DE10046296C2 - Elektronisches Chipbauteil mit einer integrierten Schaltung und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
Elektronisches Chipbauteil mit einer integrierten Schaltung und Verfahren zu seiner HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein elektronisches Chipbauteil mit ei
ner integrierten Schaltung und ein Verfahren zu seiner Her
stellung.
Integrierte Schaltungen werden zunehmend auch für Anwendungs
fälle eingesetzt, in denen nicht die gleichen Anforderungen
an die Qualität und Zuverlässigkeit der Verbindungsstelle
zwischen Halbleiterchip und Kontaktanschlußflächen eines ex
ternen Schaltungsträgers unter entsprechenden Extrembedingun
gen gestellt werden, wie es z. B. für den Einsatz in der Tele
kommunikation, der Luft- und Raumfahrt, der Verkehrstechnik,
der Medizintechnik usw. erforderlich ist. Chipbauteile mit
derartigen integrierten Schaltungen, die nicht die extremen
Anforderungen an Temperaturwechselbeständigkeit bei hohen
bzw. tiefen Extremtemperaturen oder die Lagerfähigkeit bei
hohen Temperaturen aufweisen müssen, gehören zu den "Low-
tech"-Chipbauteilen, die ein Anwendungssegment abdecken sol
len, bei dem die kostenintensiven Verbindungstechniken her
kömmlicher Chipbauteile ersetzt werden müssen durch preiswer
tere Lösungen.
Die DE 195 29 490 A1 zeigt ein Chipkontaktierungsverfahren,
bei dem ein Trägersubstrat bereitgestellt wird, auf dem lei
tende Anschlußabschnitte angeordnet sind. Auf der Oberfläche
des Trägersubstrats ist eine nicht-leitende Klebeschicht an
geordnet. Das Trägersubstrat wird mit einem Chip aus
gerichtet und mittels der Klebeschicht unter Bildung eines Druckkontaktes verbunden.
Die DE 40 08 624 C2 zeigt ein Verfahren zur Herstellung einer
hybriden Halbleiterstruktur mit einem Trägerplattensubstrat,
mit einem Halbleiterchipsubstrat und mit einer elektrisch
isolierenden Schicht aus einem klebrigen Material. Die beiden
Substrate werden relativ zueinander ausgerichtet und an
schließend aneinander gedrückt. Die Kontaktierung erfolgt durch
selektiv in das klebrige Material eingebrachtes elektrisch leitendes Pulver.
Die US 5,517,752 zeigt ein Verfahren zum Herstellen von elek
trischen Verbindungen, bei dem Kontaktoberflächen von sich
gegenüberliegenden Anschlußelektroden aneinander gepreßt wer
den, wobei die Kontaktoberflächen verformt werden. Auch in
diesem Fall liegt ein Druckkontakt vor.
Die JP 02268451 A zeigt ein Verfahren zum Verbinden von
lichtübertragenden Halbleitern, bei dem ein lichthärtendes
isolierendes Harz zwischen zwei Elementen zur Herstellung eines Druckkontaktes ausgehärtet wird.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Verbindungstechnik zu ver
einfachen und die Verfahrenskosten beim Verbinden von Chip
bauteilen mit Chipträgern zu vermindern.
Diese Aufgabe wird mit dem Gegenstand der unabhängigen An
sprüche gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus
den abhängigen Ansprüchen.
Erfindungsgemäß weist das elektronische Chipbauteil eine in
tegrierte Schaltung in einem Halbleiterchip auf, das auf sei
ner aktiven Oberfläche Kontaktflächen aufweist, die dem An
schließen der integrierten Schaltung an externe Schaltungs
träger dienen. Dazu weisen die Kontaktflächen gegenüber dem
Niveau der obersten elektrisch nichtleitenden Schicht der in
tegrierten Schaltung eine Kontaktschicht auf, die aus Andruck
kontaktmaterial besteht, und ragen über das Niveau der ober
sten elektrisch nichtleitenden Schicht hinaus. Darüber hinaus
ist zumindest die aktive Oberfläche des Halbleiterchips, die
nicht von den Kontaktflächen eingenommen wird, von einer der
Kontaktschichthöhe angepaßten schmelzfähigen Klebeschicht be
deckt. Durch besondere Auswahl des Klebeschichtmaterials in
bezug auf die zu verklebenden Oberflächen und in bezug auf
die von Klebstoff freizuhaltenden Oberflächen benetzt im ge
schmolzenen Zustand die Klebeschicht die elektrisch nichtlei
tende oberste Schicht der integrierten Schaltung und den
Oberflächenbereich des Schaltungsträgers außerhalb der Kon
taktanschlußflächen und benetzt im schmelzflüssigen Zustand
nicht die Andruckkontaktflächen des elektronischen Chipbau
teils selbst sowie die Kontaktanschlußflächen auf dem Schal
tungsträger.
