des FBAR110 zu einer Zwischenverbindungsanschlussfläche136 in elektrischem Kontakt mit einer Zwischenverbindungsanschlussfläche176 erstreckt, eine elektrische Bahn139 , die sich von der Zwischenverbindungsanschlussfläche176 zu einer Signalanschlussfläche138 erstreckt, eine elektrische Bahn177 , die sich von der Zwischenverbindungsanschlussfläche176 zu der Elektrode152 des FBAR150 erstreckt, eine elektrische Bahn173 , die sich von der Elektrode154 des FBAR150 zu der Anschluss-Anschlussfläche172 erstreckt, und eine elektrische Bahn167 , die die Anschluss-Anschlussflächen132 und172 verbindet, geliefert. - Bei dem exemplarischen elektrischen Schema, das in
5D gezeigt ist, verbindet die elektrische Schaltung142 die oberen FBARs120 und160 in Reihe und mit Signalanschlüssen145 und146 und mit einem optionalen Mittelabgriffanschluss147 . Bei dem Ausführungsbeispiel, das in den5A –5C gezeigt ist, liefern Anschluss-Anschlussflächen134 und174 Signalanschlussflächen145 und146 , und eine Anschluss-Anschlussfläche178 liefert den Mittelabgriffanschluss147 . Bei dem Ausführungsbeispiel wird die elektrische Schaltung142 durch eine elektrische Bahn135 , die sich von der Anschluss-Anschlussfläche134 zu der Elektrode124 des FBAR120 erstreckt, eine elektrische Bahn171 , die sich von der Elektrode122 des FBAR120 zu der Elektrode162 des FBAR160 erstreckt, eine elektrische Bahn179 , die sich von der Bahn171 zu dem Mittelabgriff137 erstreckt, und eine elektrische Bahn175 , die sich von der Elektrode164 des FBAR160 zu der Anschluss-Anschlussfläche174 erstreckt, geliefert. Ebenfalls gezeigt sind Anschluss-Anschlussflächen163 und168 , die durch eine elektrische Bahn169 verbunden sind, die lokale Massen für die Anschluss-Anschlussflächen134 und174 liefern. Bei dem gezeigten Beispiel erstreckt sich die elektrische Bahn169 außerdem zu der Anschluss-Anschlussfläche178 . Bei anderen Beispielen wird die Anschluss-Anschlussfläche178 floatend gelassen. - Die elektrischen Verbindungen, die in
5D exemplarisch dargestellt sind, liefern einen FACT mit einer symmetrischen Primärwicklung und einem 4:1-Impedanzwandlungsverhältnis oder einen FACT mit einer symmetrischen Sekundärwicklung und einem 1:4-Impedanzwandlungsverhältnis. Die unteren FBARs können alternativ parallel, in Reihe und in Antireihe verbunden sein, und die oberen FBARs können alternativ parallel, antiparallel und in Antireihe verbunden sein, um andere Impedanzwandlungsverhältnisse zu erreichen, wie es in der folgenden Tabelle 1 gezeigt ist.Parallel Reihe Antiparallel Anti-Reihe Parallel U 1:1 NIEDRIG X X U 1:4 Reihe X B 1:1 HOCH B 4:1 X Antiparallel X B 1:4 B 1:1 NIEDRIG X Anti-Reihe U 4:1 X X U 1:1 HOCH - In Tabelle 1 zeigen die Zeilenüberschriften die Konfiguration der elektrischen Schaltung
141 an, die Spaltenüberschriften zeigen die Konfiguration der elektrischen Schaltung142 an, B zeigt an, dass der FACT elektrisch symmetrisch ist, U zeigt an, dass der FACT unsymmetrisch ist, und X bezeichnet einen nicht funktionierenden FACT. Das gezeigte Impedanzwandlungsverhältnis ist die Impedanzwandlung von der Konfiguration der elektrischen Schaltung141 , die durch die Zeilenüberschrift angezeigt ist, zu der Konfiguration der elektrischen Schaltung142 , die durch die Spaltenüberschrift angezeigt ist. Bei den Konfigurationen, die ein 1:1-Impedanzwandlungsverhältnis aufweisen, bezeichnet NIEDRIG, dass der FACT eine niedrige Impedanz aufweist, äquivalent zu derjenigen von zwei parallelen FBARs, und HOCH zeigt an, dass der FACT eine hohe Impedanz aufweist, äquivalent zu derjenigen von zwei FBARs in Reihe. - Bei Ausführungsbeispielen der FBAR-Bauelemente
100 ,200 und300 , die im Vorhergehenden beschrieben sind, ist das Temperaturkompensationselement109 aus ein oder mehr Temperaturkompensationsschichten aus einer Niobium-Kobalt-Legierung gebildet. In Anomalous Temperature Dependence of Elastic Constants in Nb-Mo Alloys, 39 PHYS. LETT., 261–262 (1972) berichten W. C. Hubbell et al. Daten, aus denen der Erfinder einen positiven Temperaturkoeffizienten einer Ausbreitungsgeschwindigkeit für eine Schermode von etwa 300 ppm/°C für eine Legierung mit einem 34%-Molybdänanteil berechnet hat. Longitudinale Moden weisen normalerweise einen niedrigeren positiven Temperaturkoeffizienten einer Ausbreitungsgeschwindigkeit auf. Legierungen mit einem Molybdänanteil in dem Bereich von etwa 17% bis etwa 51% sollten ebenfalls einen positiven Temperaturkoeffizienten aufweisen, und Legierungen mit einem Molybdänanteil in dem Bereich von etwa 32% bis etwa 36% sollten einen hohen positiven Temperaturkoeffizienten aufweisen. Wie es im Vorhergehenden erwähnt ist, ermöglicht ein hoher positiver Temperaturkoeffizient, dass ein relativ dünnes Temperaturkompensationselement eine nützliche Verringerung des Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements liefert. Die Dicke des Temperaturkompensationselements wird unter Verwendung von Gleichung (1) berechnet, um einen gewünschten Temperaturkoeffizienten zu erhalten, der kleiner als der Temperaturkoeffizient eines ähnlichen FBAR-Bauelements ohne ein Temperaturkompensationselement ist. - Eine derartige Niobium-Molybdän-Legierung kann durch Sputtern von einem Target der Legierung oder durch eine Co-Aufdampfung von einem Tiegel von Niobium und einem Tiegel von Molybdän aufgebracht werden. Die Legierung wird durch Photolithographie und Trockenätzen strukturiert.
