DE1046489B - Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten

Info

Publication number
DE1046489B
DE1046489B DEA26297A DEA0026297A DE1046489B DE 1046489 B DE1046489 B DE 1046489B DE A26297 A DEA26297 A DE A26297A DE A0026297 A DEA0026297 A DE A0026297A DE 1046489 B DE1046489 B DE 1046489B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
production
antihalation
amino acids
turn
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEA26297A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Helfried Klockgether
Dr Erwin Trabert
Dr Armin Ossenbrunner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa AG filed Critical Agfa AG
Priority to DEA26297A priority Critical patent/DE1046489B/de
Publication of DE1046489B publication Critical patent/DE1046489B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/825Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antireflection means or visible-light filtering means, e.g. antihalation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten Es ist bekannt, photographische Materialien, wie Schwarzweißfilme- oder Mehrschichtenfarbfilme, zur Vermeidung der Lichthofbildung mit einer Schutzschicht zu versehen. Diese wird entweder zwischen den Schichtträger und die Halogensilberemulsionsschicht eingeschaltet oder auch auf der Rückseite des Schichtträgers angebracht. Die Lichthofschutzschicht besteht gewöhnlich aus einem in alkalischen Entwicklern löslichen und irreversibel ausbleichbaren Farbstoff und einem filmbildenden Träger, im allgemeinen einem alkalilöslichen Kunststoff.
  • Diese Lichthofschutzschichten haben in der Regel verschiedene Mängel.
  • So führt die durch ihre Glätte bedingte enge Kontaktlage, insbesondere mit feinkörnigen und daher ebenfalls sehr glatten Emulsionsschichten, zu photographisch unerwünschten Auswirkungen.
  • Weiterhin neigen sie, insbesondere in feuchter und warmer Atmosphäre, zum Abklatschen auf die Emulsionsschicht, wodurch das photographische Material unbrauchbar wird. Bei ihrer Verarbeitung in Erdalkalimetallionen enthaltenden photographischen Bädern bilden sich leicht unlösliche Salze, die als fester Belag nur schwierig von der Rückseite entfernt werden können.
  • Es wurde nun gefunden, daß sich diese Schwierigkeiten weitgehend vermeiden lassen, wenn man in die L ichthofschutzschicht Aminosäuren folgender allgemeiner Formel als Mattierungsmittel einlagert: H O O C-Ri-X-R2-C O O H R6 = (HOOC-R4-Y-R5-COOH)2 Hierbei ist X eine N R.-Gruppe, und R1, R2 und RS stellen Kohlenwasserstoffreste dar, die ihrerseits wieder substituiert sein können, wobei - RS auch für H stehen kann, Y ist ein N-Atom, R4, R5 und Rs stellen bivalente Kohlenwasserstoffreste dar, die ihrerseits wieder substituiert sein können, und an-. Stelle der Carboxylgruppen können sich zum Teil OH-.Gruppen befinden. .
  • Säuren dieser Art sind beispielsweise Äthylendiamintetraessigsäure, Iminodiessigsäure, Nitrilotriessigsäure.
  • Diese Verbindungen sind seit langem bekannt, unter anderem gemäß dem deutschen Patent 718 981, als Komplexbildner für Erdalkalimetallionen zum Enthärten von Wasser, ferner gemäß dem deutschen Patent 866 605 zur Herstellung photographischer Abschwächer- und Bleichfixierbäder.
  • Von den obengenannten Aminosäuren sind besonders diejenigen geeignet, die mehr als eine in x-Stellung befindliche Carboxylgruppe, bezogen auf ein basisches Stickstoffatom, enthalten, und zwar aus folgenden Gründen: Sie sind in den zur Herstellung der Lichthofschutzschichten verwendeten Substratlösungen aus Kunststoffen, Schutzfarbstoffen und organischen Lösungsmitteln unlöslich.
  • Auch in Wasser sind sie nur schwer löslich und erhöhen daher nicht die Hydrophilie der Schicht. In Alkali sind sie leicht löslich, so daß sie in alkalischen Vorbädern bzw. Entwicklern zusammen mit den übrigen Bestandteilen der Schicht in Lösung gehen und diese nicht verunreinigen.
  • Schließlich wird durch ihr bekanntes Bindungsvermögen für Erdalkalimetallionen die Bildung unlöslicher Farbstoff- oder Kunststoffsalze weitgehend verhindert.
  • Die für die Mattierung vorgesehenen Substanzen werden entweder für sich allein auf einer geeigneten Mühle trocken vermahlen und dann in der Substratlösung aufgeschwemmt oder aber vorher mit einer viskosen Lösung des Kunststoffes zu einer Paste verrieben, die auf einer Kugel-Schwingmühle bis zu der erforderlichen Feinheit homogenisiert wird.
  • Die Teilchengröße liegt zweckmäßigerweise unter 5 #t, da die Mattierung der Lichthofschutzschicht sonst zu stark wird und die Teilchen außerdem zu schnell sedimentieren.
  • Bei gegebener Teilchengröße hängt die Stärke der Mattierung von der Menge an zugesetztem Mattierungsmittel ab. Diese kann selbstverständlich innerhalb weiter Grenzen variiert werden. Jedoch haben sich Mengen von 10"/o bis 5%, auf die Gesamtmenge an Farbstoff -I- Kunststoff bezogen, als zweckmäßig erwiesen. Bei Mengen unter 10'°/o ist die Mattierung so gering, daß keine wesentlichen Effekte mehr festgestellt werden können, bei Mengen über 50'°/o ist die Mattierung so stark, daß die Abriebfestigkeit und Gleitfähigkeit der Schicht zu schlecht werden.
  • Die Anwendung des Verfahrens ist nicht an bestimmte Kunststoffe als Träger für die Lichthofschutzfarbstoffe gebunden, jedoch kommen bevorzugt in organischen Lösungsmitteln und in alkalischen Lösungen lösliche Produkte in Frage. Dafür sollen folgende besonders charakteristische Beispiele angeführt werden: Polymerisate der Acrylsäure, Mischpolymerisate aus Styrol-Acrylsäure, Vinylchlorid und Acrylsäure, Acrylnitril und Styrolcarbonsäure, Styrol-Maleinsäure, alkalilösliche Polykohlensäureester gemäß Patentanmeldung A 25 378 IV a/57 b, künstliche Harze mit einer salzbildenden OH- oder C O O H-Gruppe, Kondensationsprodukte aus Phenoxyessigsäure, Acetale von hydroxylgruppenhaltigen Polymeren mit Aldehyden, die C O O H- oder S 03 H-Gruppen enthalten, Cellulosemischester mit zweibasischen Säuren, Dicarbonsäureester von Polyvinylalkohol, Polymerisationsprodukte aus Methacrylsäure und Acrylnitril.
  • Ferner ist die Anwendung des Verfahrens nicht an bestimmte Farbstoffe gebunden. Geeignet sind z. B. Triphenylmethanfarbstoffe gemäß der deutschen Auslegeschrift 1008 114.
  • Die das Mattierungsmittel enthaltenden Substratlösungen werden in der üblichen Weise an das Folienmaterial angetragen, z. B. im Tauchverfahren.
  • Eine mattierte Lichthofschutzschicht weist gegenüber einer nicht mattierten, sonst gleichartig aufgebauten Schicht, folgende Vorteile auf: Durch die Mattierung wird die flächenhafte Kontaktlage aufgehoben, die sich photographisch nachteilig auswirken kann.
  • Außerdem wird die Abklatschfestigkeit der Lichthofschutzschicht erhöht und die Neigung zur Bildung unlöslicher Erdalkalimetallsalze verringert.
  • Folgende Beispiele erläutern die Erfindung: Beispiel 1 2000 g eines Mischpolymerisates aus Vinylbutyläther und Maleinsäureäthylhalbester, Molverhältnis 1 : 1, werden in 500 g Äthanol gelöst und anschließend mit 270gÄthylendiamintetraessigsäure zu einer Paste vermischt. Diese wird in eine Kugelmühle eingefüllt und 48 Stunden auf einer Schwingmühle homogenisiert.
  • In eine Lösung von 2,4 g des obengenannten Mischpolymerisates und 6,9 g eines Triphenylmethanfarbstoffes gemäß der deutschen Auslegeschrift 1008 114 in 700 ccm Äthanol, 200 ccm Essigester und 100 ccm Butanol werden 40 g der homogenisierten Paste eingesetzt.
  • Diese Substratlösung wird im Tauchverfahren an einen Film aus Acetylcellulose angetragen. Auf die andere Seite wird anschließend eine photographische Halogensilberemulsion gegossen. Diese Lichthofschutzschicht bewirkt in Kontaktlage mit der Halogensilberemulsionsschicht keine Fleckenbildung und zeigt eine sehr gute Abklatschfestigkeit.
  • Die Schicht geht selbst in schwach alkalischen Entwicklern in kurzer Zeit ohne Rückstände in Lösung, sofern diese nicht mehr als 15 mg Ca O/100 ccm enthalten. Eine Schicht ohne Zusatz an Äthylendiamintetraessigsäure bildet dagegen schon bei einem Gehalt von 5 mg Ca O/100 ccm unlösliche Rückstände.
  • Beispiel 2 200g eines hochmolekularen, alkalilöslichen Polykohlensäureesters, der unter Mitverwendung eines saure Gruppen enthaltenden 4,4'-Dimonooxyarylalkans hergestellt wurde, werden in 500g Äthanol gelöst und anschließend mit 270 g Iminodiessigsäure zu einer Paste verrührt und, wie im Beispiel 1 beschrieben, auf der Schwingmühle homogenisiert.
  • In eine Lösung von 8 g eines Triphenylmethanfarbstoffes gemäß Auslegeschrift 1008 114 in 700 ccm Äthanol und 300 ccm Isopropanol werden 70 g der homogenisierten Paste eingerührt.
  • Die Substratlösung wird, wie im Beispiel 1 beschrieben, an einen Film aus einem Polykohlensäureester aus 4,4'-Dioxy-3,3'-dicarboxy-5,5'-dimethyldiphenylmethan angetragen, der anschließend ebenfalls mit einer Halogensilberemulsion begossen wird.
  • Diese Lichthofschutzschicht zeigt gegenüber einer solchen ohne Mattierungsmittel gleichartige Verbesserungen wie die im Beispiel 1 beschriebenen.

Claims (2)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten, dadurch gekennzeichnet, daß den zur Schichtbildung verwendeten Lösungen (oder Dispersionen) Aminosäuren der allgemeinen Formeln HOOC-R,-X-R2-COOH oder R6 = (H O O C-R4-Y-R5-C O O H)2 in fester Form und in solcher Menge und Korngröße zugesetzt werden, daß eine ausreichende Mattierung bzw. Aufrauhung der Schicht eintritt. Hierbei ist X eine NR.- Gruppe, und R1, R2 und R3 stellen Kohlenwasserstoffreste dar, die ihrerseits wieder substituiert _scin können, wobei R3 auch für H stehen kann; Y ist ein N-Atom, R4, R5 und R6 stellen -bivalente Kohlenwasserstoffreste dar, die ihrerseits wieder substituiert sein können, und an Stelle der Carboxylgruppen können sich teilweise auch OH-Gruppen befinden.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aminosäuren in Teilchengröße unter 5 li und in Mengen zwischen 10 ud 50 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht an Bindemittel und Farbstoff, verwendet werden.
DEA26297A 1956-12-31 1956-12-31 Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten Pending DE1046489B (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEA26297A DE1046489B (de) 1956-12-31 1956-12-31 Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEA26297A DE1046489B (de) 1956-12-31 1956-12-31 Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1046489B true DE1046489B (de) 1958-12-11

Family

ID=6926127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEA26297A Pending DE1046489B (de) 1956-12-31 1956-12-31 Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1046489B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1299220B (de) * 1961-02-08 1969-07-10 Agfa Ag Mattierte Lichthofschutzschicht fuer photographische Materialien

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1299220B (de) * 1961-02-08 1969-07-10 Agfa Ag Mattierte Lichthofschutzschicht fuer photographische Materialien

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1950121C3 (de) Fotografisches Aufzeichnungsmaterial
DE1202136B (de) Photographisches Material mit einer aussen angeordneten, eine rauhe Oberflaeche besitzenden Schutzschicht
DE941766C (de) Photographisches Material mit Lichthofschutzschicht
DE728445C (de) UEbergussschicht an photographischen Elementen und Verfahren zur Herstellung
CH644211A5 (de) Verfahren zur herstellung von lichtempfindlichem material fuer die gerbende entwicklung.
DE2519401A1 (de) Durch aktinische strahlung polymerisierbare, vernetzbare beschichtungsmasse
DE1046489B (de) Verfahren zur Herstellung von Lichthofschutzschichten
DE1161136B (de) Photographisches Material
DE1013965B (de) Verfahren zur Herstellung direkter Positive nach dem Silbersalzdiffusionsverfahren
DE2931460C2 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial
DE1006258B (de) Photographisches Material
DE827899C (de) Traeger fuer photographische Schichten fuer Farbphotographie
DE2218218A1 (de) Photographisches Material und Ver fahren zu dessen Herstellung
DE1811543A1 (de) Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE1597543C3 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit Lichthofschutzschicht
DE2201850B2 (de) Verfahren zum Auftragen magnetischer Aufzeichnungsspuren auf ein mehrschichtiges Kinofilmmaterial
DE1254346B (de) Verfahren zur Herstellung von wasserunloeslichen Gelatineschichten
DE971996C (de) Mehrschichtfilme
AT200442B (de)
DE1817417C3 (de) Z weikomponenten-Diazotypiematerial
DE2056361A1 (de) Substrierungsmasse fur Polyester Filmträger
DE2209819C3 (de) Antistatisch ausgerüstetes photographisches Aufzeichnungsmaterial
DE3100579A1 (de) Zweikomponenten-diazotypiematerial
DE1281844B (de) Verfahren zum Haerten von gelatinehaltigen photographischen Schichten
DE1572155A1 (de) Licht-bzw.strahlungsempfindliches Material und Verfahren zu dessen Herstellung