Ein derartig aufgebautes elektronisches Chipbauteil hat den
Vorteil, daß es ohne zusätzliches Gehäuse ausgeliefert werden
kann und unmittelbar auf einen externen Schaltungsträger un
ter Bildung einer Andruckkontaktierung zwischen den Andruck
kontaktflächen des elektronischen Chipbauteils und den Kon
taktanschlußflächen des externen Schaltungsträgers montierbar
ist. Ein weiterer Vorteil dieses elektronischen Chipbauteils
ist es, daß die Präparation der Kontaktflächen mittels einer
zusätzlichen Kontaktschicht unmittelbar auf einem Halbleiter
wafer für mehrere integrierte Schaltungen simultan erfolgen
kann und ebenso das Aufbringen einer angepaßten schmelzfähi
gen Klebeschicht im ungeteilten Zustand des Halbleiterwafers
für mehrere integrierte Schaltungen und damit für mehrere
elektronische Chipbauteile in einem Arbeitsschritt erfolgen
kann. Schließlich ist ein ganz wesentlicher Vorteil des er
findungsgemäßen elektronischen Chipbauteils, daß es ohne Ge
häuse vermarktet werden kann, so daß der Abnehmer sowohl in
der Formgebung des externen Schaltungsträgers als auch in der
Ausbildung sehr flacher mit elektronischen Chipbauteilen bestückter
Schaltungsträger frei gestalten kann. Außerdem er
möglicht das mit Andruckkontaktflächen aus
gestattete elektronische Chipbauteil einen Einbau oder Aufbau
auf externe flexible Schaltungsträger, da die
Andruckkontakttechnik eine weite Toleranz in bezug auf die
Anpassung der Wärmeausdehnungseigenschaften des Halbleiter
chips und des Schaltungsträgers zuläßt.
Bei der gezielten Abstimmung der Benetzungseigenschaften des
Materials der Klebeschicht in bezug auf die Materialien von
elektronischem Chipbauteil und externem Schaltungsträger wird
vorteilhaft erreicht, daß sich im schmelzflüssigen Zustand
die Klebstoffschichtbereiche von den Bereichen der Andruck
kontaktflächen und Kontaktanschlußflächen trennen, indem sich
der Klebstoff auf die Oberflächenbereiche zurückzieht, die
benetzbar sind.
Der externe Schaltungsträger kann bspw. ein Sicherungschipträ
ger für Konsumartikel sein. Diese Sicherungschipträger sind
mit integrierten Sicherungsschaltungen bestückt, um über soge
nannte Tags den Konsumartikel zu kennzeichnen, logistisch zu
verwalten und vor einer unberechtigten Entnahme zu sichern. Da
derartig gesicherte Konsumartikel in klimatisierten Räumen in
großen Mengen gelagert, verwaltet und angeboten werden, kann
das elektronische Chipbauteil auf dem Sicherungschipträger
aufgrund der kostengünstigen Herstellung der elektrischen Ver
bindungsstellen zwischen Sicherungschipträger und elektroni
schen Chipbauteilen zur Verbilligung auch der Konsumartikel
beitragen.
Alternativ kann der externe Schaltungsträger ein Chipträger
mit Antennenfunktion für Zugangskontrollen zu Fahrzeugen
und/oder Gebäuden sein. Auch dieser Anwendungsfall des erfin
dungsgemäßen Chipbauteils nutzt den Vorteil, daß das elektro
nische Chipbauteil ohne spezielle Gehäuseform einem beliebig
geformten Chipträger, einem Gebäude- oder Fahrzeugschlüssel
kopf oder anderen mit Antennenfunktion ausgestatteten Zugangs
kontrollvorrichtungen angepaßt werden kann.
In einem weiteren alternativen Anwendungsfall kann der externe
Schaltungsträger ein Chipträger für Identitäts-, Buchungs-,
Telefon- und/oder Bankautomatenkarten sein. Bei dieser Ausfüh
rungsform kommt ebenfalls der Vorteil eines elektronischen
Chipbauteils zur Geltung, das keinerlei Gehäuseteile aufweist
und somit einfach und platzsparend auf die jeweiligen Karten
aufgeklebt oder in entsprechenden Aussparungen der Karten un
tergebracht werden kann. Ferner kommt bei dieser Ausführungs
form besonders die Flexibilität der Andruckkontaktlösung die
ses elektronischen Chipbauteils zur Geltung.
Weiterhin kann der externe Schaltungsträger ein Chipträger
für die Steuerung von Spielzeugen und/oder Modellen sein.
Hierbei wirkt sich besonders die preiswerte Fertigungs- und
Weiterverarbeitungsmöglichkeit des elektronischen Chipbau
teils aus. Im Prinzip kann jedes elektronische Chipbauteil
Bestandteil eines Bausatzes sein, aus denen Spielzeuge und
Modelle zusammengesetzt sind, da aufgrund der schmelzfähigen
Klebeschicht das elektronische Chipbauteil für den Bausatz
handhabbar, austauschbar und mehrfach einsetzbar wird.
Die Klebeschicht weist bei einer weiteren Ausführungsform der
Erfindung zwischen den Andruckkontaktflächen eine größere
Dicke auf als auf den Andruckkontaktflächen. Diese Unter
schiede in der Dicke können bereits beim Auftragen der Klebe
schicht durch die gewählte Auftragstechnik auf einen Halblei
terwafer erreicht werden, insbesondere, wenn die Klebeschicht
durch Rollbeschichten mit filmbildenden Medien erfolgt ist.
Eine unterschiedliche Dicke der Klebeschicht zwischen An
druckkontaktfläche und dem übrigen Oberflächenbereich eines
Halbleiterwafers hat den Vorteil für die Weiterverarbeitung
und Anwendung des elektronischen Chipbauteils,
daß sich beim Schmelzen des Klebeschichtmaterials
nur eine kleine Menge auf die benetzbaren
Oberflächenbereiche zurückziehen muß.
Zur Verbesserung der Kontaktgabe der Andruckkontaktflächen
können diese ggf. eine Aufrauhung aufweisen. Diese Aufrauhung
kann bereits mit der Herstellung bzw. Abscheiden des Andruck
kontaktmaterials entstehen oder durch einen zusätzlichen Auf
rauhungsschritt erfolgen, der dann für den gesamten Halblei
terwafer gleichzeitig dem Befreien der Kontaktandruckflächen
von eventuell anhaftendem Klebstoff in vorteilhafter Weise
dienen kann.
Als Andruckkontaktmaterial der Andruckkontaktfläche kommt eine
duktile elektrisch leitende Metall-Legierung in Frage. Die
Duktilität der Metall-Legierung gewährleistet, daß sich die
Andruckkontaktfläche der Oberfläche einer Kontaktanschlußflä
che eines externen Schaltungsträgers anpassen kann. Insbeson
dere ist die Duktilität dann von Vorteil, wenn die Kontaktan
schlußflächen nach der Präparation des Schaltungsträgers auf
gerauht sind, so daß beim Andruckkontaktieren sich das duktile
elektrisch leitende Metallmaterial in die rauhe Oberfläche der
Kontaktanschlußflächen des Schaltungsträgers einarbeiten kann.
Das Andruckkontaktmaterial kann wahlweise auch eine oxidati
onsresistente Metall-Legierung sein. Eine derartige Metall-
Legierung gewährleistet, daß die Andruckkontaktflächen nicht
durch Oxidation in ihrer elektrischen Kontaktierfähigkeit im
Laufe der Zeit beeinträchtigt werden, sondern gewährleistet
eine langlebige elektrische Kontaktierung zwischen den zu
kontaktierenden Komponenten.
Als Andruckkontaktmaterial der Andruckkontaktfläche kann ggf.
eine Nickel-Gold-Legierung Verwendung finden. Dabei sorgt der
Goldanteil für die erforderliche Oxidationsresistenz und der
Nickelanteil für die gewünschte Festigkeit des Andruckkontak
tes. Bei Andruckkontaktmaterialien auf der Basis von Silber
ergibt sich der Vorteil, daß Silber nicht mit dem Sauerstoff
oder mit den Wassermolekülen in der Luft reagiert, sondern
Silbersulfit in einer normalen atmosphärischen Umgebung bil
det, das im Gegensatz zu den meisten Metalloxiden elektrisch
leitend bleibt. Bei Verwendung eines auf Indium basierenden
Andruckkontaktmaterials ergibt sich der Vorteil, daß Indiu
moxid eines der wenigen elektrisch leitenden Oxide bildet und
somit sich der Andruckkontakt selbst durch den atmosphäri
schen Sauerstoff nicht wesentlich während der Betriebslebens
dauer verschlechtert.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ragt die An
druckkontaktfläche 1,5 bis 8 µm über die oberste elektrisch
nichtleitende Schicht der integrierten Schaltung hinaus. Mit
dieser Kontaktflächenerhöhung der integrierten Schaltung wird
gewährleistet, daß ein sicherer Andruckkontakt zu den Kontak
tanschlußflächen eines externen Schaltungsträgers beim Auf
kleben des elektronischen Chipbauteils erreichbar ist. Dazu
weist die Klebeschicht wenigstens die Dicke der Kontakt
schicht auf und ist zwischen den Andruckkontaktflächen ange
ordnet. Bei Klebeschichten mit einer Dicke unterhalb der Kon
taktschichtdicke besteht die Gefahr, daß das Klebstoffvolumen
nicht ausreicht, das Chipbauteil mit dem Schaltungsträger so
zu verbinden, daß eine sichere Kontaktierung zwischen Kontak
tandruckflächen und Kontaktanschlußflächen gewährleistet ist.
Soweit der Klebstoff die Dicke der Andruckkontaktflächen
überragt und teilweise auf den Andruckkontaktflächen positio
niert ist, wird er beim Kontaktieren des elektronischen Chip
bauteils mit dem externen Schaltungsträger von den Andruck
kontaktflächen verdrängt und füllt teilweise die Zwischenräu
me zwischen den Kontaktanschlußflächen des externen Schal
tungsträgers auf. Mit dieser Ausführungsform des elektroni
schen Chipbauteils ist der Vorteil verbunden, daß der Über
schuß an Klebstoffvolumen derart bemessen ist, daß der Zwi
schenraum zwischen oberster nichtleitender Schicht des Chip
bauteils und der Oberfläche des Schaltungsträgers, die nicht
von den Kontaktanschlußflächen belegt ist, teilweise von
Klebstoff benetzt wird, so daß beim Erkalten des schmelzflüs
sigen Klebstoffs ein intensiver Kontakt zwischen den Andruck
kontaktflächen des elektronischen Chipbauteils und den Kon
taktanschlußflächen des Chipträgers erreicht wird. Ein Über
schreiten der Nivellierung der Klebstoffschicht mit der Über
höhung der Andruckkontaktflächen ist bei dieser Ausführungs
form erwünscht, um ein Füllen der oben angegebenen Zwischen
räumen zwischen elektronischem Chipbauteil und Schaltungsträ
ger zu gewährleisten.
Der Klebstoff besteht bspw. aus einem thermoplastischen
Kunststoff, vorzugsweise aus Glykolesterterephthalat, dessen
Schmelzvolumen größer
ist als das Volumen des erstarrten Klebstoffs, so daß die
auftretenden Spannungen in dem sich verfestigenden Klebstoff
zusätzlich das elektronische Chipbauteil auf den externen
Schaltungsträger in vorteilhafter Weise ziehen, so daß ein
intensiver Andruckkontakt zwischen Andruckkontaktflächen und
Kontaktanschlußflächen gewährleistet ist.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von elektroni
schen Chipbauteilen ist durch folgende Verfahrensschritte ge
kennzeichnet:
- - selektives Aufbringen einer Kontaktschicht aus Andruck kontaktmaterial auf Kontaktflächen eines Halbleiterwa fers mit einer Vielzahl integriertet Schaltungen zur Herstellung überhöhter Andruckkontaktflächen,
- - Aufbringen einer an die Höhe der Kontaktschicht angepaß ten schmelzfähigen Klebeschicht auf die Oberfläche des Halbleiterwafers, wobei die Klebeschicht im geschmolze nen Zustand die elektrisch nicht leitende oberste Schicht der integrierten Schaltung und den elektrisch nicht leitenden Oberflächenbereich des Schaltungsträgers benetzt und die Andruckkontaktflächen sowie die Kontak tanschlußflächen auf dem Schaltungsträger nicht benetzt,
- - Teilen des Halbleiterwafers in einzelne elektronische Chipbauteile mit Andruckkontaktflächen einer vereinzel ten integrierten Schaltung.
Dieses Verfahren hat den Vorteil, daß die wesentlichen
Schritte, nämlich das selektive Aufbringen einer Kontakt
schicht und das Aufbringen einer Klebeschicht für die elek
tronischen Bauteile noch vor dem Trennen eines Wafers in ein
zelne elektronische Chipteile erfolgt. Ferner wird durch die
ses Verfahren eine Andruckkontaktverbindung der Chipteile mit
einem externen Schaltungsträger möglich, die keinerlei Bond-
oder Lötvorgänge erfordert. Somit kann bei relativ niedriger
Temperatur der schmelzfähigen Klebeschicht eine Kontaktver
bindung zwischen den beiden Komponenten ohne großen Aufwand
hergestellt werden. Darüber hinaus wird der schmelzfähige
Klebstoff als derart dünne Klebeschicht angewandt, daß extrem
kurze Kontaktierzeiten möglich werden.
Die Anwendung des schmelzflüssigen Klebstoffs bereits auf die
Chips im Scheibenverbund ermöglicht darüber hinaus eine beson
ders kostengünstige Simultanpräparation sehr vieler Chips. So
mit wird mit diesem Verfahren gegenüber bekannten Kontaktier
verfahren ein schneller und damit kostengünstiger Ablauf zur
Herstellung von Chipverbindungen mit geringer Einbauhöhe er
möglicht. Die Erfindung schafft somit eine Möglichkeit der
einfachen und kostengünstigen Klebstoffapplikation bereits
auf der Scheibenebene und durch Verwendung von schmelzflüssi
gem Klebstoff extrem kurze Kontaktierzeiten.
Für das selektive Aufbringen des Andruckkontaktmaterials eig
net sich das Aufbringen oder Abscheiden durch eine Maske hin
durch. Derartige Masken können aus Metallfolien mit entspre
chenden Öffnungen für ein Aufdampfen oder Aufsputtern des An
druckkontaktmaterials bestehen. Ferner kann ein selektives
Aufbringen auch dadurch erreicht werden, daß zunächst eine ge
schlossene Schicht des Andruckkontaktmaterials auf dem Halb
leiterwafer abgeschieden wird und anschließend durch eine ent
sprechende Maskentechnologie ein selektives Ätzen vorzugsweise
Plasmaätzen erfolgt. Jedoch sind auch naßchemische Ätzverfah
ren einsetzbar, die alle Metallflächen, die nicht von der Mas
ke bedeckt sind, wegätzen. Die Maske selbst besteht bei dieser
Durchführung des Verfahrens aus einer photolithographisch auf
gebrachten Photolackschicht. Das flächige Aufbringen des An
druckkontaktmaterials
kann mittels Sputterns, Aufdampfens oder Plasmaab
scheidens erfolgen.
Die unterschiedlichen Verfahren zum selektiven Aufbringen des
Andruckkontaktmaterials bzw. der Kontaktschicht haben den Vor
teil, daß für jeden Anwendungsfall abhängig von der Größe der
Andruckkontaktflächen, die auf dem elektronischen Chipbauteil
aufgebracht werden sollen, ein geeignetes und optimiertes Ver
fahren einsetzbar ist. Da mit zunehmender Andruckkontaktfläche
der Kostenaufwand für das Verfahren zur Herstellung erhöhter
Kontaktandruckflächen abnimmt, kann es ein Vorteil sein, die
mikroskopisch kleinen Kontaktflächen der integrierten Schal
tungen in einem ausreichend großen Abstand auf dem Halbleiter
chip anzuordnen, so daß großflächige, billig herzustellende
Andruckkontaktflächen, die mit den mikroskopisch kleinen Kon
taktflächen der integrierten Schaltung elektrisch verbunden
sind, auf der Chipoberfläche angeordnet werden können. Unter
großflächig werden in diesem Zusammenhang Flächen mit Kanten
längen über 25 µm und unter mikroskopisch kleinen Flächen wer
den Flächen verstanden, die nur mit Hilfe eines Lichtmikro
skops meßbar sind.
Die Aufbringung einer Klebeschicht aus dem oben aufgeführten
Klebstoff wird in einer Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens mittels Auflaminierens einer Klebstoff-Folie er
reicht. Ist das Material der Klebstoff-Folie für metallische
Oberflächen nicht benetzend, so werden beim schmelzflüssigen
Erwärmen der auflaminierten Klebstoffschicht die metallischen
Andruckkontaktflächen freigelegt, während der Klebstoff sich
zwischen den Andruckkontaktflächen konzentriert.
Die Klebeschicht kann in einer weiteren Durchführung des Ver
fahrens aufgesprüht werden, wobei der Klebstoff für die Klebeschicht
in einem Lösungsmittel zunächst gelöst ist und sich
nach Verdampfen des Lösungsmittels der Klebstoff zu einer Kle
beschicht auf dem Halbleiterwafer gleichmäßig verteilt. Ein
Aufsprühen der Klebeschicht kann auch im schmelzflüssigen Zu
stand des Klebstoffs erfolgen, wobei eine Klebeschicht auf der
Waferoberfläche erstarrt. Von diesen beiden Verfahrensmöglich
keiten wird das Aufbringen einer Klebeschicht mittels im Lö
sungsmittel verdünntem Klebstoff bevorzugt. Beim Aufsprühen
einer Klebeschicht ist zunächst die Dicke der Klebeschicht so
wohl auf den Andruckkontaktflächen als auch in den Zwischen
räumen gleich dick.
Verfahren, die eine unterschiedliche Dicke zwischen der Klebe
schicht auf den Andruckkontaktflächen und der Klebeschicht in
den Zwischenräumen ermöglichen, sind das Tauchbeschichten oder
das Aufschleudern des Klebstoffs. In beiden Fällen wird ein
Klebstoff gelöst in Lösungsmitteln beim Auftragen der Kleb
stoffschicht bevorzugt.
Einen besonderen Vorteil beim Auftragen der Klebstoffschicht
bildet das Rollbeschichten, bei dem filmbildende Medien aufge
bracht werden und durch das Rollbeschichten dafür gesorgt
wird, daß die Klebeschicht auf den Andruckkontaktflächen we
sentlich dünner ist als in den Zwischenräumen. Schließlich ist
in einer weiteren Durchführung des Verfahrens eine Pulverbe
schichtung mittels filmbildender Medien vorgesehen, wobei der
Wafer beim Aufbringen des Pulvers erwärmt wird, so daß sich
das filmbildende Medium als Klebeschicht ausbreiten kann.
Die Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die beigefügten
Figuren an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert.
Fig. 1 ist eine Prinzipskizze eines teilweisen Querschnitts
durch einen Halbleiterwafer mit einer Vielzahl inte
grierter Schaltungen für elektronische Chipbauteile.
Fig. 2 ist eine Prinzipskizze eines Querschnitts durch ein
elektronisches Chipbauteil vor dem Aufbringen des
Chipbauteils auf einen externen Schaltungsträger.
Fig. 3 ist eine Prinzipskizze eines Querschnitts durch einen
externen Schaltungsträger mit aufgebrachtem elektro
nischen Chipbauteil unter Andruckkontaktierung zwi
schen Chipbauteil und Schaltungsträger.
Fig. 1 ist eine Prinzipskizze eines teilweisen Querschnitts
durch einen Halbleiterwafer 17 mit einer Vielzahl integrierter
Schaltungen 6, von denen nur drei beispielhaft gezeigt werden.
Weder die Querschnittsdicke noch die Größe der Chipbauteile 16
sind maßstabsgerecht dargestellt. Vielmehr ist die Längenaus
dehnung einzelner dargestellter Komponenten der Chipbauteile,
wie die Andruckkontaktflächen 10, zur Verdeutlichung der Er
findung wesentlich größer dargestellt, als sie für das reale
Chipbauteil verwirklicht ist. Dieses gilt auch für die weite
ren Darstellungen in den Fig. 2 und 3.
In Fig. 1 wird ein Halbleiterwafer 17 gezeigt, der in seinem
aktiven Bereich integrierte Schaltungen 6 eingebettet hat, von
denen lediglich drei in Fig. 1 angedeutet werden. Diese inte
grierten Schaltungen 6 weisen auf der aktiven Oberfläche des
Halbleiterwafers 17 eine Anzahl von Kontaktflächen 2 auf, die
von einer obersten nichtleitenden Schicht 5 umgeben sind bzw.
freigehalten werden. Damit ist das Niveau der Kontaktflächen 2
auf dem Halbleiterwafer 17 tiefer als das Höhenniveau der
obersten nichtleitenden Schicht 5. Über den Kontaktflächen 2
ist in dieser Ausführungsform der Erfindung eine Andruckkon
taktfläche 10 angeordnet, die einerseits in ihrer flächigen
Erstreckung größer ist als die Kontaktfläche 2 auf einem Halb
leiterchip 1 und gegenüber der obersten nichtleitenden Schicht
5 erhöht ist. Diese metallische Andruckkontaktfläche 10 ragt
über das Niveau der obersten nichtleitenden Schicht 5 um 1,5
bis 8 µm heraus. Die gesamte aktive Oberfläche 8 des Halblei
terwafers 17 ist von einer Klebeschicht 9 bedeckt, die zwi
schen den Andruckkontaktflächen 10 eine Dicke 11 aufweist, die
größer ist als auf den Kontaktflächen 10, wo sie eine Dicke 12
aufweist. Die unterschiedlichen Dicken 11 und 12 in den ver
schiedenen Bereichen des Halbleiterwafers 17 der Klebeschicht
9 kann durch Auswahl geeigneter Aufbringungsverfahren der Kle
beschicht erreicht werden. In dieser Ausführungsform wurde die
Klebeschicht mittels Aufschleuderns auf die Oberfläche des
Halbleiterwafers aufgebracht, nachdem die Überhöhung der Kon
taktflächen 2 durch ein Andruckkontaktmaterial erfolgt ist.
Das Andruckkontaktmaterial der Andruckkontaktflächen 10 ist
auf den Wafer mittels selektiver stromloser Abscheidung einer
Nickel-Gold-Legierung erfolgt. Die Klebeschicht 9 besteht aus
einem schmelzfähigen Klebstoff aus thermoplastischem Kunst
stoff und kann Füllstoffe aufweisen, die ein Aufwärmen mittels
Infrarotstrahlung und/oder ein Aufwärmen mittels Mikro
wellenenergie unterstützen, so daß durch einen kurzzeitigen
Wärmeimpuls eine derartige Klebeschicht 9 in ihren schmelz
flüssigen Zustand überführt werden kann. Bei dem Überführen
der Klebeschicht 9 in einen schmelzflüssigen Zustand wird
durch unterschiedliche Benetzungseigenschaften des Klebstoffs
auf einem metallischen und einem nichtleitenden Untergrund er
reicht, daß sich der Klebstoff zwischen den Andruckkon
taktflächen zusammenzieht und automatisch die metallischen
Oberflächen freilegt.
Nach dem Aufbringen einer derartigen Schichtstruktur aus An
druckkontaktflächen und Klebstoffbereichen auf einem Halblei
terwafer 17 mit einer Vielzahl integrierter Schaltungen 6 kann
der Wafer in einzelne elektronische Chipbauteile 16 an den
strichpunktierten Grenzlinien in Fig. 1 getrennt werden und
für die Weiterverwendung magaziniert werden, ohne daß ein
Chipgehäuse erforderlich ist.
Fig. 2 zeigt eine Prinzipskizze eines Querschnitts durch ein
elektronisches Chipbauteil 16 vor dem Aufbringen des Chipbau
teils 16 auf einen externen Schaltungsträger 4. Der Schal
tungsträger 4 weist metallische Leiterbahnen 19 auf, die mit
Kontaktanschlußflächen 13 elektrisch verbunden sind. Der ex
terne Chipträger 4 besteht im wesentlichen aus einem Isolator
material, das an seiner Oberfläche teilweise metallisiert ist.
Gegenüber den Kontaktanschlußflächen 13 des Chipträgers sind,
wie Fig. 2 zeigt, die Andruckkontaktflächen eines Chipbau
teils 16 angeordnet.
Das Chipbauteil 16 ist entsprechend der Fig. 1 aufgebaut und
gleiche Bezugszeichen sind für gleiche Elemente und Komponen
ten gewählt, so daß eine Erläuterung der sich wiederholenden
Bezugszeichen weggelassen wird. Die Positionierung eines elek
tronischen Chipbauteils 16 über einem externen Schaltungsträ
ger 4 kann mit Hilfe eines nichtgezeigten Kontaktierstempels
erfolgen. Der Kontaktierstempel kann so aufgebaut sein, daß er
eine Impulswärmequelle aufweist, die einen kurzzeitigen Wär
meimpuls zur Erschmelzung der Klebstoffschicht 9 auf dem Chip
bauteil 16 liefert. Der metallflächenfreie Oberflächenbereich
18 des externen Schaltungsträgers 4 ist in dieser Ausführungs
form derart bemessen, daß er den überschüssigen Klebstoff der
Klebeschicht 9 aufnehmen kann.
Fig. 3 zeigt eine Prinzipskizze eines Querschnitts durch den
externen Schaltungsträger 4, der in Fig. 2 gezeigt wird, mit
aufgebrachtem elektronischen Chipbauteil 16 unter Andruckkon
taktierung zwischen Chipbauteil 16 und Schaltungsträger 4. Die
Zwischenräume 14 sind nach dem Aufbringen des Chipbauteils 16
auf den Schaltungsträger 4 mit Klebstoff 15 aufgefüllt und der
die metallfreien Flächen benetzende Klebstoff 15 sorgt für ei
nen sicheren Kontakt der Andruckkontaktflächen 10 des elektro
nischen Chipbauteils 16 auf den Kontaktanschlußflächen 13 des
externen Schaltungsträgers 4. Die Benetzungseigenschaften des
Klebstoffs 15 bewirken eine konkave Kontur 20 des Kleb
stoffrandes rund um das Chipbauteil 16.
Aufgrund der Volumenschrumpfung des erstarrten Klebstoffs 15
gegenüber der schmelzflüssigen Phase des Klebstoffs 15 werden
die Andruckkontaktflächen 10 nach dem Erstarren des Klebstoffs
15 auf die Kontaktanschlußflächen 13 des Schaltungsträgers 4
gepreßt und somit eine zuverlässige elektrische Verbindung
hergestellt. Der Chipträger kann Teil eines Auszeichnungs- und
Sicherungsbauteils für Konsumartikel oder eine Schaltungskom
ponente mit Antennenfunktion für Zugangskontrollen oder ein
Schaltungsträger für ein IC zur Erhöhung der
Fälschungssicherheit verschiedenster Dokumente oder ein Schal
tungsträger für ICs für Chipkarten oder ICs in Spielzeugen
sein. Bei derartigen Anwendungen kann der Vorteil genutzt wer
den, daß lediglich ein Klebeschritt zur elektrischen Verbin
dung des Chipbauteils auf dem Schaltungsträger erforderlich
ist und gleichzeitig eine äußerst geringe Einbauhöhe verwirk
licht werden kann.
