DE2056361A1 - Substrierungsmasse fur Polyester Filmträger - Google Patents
Substrierungsmasse fur Polyester FilmträgerInfo
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Description
47 508
Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., 1-10, 3-Ohome,
Nihonbashi-Muro-machi, Chuo~ku, Tokio (Japan)
Substrierungsmasse für Polyester-Filmträger
Die vorliegende Erfindung betrifft eine neue Substrierungsmasse zur Anwendung auf Polyester-Filmträger.
Polyesterharze haben verschiedeni? ausgezeichnete Eigenschaften und werdenjauf vielen technischen Gebieten in außerordentlich
großem Ausmaß verwendet. Viele Vorteile können ebenfalls dann erzielt werden, wenn Polyesterfilme als Trägerstoffe
für lichtempfindliche fotografische Aufzeichenmaterialien verwendet werden. Für die verschiedenen Schichten,
aus denen ein lichtempfindliches fotografisches Aufzeichenmaterial besteht, wie lichtempfindliche Schichten, Zwischenschichten
usw. wird jedoch meistens als Bindemittel ein hydrophiles Material mit schichtbildenden Eigenschaften verwendet
wie Gelatine, Polyvinylalkohol usw., so daß die erhaltene hydrophile Schicht eine äußerst geringe Haftung am
Polyesterfilm hat, der stark hydrophob ist. Es ist deshalb bekannt, den Polyesterfilm gewissen Substrierungsbehandlungen
zu unterwerfen, um die Haftung der hydrophilen Schicht an den Polyesterfilm zu verbessern. Diese Substrierungsbehandlungen
werden in der Regel derart ausgeführt, daß eine besondere Substrierungsmasse auf einen Polyesterfilmträger
- 2 109822/1755
2Q56361
aufgetragen, die Masse unter Bildung einer Substrierungsschicht
getrocknet und eine hydrophile Schicht dann auf dieser Substrierungsschicht erzeugt wird. Die benannten
Substrierungsmassen für Polyesterfilmträger können jedoch
nicht eine ausreichende Haftung bewirken, wenn sie allein eingesetzt werden. Deshalb ist es nach dem Stand der Technik
erforderlich, daß eine Substrierungsschicht aus mehreren Schichten besteht, die unter Verwendung von mehreren
Substrierungsmassen mit verschiedenen Bestandteilen gebildet werden. Deshalb ist die Substrierungsbehandlung gemäß
dem Stand der Technik sehr komplex. Um diesen Nachteil zu beseitigen, ist der Versuch unternommen, spezielle Polymere
und Gelatine zu Substrierungsmassen zu verarbeiten, um die
Zahl der die Substrierungsschicht bildenden Schichten zu vermindern und eine ausreichende Haftung zwischen den PoIyesterfilmträgern
und hydrophilen Schichten zu erreichen, Als Substrierungsmassen sind in diesem Sinne beispielsweise
vorgeschlagen worden Substrierungsmassen, die ein Vinylidene hlorid-Typ-Copolymer, Gelatine und Phenol enthalten.
Weiterhin sind bekannt Substrierungsmassen, enthaltend
Cellulosenitrat und Gelatine, Substrierungsmassen, enthaltend ein teilweise vaseiftes Produkt von einem Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer,
Gelatine und Dichloressigsäure und eine Substrierungsmasse, enthaltend ein Äthylacrylat-Acrylsäure-Copolymer
und Gelatine. Die Art der in den oben genannten Massen verwendeten Polymere ist jedoch von derart
extrem wichtiger Bedeutung, daß bereits durch eine geringfügige Änderung hinsichtlich der Arten der Bestandteile die
Eigenschaften der erhaltenen Substrierungsmassen\ stark unterscheiden,
und es ist schwierig, geeignete Polymere zu finden, so daß alle vorstehend erwähnten bekannten Substrierungsmassen
keine zufriedenstellenden Ergebnisse ergeben und den praktischen Anforderungen nicht genügen. Das bedeutet,
wenn eine der bekannten Substrierungsmassen auf
einen PolyesterfLlmträger aufgetragen wird., um e Lne iUib-
1098^2/17 55
BAD ORIGINAL
205636Ί
strierungsschicht zu bilden, und dann eine hydrophile
Schicht auf dieser Sub strierungs se hiclit erzeugt wird, die
Haftung zwischen dem Polyesterfilmträger und der Substrierungsschicht
und/oder zwischen der Substrierungsschicht
und der hydrophilen Schicht so gering ist, daß das erhaltene lichtempfindliche fotografische Auf Zeichenmaterial, keine
ausreichende Haftung am Polyesterfilmträger zeigt. Man nimmt an, daß dies der Tatsache der Mischung der Gelatine
mit dem Polymer, die in der Substrierungsmasse verwendet
wird, zuzuschreiben ist. Wenn beispielsweise eine Probe A
dadurch hergestellt wird, daß eine Schicht der oben erwähnten konventionellen Substrierungsmasse gebildet wird, und
eine Probe B dadurch hergestellt wird, daß die genannte Probe A etwa 30 Minuten in siedendes Wasser eingetaucht wird,
und diese Proben dann jeweils Färbebehandlungen unterworfen werden unter Verwendung einer wäßrigen Lösung, enthaltend
ein Gelatine-Färbemittel (einen Farbstoff, der zum erfolgreichen Färben von Gelatine befähigt ist,) ist die
Färbung der Gelatine in der Probe B beträchtlich schwächer als diejenige der Gelatine in der Probe A. Man nimmt deshalb
an, daß im Falle der Probe B eine beträchtliche Menge der Gelatine durch die Behandlung im siedenen Wasser aus
der Substrierungsschicht herausgelöst worden ist. Gewisse
Substrierungsmassen haben/außerdem die Eigenschaft, daß im
Zeitpunkt der Erzeugung der Substrierungsschicht eine Trennung
des verwendeten Polymers von der Gelatine erfolgt, wobei beispielsweise individuelle agglomerierte Elümpchen des
Polymers und der Gelatine gebildet werden. Mit anderen Worten.: Man nimmt deshalb an, daß im Falle dieser Substrierungsmassen
die Gelatine und das Polymer, die in der Substrierungsmasse enthalten sind, miteinander wenig verträglich
sind, so daß die Haftung zwischen dem Polyesterfilmträger und der Substrierungsschicht und zwischen der Substrierungsschicht
und der hydrophilen Schicht herabgesetzt oder in einen unausgeglichenen Zustand gebracht wird. Darüber hin-
10 9 8 .■ 2 / 1 7 B B
aus ist es schwierig, Polymere zu finden, die ein hohes Ausmaß an Verträglichkeit mit der Gelatine zeigen.
Nach umfangreichen Untersuchungen wurde nunmehr überraschenderweise
gefunden, daß in Gegenwart eines bestimmten Bestandteiles ein spezielles Polymer eine gute Verträglichkeit
mit Gelatine zeigt, wobei Substrierungsmassen erhalten werden, die erfolgreich auf PoIyesterfilmträger aufgetragen
werden können, und zwar insbesondere auf fotografische Poly
esterfilmträger.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist demgemäß eine Substrierungsmasse für Polyesterfilmträger, die dadurch
gekennzeichnet ist, daß sie enthält
a) ein Homopolymer eines Monomeren der allgemeinen Formel
CH2 - C I
COOE2
worin E^ ein Wasserstoffatom, eine niedere
Alkylgruppe oder ein Halogenatom und E2 eine niedere Alkylgruppe, eine Phenylgruppe,
eine Aralkylgruppe, eine durch Halogen substituierte
niedere Alkylgruppe, eine durch* Halogen substituierte Phenylgruppe oder eine
durch Halogen substituierte Aralkylgruppe bedeutet, wobei mindestens eine der für Rxj
und R2 stehende Gruppen ein Halogenatom enthält,
oder ein Copolymer dieses Monomeren mit anderen polymerisierbaren
äthylenisch ungesättigten Verbindungen,
109822/1755
b) Gelatine und
c) Gelatine lösende Mittel.
