DE2931460C2 - Photographisches Aufzeichnungsmaterial - Google Patents

Photographisches Aufzeichnungsmaterial

Info

Publication number
DE2931460C2
DE2931460C2 DE2931460A DE2931460A DE2931460C2 DE 2931460 C2 DE2931460 C2 DE 2931460C2 DE 2931460 A DE2931460 A DE 2931460A DE 2931460 A DE2931460 A DE 2931460A DE 2931460 C2 DE2931460 C2 DE 2931460C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
recording material
material according
formula
antistatic agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2931460A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2931460A1 (de
Inventor
Koichi Saitama Nagayasu
Toshiaki Hino Tokyo Shibue
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Publication of DE2931460A1 publication Critical patent/DE2931460A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2931460C2 publication Critical patent/DE2931460C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/7614Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/162Protective or antiabrasion layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft photographische Aufzeichnungsmaterialien, insbesondere photographische Aufzeichnungsmaterialien mit besonders vorteilhaft ausgebildeter Rückschicht, durch die die Kratzbeständigkeit und die Haftung an einem Klebeband verbessert werden und auf der keine Unregelmäßigkeiten infolge Streifenbildung auftreten.
Auf der Oberfläche eine photographischen Aufzeichnungsmaterials können infolge Berührung oder Reibung (des Aufzeichnungsmaterials) mit den jeweiligen Apparaten oder Vorrichtungen während des Belichtens, Entwickeins und Kopierens Kratzer entstehen. Diese Kratzer entstehen hauptsächlich auf der Rückseite der Aufzeichnungsmaterialien, die mit den Apparaten und Vorrichtungen in Berührung gelangen können. Hierdurch treten dann beim Kopieren und bei der Projektion Schwierigkeiten auf.
Kratzer auf der Rückseite entstehen nicht nur während der Bearbeitung, sondern auch während der Herstellung der Aufzeichnungsmaterialien. Die Beschichtungsgeschwindigkeit bei der Herstellung von Aufzeichnungsmaterialien ist im Vergleich zu bisher deutlich höher geworden, auch die Entwicklung von Aufzeichnungsmaterialien hat eine starke Beschleunigung erfahren, so daß sich auch die Möglichkeiten des Entstehens von Kratzern erhöht haben.
Es besteht nun ein Bedarf nach photographischen Aufzeichnungsmaterialien mit Rückschichten, die derart drastischen Bedingungen zu widerstehen vermögen.
Es hat nicht an Versuchen gefebu, die Kratzbeständigkeit der Rückschichten photographischer Aufzeichnungsmaterialien zu verbessern.
So wurde beispielsweise versucht, die Kratzbeständigkeit von photographischen Aufzeichnungsmaterialien dadurch zu verbessern, daß man ein natürlich vorkommendes oder künstliches Wachs mit einem Bindemittel in Form einer Dispersion oder Lösung vermischt und die erhaltene Mischung auf einen Schichtträger aufträgt (vgl. US-PS 20 90 016,30 42 522 und 20 59 829, GB-PS 14 30 997 und DE-PS 23 47 301).
Die bekannten Maßnahmen zur Verbesserung der Kratzbeständigkeit lassen jedoch noch erheblich zu wünschen übrig. So wird den betreffenden Aufzeichnungsmaterialien entweder keine für das jüngst entwikkelte, sehr schnelle Übertragungsverfahren ausreichende Kratzbeständigkeit verliehen oder die Kratzbeständigkeit geht durch Herauslösen der in dem Aufzeichnungsmaterial enthaltenen wirksamen Komponenten verloren. Weiterhin bereitet es, bei akzeptabler Kratzbeständigkeit, Schwierigkeiten, das Aufzeichnungsmaterial beim Einfügen in eine Patrone mit Hilfe eines Klebebandes an einer Spule zu befestigen. Schließlich haftet das Behandlungsbad während der Entwicklung an dem Aufzeichungsmaterial ungleichmäßig.
Aus der DE-OS 28 49 962 ist es bekannt, einer Zwischenschicht einen Pentaerythritalkylester zusammen mit einem Cellulosederivat einzuverleiben und auf die Zwischenschicht mit Hilfe eines Beschichtungsmassenlösungsmittels, das die Zwischenschicht nicht löst, eine zweite Schicht mit einem antistatischen Mittel als Hauptkomponente zu applizieren.
Gemäß diesen Maßnahmen erhält man eine gleitende Oberfläche verbesserter Kratzbeständigkeit.
Bei den bekannten Aufzeichnungsmaterialien wird der Pentaerythritalkylester auch bei der Entwicklung nicht herausgelöst, so daß das betreffende Aufzeich-
nungsmaterial seine Gleiteigenschaften auch nach der Entwicklung behält. Um diesen Erfolg sicherzustellen, ist es erforderlich, unter der zweiten Schicht eine Schicht mit einer Gleiteigenschaftea vermittelnden Verbindung, d. h. mit einem »Gleitmittel«, beispielsweise einem Pentaerythritalkylester, vorzusehen. Bei einem solchen Aufbau eines Aufzeichnungsma'srials ist die Haftung zwischen dergleitmittelhaltigen Schicht und der zweiten Schicht manchmal unzureichend, so daß die Schichten offensichtlich wegen der beträchtlichen Beschichtungsgeschwindigkeit in der letzten Herstellungsstufe gegen eine Trennung während des Fortbcwegens oder Aufrollens anfällig sind. Dies führt zu Schwierigkeiten bei Übertragungsverfahren.
Als antistatische Mittel für die zweite Schicht wurden bereits die verschiedensten, für eine elektrische Leitfähigkeit sorgenden Polyelektrolyten zum Einsatz gebracht. Zahlreiche dieser Polyelektrolyte kranken jedoch daran, daß sie infolge ihrer Hydrophilizität feuchtigkeitsanfällig sind und folglich unerwünschte Erscheinungen, z. B. ein Weißwerden einer daran haftenden Oberfläche, die Haftung oder Übertragung an bzw. auf andere Oberflächen hervorrufen.
Um nun diesen Nachteilen zu begegnen, wurden bereits Polyelektrolyte verwendet, die durch Mischpolymerisieren hydrophober Monomerer, z. B. von Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Styrol, Alkylacrylaten und fluorierten Estern der Acrylsäure erhalten wurden. Obwohl solche Polyelektrolyte hydrophobe Gruppen enthalten, fuhren sie im Vergleich zu Polyelektrolyten ohne hydrophobe Gruppen zu anderen Schwierigkeiten, obwohl sie zugegebenermaßen die unerwünschten Erscheinungen, z. B. eine Haftung oder Übertragung an bzw. auf andere Oberflächen, verbessern.
Wenn beispielweise ein photographisches Aufzeichnungsmaterial bei der Entwicklung nach dem letzten Wässern getrocknet wird, trocknet der Film in einem Zustand, in dem an dem Aufzeichnungsmaterial Wassertropfen hängen. Hierbei stellt sich dann eine Art »Ungleichmäßigkeit« ein, die als »auf Wassertropfen zurückzuführende Ungleichmäßigkeit« bezeichnet wird. Beim Kopieren solcher photographischer Aufzeichnungsmaterialien mit durch Wassertropfen hervorgerufener Ungleichmäßigkeit erscheint diese Ungleichmäßigkeit deutlich auf der Kopie, bei photographischen Umkehrmaterialien erscheint diese Ungleichmäßigkeit deutlich auf dem auf einem Bildschirm projizierten Bild.
Es wurden bereits die verschiedensten Bäder zum Verhindern einer auf Wassertropfen zurückzuführenden Ungleichmäßigkeit als letzte Behandlungsbäder zum Einsatz gebracht. Ein Beispiel für eine zur Verhinderung der auf Wassertropfen zurückzuführenden Ungleichmäßigkeit verwendete Lösung (Stabilisierbad) stellt eine Lösung dar, die ein Äthylenglycolderivat, Natriumdodecylbenzolsulfonat, ein amphoteres Netzmittel vom Carbonsäuretyp oder ein quaternäres Ammoniumsalz enthält. Sämtliche derartigen Lösungen sind dazu bestimmt, die auf Wässeftföpfen zufückzuführende Ungleichmäßigkeit dadurch zu beseitigen, daß die Oberfläche des photographischen Aufzeichnungsmaterials benetzbar gemacht wird.
Obwohl sich durch Verwendung eines solchen Stabilisierbades die Ausbildung von auf Wassertropfen zurückzuführenden Ungleichmäßigkeiten auf der Oberfläche der Silberhalogenidemulsionsschichtseite verhindern läßt, da diese Schicht ein hydrophiles Bindemittel, z. B. Gelatine enthält, kommt es hierbei zu ande-
OH j OCH2CHCH2
R5
R4