Wenngleich nicht Gegenstand der Erfindung, so ist es für den Fachmann verständlich, daß die schmelzfähige Klebeschicht
nicht nur auf dem elektronischen Chipbauteil angebracht sein
kann, sondern auch auf dem anderen Kontaktierpartner, dem
Schaltungsträger vorhanden sein kann und daß anstelle von Ein
zelkontaktierung mit Hilfe eines Kontaktierstempels auch Si
multankontaktierungen im Muster erfolgen können. Auch ist die
Präparation des Andruckkontaktmaterials der Chips nicht nur
auf die stromlose Abscheidung einer Nickel-Gold-Legierung be
schränkt, sondern es können auch andere Andruckkontaktmateria
lien zur Ausführung der Erfindung eingesetzt werden.
Claims (11)
1. Elektronisches Chipbauteil mit einer integrierten Schal
tung (6) in einem Halbleiterchip (1) und Kontaktflächen
(2) auf der aktiven Oberfläche (3) des Halbleiterchips
(1), die dem Anschließen der integrierten Schaltung (6)
an externe Schaltungsträger (4) dienen, wobei die Kon
taktflächen (2) der integrierten Schaltung (6) eine Kon
taktschicht (7) aus Andruckkontaktmaterial auf
weisen, das über das Niveau einer obersten elektrischen
nichtleitenden Schicht (5) der integrierten Schal
tung (6) hinausragt und die aktive Oberfläche des Halb
leiterchips (1) von einer der Kontaktschichthöhe ange
paßten schmelzfähigen Klebeschicht (9) bedeckt ist, die
im geschmolzenen Zustand die elektrisch nichtleitende
oberste Schicht (5) der integrierten Schaltung (6) und
den elektrisch nichtleitenden Oberflächenbereich (18)
des Schaltungsträgers (4) benetzt und die Andruckkon
taktflächen (10) sowie die Kontaktanschlußflächen (13)
auf dem Schaltungsträger (4) nicht benetzt.
2. Elektronisches Chipbauteil nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) zwischen den Andruckkontaktflä
chen (10) eine größere Dicke (11) aufweist als auf den
Andruckkontaktflächen (10).
3. Elektronisches Chipbauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Andruckkontaktfläche (10) 1,5 bis 8 µm über die
oberste elektrisch nichtleitende Schicht (5) der inte
grierten Schaltung (6) hinausragt.
4. Elektronisches Chipbauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) wenigstens die Dicke der Kontakt
schicht (7) aufweist.
5. Verfahren zur Herstellung von elektronischen Chipbautei
len (16),
gekennzeichnet durch
folgende Verfahrensschritte:
- - Selektives Aufbringen einer Kontaktschicht (7) aus Andruckkontaktmaterial auf Kontaktflächen (2) eines Halbleiterwafers (17) mit einer Vielzahl integrier ter Schaltungen (6) zur Herstellung überhöhter An druckkontaktflächen (10),
- - Aufbringen einer an die Höhe der Kontaktschicht (7) angepaßten schmelzfähigen Klebeschicht (9) auf die Oberfläche des Halbleiterwafers (17), wobei die Klebeschicht im geschmolzenen Zustand die elek trisch nichtleitende oberste Schicht (5) der inte grierten Schaltung (6) und den elektrisch nichtlei tenden Oberflächenbereich (18) des Schaltungsträ gers (4) benetzt und die Andruckkontaktflächen (10) sowie die Kontaktanschlußflächen (13) auf dem Schaltungsträger (4) nicht benetzt,
- - Teilen des Halbleiterwafers (17) in einzelne elek tronische Chipbauteile (16) mit Andruckkontaktflä chen (10) einer vereinzelten integrierten Schaltung (6).
6. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) auflaminiert wird.
7. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) aufgesprüht wird.
8. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) aufgeschleudert wird.
9. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) durch Tauchbeschichten aufgebracht
wird.
10. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) mittels filmbildender Medien durch
Rollbeschichten aufgebracht wird.
11. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Klebeschicht (9) mittels filmbildender Medien durch
Pulverbeschichten aufgebracht wird.
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