Eine Substrierungsmasse, die also durch Vermischen eines
Homopolymers eines Monomers der allgemeinen Formel I, oder eines Copolymers (einschließlich von Vielkomponeriten-Copolymerisaten)
dieses Monomeres mit anderen polymer!sLerbaren äthylenisch ungesättigten Verbindungen, mit Gelatine
in Gegenwart eines Gelatine lösenden Mittels hergestellt wird, besitzt also nicht die Nachteile der bekannten Substrierungsmassen
dieser Art und hat ausgezeichnete Eigenschaften als Substrierungsmasse zur Anwendung auf Polyesterfilmträgern.
Ein Homopolymer eines Monomeren der obigen allgemeinen !formel,
in der weder E^ noch E2 ein Halogenabom enthalten, und
ein Copolymer eines solchen Monomeren mit anderen polymerisierbar
en äthylenisch ungesättigten Verbindungen, besitzen eine äußerst schlechte Verträglichkeit mit Gelatine auch in
Gegenwart eines Gelatine lösenden Mittels. Dagegen zeigen ein Homopolymer eines Honomeren der obigen !formel I, in
der entweder IL oder Eo ein Halogenatom enthält, und ein
Copolymer eines solchen Monomeren mit anderen polymerisierbaren
äthylenisch ungesättigten Verbindungen, ausgezeichnete Verträglichkeit in Gegenwart eines Gelatine lösenden
Mittels.
Typische Beispiele für Monomere der obigen allgemeinen !formel
sind Chlormethylmethacrylat, Chlormethylacrylat,
2-Chloräthylmethacrylat, 2-Chloräthylacrylat, 1-Chloräthylmethacrylat,
1-Chloräthylacrylat, 1,2-Dlchloräthylmethacrylat,
1^-Dichloräthylacrylat, 2,3-Dichlorpropylmethacrylat,
2 ^-Mchlorpropylacrylat, 2,2'-Dichlorisopropyl-"l-methacrylat,
2,2'-Dichlorisopropyl-1-aerylat, 1,2,2,2-Tnbraehlor-
IOU822/ 1755
BAD ORIGINAL
äthylmethacrylat, Methyl-oc-chloracrylat und 2-Chloräthyl-
<*--chloracrylat, <x--Chiorbenzyl acryl at, <** -Chlorp^henylacrylab,
c* -Chlorphenyläthylacrylab, Phenylchlormethylacrylafc,
Phenylchlormebhylmebhacrylab, p~Chlurpheriylmebhacrylab
, o-Clilorphenylacrylat, 2 ,4-Dichlorphenylacrylab
usw. Diese Aufzählung ist jedoch nicht erschöpfend.
Typische Beispiele i'üx· polymer L.si er bare äbhyLenisch ungesättigte
Verbindungen sind Acrylsäure, Methacrylsäure,
•j6· -Chloracrylsäui'o , ibaoonsäure, Ibaconsäuroanhydrid,
Maleinsäureanhydrid, Acrylamid, N-Acryloiylglycin, N-Acryloy.L-ß-alanin,
Methylacrylub, Äthylacrylab, Propylacrylat,
Bubylacrylat;, Mebhylmebhacrylab, Äbhylmebhacr7/"lat, Propylmebhacrylat,
Bubylmebhacrylat, Phenylaci'ylab , Phenylmebhacrylab,
Benziylacrylab, Benzylmethacrylfib, i'henäbhylacrylat,
Phenätiiylmebhacrylat, Cyclofhexyliaethacrylat, 2-Hydroxyäthylmethacrylab,
Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbenzoab,
2-Ghloräbhylvrinyläbher, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid,
Styrol, o-Ghlorsbyrol, p-Chlorsbyrol und Acrylnitril.
Das gemäß der Erfindung verwendete Gelatirie lösende Mittel
ist (a) eine Verbindung, die selbst; Gelatine losen kann,
oder (b) eine Verbindung, die nach Zusatz zu einem zum Lösen
von Gelatine nicht befähigten organischen Lösungsmittel
die Eigenschaften des Lösens der Gelatine liefern kann.
Beispiele für Gelabine lösende Mittel sind Phenole wie Phenol, o-Cresol, m-Cresol, p-Cresol, o-Chlorphenol, p-Chlor-
n phenol, Dichlorpheiiol, TrLchlorphenoi , o-Pheylphenol,
p-Phenylphenol und Salicylsäure j Dihydroxybenzole wie Resorcin,
Methylresorcin und Chiorresorciu} Essigsäuren wie
.Essigsäure , llonochloressigüäurs , Dictjiüre;.isi.g:.;aure , Trichloressigsäure,
Trifluoressigsäure, Ghlorpropionsäure und
üichlorpropionsäure} und Benzoesäui'tm wie Beuuoeüäur;'.,
Chlox'benzoesäiu'e usv/, Diese können t/fcwodor uLiuLr ode al..
MLiichuiigen von zwei, oder mehr Bestandteilen üi ..i.:t:jet:'.t
werden.
0^2/1755
Um ausgezeichnete Beschichtungseigenschaften (d. h. eine geeignete Viskosität und geeignete Oberflächenaktivität)
den Substrierungsmassen zu verleihen, die ein Homopolymer
des Monomeren der Formel I oder ein Copolymer dieses Monomeren mit anderen polymerisierbaren äthylenisch ungesättigten
Verbindungen, und das oben erwähnte Gelatine lösende Mittel enthalten, wird ein Beschichtungslosungsmittel verwendet.
Beispiele für solche Lösungsmittel sind halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Methylenchlorid, Äthylendichiorid,
Methylenchlorbromid, Chloroform, Methylchloroform, 1,1,2-Trichloräthan,
1,1,2,2-Tetrachloräthan, Trichloräthylen,
Tetrachloräthylen und Monochlorbenzol j cyclische Äther wie
Tetrahydrofuran und Dioxanj Äther und Ester wie Äthylacetat, Butylacetat, Äthylpropionat, Äthyllactat und Amylaeetat;
Alkohole verwendbar in Mischung damit wie Methanol, Äthanol und Isopropanolj aromatische Alkohole und Äther wie Benzylalkohol
und Anisolj und aromatische Verbindungen wie Benzol und Toluol. Venn diese organischen Lösungsmittel allein oder
als Mischung von zwei oder mehr Lösungsmitteln in geeigneten Verhältnissen verwendet werden, können Substrierungsmassen
mit ausgezeichneten Beschichtungseigenschaften erhalten werden.
Zur Herstellung der Substrierungsmassen gemäß der vorliegenden Erfindung unter Verwendung der oben definierten Verbindungen
können verschiedene Verfahren eingesetzt werden. Beispielsweise wird eine Lösung von Gelatine in einem Gelatine
lösenden Mittel oder eiau^Gemisch davon mit einem Beschichtungs-Lösungsmittel
mit einer Lösung des oben definierten Polymers in einem Beschichtungs-LÖsungsmittel vermischt
und, falls erforderlich,mit einem Gelatine lösenden Mittel
versetzt, oder Gelatine und das oben definierte Polymer werden nacheinander in einem Gemisch aus einem Gelatine lösenden
Mittel und einem Beschichtungs-Lösungsmittel gelöst
- 8 109822/17 55
oder dispergiert, und, falls erforderlich, die Lösung oder Dispersion wird mit einem Beschichtungs-Lösungsmittel in
geeigneter Weise verdünnt. Dadurch können Substrierungsmassen
gemäß der vorliegenden Erfindung erhalten werden. Das Mischungsverhältnis zwischen Gelatine und dem genannten
Polymer schwankt in Abhängigkeit von der Art des Polymeren. Günstige Ergebnisse können jedoch in der Regel erhalten
werden, wenn die Menge der Polymer-Komponente, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt 30 bis 70 % im Falle eines Homopolymer
en des Monomeren der Formel Ij 20 bis 96 % im Falle
eines Polymeren, enthaltend 0.1 bis 5 Mo1% eines Carbonsäur
e-hal ti gen Monomeren; und 50 bis 96 °/° i-m Falle eines
Polymeren, enthaltend mehr als 5 Mol% eines Carbonsäurehaltigen Monomeren beträgt. Die Menge des Polymeren in der
Substrierungsmasse liegt vorzugsweise im Bereich von 0.1
bis 30 %, besonders bevorzugt im Bereich von 0.3 bis 10 %,
und der Gehalt an Gelatine lösendemjMittel in der Substrierungsmasse
liegt vorzugsweise im Bereich von 1.5 bis 30 %, um günstige Ergebnisse zu erhalten.
Wenn die so hergestellte Substrierungsmasse gemäß der Erfindung
zur Substrierungs-Behandlung eines Polyesterfilmträgers
verwendet wird, zeigt die Substrierungsmasse selbst dann, wenn sie unmittelbar als eine einzige Schicht erzeugt
wird, eine ausgeglichene ausgezeichnete Haftung zum Polyesterfilmträger und zu einer hydrophilen Schicht. Selbst
dann, wenn der Polyesterfilmträger beispielsweise der oben beschriebenen Gelatine-Färbe-Behandlung unterworfen wird,
ist kein wesentlicher Unterschied hinsichtlich des Ausmaßes der Färbung der Gelatine zu erkennen zwischen dem Filmträger,
der in siedendem Wasser behandelt worden ist und dem Filmträger, der nicht damit behandelt worden ist, und eine
Herauswaschung der Gelatine wird überhaupt nicht beobachtet. Daraus ist ersichtlich, daß das Polymer gemäß der Erfindung
mit Gelatine äußerst verträglich ist. Außerdem ist in der
— 9 —
1 09822/1755
erhaltene Substrierungsschicht der Zustand des Gemisches
der Gelatine mit dem Polymer zufriedenstellend, und die
Oberfläche der Substrierungsschicht ist beträchtlich mit
Wasser benetzbar und haftet an einer hydrophilen Schicht. Die Substrierungsschicht zeigt also eine ausgezeichnete
Haftung und kann jedem schweren Haftungstesb widersÄien.
Insbesondere bei Verwendung für fotografische Zwecke ergib
b die Substrierungsmasse gemäß der Erfindung keine nachteiligen
Einwirkungen auf andere das fotografische Aufzeichenmaterial bildenden Schichten, so daß ausgezeichnete
fotografische Aufzeichenmaterialien erhalten werden können. In diesem Falle kann die Substrierungsmasse gemäß der Erfindung,
wenn dies erwünscht ist, mit verschiedenen fotografischen Zusatzstoffen versetzt werden. Sie ist demgemäß
geeignet als Substrierungsmasse für alle derartigen Schichten wie fotografische Silberhalogenid-Emulsionsschichten
bei Verwendung eines Polyester-Üilmes als Trägerstoff,
Antihaloschichten, antistatische Schichten usw. Die Substrierungsmasse
gemäß der Erfindung ist besonders gut geeignet für fotografische Diazo-Materialien und ähnliche
lichtempfindliche fotografische Aufzeichenmaterialien. Selbst wenn die Substrierungsmasse gemäß der Erfindung als
einzige Schicht erzeugt wird, haftet eie ausreichend am Polyesterfilmträger und an einer hydrophilen Schicht. Venn
es jedoch gewünscht ist, können unter oder über die Substrierungsmasse
gemäß der Erfindung noch andere Substrierungsmassen aufgetragen werden.
An Hand der nachfolgenden Beispiele wird die Erfindung weiter erläutert. Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese
Beispiele beschränkt, und verschiedene Modifikationen sind innerhalb des Schutzumfangs der Erfindung möglich.
109822/17
Eine Lösung von U.6 (Teilen Polychlormethylmethacrylat in
90 Teilen Äthylenchlorid wurde mit 10 Teilen Phenol und
LV Teilen einer io%igen Gelatine-o-oresol-Losung versetzt,
um eine Substiviorungsmasse herzustellen. Die STibstrierungsmasse
wurde auf einen Polyesterfilmträger aufgetragen und
2 Minuten bei 80 0C getrocknet, um eine ßubstriemngsschicht
zu erzeugen. Auf diese Substrierungsschicht wurde eine SiI-berhalogenid-Emulsioii
aufgetragen und getrocknet, um eine Filmprobe zu erhalten. Die so erhaltene Probe wurde dem
Klebeband-Hafttest unterworfen, der dadurch ausgeführt wird,
daß ein Cellophan-Klebeband auf die Probe aufgeklebt und
dann fest von der Probe abgezogen wird, v/ob υ i diese Su bstrierungssohicht
und die lichtempfindliche Schicht überhaupt
nicht abgeschält wurden und eine ausgezeichnete Haftung
besaß.
Eine Lösung von 0.5 Teilen M ethyl -oc- chi or acryl a t/M ethyl ac rylafc/Itaconsäureanhydrid
(65/30/5) Copolymer in 90 Teilen
Methylenchlorbromid wurde mit j> Teilen p-Chlorphenol und
5 Teilen einer Lösung, enthaltend 50 Teile Phenol, 50 Teile
Ä'thylenchlorid, 10 Teile Eisessig und Io Teile Gelatine,
versetzt, um eine Substrierungsmasse herzustellen. Die Substrierungsmasse
wurde auf einen Polyester!'ilmträger aufgetragen und dann 1 1/2 Minuten bei 90 0C getrocknet, um
eine Substrierungsschicht zu erzeugen. Auf die so erzeugte
Substrierungsschicht wurde Gelatine aufgetragen und getrocknet, um eine Antihalo-Gelatineschicht zu erzeugen. Auch
diese Gelatineschicht erfüllte den Kltibeband-Hafttest von
Beispiel 1.
1 Ü ü 8 I 2 I 1 7 5 5
BAD ORIGINAL
Eine Lösung von Ü.7 Teilen 2-Ohloräthylmethacrylat/Acrylsäure
(97·5/2.5) Copolymer in 50 Teilen Chloroform wurde
mit 15 Teilen Phenol und 5 Teilen einer iO#igen Gelatine-Essigsäure-Lösung
versetzt. Die erhaltene. Lösung wurde weiterhin mit 4-0 Teilen Methanol versetzt, um eine Substrierungsmasse
herzustellen. Die Substrierungsmasse wurde auf einen Polyesterfilmträger aufgetragen und dann bei
85 0C getrocknet, um eine Substrierungsschicht zu bilden.
Auf diese Substrierungsschicht wurden eine Süberhalogenid-Emulsion
und Gelatine in dieser Reihenfolge nacheinander aufgetragen und getrocknet, wobei eine Emulsionsschicht
und eine Gelatine-Schicht erzeugt wurden. Die so erzeugten Schichten besaßen eine auszeichnete Haftung am Polyesterfilmträger und erfüllten den Klebeband-Hafttest von Beispiel
1. Die oben erwähnte Substrierungsschicht hatte keine nachteiligen fotografischen Einwirkungen auf die Silberhalogenid-Emulsionsschicht
.
1 Teil Gelatine wurde bei 70 0C in einem Gemisch aus I5 Teilen
Äthylenchlorid, I5 Teilen Phenol und 0.5 Teilen Essigsäure
gelöst. Diese Lösung wurde verdünnt mit einem Gemisch aus 4-5 Teilen Äthylenchlorid und 25 Teilen Toluol
und dann mit 1 Teil eines 2,2l-Dichlorisopropyl-1-methacrylat/Acrylnitril/Itaconsäure
(85/10/5) Copolymer versetzt, um eine Substrierungsmasse herzustellen. Die Substrierungsmasse
wurde auf einen Polyesterfilmträger aufgetragen und zwei Minuten bei 90 0C getrocknet, um eine Substrierungsschicht
zu erzeugen. Auf diese Substrierungsschicht wurde eine Silberhalogenid-Emulsion aufgetragen und getrocknet,
um eine Emulsionsschicht zu erzeugen. Die so gebildeten Schichten besaßen eine ausgezeichnete Haftung am Polyesterfilmträger und erfüllten den Klebeband-Hafttest von Beispiel
1.
- 12 -
103822/1755
Eine Lösung von 0.4 Teilen Äthyl-ix-chloracrylat/Itaconsäure
(85/15) Copolymer in 80 Teilen Äthylenchlorid wurde mit
1 Teil Essigsäure, 10 Teilen Phenol und 6 Teilen einer iO%igen Gelatine-o-Cresol-Lösung versetzt, um eine Substrierungsmasse
herzustellen. Die Substrierungsmasse wurde auf einen Polyesterfilmträger aufgetragen und 2 Minuten bei
75 °G getrocknet, um eine Substrierungsschicht zu erzeugen.
Auf die so erzeugte Substrierungsschicht wurde eine 1%ige
wäßrige Gelatine-Lösung aufgetragen, die eine geringe Menge
eines Gelatinehärtemittels enthielt. Anschließend wurde getrocknet, um eine Schicht zu erzeugen. Auf diese Schicht
wurde außerdem eine Silberhalogenid-Emulsion aufgetragen und getrocknet, um eine Emulsionsschicht zu erzeugen. Alle
derartig erzeugten Schichten besaßen eine ausgezeichnete gegenseitige Haftung und erfüllten den Klebeband-Hafttest
von Beispiel 1.
109822/1755
Claims (1)
- Patentansprüche:Substrierungsmasse für Polyester-Filmbräger, dadurch gekennzeichnet, daß sie enthälta) ein Homopolymer eines Monomeren der allgemeinen lormelOH2 »σCOOH2worin R,j sin Wasserstoffatom, eine niedere Alkyl gruppe oder ein Halou;enat;nm und Rn eine niedere Alkyl gruppe, ο in./; >; h ::> iyl gruppe, eine Aralkylgru^pe, eine diuv.L Halogen substituierte niedere Alkylgruppe, eine durch Halogen substituierte Phönylgruppe oder eine durch Halogen substituierte Aralkylgruppe bedeutet, wobei mindestens eine der für itj und R2 stehenden Gruppen ein Halogenatom enthält,oder ein Copolymer dieses Monomeren mit anderen polymerisierbar en. äthylenisch ungesättigten Verbindungen,b) Gelatine undc; ein Gelatine lösendes Mittel.2, SubstrLerungsmasse gemäß Anspruch 1, aadurch .ς&]νβπη~ KtiLchnet, daß das Monomer der Komponente -t) Ciilovm me thacrylat, Chlomiethyl acryl at, 2-OJbloriifc^ii.i;i Ihn10Ü822/175 5BAD ORIGINAL2-Chi or ät hyl ac ryl afc , 1-GhIo rat hyl me Lha ."· r:ylat und/oder 1~Ghloräfchyl acryl at; i. st.Ik-.ϊ'/ρBAD
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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OHW | Rejection |