DE19529490A1 - Chipkontaktierungsverfahren, damit hergestellte elektronische Schaltung und Trägersubstrat zur Kontaktierung von Chips - Google Patents
Chipkontaktierungsverfahren, damit hergestellte elektronische Schaltung und Trägersubstrat zur Kontaktierung von ChipsInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Chipkontak
tierungsverfahren, auf damit hergestellte elektronische
Schaltungen und auf ein Trägersubstrat zur Kontaktierung von
Chips.
Im Stand der Technik sind bereits Chipkontaktierungsverfah
ren bekannt, die im Vergleich zu herkömmlichen Drahtkontak
tierungsverfahren eine erhebliche Steigerung der Packungs-
und Anschlußdichten ermöglichen. Beispiele für solche be
kannte Verfahren sind das TAB-Verfahren (Tape Automated
Bonding = automatisches Filmbonden) und das Flip-Chip-Kon
taktierungsverfahren.
Bei diesen bekannten Verfahren werden durch kürzere Signal
laufzeiten bei geringeren Signalverlusten elektrisch para
sitäre Effekte erheblich reduziert.
Beim TAB-Verfahren handelt es sich um eine automatische,
simultane Kontaktierungstechnik, bei der der Chip über Kon
takthöcker (sogenannte "Bumps") mit einer Leiterbahnstruktur
auf beispielsweise einem Polyimidfilm (Tape) verbunden wird.
Zur Befestigung der mit Kontakthöckern (Bumps) versehenen
Chips an dem Tape (auch als "Inner Lead Bonding" bezeichnet)
werden die Kontakthöcker und die Leiterbahnen durch eine
Thermode mit einem definierten Temperatur-Druck-Zeit-Profil
(auch als Thermokompressionsbonden, "TC", bezeichnet) mit
einander verbunden.
Bei dem Flip-Chip-Kontaktierungsverfahren wird ein Chip, der
beispielsweise eine integrierte Schaltung aufweist, mit der
aktiven Seite auf dem Substrat befestigt (als "face down"
bezeichnet). Die elektrische Verbindung wird auch hier durch
metallische Kontakthöcker hergestellt, die sich auf dem Chip
oder in einigen Fällen auch auf dem Substrat befinden
können.
Der Nachteil der oben beschriebenen Prozesse, die Kontakt
höcker verwenden (sogenannte "Bumping-Prozesse"), besteht
darin, daß diese eine Kosten-intensive Ausrüstung für die
Photolithographie, die Dünnfilmmetallisierung und die Gal
vanik benötigen, deren wirtschaftlicher Einsatz jedoch erst
bei entsprechend hohen Stückzahlen gewährleistet ist.
Ein weiteres im Stand der Technik bekanntes Verfahren ist in
der US-A-4,842,662 beschrieben, bei der das bei den Bum
ping-Prozessen auftretende Problem durch ein TAB-Verfahren
beseitigt wird, das keine Kontakthöcker verwendet (ein
"Bumpless"-TAB-Verfahren). Hierzu wird eine Leiterbahnstruk
tur beispielsweise direkt auf eine Aluminiumanschlußfläche
eines Chips durch die sogenannte Thermokompression gebondet.
Dieses Verfahrens ist dahingehend nachteilig, daß beim Ther
mokompressionsbondenhohe Temperaturen und große Spannungen
entstehen, die durch die Druckkraft von etwa 50 N/mm² wäh
rend des Bondens erzeugt werden. Dies führt zu einer Be
lastung des unterliegenden Schichtsystems, was zu Rissen und
Bauelementausfällen führen kann.
Ausgehend von dem oben beschriebenen Stand der Technik liegt
der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Chip
kontaktierungsverfahren zu schaffen, das eine Kontaktierung
bei niedrigen Temperaturen und niedrigem Druck auf einfache,
schnelle und kostengünstige Art ermöglicht.
Diese Aufgabe wird durch ein Chipkontaktierungsverfahren
nach Anspruch 1 gelöst.
Die vorliegende Erfindung schafft ein Chip-Kontaktierungs
verfahren, das folgende Verfahrensschritte aufweist:
- a) Bereitstellen eines Trägersubstrats, das eine erste Ober fläche hat, auf der eine Mehrzahl von leitenden Anschluß abschnitten -angeordnet ist, wobei auf- der ersten Oberflä che des Trägersubstrats eine nicht-leitende Klebeschicht angeordnet ist;
- b) Ausrichten des Trägersubstrats mit einem zu kontaktie renden Chip derart, daß eine Mehrzahl von leitenden Kon taktbereichen auf dem zu kontaktierenden Chip mit den Anschlußabschnitten auf der ersten Oberfläche des Träger substrats ausgerichtet ist; und
- c) Verbinden des Trägersubstrats und des zu kontaktierenden Chips mittels der Klebeschicht bei einem vorbestimmten Druck und einer vorbestimmten Temperatur derart, daß die Anschlußabschnitte des Trägersubstrats und die Kontakt bereiche des Chips gegeneinander anliegen.
Der vorliegenden Erfindung liegt ferner die Aufgabe zu
grunde, eine elektronische Schaltung zu schaffen, bei der
ein oder mehrere Chips bei niedriger Temperatur und
niedrigem Druck auf einfache, schnelle und kostengünstige
Art auf einem Trägersubstrat kontaktiert sind.
Diese Aufgabe wird durch eine elektronische Schaltung nach
Anspruch 12 gelöst.
Die vorliegende Erfindung schafft eine elektronische Schal
tung, mit
- - einem Chip mit leitenden Kontaktbereichen; und
- - einem Trägersubstrat, auf dessen erster Oberfläche, die
den Kontaktbereichen des Chips zugewandt ist, eine nicht
leitende Klebeschicht und eine Mehrzahl von leitenden An
schlußabschnitten angeordnet ist, wobei die Klebeschicht
die Mehrzahl von Anschlußabschnitten zumindest teilweise
bedeckt;
wobei die Kontaktbereiche des Chips und die Anschlußab schnitte des Trägersubstrats durch die aufgrund der Klebe schicht bewirkte Klebekraft in elektrischem Kontakt zuein ander gegeneinander anliegen.
Der vorliegenden Erfindung liegt weiterhin die Aufgabe zu
grunde, ein Trägersubstrat zur Kontaktierung von Chips zu
schaffen, mit dem eine einfache, schnelle und kostengünstige
Kontaktierung von Chips bei einer niedrigen Temperatur und
niedrigem Druck ermöglicht wird.
Diese Aufgabe wird durch ein Trägersubstrat nach Anspruch 13
gelöst.
Die vorliegende Erfindung schafft ein Trägersubstrat zur
Kontaktierung von Chips, mit
- - einer Mehrzahl von Anschlußabschnitten, die auf einer er sten Oberfläche des Trägersubstrats angeordnet sind, wobei die Struktur der Anschlußabschnitte einer Struktur von Kontaktbereichen auf dem zu kontaktierenden Chip ent spricht; und
- - einer Temperatur-aushärtenden Klebeschicht, die auf der ersten Oberfläche des Trägersubstrats angeordnet ist.
Ein Vorteil des Verfahrens der vorliegenden Erfindung be
steht darin, daß durch die Verwendung von Klebeprozessen bei
der Befestigung von Chips an dem Trägersubstrat ein Flußmit
tel-freies Verfahren bei niedriger Temperatur ermöglicht
wird, wodurch dessen Verwendung für flexible Substrate mit
einer niedrigen Glasübergangstemperatur ermöglicht wird.
Ein weiterer Vorteil des Verfahrens der vorliegenden Erfin
dung besteht darin, daß durch die Klebetechnologie gemäß der
vorliegenden Erfindung die Verwendung einer ganzen Reihe von
kostengünstigen Materialien für das Substrat, wie z. B. Poly
ester, ermöglicht wird.
Gegenüber dem oben beschriebenen Flip-Chip-Kontaktierungs
verfahren besteht ein zusätzlicher der Vorteil des Verfah
rens der vorliegenden Erfindung darin, daß keine Kontakt
höcker zur Kontaktierung notwendig sind.
Gegenüber dem oben beschriebenen TAB-Kontaktierungsverfahren
besteht der Vorteil des Verfahrens der vorliegenden Erfin
dung darin, daß wesentlich niedrigere Temperaturen und Drüc
ke erforderlich sind, um die Kontaktierung durchzuführen.
Bevorzugte Weiterbildungen der vorliegenden Erfindung sind
in den Unteransprüchen definiert.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung
werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden
Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1a und Fig. 1b Schritte des Verfahrens zur Herstellung
einer elektronischen Schaltung gemäß einem Aus
führungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; und
Fig. 2a bis 2c Darstellungen des Trägersubstrats zur Kon
taktierung von Chips gemäß der vorliegenden Erfin
dung.
Anhand der Fig. 1 wird nachfolgend das erfindungsgemäße
Chipkontaktierungsverfahren näher beschrieben.
Bei einem ersten Schritt wird ein Trägersubstrat 100 bereit
gestellt. Auf einer Oberfläche 102 des Trägersubstrats ist
eine Mehrzahl von leitenden Anschlußabschnitten 104 angeord
net. Auf der ersten Oberfläche 102 des Trägersubstrats 100
ist ferner eine nicht-leitende Klebeschicht 106 angeordnet.
Bei einem zweiten Schritt, der in Fig. 1a dargestellt ist,
wird das Trägersubstrat 100 mit einem zu kontaktierenden
Chip 108 ausgerichtet. Diese Ausrichtung wird derart durch
geführt, daß eine Mehrzahl von leitenden Kontaktbereichen
110, die auf einer Oberfläche 112 des Chips 108 angeordnet
sind, mit den Anschlußabschnitten 104 auf der ersten Ober
fläche 102 des Trägersubstrats 100 ausgerichtet ist.
Bei einem dritten Schritt, der in Fig. 1b dargestellt ist,
wird das Trägersubstrat 100 und der zu kontaktierende Chip
108 mittels der Klebeschicht 106 bei einem vorbestimmten
Druck und einer vorbestimmten Temperatur verbunden, so daß
die Anschlußabschnitte 108 des Trägersubstrats 100 und die
Kontaktbereiche 110 des Chips 108 gegeneinander anliegen.
Es wird darauf hingewiesen, daß bei dem in Fig. 1 darge
stellten Ausführungsbeispiel das Trägersubstrat 100 aus
einem flexiblen Material hergestellt ist.
Das Trägersubstrat 100 kann aus Polyester oder Polyimid be
stehen.
Bei dem in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die
Anschlußabschnitte 104 aus Kupfer hergestellt und sind
galvanisch vergoldet. Es ist offensichtlich, daß auch andere
leitende Materialien zur Herstellung der Anschlußabschnitte
104 geeignet sind.
Die Kontaktbereiche 110 auf dem Chip 108 sind bei dem in
Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel aus Aluminium her
gestellt. Es sind jedoch auch andere geeignete leitende
Materialien zur Herstellung der Kontaktbereiche 110 möglich.
Die Klebeschicht 106 ist gemäß einem bevorzugten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfindung als Klebefolie aus
geführt.
Die Klebeschicht besteht bei einem weiteren Ausführungsbei
spiel der vorliegenden Erfindung aus einem Temperatur-aus
härtenden Klebemittel.
Wie es in Fig. 1 dargestellt ist, überdeckt bei diesem Aus
führungsbeispiel die Klebeschicht 106 die Anschlußabschnitte
104 zumindest teilweise. Bei anderen Ausführungsbeispielen
ist dies nicht erforderlich, d. h. die Klebeschicht 106 be
deckt die Anschlußabschnitte 104 nicht.
Nachfolgend wird anhand der Fig. 1b der dritte Schritt des
erfindungsgemäßen Verfahrens näher beschrieben.
Nachdem das Trägersubstrat 100 mit dem zu kontaktierenden
Chip 108 ausgerichtet ist, wird in einem ersten Teilschritt
das Trägersubstrat 100 auf dem zu kontaktierenden Chip 108
angeordnet. Anschließend wird der Chip 108 mit einem vor
bestimmten Druck beaufschlagt, wie dies durch den Pfeil 114
dargestellt ist. Nachfolgend wird eine vorbestimmte Tempe
ratur angelegt, um die Klebeschicht 106 zu aktivieren. Durch
die Aktivierung der Klebeschicht wird ermöglicht, daß der
Kontaktbereich 110 des Chips 108 gegen den Anschlußabschnitt
104 anliegt. Nachdem die Klebeschicht 106 aktiviert ist,
wird der vorbestimmte Druck aufrechterhalten, bis die Klebe
schicht 106 ausgehärtet ist, um sicherzustellen, daß sich
der Anschlußabschnitt 104 während des Aushärtens der Klebe
schicht 106 nicht von dem Kontaktbereich 108 entfernt.
Erst nachdem die Klebeschicht 106 vollständig ausgehärtet
ist, wird der vorbestimmte Druck von dem Chip entfernt.
Mit anderen Worten basiert das erfindungsgemäße Verfahren
auf einer nicht-leitenden, Temperatur-aushärtenden Kleb
stoff-Folie, bei dem ein kontakthöckerloser Chip 108 unter
einer vorbestimmten Hitze (Temperatur) und einem vorbestimm
ten Druck mit einem Substrat 100 verbunden wird. Der ange
legte Druck wird solange aufrechterhalten, bis der Chip 108
durch Aushärten des Klebstoffs 104 fixiert ist, und der Chip
108 leitend mit dem Trägersubstrat 100 verbunden ist.
Es wird darauf hingewiesen, daß der elektrische Kontakt ge
mäß der vorliegenden Erfindung nicht auf einer metallischen
Verschweißung zwischen der Leiterbahn 104 und der Bondpad-
Metallisierung 110 basiert, sondern daß der elektrische Kon
takt allein durch einen reinen Druckkontakt hergestellt ist,
wobei der Druckkontakt durch die Klebekraft der Klebeschicht
106 aufrechterhalten wird.
Wie es bereits erwähnt wurde, kann als Trägersubstrat 100,
wie beim TAB-Bonden, ein Filmstreifen aus Polyimid verwendet
werden, dessen Kupferanschlußleitungen 104 galvanisch ver
goldet sind. Die Metallisierung auf den Bondpads 110 des
Chips 108 ist normalerweise Aluminium.
Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel wird
bei dem oben beschriebenen Verfahren Gold auf Aluminium ge
bondet, wobei für den Bondvorgang zuerst die Aluminiumbond
pads auf dem Chip 108 über den Leiterbahnen 104 justiert
werden und anschließend wird ein Flip-Chip-Bonder mit einem
definierten Temperatur-Druck-Zeit-Profil auf die Anschluß
leitungen 104 abgesenkt, so daß eine simultane bzw. gleich
zeitige Kontaktierung aller Anschlüsse, d. h. eine simultane
Verbindung aller Kontaktbereiche des Chips 108 mit den An
schlußabschnitten 104, ermöglicht wird.
Wie es bereits erwähnt wurde, wird das erfindungsgemäße Ver
fahren bei deutlich niedrigeren Temperaturen und Drücken
ausgeführt als herkömmliche Bond-Verfahren.
Bevorzugterweise liegt der beispielsweise an den Chip an
gelegte Druck im Bereich von 0,5 N/mm² bis 2,5 N/mm², und
die angelegte Temperatur liegt bevorzugterweise im Bereich
von 100°C bis 200°C.
Anhand der Fig. 1b wird nachfolgend eine elektronische
Schaltung gemäß der vorliegenden Erfindung näher beschrie
ben.
Die erfindungsgemäße Schaltung ist in der Gesamtheit mit dem
Bezugszeichen 116 bezeichnet.
Wie es durch die abgebrochenen Kanten 118 dargestellt ist,
ist in Fig. 1b lediglich ein Ausschnitt einer größeren
elektronischen Schaltung dargestellt.
Die erfindungsgemäße elektronische Schaltung 116 umfaßt
einen oder mehrere Chips 108, die leitende Kontaktbereiche
110 aufweisen. Ferner umfaßt die elektronische Schaltung 116
ein Trägersubstrat 100, auf dessen erster Oberfläche 102,
die den Kontaktbereichen 110 der bzw. des Chips 108 zuge
wandt ist, eine nicht-leitende Klebeschicht 106 und eine
Mehrzahl von leitenden Anschlußabschnitten 104 angeordnet
ist, wobei die Klebeschicht die Mehrzahl von Anschlußab
schnitten 104 zumindest teilweise bedeckt. Die Kontaktbe
reiche 110 des bzw. der Chips 108 und die Anschlußabschnitte
104 des Trägersubstrats 100 sind aufgrund der durch die
Klebeschicht bewirkte Klebekraft in elektrischem Kontakt zu
einander angeordnet. Es wird darauf hingewiesen, daß, wie es
bereits beschrieben wurde, dieser elektrische Kontakt nicht
auf einer metallischen Verschweißung zwischen den Kontaktbe
reichen 110 und den Anschlußabschnitten 104 besteht, sondern
daß es sich hierbei um einen reinen Druckkontakt handelt,
der durch die Klebekraft aufrechterhalten wird.
Anhand der Fig. 2 wird nachfolgend ein Trägersubstrat gemäß
der vorliegenden Erfindung näher beschrieben.
Es wird darauf hingewiesen, daß in Fig. 2 für gleiche Ele
mente dieselben Bezugszeichen wie in Fig. 1 verwendet
werden.
In Fig. 2a ist ein Trägersubstrat 100 dargestellt, das eine
erste Oberfläche 102 aufweist, auf der eine Mehrzahl von An
schlußabschnitten 104 in einer vorbestimmten Struktur ange
ordnet sind.
Es wird darauf hingewiesen, daß das anhand der Fig. 2 be
schriebene Trägersubstrat aus denselben Materialien bestehen
kann, wie das anhand von Fig. 1 beschriebene Trägersubstrat
und auch dieselben Eigenschaften aufweisen kann wie dieses.
In Fig. 2b ist das Trägersubstrat 102 mit den Anschlußab
schnitten 104 gezeigt, wobei eine Klebeschicht 106 auf der
ersten Oberfläche 102 derart angeordnet ist, daß die An
schlußabschnitte 104 zumindest teilweise von der Klebe
schicht 106 bedeckt sind.
Es wird darauf hingewiesen, daß die teilweise Bedeckung der
Anschlußabschnitte 104 durch die Klebeschicht kein zwingen
des Merkmal ist.
Die Klebeschicht 106 kann eine Temperatur-aushärtende Klebe
schicht sein.
Es wird darauf hingewiesen, daß bei dem erfindungsgemäßen
Trägersubstrat zur Kontaktierung von Chips die Struktur der
Anschlußabschnitte 104 derart ausgewählt ist, daß eine prob
lemlose Kontaktierung dieser Anschlußabschnitte mit einer
Struktur von Kontaktbereichen auf einem zu kontaktierenden
Chip möglich ist.
In Fig. 2c ist ein Schnitt entlang der Linie A-B in Fig. 2b
dargestellt.
In Fig. 2c ist deutlich zu erkennen, daß die Klebeschicht
106 die Anschlußabschnitte 104 teilweise bedeckt.
Es wird darauf hingewiesen, daß die vorliegende Erfindung
nicht auf die beschriebenen Materialien zur Herstellung des
Trägersubstrats 100 beschränkt ist, sondern daß auch andere
geeignete Materialien verwendet werden können. Insbesondere
können mit der vorliegenden Erfindung auch kostengünstige
Materialien für das Trägersubstrat verwendet werden.
Ferner sei hervorgehoben, daß alle oben angeführten Materia
lien lediglich als Beispiele angegeben sind und daß andere,
geeignete Materialien ebenso verwendet werden können.
Claims (13)
1. Chipkontaktierungsverfahren, gekennzeichnet durch fol
gende Verfahrensschritte:
- a) Bereitstellen eines Trägersubstrats (100), das eine erste Oberfläche (102) hat, auf der eine Mehrzahl von leitenden Anschlußabschnitten (104) angeordnet ist, wobei auf der ersten Oberfläche (102) des Trägersub strats (100) eine nicht-leitende Klebeschicht (106) angeordnet ist;
- b) Ausrichten des Trägersubstrats (100) mit einem zu kontaktierenden Chip (108) derart, daß eine Mehrzahl von leitenden Kontaktbereichen (110) auf dem zu kon taktierenden Chip (108) mit den Anschlußabschnitten (104) auf der ersten Oberfläche (102) des Trägersub strats (100) ausgerichtet ist; und
- c) Verbinden des Trägersubstrats (100) und des zu kon taktierenden Chips (108) mittels der Klebeschicht (106) bei einem vorbestimmten Druck und einer vor bestimmten Temperatur derart, daß die Anschlußab schnitte (104) des Trägersubstrats (100) und die Kon taktbereiche (110) des Chips (108) gegeneinander an liegen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schritt (c) folgende Schritte aufweist:
- c1) Anordnen des Trägersubstrats (100) auf den zu kon taktierenden Chip (108);
- c2) Beaufschlagen des Chips (108) mit einem vorbe stimmten Druck;
- c3) Anlegen einer vorbestimmten Temperatur, um die Klebeschicht (106) zu aktivieren; und
- c4) Aufrechterhalten des vorbestimmten Drucks, bis die Klebeschicht (106) ausgehärtet ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net,
daß beim Schritt c) ein Flip-Chip-Bonder verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet,
daß der angelegte Druck im Bereich von 0,5 N/mm² bis 2,5 N/mm² liegt; und
daß die angelegten Temperatur im Bereich von 100°C bis 200°C liegt.
daß der angelegte Druck im Bereich von 0,5 N/mm² bis 2,5 N/mm² liegt; und
daß die angelegten Temperatur im Bereich von 100°C bis 200°C liegt.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet,
daß das Trägersubstrat (100) aus einem flexiblen Ma
terial hergestellt ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet,
daß das Trägersubstrat aus Polyester oder Polyimid her
gestellt ist.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge
kennzeichnet,
daß die Anschlußabschnitte (104) aus Kupfer hergestellt
sind und galvanisch vergoldet sind.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet,
daß die Kontaktbereiche (110) auf dem Chip (108) aus
Aluminium sind.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch ge
kennzeichnet,
daß die Klebeschicht (106) als Klebefolie ausgeführt
ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch ge
kennzeichnet,
daß die Klebeschicht (106) aus einem Temperatur-aus
härtenden Klebemittel hergestellt ist.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch ge
kennzeichnet,
daß die Klebeschicht (106) die Anschlußabschnitte (104)
zumindest teilweise bedeckt.
12. Elektronische Schaltung, gekennzeichnet durch
- - einen Chip (108) mit leitenden Kontaktbereichen (116); und
- - ein Trägersubstrat (100), auf dessen erster Oberfläche
(102), die den Kontaktbereichen (110) des Chips (108)
zugewandt ist, eine nicht-leitende Klebeschicht (106)
und eine Mehrzahl von leitenden Anschlußabschnitten
(104) angeordnet ist, wobei die Klebeschicht (106) die
Mehrzahl von Anschlußabschnitten (104) zumindest teil
weise bedeckt;
wobei die Kontaktbereiche (110) des Chips (108) und die Anschlußabschnitte (104) durch die aufgrund der Klebeschicht (106) bewirkte Klebekraft in elektrischem Kontakt gegeneinander anliegen.
13. Trägersubstrat zur Kontaktierung von Chips, gekennzeich
net durch
- - eine Mehrzahl von Anschlußabschnitten (104), die auf einer ersten Oberfläche (102) des Trägersubstrats (100) angeordnet sind, wobei die Struktur der An schlußabschnitte (104) einer Struktur von Kontaktbe reichen (110) auf dem zu kontaktierenden Chip (108) entspricht; und
- - eine Temperatur-aushärtende Klebeschicht (106), die auf der ersten Oberfläche (102) des Trägersubstrats (108) angeordnet ist.
Priority Applications (3)
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