- Bei Ausführungsbeispielen der FBAR-Bauelemente
100 ,200 und300 , die im Vorhergehenden beschrieben sind, ist das Temperaturkompensationselement109 aus ein oder mehr Temperaturkompensationsschichten aus einer Kobalt-Palladium-Legierung gebildet. In Thermal Expansion Coefficient and the Temperature Coefficient of Young's Modulus of Cobalt and Palladium Alloys, 11 TRANS. JPN. INST. OF METALS, 91–93 (1970), berichten H. Masumoto et al. Daten, aus denen der Erfinder einen positiven Temperaturkoeffizienten einer Ausbreitungsgeschwindigkeit für longitudinale Moden von etwa 300 ppm/°C für eine Legierung mit einem 94%-Palladiumanteil berechnet hat. Legierungen mit einem Palladiumanteil in dem Bereich von etwa 92% bis etwa 96% sollten ebenfalls einen positiven Temperaturkoeffizienten aufweisen, und Legierungen mit einem Palladiumanteil in dem Bereich von etwa 93% bis etwa 95% sollten einen hohen positiven Temperaturkoeffizienten aufweisen. Die Vorteile eines derartigen hohen positiven Temperaturkoeffizienten sind im Vorhergehenden beschrieben. - Eine derartige Kobalt-Palladium-Legierung kann durch Sputtern von einem Target der Legierung oder durch Co-Aufdampfung von einem Tiegel von Kobalt und einem Tiegel von Palladium aufgebracht werden. Die Legierung wird durch Photolithographie und Trockenätzen strukturiert.
- Bei Ausführungsbeispielen der FBAR-Bauelemente
100 ,200 und300 , die im Vorhergehenden beschrieben sind, ist das Temperaturkompensationselement109 aus ein oder mehr Temperaturkompensationsschichten aus einem ferroelektrischen Material gebildet. Ferroelektrische Materialien sind normalerweise elektrisch isolierend. - Bleinickelniobat ist ein ferroelektrisches Material mit einem hohen positiven Temperaturkoeffizienten. In Brillouin and Dielectric Studies of the Phase Transition in the Relaxor Ferroelectric Pb(Ni1/3Nb2/3)O3, 91 J. APPL. PHYS., 2262–2266 (2002), berichten Fan et al. Daten, die einen positiven Temperaturkoeffizienten von 371 ppm/°C für Bleinickelniobat mit einem Nickelanteil von etwa einem Drittel nahelegen. Die Vorteile eines derartigen hohen positiven Temperaturkoeffizienten sind im Vorhergehenden beschrieben.
- Ein derartiges Bleinickelniobat kann durch Sputtern unter Verwendung eines Targets von PBNiNbO3 oder von Targets von Zwischenoxiden aufgebracht werden. Bleinickelniobat wird durch Photolithographie und Trockenätzen strukturiert.
- Ein weiteres verwendbares ferroelektrisches Material ist Nephelin ((KAlSiO4)(NaAlSiO4)3). In Elastic and Thermoelastic Constants of Nepheline, 46 J. APPL. PHYS., 4339–4340 (1975) berichten L. J. Bonczar et al., dass die elastischen Konstanten von Nephelin einen positiven Temperaturkoeffizienten von 25 ppm/°C aufweisen. Nephelin kann durch Sputtern aufgebracht werden und durch Photolithographie und Trockenätzen strukturiert werden.
- Ein weiteres verwendbares ferroelektrisches Material ist Zirkoniumwolframat (ZrW2O8). In Origin of Negative Thermal Expansion In Cubic ZrW2O8 Revealed by High Pressure Inelastic Neutron Scattering, 86 PHYS. REV. LETT., 4692–4895 (2001), offenbaren R. Mittel et al. ein Material, das einen linearen Koeffizienten einer thermischen Ausdehnung von –27 ppm/°C aufweist. Dieser negative Ausdehnungskoeffizient legt nahe, dass das Material einen hohen positiven Temperaturkoeffizienten der Resonanzfrequenz erzeugt, wenn dasselbe als das Material des Temperaturkompensationselements
109 verwendet wird. Zirkoniumwolframat kann durch Sputtern aufgebracht werden und durch Photolithographie und Trockenätzen strukturiert werden. - Eine Herstellung im Wafermaßstab wird verwendet, um Tausende von FBAR-Bauelementen, die den im Vorhergehenden beschriebenen FBAR-Bauelementen
100 ,200 oder300 ähnlich sind, gleichzeitig herzustellen. Eine derartige Herstellung im Wafermaßstab macht es kostengünstig, die FBAR-Bauelemente herzustellen. Ein Beispiel des Herstellungsverfahrens, das verwendet wird, um ein Ausführungsbeispiel des FBAR-Bauelements200 , das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A und4B beschrieben ist, herzustellen, wird anschließend unter Bezugnahme auf die Grundrissansichten der6A –6J und die Querschnittsansichten der6K –6T beschrieben. Mit unterschiedlichen Masken kann der Prozess auch verwendet werden, um Ausführungsbeispiele der FBAR-Bauelemente100 und300 herzustellen. Das Durchlassband des Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements200 , dessen Herstellung beschrieben wird, weist eine nominale Mittenfrequenz von etwa 1,9 GHz auf. Ausführungsbeispiele zum Betrieb bei anderen Frequenzen sind in ihrer Struktur und Herstellung ähnlich, weisen jedoch Dicken und laterale Abmessungen auf, die sich von denjenigen unterscheiden, die im folgenden exemplarisch dargestellt sind. Das Beispiel des FBAR-Bauelements200 , dessen Herstellung im Folgenden beschrieben wird, weist ein Temperaturkompensationselement auf, das in seiner Struktur dem Temperaturkompensationselement109 ähnlich ist, das im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die4A und4B beschrieben ist. Der beschriebene Prozess kann modifiziert werden, um das Temperaturkompensationselement109 mit Konfigurationen herzustellen, die denjenigen ähnlich sind, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die3C –3F beschrieben sind. - Ein Wafer aus Einkristallsilizium wird bereitgestellt. Ein Abschnitt des Wafers bildet für jedes FBAR-Bauelement, das hergestellt wird, ein Substrat, das dem Substrat
102 des FBAR-Bauelements200 entspricht. Die6A –6J und die6K –6T veranschaulichen die Herstellung des FBAR-Bauelements200 in und an einem Abschnitt des Wafers, der das Substrat102 bildet, und die folgende Beschreibung beschreibt dieselbe. Wenn das FBAR-Bauelement200 hergestellt wird, werden die restlichen FBAR-Bauelemente an dem Wafer auf ähnliche Weise hergestellt. - Der Wafer wird selektiv nassgeätzt, um einen Hohlraum
104 an dem Ort jedes FBAR-Bauelements zu bilden, wie es in den6A und6K gezeigt ist. Eine Schicht aus Füllmaterial (nicht gezeigt) wird auf die Oberfläche des Wafers mit einer Dicke aufgebracht, die ausreichend ist, um jeden Hohlraum zu füllen. Die Oberfläche des Wafers wird dann planarisiert, was jeden Hohlraum mit Füllmaterial gefüllt zurücklässt. Die6A und6K zeigen den Hohlraum104 in dem Substrat102 mit Füllmaterial105 gefüllt. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das Füllmaterial Phosphorsilikatglas (PSG) und wurde unter Verwendung einer herkömmlichen chemischen Niederdruckdampfaufbringung (LPCVD) aufgebracht. Das Füllmaterial kann alternativ dazu durch Sputtern oder durch Schleuderbeschichtung aufgebracht werden.
- Als eine Alternative zum Bilden und Füllen des Hohlraums
104 mit Füllmaterial105 werden abwechselnde Bragg-Schichten aus Metall und Kunststoff auf die Oberfläche des Wafers102 aufgebracht und werden strukturiert, um einen akustischen Bragg-Reflektor zu definieren, wie es durch Larson III et al. in der US-Patentanmeldung Seriennummer 10/969,744 (veröffentlicht alsUS 2005/104690 A1 - Eine erste Metallschicht wird auf die Hauptoberfläche des Substrats
102 und das Füllmaterial105 aufgebracht. Die erste Metallschicht wird strukturiert, wie es in den6B und6L gezeigt ist, um die Elektrode112 , die Anschluss-Anschlussfläche132 und die elektrische Bahn133 , die sich zwischen der Elektrode112 und der Anschluss-Anschlussfläche132 erstreckt, zu definieren. - Die Elektrode
112 weist normalerweise eine asymmetrische Form in einer Ebene auf, die zu der Hauptoberfläche des Wafers parallel ist. Eine asymmetrische Form minimiert laterale Moden bei dem FBAR110 (4B ), zu dem die Elektrode112 gehört. Dies ist in demUS-Patent Nr. 6,215,375 von Larson III et al. beschrieben. Die Elektrode112 lässt einen Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 freiliegend, so dass das Füllmaterial später durch ein Ätzen entfernt werden kann, wie es im Folgenden beschrieben ist. - Unter zusätzlicher Bezugnahme auf
4B wird die Elektrode114 in einer zweiten Metallschicht definiert, die Elektrode122 wird in einer dritten Metallschicht definiert, und die Elektrode124 wird in einer vierten Metallschicht definiert, wie es im Folgenden im Detail beschrieben ist. Die Metallschichten, in denen die Elektroden definiert sind, werden derart strukturiert, dass in jeweiligen Ebenen, die zu der Hauptoberfläche des Wafers parallel sind, die Elektroden112 und114 des FBAR110 die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position aufweisen, und die Elektroden122 und124 des FBAR120 die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position aufweisen. Normalerweise weisen die Elektroden114 und122 außerdem die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position auf. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das Material jeder der Metallschichten Molybdän, das durch Sputtern mit einer Dicke von etwa 300 nm aufgebracht wurde. Die Metallschichten wurden jede durch Trockenätzen strukturiert. Die Elektroden, die in jeder der Metallschichten definiert sind, waren fünfeckig, jede mit einer Fläche von etwa 12000 Quadratmikrometern. Andere Elektrodenflächen ergeben andere charakteristische Impedanzen. Andere hochschmelzende Metalle, wie zum Beispiel Wolfram, Niobium und Titan, können alternativ als das Material der Metallschichten verwendet werden. Die Metallschichten können jede alternativ dazu Schichten aus mehr als einem Material aufweisen.
- Ein Faktor, der beim Auswählen des Materials der Elektroden des FBAR-Bauelements
300 zu berücksichtigen ist, sind die akustischen Eigenschaften des Elektrodenmaterials: Die akustischen Eigenschaften der ein oder mehr Materialien der restlichen Metallteile des FBAR-Bauelements sind weniger wichtig als andere Eigenschaften, wie zum Beispiel elektrische Leitfähigkeit. Somit können ein oder mehr Materialien der restlichen Metallteile des FBAR-Bauelements300 sich von dem Material der Elektroden unterscheiden. - Eine Schicht aus piezoelektrischem Material wird aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
6C und6M gezeigt ist, um das piezoelektrische Element116 zu definieren. Die piezoelektrische Schicht wird strukturiert, um die Elektrode112 zu bedecken, jedoch die Anschluss-Anschlussfläche132 und einen Teil der Oberfläche des Füllmaterials105 freizulegen. Andere Abschnitte des piezoelektrischen Elements116 erstrecken sich über das Substrat102 außerhalb des Hohlraums104 . - Bei einem Ausführungsbeispiel war das piezoelektrische Material, das aufgebracht wurde, um das piezoelektrische Element
116 und das piezoelektrische Element126 , die im Folgenden beschrieben sind, zu bilden, Aluminiumnitrid und wurde mit einer Dicke von etwa 1,4 μm durch Sputtern aufgebracht. Das piezoelektrische Material wurde durch Nassätzen in Kaliumhydroxid oder durch ein chlorbasiertes Trockenätzen strukturiert. Alternative Materialien für die piezoelektrischen Elemente116 und126 umfassen Zinkoxid, Kadmiumsulfid und gepolte ferroelektrische Materialien, wie zum Beispiel ferroelektrische Perowskit-Materialien, einschließlich Bleizirkoniumtitanat, Bleimetaniobat und Bariumtitanat. - Eine erste Schicht aus Temperaturkompensationsmaterial wird aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
6D und6N gezeigt ist, um die Temperaturkompensationsschicht115 zu definieren, die einen Teil des Temperaturkompensationselements109 bildet. Das Temperaturkompensationsmaterial wird strukturiert, um die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position wie die Elektrode112 aufzuweisen. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das Material der ersten Schicht aus Temperaturkompensationsmaterial und der zweiten Schicht aus Temperaturkompensationsmaterial, deren Aufbringung im Folgenden beschrieben wird, eine Palladium-Kobalt-Legierung mit einem Palladiumanteil von etwa 94%. Das Temperaturkompensationsmaterial wurde durch Sputtern aufgebracht und wurde durch Trockenätzen strukturiert. Die Schichtdicke hing von dem gewünschten Temperaturkoeffizienten des FBAR-Bauelements
200 (4A ) ab. - Die zweite Metallschicht wird aufgebracht und wird strukturiert, um die Elektrode
114 , die Anschluss-Anschlussfläche134 und die elektrische Bahn135 , die sich zwischen der Elektrode114 und der Anschluss-Anschlussfläche134 erstreckt, zu definieren, wie es in den6E und6O gezeigt ist. Dies schließt die Herstellung des FBAR110 ab. - Eine Schicht aus akustischem Entkopplungsmaterial wird dann aufgebracht und wird strukturiert, um den akustischen Entkoppler
130 zu definieren, wie es in den6F und6P gezeigt ist. Der akustische Entkoppler130 wird strukturiert, um zumindest die Elektrode114 zu bedecken, und wird außerdem strukturiert, um die Anschluss-Anschlussflächen132 und134 und einen Teil des Füllmaterials105 freizulegen. Der akustische Entkoppler ist normalerweise eine Viertelwellenschicht aus Kunststoffmaterial. - Bei einem Ausführungsbeispiel war das akustische Entkopplungsmaterial des akustischen Entkopplers
130 Polyimid mit einer Dicke von etwa 200 nm, d. h. ein Viertel der Mittenfrequenzwellenlänge in dem Polyimid. Das Polyimid wurde durch Schleuderbeschichtung aufgebracht und wurde durch Photolithographie strukturiert. Polyimid ist photoempfindlich, so dass kein Photoresist benötigt wird. Wie es im Vorhergehenden erwähnt ist, können andere Kunststoffmaterialien als das akustische Entkopplungsmaterial verwendet werden. Das akustische Entkopplungsmaterial kann durch andere Verfahren als Schleuderbeschichtung aufgebracht werden. - Bei einem Ausführungsbeispiel, bei dem das akustische Entkopplungsmaterial Polyimid war, wurde der Wafer nach dem Aufbringen und Strukturieren des Polyimids anfangs bei einer Temperatur von etwa 250°C in Luft und schließlich bei einer Temperatur von etwa 415°C in einer inerten Atmosphäre, wie zum Beispiel einer Stickstoffatmosphäre, gebacken, bevor eine weitere Verarbeitung durchgeführt wurde. Das Backen verdampft flüchtige Bestandteile des Polyimids und verhindert, dass die Verdampfung derartiger flüchtiger Bestandteile während einer nachfolgenden Verarbeitung eine Trennung von nachfolgend aufgebrachten Schichten bewirkt.
- Die dritte Metallschicht wird aufgebracht und wird strukturiert, um die Elektrode
122 und die elektrische Bahn137 , die sich von der Elektrode122 zu der Anschluss-Anschlussfläche134 erstreckt, zu definieren, wie es in den6G und6Q gezeigt ist. Die Anschluss-Anschlussfläche134 ist auch durch die Bahn135 elektrisch mit der Elektrode114 verbunden. - Eine zweite Schicht aus Temperaturkompensationsmaterial wird aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
6H und6R gezeigt ist, um die Temperaturkompensationsschicht123 zu definieren, die den Rest des Temperaturkompensationselements109 bei diesem Ausführungsbeispiel bildet. Das Temperaturkompensationsmaterial wird strukturiert, um die gleiche Form, Größe, Ausrichtung und Position wie die Elektrode122 aufzuweisen. - Die zweite Schicht aus piezoelektrischem Material wird aufgebracht und wird strukturiert, wie es in den
6I und6S gezeigt ist, um das piezoelektrische Element126 zu definieren. Die zweite piezoelektrische Schicht wird strukturiert, um die Anschluss-Anschlussflächen132 und134 und einen Teil des Füllmaterials105 freizulegen. - Die vierte Metallschicht wird aufgebracht und wird strukturiert, um die Elektrode
124 , die Anschluss-Anschlussfläche138 und eine elektrische Bahn139 , die sich von der Elektrode124 zu der Anschluss-Anschlussfläche138 erstreckt, zu definieren, wie es in den6J und6T gezeigt ist. Dies schließt die Herstellung des FBAR120 und des FBAR-Stapels211 ab. - Eine Goldschutzschicht (nicht gezeigt) wird auf die freiliegenden Oberflächen der Anschluss-Anschlussflächen
132 ,134 und138 aufgebracht. - Ein Lösungsätzen wird durchgeführt, um das Opfermaterial
105 aus dem Hohlraum104 zu entfernen. Dies hinterlässt das FBAR-Bauelement200 , wie es in den4A und4B gezeigt ist. - Der Wafer wird dann in einzelne FBAR-Bauelemente geteilt, die das FBAR-Bauelement
200 umfassen - Das FBAR-Bauelement
200 wird in einer elektrischen Hostvorrichtung, wie zum Beispiel einem drahtlosen Telefon, befestigt, und elektrische Verbindungen werden zwischen den Anschluss-Anschlussflächen132 ,134 und138 des FBAR-Bauelements und Anschlussflächen, die zu der Hostvorrichtung gehören, hergestellt. - Wie es im Vorhergehenden erwähnt ist, ist ein alternatives akustisches Entkopplungsmaterial des akustischen Entkopplers
130 ein vernetztes Polyphenylenpolymer. Nachdem die dritte Metallschicht strukturiert worden ist, um die Elektrode114 zu definieren, wie es im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die6E und6O beschrieben ist, wird die Vorläuferlösung für das vernetzte Polyphenylenpolymer auf eine Weise aufgeschleudert, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die6F und6P beschrieben ist, wird jedoch nicht strukturiert. Die Formulierung der Vorläuferlösung und die Schleudergeschwindigkeit sind so ausgewählt, dass das vernetzte Polyphenylenpolymer eine Schicht mit einer Dicke von etwa 187 nm bildet. Dies entspricht einem Viertel der Wellenlänge λn in dem vernetzten Polyphenylenpolymer eines akustischen Signals, das eine Frequenz aufweist, die gleich der Mittenfrequenz des Durchlassbandes des FBAR-Bauelements200 ist. Nach dem Aufbringen der Schicht der Vorläuferlösung wurde der Wafer bei einer Temperatur in dem Bereich von etwa 385°C bis etwa 450°C in einer inerten Umgebung, wie z. B. unter Vakuum oder in einer Stickstoffatmosphäre, gebacken, bevor ein weiteres Verarbeiten durchgeführt wird. Das Backen vertreibt zuerst die organischen Lösungsmittel aus der Vorläuferlösung und bewirkt dann, dass sich das Oligomer vernetzt, wie es im Vorhergehenden beschrieben ist, um das vernetzte Polyphenylenpolymer zu bilden. - Bei einem Ausführungsbeispiel war die Vorläuferlösung für das vernetzte Polyphenylenpolymer eine, die von The Dow Chemical Company vertrieben und mit SiLKTM J bezeichnet wird. Alternativ dazu kann es sich bei der Vorläuferlösung um eine beliebige geeignete der Vorläuferlösungen handeln, die jetzt oder in Zukunft von The Dow Chemical Company unter dem Warenzeichen SiLK vertrieben werden. Bei bestimmten Ausführungsbeispielen wurde eine Schicht eines Haftungspromotors aufgebracht, bevor die Vorläuferlösung aufgeschleudert wurde. Vorläuferlösungen, die Oligomere enthalten, die, wenn dieselben gehärtet werden, ein vernetztes Polyphenylenpolymer bilden, das eine akustische Impedanz von etwa 2 Mrayl aufweist, können jetzt oder in Zukunft von anderen Lieferanten erhältlich sein und können ebenfalls verwendet werden.
- Die dritte Metallschicht wird dann auf die Schicht aus dem vernetzten Polyphenylenpolymer auf eine Weise aufgebracht, die derjenigen ähnlich ist, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die
6G und6Q beschrieben ist, wird jedoch anfänglich ähnlich der Strukturierung des akustischen Entkopplers130 , der in6F gezeigt ist, strukturiert, um eine Hartmaske zu definieren, die später verwendet wird, um die Schicht aus dem vernetzten Polyphenylenpolymer zu strukturieren, um den akustischen Entkoppler130 zu definieren. Die anfänglich strukturierte dritte Metallschicht weist die gleiche Erstreckung wie der akustische Entkoppler130 auf und legt die Anschluss-Anschlussflächen132 und134 und Teile des Füllmaterials105 frei. - Die Schicht aus dem vernetzten Polyphenylenpolymer wird dann strukturiert, wie es in
6F gezeigt ist, wobei die anfänglich strukturierte dritte Metallschicht als eine Hartätzmaske verwendet wird. Ein Strukturieren der Schicht des vernetzten Polyphenylenpolymers definiert die Erstreckung des akustischen Entkopplers130 , was die Anschluss-Anschlussflächen132 und134 und Teile des Füllmaterials105 freilegt. Das Strukturieren wird mit einem Sauerstoffplasmaätzen durchgeführt. - Die dritte Metallschicht wird dann erneut strukturiert, wie es in den
6G und6Q gezeigt ist, um die Elektrode122 und die elektrische Bahn137 zu definieren, die sich zwischen der Elektrode122 und der Anschluss-Anschlussfläche134 erstreckt. - Eine Herstellung des Ausführungsbeispiels des FBAR-Bauelements
200 mit einer Schicht aus einem vernetzten Polyphenylenpolymer als seinem akustischen Entkoppler wird durch ein Durchführen der Verarbeitung abgeschlossen, die im Vorhergehenden unter Bezugnahme auf die6H –6J und6R –6T beschrieben ist. - Eine ähnliche Technik, die der soeben beschriebenen ähnlich ist, kann verwendet werden, um den akustischen Entkoppler
103 in einer Schicht aus Parylen zu definieren, die durch Vakuumaufbringung aufgebracht wird. - Die im Vorhergehenden exemplarisch betrachteten Dicken der Elektroden und der piezoelektrischen Elemente sind Dicken für ein herkömmliches FBAR-Bauelement, das einem Ausführungsbeispiel des FBAR
200 ohne ein Temperaturkompensationselement109 ähnlich ist. Bei einem Ausführungsbeispiel des FBAR-Bauelements200 werden ein oder mehr der Dicken verringert, um die Mittenfrequenz des FBAR-Bauelements trotz der Hinzufügung des Temperaturkompensationselements109 zu dem FBAR-Stapel211 aufrechtzuerhalten. Die Identität der ein oder mehr Elemente, deren Dicken verringert werden, und die jeweiligen Dickeverringerungen hängen von der Dicke und dem Material des Temperaturkompensationselements109 und der Menge der Temperaturkompensation ab, die durch das Temperaturkompensationselement109 geliefert wird. Die Identität der Elemente und die Dickeverringerungen hängen außerdem von der Anwendung ab, bei der das FBAR-Bauelement verwendet wird, wie es im Vorhergehenden beschrieben ist. Ein Verringern der Dicke der piezoelektrischen Elemente verringert die Kopplungskonstante: Ein Verringern der Dicke von ein oder mehr der Elektroden erhöht den Reihenwiderstand, außer das Temperaturkompensationsmaterial weist eine elektrische Leitfähigkeit auf, die mit derjenigen der Elektroden vergleichbar ist.
Claims (25)
- Ein temperaturkompensiertes Akustischer-Filmvolumenresonator-(FBAR-)Bauelement (
100 ;200 ;300 ), das folgende Merkmale aufweist: einen FBAR-Stapel (111 ;211 ;311 ), der folgende Merkmale aufweist: einen FBAR (110 ,120 ;150 ,160 ), der durch eine Resonanzfrequenz gekennzeichnet ist, die einen Temperaturkoeffizienten aufweist, wobei der FBAR (110 ,120 ;150 ,160 ) gegenüberliegende planare Elektroden (112 ,114 ,122 ,124 ;152 ,154 ,162 ,164 ) und ein piezoelektrisches Element (116 ,126 ;156 ,166 ) zwischen den Elektroden (112 ,114 ;152 ,154 ) aufweist, wobei das piezoelektrische Element (116 ,126 ;156 ,166 ) einen Temperaturkoeffizienten aufweist, von dem der Temperaturkoeffizient der Resonanzfrequenz zumindest teilweise abhängt, und ein Temperaturkompensationselement (109 ), das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten des piezoelektrischen Elements (116 ,126 ;156 ,166 ) entgegengesetzt ist, und gemäß einer der folgenden Alternativen ausgebildet ist: (a) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist eine Niobium-Molybdän-(Nb-Mo-)Legierung auf, (b) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist eine Kobalt-Palladium-(Co-Pd-)Legierung auf, oder (c) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist ein ferroelektrisches Material auf. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 1, wobei: der FBAR (
110 ,120 ;150 ,160 ) ein unterer FBAR (110 ;150 ) ist; und das FBAR-Bauelement (100 ;200 ;300 ) außerdem folgende Merkmale aufweist: einen oberen FBAR (120 ;160 ), der auf den unteren FBAR (110 ;150 ) gestapelt ist, wobei der obere FBAR (120 ;16 ) gegenüberliegende planare Elektroden (122 ,124 ;162 ,164 ) und ein piezoelektrisches Element (126 ;166 ) zwischen den Elektroden (122 ,124 ;162 ,164 ) aufweist, und einen akustischen Entkoppler (130 ;170 ) zwischen den FBARs (110 ,120 ;150 ,160 ). - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 2, wobei: der erste, untere FBAR (
110 ), der zweite, obere FBAR (120 ) und der akustische Entkoppler (130 ) einen ersten entkoppelten, gestapelten, akustischen Volumenresonator (DSBAR) (106 ) bilden; der FBAR-Stapel (311 ) außerdem einen zweiten DSBAR (108 ) aufweist, der einen zweiten, unteren FBAR (150 ), einen zweiten, oberen FBAR (160 ), der auf den zweiten, unteren FBAR (150 ) gestapelt ist, und einen akustischen Entkoppler (170 ) zwischen den FBARs (150 ,160 ) aufweist; und das FBAR-Bauelement (311 ) außerdem folgende Merkmale aufweist: eine erste elektrische Schaltung (141 ), die die unteren FBARs (110 ;150 ) verbindet, und eine zweite elektrische Schaltung (142 ), die die oberen FBARs (120 ;160 ) verbindet. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 1, wobei: der FBAR ein erster FBAR (
110 ;150 ) ist; der FBAR-Stapel (111 ;211 ;311 ) außerdem einen oder mehrere zusätzliche FBARs (120 ;160 ) aufweist; und die FBARs (110 ,120 ,150 ,160 ) als ein Leiterfilter verbunden sind. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 1, 2, 3 oder 4, bei dem das Temperaturkompensationselement (
109 ) eine Temperaturkompensationsschicht (115 ;123 ) aufweist, die neben einer der Elektroden (114 ,122 ) angeordnet ist. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 5, bei dem das Temperaturkompensationselement (
109 ) außerdem eine zusätzliche Temperaturkompensationsschicht (155 ;163 ) aufweist, die neben der anderen der Elektroden (154 ,162 ) angeordnet ist. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 5 oder 6, bei dem die Temperaturkompensationsschicht (
109 ) zwischen der einen der Elektroden (122 ) und dem piezoelektrischen Element (126 ) angeordnet ist. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 2, 3 oder 4, bei dem das Temperaturkompensationselement (
109 ) eine Temperaturkompensationsschicht (115 ,123 ;155 ,163 ) aufweist, die neben einer der Elektroden (114 ,122 ;154 ,162 ) jedes der FBARs (110 ,120 ;150 ,160 ) angeordnet ist. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 8, bei dem bei jedem der FBARs (
110 ,120 ;150 ,160 ) die Temperaturkompensationsschicht (109 ) zwischen der einen der Elektroden (114 ,122 ;154 ,162 ) und dem piezoelektrischen Element (116 ,126 ;156 ,166 ) desselben liegt. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 8 oder 9, bei dem bei jedem der FBARs (
110 ,120 ;150 ,160 ) die eine der Elektroden (114 ,122 ;154 ,162 ) neben dem akustischen Entkoppler (130 ,170 ) angeordnet ist. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 1, 2, 3 oder 4, bei dem das Temperaturkompensationselement (
109 ) eine Temperaturkompensationsschicht (123 ;163 ) aufweist, die in das piezoelektrische Element (126 ;166 ) eingebettet ist. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 2, 3 oder 4, bei dem das Temperaturkompensationselement (
109 ) eine Temperaturkompensationsschicht (123 ;163 ) aufweist, die in das piezoelektrische Element (126 ;166 ) jedes der FBARs (120 ;160 ) eingebettet ist. - Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 1, 2, 3 oder 4, bei dem das Temperaturkompensationselement eine der Elektroden aufweist.
- Das FBAR-Bauelement gemäß Anspruch 2, 3 oder 4, bei dem das Temperaturkompensationselement eine der Elektroden jedes der FBARs aufweist.
- Das FBAR-Bauelement gemäß der Alternative (a) des Anspruchs 1, bei dem die Niobium-Molybdän-Legierung einen Molybdänanteil in dem Bereich von etwa 17% bis etwa 51% aufweist.
- Das FBAR-Bauelement gemäß der Alternative (a) des Anspruchs 1, bei dem die Niobium-Molybdän-Legierung einen Molybdänanteil in dem Bereich von etwa 32% bis etwa 36% aufweist.
- Das FBAR-Bauelement gemäß der Alternative (b) des Anspruchs 1, bei dem die Kobalt-Palladium-Legierung einen Palladiumanteil in dem Bereich von etwa 92% bis etwa 96% aufweist.
- Das FBAR-Bauelement gemäß der Alternative (b) des Anspruchs 1, bei dem die Kobalt-Palladium-Legierung einen Palladiumanteil in dem Bereich von etwa 93% bis etwa 95% aufweist.
- Das FBAR-Bauelement gemäß der Alternative (c) des Anspruchs 1, bei dem das ferroelektrische Material Bleinickelniobat (Pb(NixNb1-x)O3 aufweist, bei dem der Nickelanteil x etwa ein Drittel beträgt.
- Das FBAR-Bauelement gemäß der Alternative (c) des Anspruchs 1, bei dem das ferroelektrische Material Nephelin (KAlSiO4)(NaAlSiO4)3 aufweist.
- Das FBAR-Bauelement gemäß der Alternative (c) des Anspruchs 1, bei dem das ferroelektrische Material Zirkoniumwolframat (ZrW2O8) aufweist.
- Ein akustisches Bauelement (
100 ;200 ;300 ), das einen akustischen Ausbreitungsweg aufweist, der eine ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft aufweist, wobei die ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft einen Temperaturkoeffizienten aufweist, wobei der akustische Ausbreitungsweg folgende Merkmale aufweist: ein akustisches Ausbreitungselement (116 ,126 ;156 ,166 ), das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, von dem die ausbreitungszeitbezogene Eigenschaft des akustischen Ausbreitungswegs zumindest teilweise abhängt; und ein Temperaturkompensationselement (109 ), das einen Temperaturkoeffizienten aufweist, der bezüglich des Vorzeichens dem Temperaturkoeffizienten des akustischen Ausbreitungselements (116 ,126 ;156 ,166 ) entgegengesetzt ist, und gemäß einer der folgenden Alternativen ausgebildet ist: (a) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist eine Niobium-Molybdän-(Nb-Mo-)Legierung auf, (b) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist eine Kobalt-Palladium-(Co-Pd-)Legierung auf, oder (c) das Temperaturkompensationselement (109 ) weist ein ferroelektrisches Material auf. - Das akustische Bauelement gemäß der Alternative (c) des Anspruchs 22, bei dem das ferroelektrische Material Bleinickelniobat (Pb(NixNb1-x)O3 aufweist, bei dem der Nickelanteil x etwa ein Drittel beträgt.
- Das akustische Bauelement gemäß der Alternative (c) des Anspruchs 22, bei dem das ferroelektrische Material Nephelin (KAlSiO4)(NaAlSiO4)3 aufweist.
- Das akustische Bauelement gemäß der Alternative (c) des Anspruchs 22, bei dem das ferroelektrische Material Zirkoniumwolframat (ZrW2O8) aufweist.
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/699,289 | 2003-10-30 | ||
US10/699,481 | 2003-10-30 | ||
US10/699,481 US6946928B2 (en) | 2003-10-30 | 2003-10-30 | Thin-film acoustically-coupled transformer |
US10/699,289 US7019605B2 (en) | 2003-10-30 | 2003-10-30 | Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth |
US10/965,637 | 2004-10-13 | ||
US10/965,541 US7400217B2 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-13 | Decoupled stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwith |
US10/965,541 | 2004-10-13 | ||
US10/965,637 US7391285B2 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-13 | Film acoustically-coupled transformer |
PCT/US2004/036300 WO2005043756A1 (en) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Temperature-compensated film bulk acoustic resonator (fbar) devices |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE112004002068T5 DE112004002068T5 (de) | 2006-08-17 |
DE112004002068B4 true DE112004002068B4 (de) | 2016-09-01 |
Family
ID=34557693
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE112004002004.2T Expired - Fee Related DE112004002004B4 (de) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Akustische Filmvolumenresonator-Vorrichtungen (FBAR-Vorrichtungen) mit vereinfachtem Gehäuseeinbau |
DE112004002068.9T Expired - Fee Related DE112004002068B4 (de) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Temperaturkompensierte Akustischer-Filmvolumenresonator-(FBAR-) Bauelemente |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE112004002004.2T Expired - Fee Related DE112004002004B4 (de) | 2003-10-30 | 2004-10-29 | Akustische Filmvolumenresonator-Vorrichtungen (FBAR-Vorrichtungen) mit vereinfachtem Gehäuseeinbau |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7332985B2 (de) |
JP (2) | JP4676440B2 (de) |
DE (2) | DE112004002004B4 (de) |
GB (3) | GB2422969B (de) |
WO (3) | WO2005043756A1 (de) |
Families Citing this family (210)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6050943A (en) | 1997-10-14 | 2000-04-18 | Guided Therapy Systems, Inc. | Imaging, therapy, and temperature monitoring ultrasonic system |
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-
2004
- 2004-10-19 US US10/969,744 patent/US7332985B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-10-19 US US10/969,636 patent/US7358831B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-10-29 GB GB0609024A patent/GB2422969B/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 WO PCT/US2004/036300 patent/WO2005043756A1/en active Application Filing
- 2004-10-29 DE DE112004002004.2T patent/DE112004002004B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 WO PCT/US2004/036164 patent/WO2005043751A1/en active Application Filing
- 2004-10-29 JP JP2006538360A patent/JP4676440B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 WO PCT/US2004/036136 patent/WO2005043754A1/en active Application Filing
- 2004-10-29 JP JP2006538367A patent/JP2007514341A/ja active Pending
- 2004-10-29 GB GB0610006A patent/GB2423428B/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-29 GB GB0605779A patent/GB2421646A/en not_active Withdrawn
- 2004-10-29 DE DE112004002068.9T patent/DE112004002068B4/de not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law |
Ref document number: 112004002068 Country of ref document: DE Date of ref document: 20060817 Kind code of ref document: P |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: AGILENT TECHNOLOGIES, INC. (N.D.GES.D. STAATES, US |
|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELLSCHA |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES WIRELESS IP (SINGAPORE) PTE, SG |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE., SG Free format text: FORMER OWNER: AVAGO TECHNOLOGIES WIRELESS IP (SINGAPORE) PTE. LTD., SINGAPORE, SG Effective date: 20130612 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE Effective date: 20130612 |
|
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES INTERNATIONAL SALES PTE. LT, SG Free format text: FORMER OWNER: AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD., SINGAPORE, SG |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG, HAEUSLER, SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESE, DE Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |