DE1106575B - Bad zum galvanischen Abscheiden hochglaenzender Chromueberzuege aus kaltarbeitenden Tetrachromatbaedern - Google Patents
Bad zum galvanischen Abscheiden hochglaenzender Chromueberzuege aus kaltarbeitenden TetrachromatbaedernInfo
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- DE1106575B DE1106575B DER23974A DER0023974A DE1106575B DE 1106575 B DE1106575 B DE 1106575B DE R23974 A DER23974 A DE R23974A DE R0023974 A DER0023974 A DE R0023974A DE 1106575 B DE1106575 B DE 1106575B
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
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Description
- Bad zum galvanischen Abscheiden hochglänzender Chromüberzüge aus kaltarbeitenden Tetrachromatbädern Es ist bereits bekannt, galvanische Chromüberzüge aus kaltarbeitendenTetrachromatbädern abzuscheiden. Die in den bisher bekannten Tetrachromatbädern üblicher Zusammensetzung erzielten Chromschichten sind jedoch matt und müssen daher anschließend poliert werden.
- Es ist auch bereits bekannt, galvanischen Tetrachromatbädern Wolframate zuzusetzen, wodurch härtere und gleichzeitig geschmeidigere, hellere Chromüberzüge von großer Gleichmäßigkeit auch an den Rändern großer Flächen erhalten werden, welche sich zudem leichter polieren lassen.
- Ferner ist für elektrolytische Tetrachromatbäder der Zusatz von Sulfaten oder Schwefelsäure bekannt. Auch ist die Abscheidung glänzender Chromniederschläge aus kaltarbeitenden Tetrachromatbädern, die als Katalysatoren noch Fluoride, Fluorsilikate oder Sulfate enthalten, beschrieben. Abgesehen davon, daß das Vorhandensein mindestens eines der vorgenannten Anionen für die elektrolytische Abscheidung technisch brauchbarer Chromschichten aus allen bisher bekannten Verchromungsbädern unbedingt erforderlich ist, wird bei dem Zusatz von Katalysatoren nur auf die entsprechenden Anionen Wert gelegt.
- Es wurde nun gefunden, daß man aus kaltarbeitenden Tetrachromatbädern hochglänzende, dichte, spannungsfreie Chromniederschläge herstellen kann, wenn diesen Bädern Verbindungen des Cers, Galliums, Germaniums, Indiums, Lanthans, Selens, Tantals, Tellurs, Titans, Thalliums, Thors, Urans, Vanaidiums oder Zirkoniums zugesetzt werden. Bei diesen Verbindungen können die Metalle sowohl als Kation wie auch als Anion vorliegen. Es überrascht dabei, daß im Gegensatz zu Wolframaten ganz ähnliche Metallsalze, wie z. B. Vanadate, glänzende Chromüberzüge ergeben. Die Anionen der erfindungsgemäß zugesetzten Metallverbindungen können alle für elektrolytische Chrombäder geeigneten Anionen sein.
- Im Gegensatz zum Stand der Technik stellt der Zusatz der erfindungsgemäß genannnten Verbindungen insofern einen technischen Fortschritt dar, als z. B. durch Zusatz von Aluminiumsulfat oder Chrom(III)-sulfat oder Nickelsulfat zu Tetrachromatbädern üblicher Zusammensetzung keine glänzenden, sondern nur matte Chromüberzüge erzielt werden. Das Bad gemäß der Erfindung scheidet bei Raumtemperatur (18 bis 20° C) bei Spannungen von 3,5 bis 6 Volt, bei Stromdichten von 5 bis 20 A/dm2, bei Stromausbeuten von 35 bis 37% und hohen Abscheidungsgeschwindigkeiten hochglänzende Chromüberzüge ab, welche wegen ihrer dichten, weitgehend spannungsfreien Struktur einen vorzüglichen Korrosionsschutz auf vielen Metallen darstellen.
- Gegenstände aus Kupfer, glanzverkupferte oder vorzugsweise glanzvernickelte Oberflächen können in dem erfindungsgemäßen Bad direkt glanzverchromt werden. Aluminium, Eisen, Stahl und Zink und deren Legierungen müssen vorher mit einer glänzenden Schicht gedeckt werden. Bei Eisen und Stahl genügt der dünne Kupferfilm, der im Rahmen der elektrolytischen Entfettung mit gleichzeitiger Kupferabscheidung aufgebracht werden kann.
- Weitere unvorhergesehene Vorteile des Bades gemäß der Erfindung sind der weite Glanzabscheidungsbereich, die weitgehende Unabhängigkeit von Schwankungen der Arbeitstemperatur, der Radzusammensetzung, der anwendbaren Stromdichte und der Verunreinigung des Bades mit Fremdmetallen. Infolge der guten Streufähigkeit der Tetrachromatbäder können auch stark profilierte Gegenstände ohne Verwendung von Hilfsanoden einwandfrei und gleichmäßig glanzverchromt werden.
- Beispiel Ein Bad üblicher Zusammensetzung mit 300 g/1 Chromsäureanhydrid, 25 bis 75 g/1 Natriumhydroxyd, 0,5 bis 3 g/1 Schwefelsäure und 0,2 bis 50 g/1 Indiumsulfat oder 0,4 bis 5 g/1 Natriumselenit oder 0,5 bis 5 g/1 Hexavanadat ergab bei 18° C und 5 Volt bei 20 A/dm2 einen hochglänzenden dichten Niederschlag auf glanzvernickeltem Stahlblech.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH: Bad zum galvanischen Abscheiden hochglänzender Chromüberzüge aus kaltarbeitenden Tetrachromatbädern üblicher Zusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß es Verbindungen. -des Cers, Galliums, Germaniums, Indiums, Lanthans, Selens, Tantals, Tellurs, Thalliums, Thors, Titans, Urans, Vanadiums oder Zirkoniums enthält. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 933 906; USA.-Patentschrift Nx. 2 095 995; »Metalloberfläche«, 1953, S. B 156.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DER23974A DE1106575B (de) | 1958-09-01 | 1958-09-01 | Bad zum galvanischen Abscheiden hochglaenzender Chromueberzuege aus kaltarbeitenden Tetrachromatbaedern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DER23974A DE1106575B (de) | 1958-09-01 | 1958-09-01 | Bad zum galvanischen Abscheiden hochglaenzender Chromueberzuege aus kaltarbeitenden Tetrachromatbaedern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE1106575B true DE1106575B (de) | 1961-05-10 |
Family
ID=7401554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DER23974A Pending DE1106575B (de) | 1958-09-01 | 1958-09-01 | Bad zum galvanischen Abscheiden hochglaenzender Chromueberzuege aus kaltarbeitenden Tetrachromatbaedern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1106575B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3418220A (en) * | 1963-08-26 | 1968-12-24 | Roggendorf Wilhelm | Electrodeposition of chromium and duplex micro-crack chromium coatings |
DE4432512A1 (de) * | 1994-09-13 | 1996-03-14 | Lpw Chemie Gmbh | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Strukturchromschichten |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2095995A (en) * | 1935-03-13 | 1937-10-19 | John R Mardick | Chromium plating |
DE933906C (de) * | 1953-12-29 | 1955-10-06 | Hesse & Co Dr | Tetrachromatbad zur galvanischen Abscheidung von Chromueberzuegen |
-
1958
- 1958-09-01 DE DER23974A patent/DE1106575B/de active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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