ren Schwierigkeiten, da nämlich aus der polyelektrolythaltigen Seite der Polyelektrolyt während der Entwicklung teilweise oder vollständig herausgelöst wird. Auf diese Weise wird dann die Oberfläche hydrophob und gegen eine andere Fleckenbildung anfällig, und zwar insbesondere auf der Oberfläche, auf der ein Polyelektrolyt mit hydrophoben Gruppen haftet und die nur schwierig ?u benetzen ist. Die Fleckenbildung ist besonders ausgeprägt, wenn in der ersten Schicht ein Pentaerythritalkylester enthalten ist. Solche Flecken entstehen in merklichem Ausmaß insbesondere in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung (automatische Hängeentwicklungsvorrichtung), in der die b) sogenannte Hängeentwicklung durchgeführt wird. c)
Diese unerwünschten Erscheinungen treten häufig in 15 d) Fällen auf, wenn der zweiten Schicht ein Polyelektrolyt mit darin eingeführten hydrophoben Gruppen einverleibt wird. Besonders deutlich sind diese Erscheinungen in Fällen, wenn die erste Schicht ein hydrophobes Polymerisat und einen Pentaeryihritalkylester enthält. 20 Vermutlich sind diese Erscheinungen da-auf zuiückzuführen, daß die Oberfläche nach Durchführung der Entwicklung infolge der vorhandenen hydrophoben Gruppen oder des zugesetzten Gleitmittels schwerer benetzbargeworden ist. Da die Oberfläche schwerer benetzbar 25 geworden ist, ist auch die Abflußgeschwindigkeit des Stabilisierbades gering. Wenn nun rasch bei hoherTem- worin bedeuten: peratur getrocknet wird, wird das Stabilisierbad, das gerade im Begriff ist, auf der Oberfläche (des Aufzeichnungsmaterials) abzufließen, getrocknet, so daß 30 Flecken infolge von Schlierenbildung (»Ungleichmäßigkeit infolge von Schlierenbildung«) entstehen.
Wie auch eine auf Wassertropfen zurückzuführende Ungleichmäßigkeit erscheint eine durch Schlierenbildung hervorgerufene Ungleichmäßigkeit ebenso deutlieh auf den Bildkopien oder den projizierten Bildern.
Übliche photograpTiische Aufzeichnungsmaterialien in Form photographischer Filme werden in einer Patrone .nit Hilfe eines Klebebandes befestigt. Wenn nun die Hydrophobizität der Filmoberfläche erhöht wurde, haftet das Klebeband nicht mehr auf der gesamten Filmoberfläche oder es ist, wenn es haften bleibt, trennanfallig. Eine Trennung des Films von der Spule erfolgt insbesondere dann, wenn bei hoher Temperatur photographiert wird.
Der Erfindung lag nun die Aufgabe zugrunde, ein mit einer verbesserten Rückschicht versehenes photographisches Aufzeichnungsmaterial hervorragender Kratzbeständigkeit und tleibender Gleiteigenschaften vor und nach der Entwicklung selbst ohne Mitverwendung eines gleitmittelhaltigcn Bades bei der Entwicklung zu schaffen, das sich mit seiner Rückschicht mit Hilfe eines Klebebandes in ausreichendem Maße an einer Spule in einer Patrone oefestigen läßt, dessen Rückschicht so gut benetzbar ist, daß das Auftreten einer durch Wassertropfen oder Schlierenbildung bedingten Ungleichmäßigkeit vermieden werden kann, und bei dem (im Falle des zweischichtigen Aufbaus der Rückschicht) die Haftung zwischen der ersten und der zweiten Schicht so fest ist, daß sich die beiden Schichten nicht voneinander lösen.
Gegenstand der Erfindung ist ein photographisches Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger, mindestens einer darauf aufgetragenen lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht und mindestens einer auf der anderen Sch ichtträgerseite befindlichen Rückschicht mit
a) einer Verbindung der Formel:
CH2OR1
R4OCH2—C — CH2OR2 (I)
CH2OR3
worin R1, R2, R3 und R4 jeweils ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Acylgruppe mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen darstellen, wobei gut, daß mindestens drei der Reste R1, R2, R3 und R4 für eine aliphatische Acylgruppe mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen stehen,
einem tertiären Amin,
einem hydrophoben Polymerisat und
einem antistatischen Mittel,
dadurch gekennzeichnet, daß es als tertiäres Amin b) eine Verbindung der Formel:
-N
eine Alkylgruppe mit 8 bis 24 Kohlenstoffatomen; ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe oder eine Gruppe der Formel -CH2OR7, worin R7 für ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 7 Kohlenstoffatom(en), eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe steht;
m und η jeweils eine ganze Zahl von O bis 3 (wobei gilt, daß 3 2m +η Sl);
A eine Gruppe der Formel
OH
R7-LoCH2CHCH2
OCHCH;
worin R6 und R7 die angegebeD<i Bedeutung besitzen und ρ und q jeweils eine ganze Zahl von 1 bis 3 darstellen (wobei gilt, daß 3 2 p + ς S 1); und
eine Alkylgruppe mit 1 bis 7 Kohlenstoffatom(en), eine Arylgruppe, eine Aralkylgruppe oder eine Gruppe der Formel
OH
R7-UOCH2CHCH2
OCHCH,
worin R6, R7, m und η die angegebene Bedeutung besitzen,
enthält.
Zweckmäßige Ausgestaltungen davon sind Gegenstand der Ansprüche 2 bis 16.
Die durch die Reste R1, R2, R3 und R4 wiedergegebenen aliphatischen Acylgruppen enthalten vorzugsweise bis 24 KohfünstofFatome. Bei den aliphatischen Acylgruppen kann es sich entweder um geradkettige oder verzweigtkettige, vorzugsweise um geradkettige Acylgruppen handeln.
Die aliphatischen Carbonsäuren der durch die Reste
R1 bis R4 wiedergegebenen aliphatischen Acylgruppen [I]-(5) können aus gesättigten Carbonsäuren, wie Stearinsäure, oder aus ungesättigten Carbonsäuren, wie Palmitoleinsäure, bestehen.
Als Tetraester der Formel I eignen sich Ester einer Art von Carbonsäure oder gemischte Ester von zwei bis vier Arten von Carbonsäuren. Ferner kann es sich um Gemische einheitlicher Ester oder von Mischestern m/£\ handeln. [IH6)
Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare Verbindüngen der Formel I sind:
CH2OCOC15H31
H31C15COOCH2-C-CH2OCOC15Hj1 CH2OCOC11H31
CH2OCOC13H27
H31C15COOCH2-C-Ch2OCOC15H31 CH2OCOC13H27
M-H)
CH2OH
H35C17COOCh2-C-CH2OCOC11H23 CH2OCOC15H31
:o CH2OCOC17H31
HJ1C15COOCH2-C-Ch2OCOC15H31 CH2OCOC15H31
(IH8)
CH2OH
H43C21COOCh2-C-CH2OCOC15H31 CH2OCOC15H31 CH2OCOC17H3,
H27C1XOOCH2-C-Ch2OCOC17H31 CH2OCOC13H27
ΠΗ9)
CH2COOCH3
C31H15COOCH2-C-CH2OCOCnHj5
CH2OCOC15H31 CH2OCOC17H35
HOCH2-C-Ch2OCOC17H35 CH2OCOC15H31
[IHiO)
CH2OCOC11H23 HBC11COOCH2-C-Ch2OCOC11H23 CH2OCOC11H23 CH2OCOC17H3;
H31C15COOCH2-C-Ch2OCOC17H31 CH2OCOC17H31
Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare tertiäre Amine der Formel II sind: [ΠΗ1)
OH
CH17OCh2CHCH2OCH2CH2N
4 \ OH
CH2CH2OCH2CHCH2OCHj
^CH2CH2OCH2CHCH2OCHj
OH
ΓΠΜ3)
CuH2=N
CH2CH2OH CH2CH2OH
65 C18H37N
CH2CH2OH
CH2CH2OH
[I1K4)
CH2CH2OH
(CH2CH2O)nH
C16H33OCH2CHCH2N I
C11H37N
(n = 1 - 2)
[IIM5)
C12H25N
OH CHCHCHjOCHj
OH
OH CHjCHCH2OH
^CH2CHCHjOH OH [ΠΚ13)
C12H25OCHjCHCHjN
CHjCHjOH
CH3
OH
[UM 14)
CH3
CH2CHOH
[ΠΗ6)
CH2CH2OH Ci1H37OCH2CHCH2N
OH CH2CH2OH
ΙΠΗ7) C12H25Nl(CH2CH2O)nH]2 C11H37N
CH2CHOH
CH3 [ΠΚ15) C1SH37NCHjCH2OH
(n = 1 - 3)
[ΠΗ16)
ΙΠΚ8)
C18H37N
CH,
\ "I
CH2CHO
OH
CH2CHCH2O-
C12H25N
[ΠΗ9)
C16H33N
[ΠΚ10)
CH37N
[ΠΚ11)
CH3 CH2CHOH
C4H, CH2CH2OH
C2H5 CH2CH2OH CH2CHCH2O-^ OH
[ΠΚΠ)
C18Hj7N
Y CHjCHOH
CH2CHOH
C12H25N [ΠΗ18)
C11H37N
OH
CH2CHCH2O
"HJ
(B = 1 - 3)
[UH 19)
OH
OH CH2CHCH2OC6Hi3
1 /
C12H25OCH CHCH2N
CH2CH2OH
[ΠΚ20)
C14H29N
CH3
CH2CH2OCH2CHOH
[UH2D
C18H37OCH2CHCH2N
OH
CH2CHCH2OCH3
OH
Die erfindungsgemäß verwendbaren tertiären Amine können alleine oder in Kombination zum Einsatz gelangen.
Die Rückschicht photographischer Aufzeichnungsmaterialien mit einer Verbindung der Formel I und einem tertiären Amin kann ein- oder mehrlagig aufgebaut sein.
Im Falle, daß die Rückschicht aus mehr als einer Lage besteht, können die Verbindung der Formel I und das tertiäre Amin in ein und derselben oder in verschiedenen Lagen enthalten sein.
Ferner ist es zweckmäßig, der Rijckschicht eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials zur merklichen Verbesserung der Haftung zwischen den Schichten eine höhere Fettsäure einzuverleiben. Als höhere Fettsäuren kommen erfindungsgemäß zweckmäßigerweise solche mit 8 bis 24, vorzugsweise mit 17 bis 22 Kohlenstoffatomen zum Einsatz.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist bei einem Aufzeichnungsmaterial mit mindestens einer lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht auf einer Schichtträgerseite die auf der anderen Schichtträgerseite befindliche Rückschicht aus mindestens einer Lage (1) mit einer Verbindung der Formel I und einem hydrophoben Polymerisat und mindestens einer Lage (2) mit einem antistatischen Mittel und einem tertiären Amin der Formel II, aufgebaut, wobei die Lage (1) näher am Schichtträger Hegt als die Lage (2).
Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials ist die Rückschicht aus mindestens einer Lage (1) mit einer erfindungsgemäß verwendbaren Verbindung der Formel I, einem tertiären Amin, vorzugsweise einem solchen der Formel Π, und einem hydrophoben Polymerisat und mindestens einer Lage (2) mit einem antistatischen Mittel aufgebaut, wobei die Lage (1) näher am Schichtträger liegt als die Lage (2).
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsfcrm des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials ist die Rückschicht aus mindestens einer Lage (1) mit einer erfindungsgemäß verwendbaren Verbindung der Formel L. einer höheren Fettsäure und einem hydrophoben Polymerisat und mindestens einer Lage (2) mit einem antistatischen Mittel und einem tertiären Amin
der Formel Il aufgebaut, wobei die Lage (1) näher am Schichtträger liegt als die Lage (2).
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials ist die Rückschicht aus mindestens einer Lage (1) mit einer erfindungsgemäß verwendbaren Verbindung der Formel I, einem tertiären Amin der Formel II und einem hydrophoben Polymerisat und mindestens einer Lage (2) mit einem antistatischen Mittel aufgebaut, wobei die Lage (2) näher am Schichtträger liegt als die Lage (1).
Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials sind die erfindungsgemäß verwendbare Verbindung der Formel 1, ein tertiäres Amin der Formel II, ein hydrophobes Polymerisat und ein antistatisches Mittel derselben Lage (des Aufzeichnungsmaterials) einverleibt.
Ais aniislaiische Miitei können erfindungsgemäß sämtliche Verbindungen verwendet werden, die in Kombination mit einem geeigneten Bindemittel eine gute elektrische Leitfähigkeit vermitteln und hervorragende Formbildungseigenschaften aufweisen.
Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare antistatische Mittel sind Salze von Mischpolymerisaten aus Styrol und Styrolundecansäure (vgl. US-PS 30 33 679), Maleinsäure- oder Maleinsäureimidharze (vgl. US-PS 22 79 410), Alkalimetallsalze von Alkylarylpolyäthersulfonsäuren, Alkalimetallsalze von Carbonsäurepolymerisaten (vgl. US-PS 35 25 621), Alkalimetallsalze von Polycarbonsäure (vgl. US-PS 36 30 742), Polystyrolsulfonsäuren (vgl. US-PS 27 35 841), quaternäre Salze eines Polyvinylpyridin (vgl. US-PS 30 72 484), quaternisierte Polyäthylenimine (vgl. US-PS 34 79 215), Polyepichlorhydrine (vgl. US-PS 33 20 317), polyquaternisierte Alkylaminoacrylate (vgl. US-PS 28 82 157 sowie offengelegte JA-Patentanmeldungen 24 !59/ 1971, 54 672/1975, 94 053/1975 und 129 520/1977). Von den genannten antistatischen Mitteln werden die in den zuletzt genannten JA-Patentanmeldungen beschriebenen antistatischen Mittel bevorzugt.
In Fällen, in denen die Rückschicht aus nicht weniger als zwei Lagen besteht, kann das antistatische Mittel der dem Schichtträger am nächsten liegenden Lage oder einer vom Schichtträger weiter entfernten Lage einverleibt werden. Wenn die Rückschicht mindestens zweilagig aufgebaut ist, wird die dem Schichtträger benachbarte Schicht als »erste Lage« und die vom Schichtträger weiter entfernte Lage als »zweite Lage« bezeichnet.
Wenn erfindungsgemäß ein tertiäres Amin der Formel II in Kombination mit einem Polyelektrolyten zum Einsatz gelangt, wird als zu verwendendes antistatisches Mittel vorzugsweise ein kationisches antistatisches Mittel verwendet, da anionische antistatische Mittel manchmal die Schicht trüben. Die Verbindung der Formel II kann der ersten und/oder zweiten Lage der Rückschicht einverleibt werden. Bei mehrlagigem Aufbau kann der Zusatz des antistatischen Mittels auch zu mehreren Lagen der Rückschicht erfolgen.
Wenn als antistatisches Mittel erfindungsgemäß ein Polyelektrolyt verwendet wird, wird die Haftung zwischen den Lagen verbessert
Es wird beispielsweise die Haftung zwischen der ersten und zweiten Lage der Rückschicht im Falle, daß de t zweiten Lage der Rückschicht eine höhere Fettsäure einverleibt wurde, ermittelt
Die Haftung zwischen verschiedenen Lagen über die Änderung der Werte für den spezifischen Oberflächenwiderstand vor und nach Durchführung eines Reibungs-
tests wurde ermittelt. Der spezifische Oberflächenwiderstand wird bei einer Temperatur von 25° C und einer relativen Feuchtigkeit von 55% bestimmt. Der Prüfling 2 (des später folgenden Beispiels 2) zeigt einen spezifischen Oberflächenwiderstand vor der Behandlung von 8,7 χ 108 Ω/cm2 und nach der Behandlung von 9,0 x 108 Ω/cm2 (die Reibungsbehandlung besteht in einer lOmaligen Reibung). Der Prüfling 3 des später folgenden Beispiels 3 zeigt einen spezifischen Oberflächenwiderstand vor der Behandlung von 1,2 xlO9 Ω/cm2 und nach der Behandlung von 1,8 x 10* Ω/cm2. Im Gegensatz dazu zeigt der Vergleichsprüfling I des später folgenden Vergleichsbeispiels 1 einen spezifischen Widerstand vor der Behandlung von 8,6 x 108 Ω/cm2 und nach der Behandlung von über 1014 Ω/cm2.
Anstelle des Polyelektrolyten kann auch ein anorganischer Elektrolyt, insbesondere ein Aluminiumoxidsol. als antistatisches Mittel verwendet werden.
Da za?.keiche antistatische Mittel vum Polyelektrolyttyp in der Regel hydrophil sind, können sie oftmals zahlreiche unerwünschte Erscheinungen hervorrufen, und zwar insbesondere, wenn sie bei lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenid-Aufzeichnungsmaterialien zum Einsatz gelangen. So bleiben beispielsweise unter Bedingungen hoher Feuchtigkeit lichtempfindliche Silberhalogenid-Aufzeichnungsmaterialien aneinander haften (was Haftfestigkeitsprobleme hervorruft), oder die antistatische Schicht geht während der Entwicklung manchmal in einem Behandlungsbad in Lösung und verbindet sich mit darin enthaltenen sonstigen Substanzen unter Bildung einer Trübe oder von Schlamm, wobei die antistatische Schicht durch die Entwicklungsbehandlung verloren geht. So'che unerwünschten Erscheinungen lassen sich dadurch beseitigen, daß man als erste Lage der Rückschicht eine durch Applizieren eines elektrolythaltigen Aluminiumoxidsols gebildete Lage und darauf als zweite Lage eine ein hydrophobes Polymerisat enthaltende Lage vorsieht.
Von besonders großem Vorteil ist es, die Verbindung der Formel I zusammen mit dem hydrophoben Polymerisat in der zweiten Lage der Rückschicht unterzubringen, da hierdurch die Kratzfestigkeit oder -beständigkeit während der Herstellung oder Bearbeitung der photographischen Aufzeichnungsmaterialien erheblich verbessert wird. Obwohl derartige photographische Aufzeichnungsmaterialien eine stark verbesserte Kratzfestigkeit oder -beständigkeit aufweisen, kann es in Stabilisierbädern immer noch zu einer Ungleichmäßigkeit infolge Schlierenbildung und zu einer unzureichenden Haftung von Klebebändern oder-streifen (beim Unterbringen der Aufieichnungsmaterialien in Patronen) kommen.
Erfindungsgemäß lassen sich die Ungleichmäßigkeit infolge Schlierenbildung ausschließen und die Haftung von Klebebändern oder -streifen an den filmartigen Aufzeichnungsmaterialien verbessern, wenn man der Rückschicht das erfindungsgemäße tertiäre Amin, und vorzugsweise der zweiten Lage der Rückschicht das tertiäre Amin zusammen mit einem hydrophoben Polymerisat und einer Verbindung der allgemeinen Formel I, einverleibt. Gegebenenfalls können der zweiten Teilschicht der Rückschicht auch noch Aufrauhmittel und sonstige, verschiedenen Verwendungszwecken des jeweiligen Aufzeichnungsmaterials dienende Zusätze einverleibt werden.
Als antistatisches Mittel eignen sich neben den bereits genannten antistatischen Mitteln anorganische Oxide eines Teilchendurchmessers von 0,01 bis 0,5 μΐη. Im Falle, daß als Antistatikum Siliciumdioxid, Aluminiumoxid, Magnesiumoxid oder ein sonstiges anorganisches Oxid eines Teilchendurchmessers von 0,01 bis 0,5 μπι verwendet wird, läßt sich eine elektrische Aufladung der zur Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien dienenden verschiedenen Sr bstanzen oder Materialien, der photographischen Vorrichtungen und automatischer Entwickiungsvorrichtungen merklich unterdrücken, wenn diese Antistatika in der Rückseite des jeweiligen Aufzeichnungsmaterials unterbringt.
Bevorzugt kann somit dem Fachmann ein photographisches Aufzeichnungsmaterial hervorragender Kratzfestigkeit oder -beständigkeit, ohne Ungleichmäßigkeit infolge Schlierenbildung und guter Haftung an Klebebändern oder -streifen an die Hand gegeben werden, wenn man direkt auf einen Schichtträger eine Rück- -'u schicht aufträgt, die ein anorganisches Oxid enthält, z. B. genanntes Siliciumdioxid, ohne Mitverwendung eines Aluminiumoxidsols, das einen Elektolyten der genannten Art enthält.
Erfindungsgemäß verwendbare hydrophobe Polymers risate sind solche, die sich in der Beschichtungslösung lösen oder darin dispergiert werden und nach dem Auftragen und Trocknen der Lösung einen Film, d. h. eine dünne Schicht, ausbilden. Die derart gebildete Schicht ist dann in sauren oder basischen wäßrigen Lösungen jo unlöslich.
Als hydrophobe Polymerisate können erfindungsgemäß beispielsweise Cellulosederivate, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Äthylceliulose und dergleichen, Polyvinylacetale, Vinylchlorid/Vinylidenchlorid-Mischpolymerisate, Vinylchlorid/Acrylnitril-Mischpolymerisate, Acrylsäureester/Vinylchlorid/Vinylacetat-Mischpolymerisate zum Einsatz gelangen.
Erfindungsgemäß können auch Latices dieser hydrophoben Polymerisate verwendet werden. Besonders bevorzugte hydrophobe Polymerisate sind Cellulosederivate, insbesondere Cellulosediacetat.
Im folgenden wird die Herstellung der lvückschicht photographischer Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Erfindung näher erläutert.
Zur Ausbildung der ersten Lage der Rückschicht, die eine erfindungsgemäß verwendbare Verbindung der allgemeinen Formel I, das tertiäre Amin und ein Bindemittel in Form einer höheren Fettsäure und eines praktisch hydrophoben Polymerisats enthält, werden die Verbindung der Formel I, das tertiäre Amin, die höhere Fettsäure und das hydrophobe Polymerisat in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst, worauf die erhaltene Lösung in üblicher bekannter Weise auf einen Schichtträger aufgetragen und -getrocknet wird.
Die Konzentration der Verbindung der Formel I in der Beschichtungslösung beträgt pro 100 ml Lösungsmittel zweckmäßigerweise 0,01 bis 1, vorzugsweise 0,02 bis 0,4 g. Die Konzentration an tertiärem Amin beträgt, obwohl es hierfür keine eigentlichen Grenzen gibt, pro 100 ml Lösungsmittel zweckmäßigerweise 0,01 bis 2, vorzugsweise 0,02 bis 0,8 g. Die Konzentration an höherer Fettsäure beträgt pro 100 ml Lösungsmittel zweckmäßigerweise 0,01 bis !,vorzugsweise 0,02 bis 0,3 g.Die Konzentration an hydrophobem Polymerisat beträgt pro 100 ml Lösungsmitte' zweckmäßigerweise 0,01 bis 2, vorzugsweise 0,05 bis 0,8 g. Die Konzentration an Gelöstem insgesamt kann beliebig gewählt werden, sie
betragt pro 100 miLösungzweckmäßigerweiseO,lbis4, vozugsweise 0,2 bis 2 g.
Pro m2 Trägerfläche betragen die Mengen an Verbindung der Formel I, tertiärem Amin, höherer Fettsäure und hydrophoben· Polymerisat vorzugsweise 5 bis 200 mg, 5 bis 500 mg, 5 bis 150 mg und 10 bis 500 mg.
Sofern es bezüglich des Lösungsmittels für die Verbindung der Formel I und das hydrophobe Polymerisat keine speziellen Vorschriften gibt, können als Lösungsmittel beispielsweise Aceton, Äthylacetat, Methanol, Methylendichlorid, Äthylendichlorid, Trichloräthylen, Benzol, Phenol, Chlorphenol, Resorcin und Brenzkatechin verwendet werden. Die Lösungsmittel können aiieine oder in beliebiger Kombination zum Einsatz gelangen.
In Fällen in denen ein hydrophobes Polymerisat in Form eines Latex verwendet wird, kann die Verbindung der Formel I in Wasser dispergiert und in Form der erhaltenen Dispersion einer Beschichtungslösung einverleibt werden.
Das Auftragen der Beschichtungslösung auf einen Schichtträger kann in üblicher bekannter Weise Jurch Tauchbeschichtung, Walzenbeschichtung und Sprühbeschichtung erfolgen. Die aufgetragene Schicht wird in üblicher bekannter Weise getrocknet.
Der Schicht können je nach dem beabsichtigten Verwendungszweck des photographischen Aufzeichnungsmaterials die verschiedensten Zusätze, z. B. Aufrauhmittel, einverleibt werden.
In Fällen, in denen in der zweiten Lage der Rückschicht ein antistatisches Mittel und das tertiäre Amin verwendet werden sollen, werden diese Verbindungen zunächst in einem geeigneten Lösungsmittel oder Dispergiermedium gelöst oder dispergiert, worauf die erhaltene Lösung oder Dispersion auf die bereits auf einen Schichtträger aufgetragene erste Lage der Rückschicht aufgetragen und getrocknet wird. Als Lösungsmittel für das antistatische Mittel und das tertiäre Amin eignen sich neben Wasser Methanol, Äthanol und Aceton. Die genannten Lösungsmittel können auch in Kombination zum Einsatz gelangen. Die erhaltene Beschichtungslösung oder -flüssigkeit kann auf die auf einem Schichtträger befindliche erste Lage der Rückschicht in üblicher bekannter Weise, beispielsweise durch Tauchbeschichtung, Walzenbeschichtung und Sprühbeschichtung, aufgetragen und in üblicher bekannter Weise getrocknet werden. Hierbei erhält man ein erfindungsgemäßes Aufzeichnungsmaterial.
Obwohl es für die Konzentration des antistatischen Mittels in der Beschichtungslösung keine speziellen Grenzen gibt, beträgt dessen Menge aus Gründen eines leichten Auftrags und einer leichten Trocknung pro 100 ml Lösungsmittel 0,01 bis 10 g. In der Regel reichen pro m2 Trägerfläche 3 bis 300 mg antistatisches Mittel aus, um dem Aufzeichnungsmaterial die gewünschten antistatischen Eigenschaften zu verleihen.
Die Konzentration des der zweiten Lage der Rückschicht einzuverleibenden tertiären Amins kann unter der Konzentration, die der ersten Lage der RUckschicht einverleibt wird, liegen. Sie beträgt pro 100 ml Lösungsmittel zweckmäßigerweise0,01 bis !,vorzugsweise0,02 bis 0,6 g.
In Fällen, in denen ein anorganischer Elektrolyt insbesondere ein Aluminiumoxidsol, als antistatisches Mittel verwendet wird, kann dieses Aluminiumoxidsol vorzugsweise der ersten Lage der Rückschicht einverleibt werden. Die Menge an der ersten Lage der Rückschicht einzuverleibendem Aiuminiumoxidsol reicht vorzugsweise von 5 bis 500 mg/m2 Trägerfläche.
In diesem Falle betragen die Mengen an hydrophobem Polymerisat, Verbindung der Formel I und tertiärem Amin in der zweiten Lage der Rückschicht vorzugsweise 10 bis 500 mg, 5 bis 200 mg und 5 bis 500 mg/m2 Trägerfläche.
In den Fällen, in denen als Antistatikum ein anorganisches Oxid eines Teilchendurchmessen* von 0,01 bis 0,5 tun verwendet wird, wird der zur Ausbildung der
ίο Rückschicht verwendeten Beschichtungsflüssigkeit oder-lösung ein anorganisches Oxid, ζ. Β. Siliciumoxid, Aluminiumoxid oder Magnesiumoxid einverleibt, worauf die Beschichtungslösung oder-flüssigkeit direkt auf den Schichtträger aufgetragen wird. Die Mengen an
is hydrophobem Polymerisat, Verbindung der Formel I und tertiärem Amin sowie anorganischem Oxid betragen vorzugsweise 10 bis 500 mg, 5 bis 200 mg, 5 bis 500 mg und 5 bis 800 mg/m2 Trägerfläche.
Als Lösungsmittel zur Ausbildung der zweiten Lage der Rückschicht, der als antistatisches Mitte! ein PoIyelektrolyt einverleibt werden soil, eignen sich die bereits genannten Lösungsmittel. Wenn jedoch das jeweilige Lösungsmittelsystem in die erste Lage übermäßig stark eindringt, beeinträchtigt sie deren Durchsichtigkeit nach dem Auftragen der zweiten Lage infolge der recht schlechten Verträglichkeit zwischen dem Polyelektrolyten und der Verbindung der Formel I. Zur Vermeidung dieser Erscheinung sollten zweckmäßigerweise in dem Lösungsmittelsystem mehrals 5, vorzugsweise 10 bis 30% Wasser enthalten sein. Bei Verwendung einer größeren Wassermenge kann die erhaltene Beschichtungslösung zusammen mit einem Beschichtungshilfsmittel, z. B. einem oberflächenaktiven Mittel, aufgetragen werden.
J5 Als Schichtträger für photographische Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Erfindung eignen sich hydrophobe Filme oder Folien, z. B. solche aus Cellulosetriacetat, Polyäthylenterephthalat, Polycarbonaten, Polystyrolen, Polyolefinen, mit Polyäthylen kaschiertes Papier. Diese Schichtträger können gegebenenfalls in üblicher bekannter Weise mit einer Grundierung versehen sein.
Auf die der Rückseite des Schichtträgers, auf der sich die erfindungsgemäße Rückschicht befindet, gegen-
4> überliegende Schichtträgerseite kann in üblicher bekannter Weise zur Herstellung eines photographischen Aufzeichnungsmaterials eine lichtempfindliche Silberhalogenidemulsion aufgetragen werden.
Das erhaltene photographische Aufzeichnungsmaterial gemäß der Erfindung besitzt eine hervorragende Kratzfestigkeit oder -beständigkeit und zeigt selbst bei einer automatischen Entwicklung in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung vom Hängertyp kein Auftreten einer Ungleichmäßigkeit infolge Schlieren-
>5 bildung. Weiterhin haften Klebebänder oder-streifen so gut an den Aufzeichnungsmaterialien, daß beim Verpacken der Aufzeichnungsmaterialien während der Herstellung keine Schwierigkeiten auftreten. Schließlich lassen sich eine durch Reibung verursachte elektrische Aufladung und ein Abblättern oder eine Trennung verschiedener Schichten vermeiden. Schließlich sind photographische Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Erfindung in ihren photographischen Eigenschaften nicht beeinträchtigt, d. h. sie zeigen keine ver-
b5 minderte Empfindlichkeit, keinen erhöhten Schleier und keine Änderung des gamma-Werts.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
Beispiel 1
Cellulosetriacetat
Verbindung I-(2)
Verbindung II-{3)
Aceton
Methylendichlorid
Äthylacetat
4g
3g
3g
400 ml
400 ml
200 ml
Celluloseacetat 3g
Verbindung I-(4) 2g
Stearinsäure ig
teilchenförmiges Siliciumdioxid ig
einer durchschnittlichen Teilchen
größe von 0,2 am
Aceton 500 ml
Äthylacetat 300 ml
Benzol 200 ml
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen CellulosetriacetatfUmschichtträgers wird zur Ausbildung der ersten Lage einer Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Mischpolymerisat mit wiederkehrenden Einheiten der Formeln:
CH3
-(CH2-C^
COOCH2CHCH2N(CHj)3 Cl® OH
in einer Menge von 30 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise aufgetragene erste Lage der Rückschicht wird zur Ausbildung einer zweiten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Mischpolymerisat aus Styrol und 2 g
dem Natrium-p-aminobenzoatsalz
der Maleinsäure
Methanol 650 ml
Aceton 250 ml
Wasser 100 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Cellulosetriacetatfilmschiehtträger mit zwei I ag ig aufgebauter Rückschicht.
Auf die auf der entgegengesetzten Seite des Filmschichtträgers befindliche schichtartige Grundierung wird eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und -getrocknet, wobei man ein erfindungsgemäßes Aufzeichnungsmaterial erhält (Prüfling 1).
Beispiel 2
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Cellulosetriacetatfilmschichtträgers wird zur Ausbildung einer ersten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise ausgebildete erste Lage der Rückschicht wird zur Ausbildung einer zweiten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
-(CH2-
(n, : /I2 = 50 :50)
Verbindung II-(3)
Aceton
Methanol
Wasser
Ig
0,8 g 400 ml 250 ml 350 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Cellulosetriacetatfilmschichtträger mit zweilagig aus-
jo gebildeter Rückschicht.
Auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung wird zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und
η -getrocknet (Prüfling 2).
Beispiel 3
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen, biaxial gereckten und kristallisierten Polyäthylenterephthalatfilmschichtträgers wird zur Ausbildung einer ersten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Cellulosetriacetat 3 g
ternäres Mischpolymerisat ar^s 1 g Vinylidenchlorid, Methylacrylat und Acrylsäure (Gewichtsverhältnis: 65 : 35 : 2)
Verbindung I-(6) 1,5 g
Palmitinsäure 0,6 g
Äthylendichlorid 650 ml
Methylendichlorid 200 ml
Phenol 150 ml
in einer Menge von 40 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise ausgebildete erste Lage der Rückschicht wird zur Ausbildung einer zweiten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Polymerisat mit wiederkehrenden Einheiten der Formel:
CH2-<f >—CH2-N V-(CH1),-<f N
Cle
Verbindung H-(IO)
Resorcin
Saponin
Aceton
Methanol
. Wasser
in einer Menge von 25 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und getrocknet. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Polyäthylenterephthalatfilmschichtträger mit zweilagig ausgebildeter Rückschicht.
Zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials wird schließlich auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierufig eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und -getrocknet (Prüfling 3).
Beispiel 4
Auf die Rückschicht eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Cellulosetriacetatfilmschichtträgers wird zur Ausbildung einer ersten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
handelsübliches Aluminiumoxidsol 40 g
Aceton 500 ml
Methanol 300 ml
Methylisobutylketon 200 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und getrocknet.
Danach wird auf die in der geschilderten Weise ausgebildete erste Lage der Rückschicht zur Ausbildung einer zweiten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Celluloseacetat 10g
Verbindung l-(8) 2g
Verbindung Il-(14) 3g
teilchenförmiges Siliciumdioxid ig
einer durchschnittlichen Teilchen
größe von 0,2 μηι
Aceton 550 ml
Methylendichlorid 200 ml
Äthylendichlorid 250 ml
in einer Menge von 15 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Cellulosetriacetatfilmschichtträger mit zweilagig ausgebildeter Rückschicht.
Zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials wird auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und getrocknet (Pruning 4).
Beispiel 5
Auf die Rückschicht eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Cellulosetri-
λ =17 5 g
Cls _
50 g
0,2 g
500 ml
300 ml
200 ml
acetatfilmschichtträgers wild zur Herstellung eines annstatisch ausgerüsteten Cellulosetriacetatfilmsch'ichtträgers eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Cellulosediacetat
Verbindung HlO)
Verbindung II-( 18)
Aluminiumdioxid
Aceton Äthylacetat
Benzol 8g
3g
4g
2g
600 ml
200mi
200 ml
in der Menge von 30 ml/nr Trägerflächt aufgetragen und -getrocknet.
Zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials wird schließlich auf die auf der entin gegengesetzten Schii-iitträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und getrocknet.
Beispiel 6
Auf die Rückschicht eines mit einer bekannten
schichtartigen Grundierung versehenen Cellulosetriacetatfilmschichtträgers wird zur Ausbildung einer ersten Lage der Rückschicht eitve Besi-hichtungslösung
•to der folgenden Zusammensetzung:
Cellulosediacetat 3g
Verbindung I-(4) 2g
teilchenförmiges Siliciumdioxid ig
einer durchschnittlichen Teilchen
größe von 0,2 am
Aceton 500 ml
Äthylacetat 300 ml
Benzol 200 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise erzeugte erste )5 Lage der Rückschicht wird zur Ausbildung einer zweiten Lage der Rückschicht eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Mischpolymerisat mit wiederkehrenden Einheiten no der Formeln:
CH3
COOCH2CHCh2N(CH3)J Cl9
OH
-(CH2-
COOCH/CF^H
(πι: /I2 = 50 :50)
Verbindung Π-(3)
Aceton
Methanol
Wasser
Ig
0,8 g 400 ml 250 ml 350 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Cellulosetriacetatfilmschichtträger mit zweilagig ausgebildeter Rückschiebt.
Schließlich wird zur Herstellung eines erfindungsgetnäßen Aufzeichnungsmaterials auf die auf der entgegengesezten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und -getrocknet (Prüfling 6).
Vergleichsbeispiel 1
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Cellulosetriacetatfilmschichtträgers wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Cellulosediacetat 3 g
Verbindung I-(4) 2 g
Stearinsäure 1 g
teilchenförmiges Siliciumdioxid 1 g einer durchschnittlichen Teilchengröße von 0,2 am
Aceton 500 ml
Äthylacetat 300 ml
Benzol 200 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise ausgebildete Lage wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Mischpolymerisat mit wiederkehrenden Einheiten der Formeln:
CH3
COOCH2CHCHjN(CHj)J Cl9 OH
-4CH2-CH)-
ausgestatteten Cellulosetriacetatfilmschichtträger mit zweilagig ausgebildeter Rückschicht
Schließlich wird auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und -getrocknet, wobei ein Vergleichsprüfling (Vergleichsprüfliug I) erhalten wird.
Vergleichsbeispiel 2
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Ceilulosetriacetatfümschichtträgers wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Cellulosediacetat 3 g
Stearinsäure 1 g
teilchenförmiges Siliciumdioxid 1 g
einer durchschnittlichen Teilchengröße von 0,2 am
Aceton 500 ml
Äthylacetat 300 ml
Benzol 200 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise ausgebildete Lage wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Mischpolymerisat mit wiederkehrenden Einheiten der Formeln:
CH3
COOCH2CHCH2N(CHj)3 Cle
OH
-(CH2-CH^
COOCH^CF^H
(n, : O2 = 50 : 50)
Verbindung II-(3)
Aceton
Methanol
Wasser
Ig
0,8 g
400 ml
250 ml
350 m!
COOCH2(CFj)4H
(/j, : /I2 = 50 : 50)
Aceton
Methanol
Wasser
Ig
400 ml 250 ml 350 ml
in einer Menge von 20 mi/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Ceilulosetriacetatfilmschichtträger mit zweilagiß ausgebildeter Rückschicht.
Schließlich wird auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und -getrocknet, wobei ein Vergleichiprüfling (Vergleichsprüfling II) erhalten wird.
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet. Hierbei erhält man eine antistatisch Vergleichsbeispiel 3
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Cellulosetriacetat-
filmschichtträgers wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
handelsübliches Aluminiumoxidsol 40 g
Aceton SOO ml Methanol 300 ml Methylisobutylketon 200 ml
in einer Menge von 20 ml/m3 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise ausgebildete erste Lage wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Cellulosediacetat 10g
Verbindung II-(14) 3g
teilchenförmiges Siliciumdioxid ig
einer durchschnittlichen Teilchen
größe von 0.2 μπι
Aceton 550 ml
Methylendichlorid 200 ml
Äthylendichlorid
250 ml
in einer Menge von 15 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Cellulosetriacetatfilmschichtträger mit zweitägig ausgebildeter Rückschicht.
Schließlich wird auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und -getrocknet, wobei ein Vergleichsprüfling (Vergleichsprüfling III) erhalten wird.
Vergleichsbeispiel 4
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Cellulosetriacetatfilmschichtträgers wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Ceilulosediacetat 10 g
Verbindung H8) 2g
teilchenförmiges Siliciumdioxid ig
einer durchschnittlichen Teilchen
größe von 0,2 μπι
Aceton 550 ml
Methylendichlorid 200 ml
Äthylendichlorid 250 ml
in einer Menge von 15 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Cellulosetriacetatfilmschichtträger mit zweitägig ausgebildeter Rückschicht Schließlich wird auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und getrocknet, wobei ein Vergleichsprüfling (Vergleichsprüfling IV) erhalten wird.
Vergleichsbeispiel 5
Auf die Rückseite eines mit einer bekannten schichtartigen Grundierung versehenen Celluloselriacetatfilmschichtträgers wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Cellulosediacetat 3g
Stearinsäure ig
teilchenförmiges Siliciumdioxid Ig
einer durchschnittlichen Teilchen
größe von 0,2 um
Aceton 500 ml
Äthylacetat 300 ml
Benzol 200 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise ausgebildete erste Lage wh'-i eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
Mischpolymerisat mit wiederkehrenden Einheiten der Formel:
CHj
-(CH2-C)-
C O O C H2C H C H2N(C Ηώ Cle
OH
-(CH2-CH)^-
handelsübliches Aluminiumoxidsol 40 g
Aceton 500 ml
Methanol 300 ml Methylisobutylketon 200 ml
in einer Menge von 20 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und -getrocknet.
Auf die in der geschilderten Weise ausgebildete erste Lage wird eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung:
COOCH2(CFj)4H
(n,: It1 = 50 :50) Aceton Methanol Wasser
Ig
400 ml 250 ml 350mi
in einer Menge von 25 ml/m2 Trägerfläche aufgetragen und getrocknet. Hierbei erhält man einen antistatisch ausgerüsteten Cellulosefilmschichtträger mit zweitägig ausgebildeter Rückschicht.
Schließlich wird auf die auf der entgegengesetzten Schichtträgerseite befindliche schichtartige Grundierung eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und -getrocknet, wobei ein Vergleichsprüfling (Vergleichsprüfling V) erhalten wird.
Beispiel 7
Es werden die Kratzfestigkeits- oder -beständigkeitseigenschaften der erfindungsgemäß Prüflinge 1 bis 6 und der Vergleichsprüflinge I bis V ermittelt
Jeder nicht-entwickelte Prüfling wird in eine übliche Patrone eingesetzt, worauf mit Hilfe einer Standkamera mit hoher Geschwindigkeit photographiert wird. Dieser
Versuch dient zur Ermittlung der auf der Prüflingsober- Tabelle II
fläche entstandenen Kratzer.
Danach wird jeder Prüfling in üblicher bekannter Weise entwickelt und in einem automatischen Kopiergerät zu Kopierzwecken verwendet. Schließlich werden >
die auf den verschiedenen Kopien erscheinenden Krat-
zermarken bestimmt. Die Ergebnisse finden sich in der '.orgenden Tabelle I.
Tabelle I '»
Bewertung der Kratzfestigkeit bzw. -bestandigkeit*) Bewertung des Auftretens einer auf Schlierenbildung zurückzuführenden Ungleichmäßigkeit*)
vor der
Entwicklung
nach der Entwicklung (5. Kopie)
rruiiiiig
Vergleichsprüfling
II
III
IV
C9H1,-
-O-f CH2CH2O)15-H 2 g
HCHO (37%ig)
mit Wasser aufgefüllt auf
8g
11
Prüfling
1 2 3 4 5 6
Vergleichsprüfling
II
HI
IV
*) Bewertung der Kratzfestigkeit oder -beständigkeit nach einem 5-Punkte-System:
1 : keine Kratzermarken.
2: einige wenige Kratzermarken.
3: einige Kratzermarken.
4: recht viele Kratzermarken.
5: zahlreiche Kratzermarken.
Beispiel 8
Bei den verschiedenen Prüflingen und Vergleichsprüflingen wird die auf eine Schlierenbildung zurückzuführende Ungleichmäßigkeit ermittelt.
Unter Verwendung einer handelsüblichen automatischen Entwicklungsvorrichtung vom Hängetyp erfolgen eine Farbentwicklung, Bleichung, Fixierung und Wässerung. Darauf wird eine Endbehandlung durchgeführt, bei welcher der jeweilige Prüfling durch ein Stabilisierbad der folgenden Zusammensetzung:
geführt wird. Schließlich wird der jeweils behandelte Prüfling getrocknet.
Die behandelten Prüflinge und Vergleichsprüflinge werden durch Betrachten unter weißem Licht auf das Ausmaß des Auftretens einer Ungleichmäßigkeit infolge Schlierenbildung hin untersucht. Die Ergebnisse finden sich in der folgenden Tabelle II.
·) Bewertung des Auftretens einer auf Schlierenbildung zurückzuführenden Ungleichmäßigkeit nach einem 5-Punkte-System:
1: keine Ungleichmäßigkeit. 2: schwache Ungleichmäßigkeit. 3: geringe Ungleichmäßigkeit. 4: recht starke Ungleichmäßigkeit. S: starke Ungleichmäßigkeit.
Beispiel 9
Haflungsvermögen eines Klebebandes an den verschiedenen Prüflingen und Vergleichsprüflingen:
Jeder Prüfling wird in eine Patrone vom Typ 135 eingesetzt, worauf die verschiedenen Prüflinge unter folgenden Bedingungen:
Atmosphäre:
Abziehgeschwindigkeit:
23° C-50% relative Feuchtigkeit 10 cm/min
einem Abziehtest unterworfen werden.
Die Ergebnisse finden sich in der folgenden Tabelle III.
60
Tabelle III Abziehfestigkeit beim
Reißen in kg
Prüfling 8,2
1 8,5
2 9,0
3 9,6
4 8,7
5 7,5
6
Vergleichs
prüfling 4,0
I 5,7
Π 6,1
m 3,8
rv 4,2
V
Aus den Tabellen I bis III geht hervor, daß die erfindungsgemäßen Prüflinge 1 bis 6 eine hervorragende Kratzfestigkeit bzw. -beständigkeit und ein ausgezeichnetes Haftungsvermögen Tür Klebebänder aufweisen und daß bei ihnen selbst nach der Entwicklung keine Ungleichmäßigkeit infolge Schlierenbildung auftritt.
Im Gegensatz dazu ist bei den Vergleichsprüflingen I bis V, die keine Verbindung der allgemeinen Formel I und/oder kein tertiäres Amin enthalten, mindestens eine Eigenschaft, nämlich Kratzbeständigkeit oder -festigkeit, Haftungsvermögen für Klebebänder und Auftreten der Ungleichmäßigkeit infolge Schlierenbildung, beeinträchtigt.

Claims (16)

Patentanspruch:
1. Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger, mindestens einer darauf aufgetragenen lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht und mindestens einer auf der anderen Schichtträgerseite befindlichen Rückschicht mit
a) einer Verbindung der Formel:
CH2OR1
R4OCH2-C — CH2OR2
CH2OR3
worin R1, R2, R3 und R4 jeweils ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Acylgruppe mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen darstellen, wobei gilt, daß mindestens drei der Reste Rj, R2, R3 und R4 für eine aliphatische Acylgruppe mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen stehen,
b) einem tertiären Amin,
c) einem hydrophoben Polymerisat und
d) einem antistatischen Mittel,
dadurch gekennzeichnet, daß es als tertiäres Amin b) eine Verbindung der Formel:
OH
OCH2CHCH2
R4
OCHCH2I-N
worin bedeuten:
eine Alkylgruppe mit 8 bis 24 Kohlenstoffatomen;
R6 eine Wasserstoffatom, eine Methylgruppe oder eine Gruppe der Formel -CH2OR7, worin R7 für ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 7 Kohlenstoffatom(en), eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe steht;
m und η jeweils eine ganze Zahl von O bis 3 (wobei gilt, daß 3 Sm + ηSl);
A eine Gruppe der Formel
OH
R7-4-OCH2CHCH2
OCHCH2
worin Rf, und R7 die angegebene Bedeutung besitzen und ρ und q jeweils eine ganze Zahl von 1 bis 3 darstellen (wobei gilt, daß 3 ^p + <?ä 1); und eine Alkylgruppe mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen), eine Arylgruppe, eine Aralkylgruppe oder eine Gruppe der Formel
OH
-OCH2CHCH;
OCHCH2
worin R6, R7, m und η die angegebene Bedeutung besitzen,
enthält
2. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch \ dadurch gekennzeichnet, daß die Rückschicht in zwei oder mehr Lagen aufgetragen ist
3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine Lage der Rückschicht ein antistatisches Mittel enthält
4. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine Lage ein hydrophobes Polymerisat enthält
O)
5. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 2,
is dadurch gekennzeichnet, daß die Rückschicht aus mindestens einer Lage (1) mit einer Ve oindung der Formel I und einem hydrophoben Polymerisat und mindestens einer Lage (2) mit einem tertiären Amin und einem antistatischen Mittel aufgebaut ist, wobei sich die Lage (1) näher am Schichtträger befindet als die Lage (2).
6. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückschicht aus mindestens einer Lage (1) mit einer Verbindung der Formel (I), einem tertiären Amin und einem hydrophoben Polymerisat und mindestens einer Lage (2) mit einem antistatischen Mittel aufgebaut ist
7. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückschicht aus mindestens einer Lage mit einer Verbindung der Formel I, einem tertiären Amin, einem hydrophoben Polymerisat und einem antistatischen Mittel gebildet ist.
8. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage (1) eine Verbindung der Formel I, ein hydrophobes Polymerisat und eine höhere Fettsäure enthält
9. Aufzeichnungsmaterial nach einem oder mehreren der Ansprüche 4 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß es als hydrophobes Polymerisat ein Cellulosederivat enthält.
10. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß es als Cellulosederivat Cellulosediacetat enthält.
11. Aufzeichnungsmaterial nach einem der
Ansprüche 3,5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß es als antistatisches Mittel einen Polyelektrolyten enthält.
12. Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 3 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß es
als antistatisches Mittel einen organischen Elektrolyten enthält.
13. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß es als anorganischen Elektrolyten ein Aluminiumoxidsol enthält.
14. Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüchen 3 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß es als antistatisches Mittel ein anorganisches Oxid einer Korngröße von 0,01 bis 0,5 um enthält.
15. Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage (2) mit Hilfe eines die Lage (1) nicht lösenden Beschichtungsmassenlösungsmittel aufgetragen ist.
16. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, daß als Beschichtungsmassenlösungsmittel Wasser wurde.
(Π)
DE2931460A 1978-08-07 1979-08-02 Photographisches Aufzeichnungsmaterial Expired DE2931460C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9600178A JPS5522754A (en) 1978-08-07 1978-08-07 Photographic film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2931460A1 DE2931460A1 (de) 1980-02-14
DE2931460C2 true DE2931460C2 (de) 1984-03-15

Family

ID=14152863

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2931460A Expired DE2931460C2 (de) 1978-08-07 1979-08-02 Photographisches Aufzeichnungsmaterial

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4267266A (de)
JP (1) JPS5522754A (de)
DE (1) DE2931460C2 (de)
GB (1) GB2027221B (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6049894B2 (ja) * 1980-12-23 1985-11-05 富士写真フイルム株式会社 写真感光材料
JPH0746211B2 (ja) * 1986-10-08 1995-05-17 コニカ株式会社 新規な界面活性剤を含むハロゲン化銀写真感光材料
IT1223479B (it) * 1987-12-16 1990-09-19 Minnesota Mining & Mfg Supporto fotografico antistatico ed elemento sensibile alla luce
JPH07109491B2 (ja) * 1988-03-25 1995-11-22 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH03132755A (ja) * 1989-10-19 1991-06-06 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料
US5344751A (en) * 1993-05-28 1994-09-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic coatings
US5236818A (en) * 1992-11-02 1993-08-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic coatings
US6004735A (en) * 1998-02-05 1999-12-21 Eastman Kodak Company Stain resistant protective overcoat for imaging elements

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2059829A (en) * 1934-11-01 1936-11-03 Eastman Kodak Co Sensitive photographic element
US2090016A (en) * 1935-01-30 1937-08-17 Eastman Kodak Co Sensitive photographic element
US3042522A (en) * 1958-06-13 1962-07-03 Gen Aniline & Film Corp Photographic film and a composition for improving the slippage characteristics thereof
US3082087A (en) * 1959-11-12 1963-03-19 Eastman Kodak Co Antistatic photographic films
BE636304A (de) * 1962-08-20
US3532501A (en) * 1967-02-10 1970-10-06 Gaf Corp Water-soluble acid esters of polyoxyalkylenated pentaerythritol in silver halide emulsions
BE757569A (fr) * 1969-10-16 1971-03-16 Eastman Kodak Co Procede pour preparer un support photographique et produit obtenu
US4069053A (en) * 1971-03-18 1978-01-17 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Photographic films
GB1430997A (en) * 1973-06-07 1976-04-07 Ciba Geigy Ag Lubricating layer for photographic materials
DE2347301B2 (de) * 1973-09-20 1976-02-26 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Photographischer film zur verwendung in laufbildkassetten
US4050934A (en) * 1975-09-22 1977-09-27 Xerox Corporation Electron acceptor monomers and polymers
JPS5484720A (en) * 1977-11-19 1979-07-05 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photographic film

Also Published As

Publication number Publication date
GB2027221A (en) 1980-02-13
US4267266A (en) 1981-05-12
DE2931460A1 (de) 1980-02-14
GB2027221B (en) 1982-08-25
JPS5522754A (en) 1980-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0114973B1 (de) Wasserfester fotografischer Papierträger
EP0438621B1 (de) Beschichtungsmasse für die Rückseite fotografischer Trägermaterialien
DE2650532A1 (de) Verfahren zur herstellung eines masshaltigen polyesterfilmtraegers
DE3700183A1 (de) Antistatisches fotographisches traegermaterial
DE1045227B (de) Photographischer Film und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2931460C2 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial
DE2126415B2 (de) Verfahren zum dauerhaften Auf bringen eines magnetischen Streifens auf einen lichtempfindlichen photo graphischen Film
DE2827492A1 (de) Photographischer filmtraeger
DE973598C (de) Lichtempfindliches Diazotypiematerial
DE3519043A1 (de) Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial
DE2339913A1 (de) Lichtempfindliches fotografisches element
DE1073306B (de) Bildempfangsmaterial zur Verwendung im photographischen Silbersalzdiffusions-Ubertragungsverfahren und Verfahren zu dessen Herstellung
DE1572119C3 (de)
DE1422890A1 (de) Antistatisches photographisches Material und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2749452B2 (de) Lichtempfindliches photographisches SUberhalogenid-Aufzeichnungsmaterial
EP0312638A1 (de) Fotografisches Trägermaterial für lichtempfindliche Schichten in Form eines kunststoffbeschichteten Papiers oder einer Kunststoffolie mit einer beschreibbaren antistatischen Rückseitenbeschichtung
DE2201850B2 (de) Verfahren zum Auftragen magnetischer Aufzeichnungsspuren auf ein mehrschichtiges Kinofilmmaterial
DE2211813A1 (de) Lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidmaterial mit antistatischen Eigenschaften
DE1597543C3 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit Lichthofschutzschicht
DE1572119B2 (de) Wäßrige Haftschichtdisperion
DE2521345A1 (de) Magnetische aufzeichnungsspuren enthaltendes kinofilmmaterial
DE2056361A1 (de) Substrierungsmasse fur Polyester Filmträger
DE1447664A1 (de) Antistatischer Schutz fuer photographische Filme
DE1772380A1 (de) Photographisches Filmmaterial mit verbesserten antistatischen Eigenschaften sowie antistatisch wirkende Mittel zur Herstellung desselben
DE1547702C (de) Verfahren zum Trocknen der hydrophilen wasserhaltigen Kolloid Schichten eines pho tographischen Aufzeichnungsmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
OAP Request for examination filed
OD Request for examination
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: HENKEL, G., DR.PHIL. FEILER, L., DR.RER.NAT. HAENZ

8181 Inventor (new situation)

Free format text: SHIBUE, TOSHIAKI, HINO, TOKYO, JP NAGAYASU, KOICHI, SAITAMA, JP

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee