DE102014101261B4 - Leistungstransistoranordnung und Verfahren zu deren Herstellung - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 27
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 27
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 15
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 5
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 5
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002555 FeNi Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
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- H01L2224/0618—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/06181—On opposite sides of the body
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- H01L2224/273—Manufacturing methods by local deposition of the material of the layer connector
- H01L2224/2731—Manufacturing methods by local deposition of the material of the layer connector in liquid form
- H01L2224/27318—Manufacturing methods by local deposition of the material of the layer connector in liquid form by dispensing droplets
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- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29075—Plural core members
- H01L2224/29078—Plural core members being disposed next to each other, e.g. side-to-side arrangements
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- H01L2224/293—Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
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- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13064—High Electron Mobility Transistor [HEMT, HFET [heterostructure FET], MODFET]
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- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
Abstract
Leistungstransistoranordnung (100), aufweisend:einen Träger (102);einen ersten Leistungstransistor (104) mit einer Steuerelektrode (112) und einer ersten Leistungselektrode (114) und einer zweiten Leistungselektrode (116);einen zweiten Leistungstransistor (106) mit einer Steuerelektrode (122) und einer ersten Leistungselektrode (124) und einer zweiten Leistungselektrode (126);wobei der erste Leistungstransistor (104) und der zweite Leistungstransistor (106) nebeneinander auf dem Träger (102) derart angeordnet sind, dass die Steuerelektrode (112) des ersten Leistungstransistors (104) und die Steuerelektrode (122) des zweiten Leistungstransistors (106) dem Träger (102) zugewandt sind, wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) vom Träger (102) weg weisen;wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) mittels einer elektrisch leitende Kopplungsstruktur (132) aneinander gekoppelt sind; undwobei die elektrisch leitende Kopplungsstruktur (132) von sämtlichen Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüssen elektrisch isoliert ist.
Description
- Verschiedene Ausführungsformen betreffen allgemein eine Leistungstransistoranordnung und ein Verfahren zur Herstellung einer Leistungstransistoranordnung.
- Leistungshalbleiterchips können in eine elektronische Baugruppe für verschiedene Schaltkreise integriert werden. Zum Beispiel kann eine Kaskadenschaltung oder eine Halbbrückenschaltung durch einzelne Komponenten oder Baugruppen oder durch eine Chipauf-Chip-Struktur ausgeführt werden, wobei Diffusionslöten verwendet werden kann.
- Einzelne Komponenten oder Baugruppen können zu einer signifikanten Baugruppeninduktivität und somit Schaltverlusten führen. Während eine Chip-auf-Chip-Struktur zu thermischen Einschränkungen bezüglich des Chips an der Oberseite führen kann (z.B. bei einem Siliziumfeldeffekttransistorchip).
- Aus dem Dokument
US 2009 / 0 289 354 A1 - Aus dem Dokument
DE 10 2007 025 248 A1 ist ein elektronisches Bauelement bekannt, das aufweist: mindestens zwei vertikale Halbleiterleistungsbauteile, wobei jedes vertikale Halbleiterbauteil, wobei mindestens eine erste Lastelektrode auf einer ersten Seite des Halbleiterbauteil angeordnet ist und mindestens eine zweite Lastelektrode auf der zweiten Seite des Halbleiterbauteil angeordnet ist, eine elektrisch leitfähige Anschlussklemme, eine Vielzahl von oberflächenmontierbaren äußeren Anschlussoberflächen, und einen Trägerstreifen. - Verschiedene Ausführungsformen stellen eine Leistungstransistoranordnung bereit. Die Leistungstransistoranordnung weist auf einen Träger; einen ersten Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode; und einen zweiten Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode. Der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor sind auf dem Träger nebeneinander angeordnet, so dass die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors dem Träger zugewandt sind. Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors weisen vom Träger weg. Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors sind elektrisch aneinander gekoppelt. Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors sind mittels einer elektrisch leitenden Kopplungsstruktur elektrisch aneinander gekoppelt, wobei die elektrisch leitende Kopplungsstruktur von sämtlichen Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüssen elektrisch isoliert ist.
- Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors können an die elektrisch leitende Struktur gelötet werden. Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors können durch Diffusionslöten an die elektrisch leitende Struktur gelötet werden.
- Die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors können mit dem Träger, z.B. durchentsprechenden Stifte oder Kontaktstellen des Trägers, durch Weichlöten, Kleben, Diffusionslöten, Sintern oder dergleichen verbunden werden.
- Verschiedene nicht anspruchsgemäße Beispiele betreffen eine Leistungstransistoranordnung. Die Leistungstransistoranordnung kann einen Träger; einen ersten Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode; und einen zweiten Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode enthalten. Der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor können auf dem Träger nebeneinander angeordnet werden, so dass die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors dem Träger zugewandt sind.
- In verschiedenen nicht anspruchsgemäßen Ausführungsformen können die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors vom Träger weg weisen. Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors können elektrisch aneinander gekoppelt sein.
- Die Kopplungsstruktur kann mindestens eines von einem Metall und einer Metalllegierung enthalten. Die Kopplungsstruktur kann mindestens eine Struktur enthalten, die ausgewählt ist aus einer Gruppe von Strukturen, bestehend aus: einer Klemme, einem Band, einem Draht, einer Platte und einem Leiterzug. Die Kopplungsstruktur kann einen Wärmewiderstand von 1 K/W oder weniger haben.
- Einer oder beide von dem ersten Leistungstransistor und dem zweiten Leistungstransistor können einen MOSFET (Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor), einen JFET (Sperrschicht-Feldeffekttransistor), einen IGBT (Bipolartransistor mit isolierter Gate-Elektrode) oder einen Bipolartransistor und dergleichen enthalten.
- Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors entweder die Gate-Elektrode oder die Basiselektrode des ersten Leistungstransistors und des zweiten Leistungstransistors sein.
- Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors entweder die Source-Elektrode oder die Emitter-Elektrode des ersten Leistungstransistors sein und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors kann entweder die Drain-Elektrode oder die Kollektor-Elektrode des zweiten Leistungstransistors sein. Der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor, deren entsprechende erste Leistungselektroden elektrisch aneinander gekoppelt sind, können eine Kaskodenschaltung oder eine Halbbrückenschaltung bilden.
- Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors entweder die Source-Elektrode oder die Emitter-Elektrode des ersten Leistungstransistors sein; und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors kann entweder die Source-Elektrode oder die Emitter-Elektrode des zweiten Leistungstransistors sein. In verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor, die PMOS (p-Kanal Metalloxid-Halbleiter) Transistoren sind, deren entsprechende Source-Elektroden elektrisch aneinander gekoppelt sind, eine zweiseitige blockierende PMOS Transistorschaltung bilden.
- Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors kann entweder die Drain-Elektrode oder die Kollektor-Elektrode des ersten Leistungstransistors sein; und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors kann entweder die Drain-Elektrode oder die Kollektor-Elektrode des zweiten Leistungstransistors sein. In verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor, die NMOS (n-Kanal Metalloxid-Halbleiter) Transistoren sind, deren entsprechende Drain-Elektroden elektrisch aneinander gekoppelt sind, eine zweiseitige blockierende NMOS Transistorschaltung bilden.
- Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der erste Leistungstransistor ein Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit (HEMT) sein. Beispiele für den HEMT enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein, einen GaN (Galliumnitrid) Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit oder einen SiC (Siliziumkarbid) Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit oder einen Hochspannungs-Si-(Silizium) Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit. Der zweite Leistungstransistor kann ein Niederspannungs- (z.B. kleiner als 200V) MOSFET (p-Kanal oder n-Kanal) sein. Ein Beispiel für den Niederspannungs-MOSFET kann einen SFET (Silizium-Feldeffekttransistor) enthalten, ohne aber darauf beschränkt zu sein.
- In verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor Transistoren desselben Transistortyps sein. Der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor können FETs (Feldeffekttransistoren) oder IGBTs mit einer Nennspannung von zum Beispiel etwa 20 V bis 20 kV sein.
- Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor von derselben Spannungsklasse sein. Zum Beispiel können der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor dieselbe Nennspannung haben, d.h. dieselbe Maximalspannung aufweisen, der der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor standhalten können. Der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor können unterschiedliche Stromführungseigenschaften haben.
- Die Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüssen können zum Beispiel Leitungskontakte oder Stifte enthalten, die an den Träger gekoppelt sind.
- Der Träger kann einen Leiterrahmen enthalten, der aus einem Metall oder einer Metalllegierung bestehen kann, z.B. einem Material, das ausgewählt ist aus einer Gruppe bestehend aus: Kupfer (Cu), Eisennickel (FeNi), Stahl und dergleichen.
- Eine anspruchsgemäße Ausführungsform betrifft ferner eine Baugruppe, die eine Leistungstransistoranordnung enthält. Die Leistungstransistoranordnung weist auf einen Träger; einen ersten Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode; und einen zweiten Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode enthalten. Der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor sind auf dem Träger nebeneinander angeordnet, so dass die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors dem Träger zugewandt sind; und wobei die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors vom Träger wegweisen. Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors sind durch eine elektrisch leitende Kopplungsstruktur elektrisch aneinander gekoppelt. Die Baugruppe weist ferner Baugruppenanschlüsse auf, die zum Empfangen elektrischer Signale von außerhalb der Baugruppe gestaltet sind, wobei die elektrisch leitende Kopplungsstruktur von den Baugruppenanschlüssen elektrisch isoliert ist.
- Verschiedenen Ausführungsformen, die in Bezug auf die Leistungstransistoranordnung oben beschrieben sind, sind analog für die Baugruppe gültig, die die Leistungstransistoranordnung enthält.
- Die Baugruppe kann als eine von QFN (Quad-Flat-No-Leads) Baugruppen, DSO (Dual Small Outline) Baugruppen, TO220, TO247, TO263, TO252 und dergleichen gebildet sein. Die Baugruppe kann als eine eingebettete Baugruppe gebildet sein.
- Eine weitere anspruchsgemäße Ausführungsform betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Leistungstransistoranordnung. Das Verfahren weist auf: das Anordnen eines ersten Leistungstransistors mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode und eines zweiten Leistungstransistors mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode auf einer elektrisch leitende Struktur enthalten, so dass der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor nebeneinander angeordnet sind und dass die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors an der elektrisch leitenden Struktur befestigt und dadurch elektrisch aneinander gekoppelt sind; und das Montieren des ersten Leistungstransistors und des zweiten Leistungstransistors auf einem Träger unter Verwendung der elektrisch leitenden Struktur als Zwischenträger, so dass die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors dem Träger zugewandt sind, wobei die elektrisch leitende Struktur von sämtlichen Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüssen elektrisch isoliert ist.
- Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors an die elektrisch leitende Struktur gelötet werden. Die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors können durch Diffusionslöten an die elektrisch leitende Struktur gelötet werden.
- Die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors können mit dem Träger, z.B. durch die entsprechenden Stifte oder Kontaktstellen des Trägers mittels Weichlöten, Kleben, Diffusionslöten, Sintern oder dergleichen verbunden werden.
- In den Zeichnungen beziehen sich gleiche Bezugszeichen allgemein in allen unterschiedlichen Ansichten auf dieselben Teile. Die Zeichnungen sind nicht unbedingt maßstabgetreu, da der Schwerpunkt stattdessen auf der Darstellung der Prinzipien der Erfindung liegt. In der folgenden Beschreibung sind verschiedene Ausführungsformen der Erfindung unter Bezugnahme auf die folgenden Zeichnungen beschrieben, in welchen:
-
1 eine Leistungstransistoranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen zeigt; -
2 eine Leistungstransistoranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen zeigt; -
3 eine Leistungstransistoranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen zeigt; -
4 eine Kaskadenschaltung gemäß verschiedenen Ausführungsformen zeigt; -
5A -5H einen Herstellungsprozess für eine Leistungstransistoranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen zeigen; und -
6 ein Fließdiagramm zeigt, das ein Verfahren zur Herstellung einer Leistungstransistoranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen veranschaulicht. - Die folgende ausführliche Beschreibung bezieht sich auf die beiliegenden Zeichnungen, die zur Veranschaulichung nähere Einzelheiten und Ausführungsformen zeigen, in welchen die Erfindung ausgeführt werden kann.
- Der Begriff „beispielhaft“ wird hierin in der Bedeutung „als Beispiel, Exemplar oder Veranschaulichung dienend“ verwendet. Jede Ausführungsform oder Gestaltung, die hierin als „beispielhaft“ beschrieben ist, ist nicht unbedingt als bevorzugt oder vorteilhaft gegenüber anderen Ausführungsformen oder Gestaltungen zu verstehen.
- Der Begriff „über“, der in Bezug auf abgeschiedenes Material verwendet wird, das „über“ einer Seite oder Fläche gebildet wird, kann hierin in der Bedeutung verwendet werden, dass das abgeschiedene Material „direkt auf“ z.B. in direktem Kontakt mit der genannten Seite oder Fläche gebildet bildet. Der Begriff „über“, der in Bezug auf ein abgeschiedenes Material verwendet wird, das „über“ einer Seite oder Fläche gebildet wird, kann hierin in der Bedeutung verwendet werden, dass das abgeschiedene Material „indirekt auf“ der genannten Seite oder Fläche gebildet wird, wobei eine oder mehrere zusätzliche Schichten zwischen der genannten Seite oder Fläche und dem abgeschiedenen Material angeordnet sind.
- Verschiedene Ausführungsformen stellen eine niederinduktive Baugruppe für Leistungsanwendungen bereit.
-
1 bis3 zeigen eine Leistungstransistoranordnung100 gemäß verschiedenen Ausführungsformen. -
1 zeigt eine Draufsicht der Leistungstransistoranordnung100 , und2 zeigt die Rückseite der Leistungstransistoranordnung100 . - Die Leistungstransistoranordnung
100 weist einen Träger102 , einen ersten Leistungstransistor104 und einen zweiten Leistungstransistor106 auf. Wie in1 und2 dargestellt, weist der erste Leistungstransistor104 eine Steuerelektrode112 , eine erste Leistungselektrode114 und eine zweite Leistungselektrode116 auf; und der zweite Leistungstransistor106 weist eine Steuerelektrode122 , eine erste Leistungselektrode124 und eine zweite Leistungselektrode126 auf. Der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 sind nebeneinander auf dem Träger102 angeordnet, so dass die Steuerelektrode112 des ersten Leistungstransistors104 und die Steuerelektrode122 des zweiten Leistungstransistors106 dem Träger102 zugewandt sind. - Die erste Leistungselektrode
114 des ersten Leistungstransistors104 und die erste Leistungselektrode124 des zweiten Leistungstransistors106 weisen vom Träger102 weg. Die erste Leistungselektrode114 des ersten Leistungstransistors104 und die erste Leistungselektrode124 des zweiten Leistungstransistors106 sind elektrisch aneinander gekoppelt. - Der Träger
102 kann einen Leiterrahmen enthalten, der aus einem Metall oder einer Metalllegierung bestehen kann, z.B. einem Material, das ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus: Kupfer (Cu), Eisennickel (FeNi), Stahl und dergleichen. - Die erste Leistungselektrode
114 des ersten Leistungstransistors104 und die erste Leistungselektrode124 des zweiten Leistungstransistors106 sind durch eine elektrisch leitende Kopplungsstruktur132 elektrisch aneinander gekoppelt, wie in3 dargestellt. Die elektrisch leitende Kopplungsstruktur132 kann über der Struktur angeordnet sein, die in1 dargestellt ist, d.h. über der ersten Leistungselektrode114 des ersten Leistungstransistors104 und der ersten Leistungselektrode124 des zweiten Leistungstransistors106 , die unter der elektrisch leitenden Kopplungsstruktur132 in3 verborgen waren. - In verschiedenen Ausführungsformen kann die Kopplungsstruktur
132 ein Metall und/oder eine Metalllegierung enthalten. In verschiedenen Ausführungsformen kann die Kopplungsstruktur132 mindestens eine Struktur enthalten, die ausgewählt ist aus einer Gruppe von Strukturen, bestehend aus: einer Klemme, einem Band, einem Draht, einer Platte und einem Leiterzug. In verschiedenen Ausführungsformen kann die Kopplungsstruktur132 einen Wärmewiderstand von 1 K/W oder weniger aufweisen. - Die elektrisch leitende Kopplungsstruktur
132 ist von sämtlichen Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüssen elektrisch isoliert. Die Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüsse können Leitungskontakte oder Stifte enthalten, die zum Beispiel an den Träger102 gekoppelt sind. - Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann einer oder können beide von dem ersten Leistungstransistor
104 und dem zweiten Leistungstransistor106 einen MOSFET, einen JFET, einen IGBT oder einen Bipolartransistor enthalten. - In verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor
104 und der zweite Leistungstransistor106 Transistoren desselben Transistortyps sein. In verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 FETs (Feldeffekttransistoren) oder IGBTs mit einer Nennspannung von zum Beispiel etwa 20 V bis 20 kV sein. - Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor
104 und der zweite Leistungstransistor106 von derselben Spannungsklasse sein. Zum Beispiel können der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 dieselbe Nennspannung haben, d.h. dieselbe Maximalspannung, der der erste Leistungstransistor104 und zweite Leistungstransistor106 standhalten können. Der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 können unterschiedliche Stromführungseigenschaften haben. - Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Steuerelektrode
112 des ersten Leistungstransistors104 und die Steuerelektrode122 des zweiten Leistungstransistors106 entweder die Gate-Elektrode von MOSFET, JFET oder IGB Transistoren oder die Basiselektrode von Bipolartransistoren sein. - Die erste Leistungselektrode
114 des ersten Leistungstransistors104 kann entweder die Source-Elektrode eines MOSFET oder JFET Transistors oder die Emitter-Elektrode eines IGBT oder Bipolartransistors sein. Die erste Leistungselektrode124 des zweiten Leistungstransistors106 kann entweder die Source-Elektrode eines MOSFET oder JFET Transistors oder die Emitter-Elektrode eines IGBT oder Bipolartransistors sein. In verschiedenen Ausführungsformen können der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 , die PMOS-Transistoren sind und deren entsprechende Source-Elektroden114 ,124 elektrisch aneinander gekoppelt sind, eine zweiseitige blockierende PMOS Transistorschaltung bilden. - Die erste Leistungselektrode
114 des ersten Leistungstransistors104 kann beispielsweise entweder die Drain-Elektrode eines MOSFET oder JFET Transistors oder die Kollektor-Elektrode eines IGBT oder Bipolartransistors sein; und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors kann entweder die Drain-Elektrode eines MOSFET oder JFET Transistors oder die Kollektor-Elektrode eines IGBT oder Bipolartransistors sein. Der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 , die NMOS Transistoren sind und deren entsprechende Drain-Elektroden114 ,124 können elektrisch aneinander gekoppelt sind, eine zweiseitige blockierende NMOS Transistorschaltung bilden. - Die zweiseitige blockierende PMOS Transistorschaltung oder die zweiseitige blockierende MMOS Transistorschaltung, die durch die Leistungstransistoranordnung
100 verschiedener Ausführungsformen gebildet wird, kann ein zweiseitiger blockierender Schaltkreis sein, der zum Blockieren einer Spannung in beide Richtung verwendet werden kann. - Die erste Leistungselektrode
114 des ersten Leistungstransistors104 kann entweder die Source-Elektrode eines MOSFET oder JFET Transistors oder die Emitter-Elektrode eines IGBT oder Bipolartransistors sein. Die erste Leistungselektrode124 des zweiten Leistungstransistors106 kann entweder die Drain-Elektrode eines MOSFET oder JFET Transistors oder die Kollektor-Elektrode eines IGBT oder Bipolartransistors sein. Der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 , deren entsprechende erste Leistungselektroden elektrisch aneinander gekoppelt sind, können eine Kaskodenschaltung oder eine Halbbrückenschaltung bilden. Zum Beispiel ist die Kaskadenschaltung400 , die der Leistungsanordnung100 entspricht, in4 dargestellt, wie unten ausführlicher beschrieben ist. - Der erste Leistungstransistor
104 kann ein HEMT, wie ein GaN HEMT, oder ein SiC HEMT oder ein Hochspannungs-Si HEMT sein. Der zweite Leistungstransistor106 kann ein Niederspannungs-MOSFET (z.B., kleiner als 200V) (p-Kanal oder n-Kanal) wie ein SFET sein. - In den in
1 ,2 und4 dargestellten Ausführungsformen ist der erste Leistungstransistor104 ein GaN HEMT und der zweite Leistungstransistor106 ist ein SFET. Es ist jedoch klar, dass der erste Leistungstransistor104 und der zweite Leistungstransistor106 verschiedene Arten der oben beschriebenen Leistungstransistoren sein können. - Wie in
1 und2 dargestellt, bildet die Leistungstransistoranordnung100 eine Flipchip-Kaskaden- (FCC) Anordnung, in der die Gate-Elektroden112 ,122 des ersten GaN HEMT104 und des SFET106 an entsprechende Stifte auf dem Träger102 mittels Wende-Montage angebracht und somit ohne die Induktivität angeschlossen sind, die durch die Montage verursacht wird. Daher können die Gate-Elektroden112 ,122 neu verteilt oder neu verdrahtet werden, ohne Bonddrähte oder Chips zu benötigen. - Die FCC-Anordnung
100 wird durch wendemontierte Chips gebildet, wobei der GaN Chip104 mit seiner Gate-Elektrode112 und Drain-Elektrode116 nach unten weisend (d.h. zum Träger102 weisend) angeordnet ist und der SFET Chip106 mit seiner Gate-Elektrode122 und Source-Elektrode126 nach unten weisend (d.h. zum Träger102 weisend) angeordnet ist. Die Source-Elektrode114 des GaN Chips104 und die Drain-Elektrode124 des SFET106 weisen nach oben, d.h. weisen vom Träger102 weg. - Die Source-Elektrode
114 des GaN Chips104 und die Drain-Elektrode124 des SFET106 können z.B. durch die elektrisch leitende Kopplungsstruktur132 von3 intern verbunden (z.B. verdrahtet) sein, um den Knotenpunkt zwischen dem GaN Chip104 und dem SFET106 in der Kaskadenschaltung400 von4 zu bilden. Die Verbindung zwischen der Source-Elektrode114 des GaN Chips104 und der Drain-Elektrode124 des SFET106 muss keine externe Verbindung oder kein Stift oder Leitungskontakt sein, wodurch es möglich wird, die elektrisch leitende Kopplungsstruktur132 (z.B. eine Kontaktklemme) in Bezug auf ihre Wärmeleistung, z.B. Wärmekapazität und Wärmeverteilung, unabhängig von der Baugruppenkontaktfläche (z.B. dem Baugruppenfußabdruck) zu optimieren. - Durch die Anordnung der Leistungstransistoranordnung
100 in verschiedenen, obenstehenden Ausführungsformen, in welchen die Steuerelektroden des Leistungstransistors nach unten zum Träger weisen, ist ein Umverteilungselement (d.h. der Träger102 , z.B. Leiterrahmen) frei von Drahtkontaktierungen. - Die Leistungstransistoranordnung
100 verschiedener Ausführungsformen ist einfach mit geringeren Schaltverlusten kühlbar und kann eine ähnliche Leistung wie eine Chip-auf-Chip-Struktur, jedoch ohne Wärmeeinschränkungen, erreichen. - Die Leistungstransistoranordnung
100 kann eine Größe im Bereich von etwa 1 mm2 bis 10cm2 haben. - Es ist eine Baugruppe bereitgestellt, die die Leistungstransistoranordnung
100 verschiedener obenstehender Ausführungsformen und Baugruppenanschlüsse (z.B. Stifte oder Leitungskontakte) enthält, die für den Empfang elektrischer Signale von außerhalb der Baugruppe gestaltet sind. Die elektrisch leitende Kopplungsstruktur132 der Leistungstransistoranordnung100 ist von den Baugruppenanschlüssen elektrisch isoliert. - Die Baugruppe kann als eine von QFN (Quad-Flat-No-Leads) Baugruppen, DSO (Dual Small Outline) Baugruppen, TO220, TO247, TO263, TO252 und dergleichen gebildet sein. Die Baugruppe kann als eine eingebettete Baugruppe gebildet sein.
- Beispielsweise kann die Leistungstransistoranordnung
100 mit wendemontierten GaN und SFET Chips in einem 8x8 ThinPAK eingehäust sein, wobei der GaN Chip104 ein Hochspannungs- (z.B. größer als 200V) HEMT Schalter sein kann und der SFET Chip106 ein Niederspannungs- (z.B. kleiner als 200V) Leistungs-MOSFET sein kann. Der GaN HEMT104 ist eine normalerweise eingeschaltete Vorrichtung und wird mit der Einführung des Niederspannungs-SFET106 zu einem normalerweise ausgeschalteten Transistor transformiert. Eine solche GaN-SFET Anordnung100 kann der Kaskadenschaltung400 von4 entsprechen. - Die Kaskodenschaltung
400 kann einen Niederspannungs-SFET106 in einer Common-Source- und einen Hochspannungs-GaN-HEMT 104 in Common-Gate-Konfiguration enthalten. Die erhaltene 3-Tor-Schaltung kann als Schalter dienen. Die Drain-Elektrode des GaN-HEMT 104 definiert das 600V Verhalten der Kaskadenschaltung400 . -
5A bis5H zeigen einen Herstellungsprozess einer Leistungstransistoranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen. - In
5A ist ein Träger502 vorgesehen. Der Träger502 kann entsprechende Chipkontakte zur Montage eines oder mehrerer Chips enthalten. - In
5B wird Lötpaste504 auf die entsprechenden Flächen des Trägers502 , z.B. auf die entsprechenden Stifte auf dem Träger502 zur Verbindung mit den Chips aufgetragen. - In
5C sind ein erster Leistungstransistorchip506 und ein zweiter Leistungstransistorchip508 auf der entsprechenden Lötpaste504 montiert. Der erste Leistungstransistorchip506 und der zweite Leistungstransistorchip508 sind nebeneinander angeordnet, wobei ihre Steuerelektroden nach unten weisen, d.h. zum Träger502 weisen. In verschiedenen Ausführungsformen können die Steuerelektroden des ersten Leistungstransistorchips506 und des zweiten Leistungstransistorchips508 mit dem Träger502 durch Weichlöten, Kleben, Diffusionslöten, Sintern und dergleichen verbunden werden. - In
5D kann die Lötpaste510 auf den ersten Leistungstransistorchip506 und den zweiten Leistungstransistorchip508 aufgebracht werden. Zum Beispiel kann die Lötpaste510 auf der entsprechenden Leistungselektrode des ersten Leistungstransistorchips506 und des zweiten Leistungstransistorchips508 aufgebracht werden. - In
5E kann eine elektrisch leitende Kopplungsstruktur512 gebildet werden, um den ersten Leistungstransistorchip506 und den zweiten Leistungstransistorchip508 durch die Lötpaste510 zu verbinden. - In
5E wird ein Erwärmungsprozess zum Schmelzen der Lötpaste504 ,510 durchgeführt. - In
5F wird ein Kühlungsprozess zum Härten der Lötpaste504 ,510 durchgeführt. - In
5H wird ein weiterer Erwärmungsprozess durchgeführt, wodurch die Leistungstransistoranordnung mit dem ersten Leistungstransistorchip506 und dem zweiten Leistungstransistorchip508 gebildet wird. Die derart gebildete Leistungstransistoranordnung hat eine vertikale Struktur, wobei ein Strom vertikal durch die Vorrichtung fließt. -
6 zeigt ein Fließdiagramm600 , das ein Verfahren zur Herstellung einer Leistungstransistoranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen zeigt. - Bei
602 werden ein erster Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode und ein zweiter Leistungstransistor mit einer Steuerelektrode und einer ersten Leistungselektrode und einer zweiten Leistungselektrode auf einer elektrisch leitenden Struktur so angebracht, dass der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor nebeneinander angeordnet sind und dass die erste Leistungselektrode des ersten Leistungstransistors und die erste Leistungselektrode des zweiten Leistungstransistors an der elektrisch leitenden Struktur befestigt und dadurch aneinander elektrisch gekoppelt sind. - Bei
604 werden der erste Leistungstransistor und der zweite Leistungstransistor auf einem Träger mittels der elektrisch leitenden Struktur als Zwischenträger befestigt, so dass die Steuerelektrode des ersten Leistungstransistors und die Steuerelektrode des zweiten Leistungstransistors dem Träger zugewandt sind.
Claims (15)
- Leistungstransistoranordnung (100), aufweisend: einen Träger (102); einen ersten Leistungstransistor (104) mit einer Steuerelektrode (112) und einer ersten Leistungselektrode (114) und einer zweiten Leistungselektrode (116); einen zweiten Leistungstransistor (106) mit einer Steuerelektrode (122) und einer ersten Leistungselektrode (124) und einer zweiten Leistungselektrode (126); wobei der erste Leistungstransistor (104) und der zweite Leistungstransistor (106) nebeneinander auf dem Träger (102) derart angeordnet sind, dass die Steuerelektrode (112) des ersten Leistungstransistors (104) und die Steuerelektrode (122) des zweiten Leistungstransistors (106) dem Träger (102) zugewandt sind, wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) vom Träger (102) weg weisen; wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) mittels einer elektrisch leitende Kopplungsstruktur (132) aneinander gekoppelt sind; und wobei die elektrisch leitende Kopplungsstruktur (132) von sämtlichen Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüssen elektrisch isoliert ist.
- Leistungstransistoranordnung (100) nach
Anspruch 1 , wobei die Kopplungsstruktur (132) mindestens eines von einem Metall und einer Metalllegierung aufweist. - Leistungstransistoranordnung (100) nach
Anspruch 2 , wobei die Kopplungsstruktur (132) mindestens eine Struktur aufweist, die ausgewählt ist aus einer Gruppe von Strukturen, bestehend aus: einer Klemme; einem Band; einem Draht; einer Platte; und einem Leiterzug. - Leistungstransistoranordnung (100) nach
Anspruch 3 , wobei die Kopplungsstruktur (132) einen Wärmewiderstand von 1 K/W oder weniger hat. - Leistungstransistoranordnung (100) nach einem der
Ansprüche 2 bis4 , wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) entweder die Source-Elektrode oder die Emitter-Elektrode des ersten Leistungstransistors (104) ist; wobei die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) entweder die Drain-Elektrode oder die Kollektor-Elektrode des zweiten Leistungstransistors (106) ist. - Leistungstransistoranordnung (100) nach einem der
Ansprüche 2 bis4 , wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) entweder die Source-Elektrode oder die Emitter-Elektrode des ersten Leistungstransistors (104) ist; wobei die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) entweder die Source-Elektrode oder die Emitter-Elektrode des zweiten Leistungstransistors (106) ist. - Leistungstransistoranordnung (100) nach einem der
Ansprüche 2 bis4 , wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) entweder die Drain-Elektrode oder die Kollektor-Elektrode des ersten Leistungstransistors (104) ist; wobei die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) entweder die Drain-Elektrode oder die Kollektor-Elektrode des zweiten Leistungstransistors (106) ist. - Leistungstransistoranordnung (100) nach einem der
Ansprüche 1 bis7 , wobei der erste Leistungstransistor (104) ein Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit ist. - Leistungstransistoranordnung (100) nach
Anspruch 8 , wobei der Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit einer von einem Galliumnitrid-Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit, einem Siliziumkarbid-Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit und einem Hochspannungs-Silizium-Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit ist. - Leistungstransistoranordnung (100) nach einem der
Ansprüche 1 bis9 , wobei der zweite Leistungstransistor (106) ein Niederspannungs-Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor ist. - Leistungstransistoranordnung (100) nach einem der
Ansprüche 1 bis9 , wobei der erste Leistungstransistor (104) und der zweite Leistungstransistor (106) Transistoren desselben Transistortyps sind. - Leistungstransistoranordnung (100) nach einem der
Ansprüche 1 bis11 , wobei der erste Leistungstransistor (104) und der zweite Leistungstransistor (106) von derselben Spannungsklasse sind. - Baugruppe, aufweisend: eine Leistungstransistoranordnung (100), aufweisend: einen Träger (102); einen ersten Leistungstransistor (104) mit einer Steuerelektrode (112) und einer ersten Leistungselektrode (114) und einer zweiten Leistungselektrode (116); einen zweiten Leistungstransistor (106) mit einer Steuerelektrode (122) und einer ersten Leistungselektrode (124) und einer zweiten Leistungselektrode (126); wobei der erste Leistungstransistor (104) und der zweite Leistungstransistor (106) nebeneinander auf dem Träger (102) derart angeordnet sind, dass die Steuerelektrode (112) des ersten Leistungstransistors (104) und die Steuerelektrode (122) des zweiten Leistungstransistors (106) dem Träger (102) zugewandt sind; wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) vom Träger (102) weg weisen; und wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) durch eine elektrisch leitende Kopplungsstruktur (132) elektrisch aneinander gekoppelt sind; Baugruppenanschlüsse, die zum Empfangen elektrischer Signale von außerhalb der Baugruppe gestaltet sind; wobei die elektrisch leitende Kopplungsstruktur (132) von den Baugruppenanschlüssen elektrisch isoliert ist.
- Verfahren zur Herstellung einer Leistungstransistoranordnung (100), wobei das Verfahren aufweist: Anordnen eines ersten Leistungstransistors (104) mit einer Steuerelektrode (112) und einer ersten Leistungselektrode (114) und einer zweiten Leistungselektrode (116) und eines zweiten Leistungstransistors (106) mit einer Steuerelektrode (122) und einer ersten Leistungselektrode (124) und einer zweiten Leistungselektrode (126) auf einer elektrisch leitenden Struktur, so dass der erste Leistungstransistor (104) und der zweite Leistungstransistor (106) nebeneinander angeordnet sind und dass die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) an der elektrisch leitenden Struktur befestigt und dadurch elektrisch aneinander gekoppelt sind; und Montieren des ersten Leistungstransistors (104) und des zweiten Leistungstransistors (106) auf einem Träger (102) mittels der elektrisch leitenden Struktur als Zwischenträger, so dass die Steuerelektrode (112) des ersten Leistungstransistors (104) und die Steuerelektrode (122) des zweiten Leistungstransistors (106) dem Träger (102) zugewandt sind, wobei die elektrisch leitende Struktur von sämtlichen Leistungstransistoranordnungs-Außenanschlüssen elektrisch isoliert ist.
- Verfahren nach
Anspruch 14 , wobei die erste Leistungselektrode (114) des ersten Leistungstransistors (104) und die erste Leistungselektrode (124) des zweiten Leistungstransistors (106) an die elektrisch leitende Struktur gelötet sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/759,161 US9099441B2 (en) | 2013-02-05 | 2013-02-05 | Power transistor arrangement and method for manufacturing the same |
US13/759,161 | 2013-02-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102014101261A1 DE102014101261A1 (de) | 2014-08-07 |
DE102014101261B4 true DE102014101261B4 (de) | 2020-01-23 |
Family
ID=51206213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102014101261.5A Active DE102014101261B4 (de) | 2013-02-05 | 2014-02-03 | Leistungstransistoranordnung und Verfahren zu deren Herstellung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9099441B2 (de) |
CN (1) | CN103972193B (de) |
DE (1) | DE102014101261B4 (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105448746B (zh) * | 2014-08-07 | 2018-03-23 | 北大方正集团有限公司 | 一种氮化镓器件及封装方法 |
US9960234B2 (en) * | 2014-10-07 | 2018-05-01 | Semiconductor Components Industries, Llc | Method of forming a semiconductor device and structure therefor |
US9496207B1 (en) | 2015-06-19 | 2016-11-15 | Semiconductor Components Industries, Llc | Cascode semiconductor package and related methods |
JPWO2017043611A1 (ja) * | 2015-09-10 | 2018-06-21 | 古河電気工業株式会社 | パワーデバイス |
EP3385981A1 (de) * | 2017-04-04 | 2018-10-10 | Nexperia B.V. | Leistungsvorrichtung |
DE102017206744B9 (de) * | 2017-04-21 | 2023-01-12 | Infineon Technologies Ag | Mems package mit hoher wärmekapazität und verfahren zum herstellen selbiger |
CN109935561A (zh) * | 2017-12-18 | 2019-06-25 | 镓能半导体(佛山)有限公司 | 一种氮化镓器件及氮化镓器件的封装方法 |
JP7124474B2 (ja) | 2018-06-13 | 2022-08-24 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
CN111199958A (zh) * | 2018-11-16 | 2020-05-26 | 苏州东微半导体有限公司 | 半导体功率器件 |
EP4044225A1 (de) * | 2021-02-16 | 2022-08-17 | Nexperia B.V. | Halbleiterbauelement und verfahren zur herstellung eines halbleiterbauelements |
FR3121277B1 (fr) * | 2021-03-26 | 2024-02-16 | Safran Electronics & Defense | Procédé pour assembler un composant électronique à un substrat |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007025248A1 (de) | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Bauelement, das mindestens zwei Halbleiterleistungsbauteile aufweist |
US20090289354A1 (en) | 2008-05-20 | 2009-11-26 | Infineon Technologies Ag | Electronic module |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19610135C1 (de) | 1996-03-14 | 1997-06-19 | Siemens Ag | Elektronische Einrichtung, insbesondere zum Schalten elektrischer Ströme, für hohe Sperrspannungen und mit geringen Durchlaßverlusten |
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TWI365516B (en) * | 2005-04-22 | 2012-06-01 | Int Rectifier Corp | Chip-scale package |
DE102005034012A1 (de) | 2005-07-18 | 2006-11-09 | Infineon Technologies Ag | Leistungshalbleiterbauteil, insbesondere für das Treiben induktionsarmer Lasten, und Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleiterbauteils |
DE102006021959B4 (de) * | 2006-05-10 | 2011-12-29 | Infineon Technologies Ag | Leistungshalbleiterbauteil und Verfahren zu dessen Herstellung |
US7880280B2 (en) | 2007-02-16 | 2011-02-01 | Infineon Technologies Ag | Electronic component and method for manufacturing an electronic component |
US8786072B2 (en) * | 2007-02-27 | 2014-07-22 | International Rectifier Corporation | Semiconductor package |
US8227908B2 (en) | 2008-07-07 | 2012-07-24 | Infineon Technologies Ag | Electronic device having contact elements with a specified cross section and manufacturing thereof |
US8138587B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-03-20 | Infineon Technologies Ag | Device including two mounting surfaces |
US8519545B2 (en) | 2010-09-17 | 2013-08-27 | Infineon Technologies Ag | Electronic device comprising a chip disposed on a pin |
-
2013
- 2013-02-05 US US13/759,161 patent/US9099441B2/en active Active
-
2014
- 2014-02-03 DE DE102014101261.5A patent/DE102014101261B4/de active Active
- 2014-02-07 CN CN201410045302.0A patent/CN103972193B/zh active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007025248A1 (de) | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Bauelement, das mindestens zwei Halbleiterleistungsbauteile aufweist |
US20090289354A1 (en) | 2008-05-20 | 2009-11-26 | Infineon Technologies Ag | Electronic module |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103972193B (zh) | 2017-04-12 |
US20140217596A1 (en) | 2014-08-07 |
US9099441B2 (en) | 2015-08-04 |
CN103972193A (zh) | 2014-08-06 |
DE102014101261A1 (de) | 2014-08-07 |
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R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
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R082 | Change of representative |