DE05727375T1 - Verfahren zum Bilden eines Oberflächenpfropfs, Verfahren zum Bilden eines leitenden Films, Verfahren zum Bilden eines Metallmusters, Verfahren zum Bilden einer Multischicht-Leiterplantine, Oberflächenpfropfmaterial und leitendes Material - Google Patents
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Abstract
Verfahren
zum Bilden eines Oberflächenpfropfs,
umfassend den Prozess des Übertragens
von Energie auf die Oberfläche
eines Substrats, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende
Einheit in seinem Gerüst
aufweist, um aktive Punkte auf der Oberfläche des Substrats zu generieren
und ein Pfropfpolymer zu generieren, das ausgehend von den aktiven
Punkten direkt an die Oberfläche
des Substrats gebunden ist und das eine polare Gruppe aufweist.
Claims (20)
- Verfahren zum Bilden eines Oberflächenpfropfs, umfassend den Prozess des Übertragens von Energie auf die Oberfläche eines Substrats, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, um aktive Punkte auf der Oberfläche des Substrats zu generieren und ein Pfropfpolymer zu generieren, das ausgehend von den aktiven Punkten direkt an die Oberfläche des Substrats gebunden ist und das eine polare Gruppe aufweist.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films, umfassend die Prozesse: Übertragen von Energie auf die Oberfläche eines Substrats, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, um aktive Punkte auf der Oberfläche des Substrats zu generieren und ein Pfropfpolymer zu generieren, das ausgehend von den aktiven Punkten direkt an die Oberfläche des Substrats gebunden ist und das eine polare Gruppe aufweist; und Verursachen, dass ein leitendes Material an das Pfropfpolymer anhaftet.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 2, ferner umfassend einen Erwärmungsprozess nach dem Prozess zum Verursachen des Anhaftens eines leitenden Materials an das Pfropfpolymer.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 2, worin der leitende Film auf beiden Oberflächen eines folienähnlichen oder tafelförmigen Polyimidsubstrats, das die polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, gebildet wird.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films, umfassend die Prozesse: Übertragen von Energie auf die Oberfläche eines Substrats, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, um aktive Punkte auf der Oberfläche des Substrats zu generieren und ein Pfropfpolymer zu generieren, das ausgehend von den aktiven Punkten direkt an die Oberfläche des Polyimidsubstrats gebunden ist und das eine polare Gruppe aufweist; Auftragen eines Metallions oder Metallsalzes auf das Pfropfpolymer; und Reduzieren des Metallions oder eines Metallions in dem Metallsalz, um Metallfeinpartikel abzuscheiden.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 5, ferner umfassend einen Erwärmungsprozess nach dem Prozess zum Reduzieren des Metallions oder des Metallions in dem Metallsalz, um Metallfeinpartikel abzuscheiden.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 5, worin der leitende Film auf beiden Oberflächen eines folienähnlichen oder tafelförmigen Polyimidsubstrats, welches die polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, gebildet wird.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films, umfassend die Prozesse: Übertragen von Energie auf die Oberfläche eines Substrats, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, um aktive Punkte auf der Oberfläche des Substrats zu generieren und ein Pfropfpolymer zu generieren, das ausgehend von den aktiven Punkten direkt an die Oberfläche des Substrats gebunden ist und das eine funktionelle Gruppe aufweist, die mit einem stromlosen Platierungskatalysator (electroless plating catalyst) oder einem Vorläufer hiervon wechselwirkt; Auftragen des stromlosen Platierungskatalysators oder des Vorläufers hiervon auf das Pfropfpolymer; und Durchführen von stromlosem Platieren.
- Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 8, ferner umfassend einen Prozess zum Durchführen von Galvanisieren (electroplating) nach dem Prozess zum Durchführen von stromlosem Platieren.
- verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 8, worin der leitende Film auf beiden Oberflächen eines folienähnlichen oder tafelförmigen Polyimidsubstrats, das die polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, gebildet wird.
- Oberflächenpfropfmaterial, erhalten durch das Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei das Material umfasst: ein Substrat, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist; und ein Pfropfpolymer, das direkt an die Oberfläche des Substrats gebunden ist.
- Leitendes Material, erhalten durch das Verfahren gemäß Anspruch 2, wobei das Material umfasst: ein Substrat, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist; ein Pfropfpolymer, das direkt an die Oberfläche des Substrats gebunden ist; und ein leitendes Material, das an das Pfropfpolymer anhaftet.
- Leitendes Material, erhalten durch das Verfahren gemäß Anspruch 5, wobei das Material umfasst: ein Substrat, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist; eine Schicht, die ein Pfropfpolymer umfasst, das direkt an die Oberfläche des Substrats gebunden ist; und Metallfeinpartikel, die in der Schicht durch Reduzieren des Metallions oder eines Metallions in einem Metallsalz abgeschieden sind.
- Leitendes Material, erhalten durch das Verfahren gemäß Anspruch 8, wobei das Material umfasst: ein Substrat, das Polyimid enthält, welches eine polymerisationsinitiierende Einheit in seinem Gerüst aufweist, eine Schicht, die ein Pfropfpolymer umfasst, das direkt an die Oberfläche des Substrats gebunden ist; und Metallfeinpartikel, die in der Schicht durch Durchführen von stromlosem Platieren abgeschieden sind.
- Verfahren zum Bilden eines Metallmusters, umfassend einen Prozess zum Ätzen des leitenden Films, der durch das Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 2 erhalten wird.
- Verfahren zum Bilden eines Metallmusters, umfassend einen Prozess zum Ätzen des leitenden Films, der durch das Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 5 erhalten wird.
- Verfahren zum Bilden eines Metallmusters, umfassend einen Prozess zum Ätzen des leitenden Films, der durch das Verfahren zum Bilden eines leitenden Films gemäß Anspruch 8 erhalten wird.
- Verfahren zum Bilden einer Multischicht-Leiterplatine, die auf einem Substrat zumindest zwei Metallschichten, die das Metallmuster, welches durch das Verfahren zum Bilden eines Metallmusters gemäß Anspruch 15 erhalten wurde, umfassen, und eine isolierende Schicht, die zwischen ihnen angeordnet ist, aufweist, umfassend: einen Bohrprozess zum Bilden einer Öffnung in der isolierenden Schicht; und einen Leitfähigkeitsprozess, in dem der Öffnung Leitfähigkeit verliehen wird, um zumindest zwei Metallschichten elektrisch zu verbinden.
- Verfahren zum Bilden einer Multischicht-Leiterplatine, die auf einem Substrat zumindest zwei Metallschichten, die das Metallmuster, welches durch das Verfahren zum Bilden eines Metallmusters gemäß Anspruch 16 erhalten wurde, umfassen, und eine isolierende Schicht, die zwischen ihnen angeordnet ist, aufweist, umfassend: einen Bohrprozess zum Bilden einer Öffnung in der isolierenden Schicht; und einen Leitfähigkeitsprozess, in dem der Öffnung Leitfähigkeit verliehen wird, um zumindest zwei Metallschichten elektrisch zu verbinden.
- Verfahren zum Bilden einer Multischicht-Leiterplatine, die auf einem Substrat zumindest zwei Metallschichten, die das Metallmuster, welches durch das Verfahren zum Bilden eines Metallmusters gemäß Anspruch 17 erhalten wurde, umfassen, und eine isolierende Schicht, die zwischen ihnen angeordnet ist, aufweist, umfassend: einen Bohrprozess zum Bilden einer Öffnung in der isolierenden Schicht; und einen Leitfähigkeitsprozess, in dem der Öffnung Leitfähigkeit verliehen wird, um zumindest zwei Metallschichten elektrisch zu verbinden.
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---|---|---|---|---|
JP3866579B2 (ja) * | 2002-01-25 | 2007-01-10 | 富士フイルムホールディングス株式会社 | 薄層金属膜 |
MY148655A (en) * | 2003-11-27 | 2013-05-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Metal pattern forming method, metal pattern obtained by the same, printed wiring board, conductive film forming method, and conductive film obtained by the same |
US7879535B2 (en) * | 2004-03-26 | 2011-02-01 | Fujifilm Corporation | Pattern forming method, graft pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material |
JP2005343975A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 導電膜の形成方法、及び導電性材料 |
JP4850487B2 (ja) * | 2005-11-07 | 2012-01-11 | 富士フイルム株式会社 | プリント配線板用積層体、それを用いたプリント配線板、プリント配線基板の作製方法、電気部品、電子部品、および、電気機器 |
JP2007131875A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Fujifilm Corp | 金属膜形成方法及び金属パターン形成方法 |
JP4790380B2 (ja) * | 2005-11-11 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | プリント配線板用積層体、及び、それを用いたプリント配線板の作製方法 |
JP2007185937A (ja) * | 2005-12-12 | 2007-07-26 | Fujifilm Corp | 有機−無機ハイブリッド材料、ガスバリヤーフィルム及びその製造方法 |
JP5013723B2 (ja) * | 2006-03-09 | 2012-08-29 | キヤノン株式会社 | 微粒子パターン形成方法及びデバイスの製造方法 |
EP2087942A1 (de) * | 2006-10-23 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur herstellung eines metallfolienbeschichteten substrats, metallfolienbeschichtetes substrat, verfahren zur herstellung von material mit metallmuster und material mit metallmuster |
JP2008274390A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | 金属膜付基板の作製方法、金属膜付基板、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料 |
JP4903528B2 (ja) * | 2006-10-23 | 2012-03-28 | 富士フイルム株式会社 | 金属膜付基板の作製方法、金属膜付基板、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料 |
JP2008108791A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Fujifilm Corp | 多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板の作製方法 |
JP2009010336A (ja) * | 2007-05-25 | 2009-01-15 | Fujifilm Corp | 配線パターン形成方法、配線パターン、及び配線基板 |
JP5258283B2 (ja) | 2007-12-27 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 金属箔付基板、及びその作製方法 |
JP2009174041A (ja) | 2007-12-27 | 2009-08-06 | Fujifilm Corp | めっき触媒吸着方法、金属層付き基板の製造方法及びそれらに用いるめっき触媒液 |
JP4550920B2 (ja) * | 2008-06-05 | 2010-09-22 | 株式会社東芝 | 燃料電池 |
US8563873B2 (en) * | 2009-03-31 | 2013-10-22 | Ibiden Co., Ltd. | Substrate with metal film and method for manufacturing the same |
TW201043729A (en) * | 2009-06-15 | 2010-12-16 | Nat Univ Chung Cheng | Method and system of forming film by employing supercritical vapor deposition |
JP5592459B2 (ja) * | 2012-11-07 | 2014-09-17 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板の製造方法 |
JP2015058595A (ja) | 2013-09-17 | 2015-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 複合フィルムおよび太陽光反射用フィルムミラー |
US9329481B2 (en) | 2013-11-20 | 2016-05-03 | Eastman Kodak Company | Electroless plating method using halide |
US9268223B2 (en) | 2013-11-20 | 2016-02-23 | Eastman Kodak Company | Forming conductive metal pattern using reactive polymers |
US9081281B2 (en) | 2013-11-20 | 2015-07-14 | Eastman Kodak Company | Electroless plating method |
US9228039B2 (en) | 2013-11-20 | 2016-01-05 | Eastman Kodak Company | Crosslinkable reactive polymers |
US9316914B2 (en) | 2013-11-20 | 2016-04-19 | Eastman Kodak Company | Electroless plating method using non-reducing agent |
FR3019477B1 (fr) * | 2014-04-03 | 2023-03-17 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fonctionnalisation de surface |
JP7021887B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2022-02-17 | 住友化学株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
CN108697001A (zh) * | 2017-04-05 | 2018-10-23 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种柔性电极和/或电路的制备方法 |
CN111096089B (zh) * | 2017-07-13 | 2023-11-17 | 塞林克公司 | 互连电路方法和器件 |
CN115322014B (zh) * | 2022-09-14 | 2023-04-11 | 东华大学 | 含有金属涂层的陶瓷基底及其制备方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL6905795A (de) * | 1968-04-16 | 1969-10-20 | ||
US3867759A (en) * | 1973-06-13 | 1975-02-25 | Us Air Force | Method of manufacturing a multi-layered strip transmission line printed circuit board integrated package |
DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
JPS58196238A (ja) * | 1982-05-13 | 1983-11-15 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 無電解メツキ方法 |
US5389496A (en) * | 1987-03-06 | 1995-02-14 | Rohm And Haas Company | Processes and compositions for electroless metallization |
US5238746A (en) * | 1990-11-06 | 1993-08-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorocarbon-based polymer lamination coating film and method of manufacturing the same |
JPH05110247A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-04-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フレキシブル印刷配線用基板の製造方法 |
US5357005A (en) * | 1991-12-11 | 1994-10-18 | International Business Machines Corporation | Reactive surface functionalization |
JP2631441B2 (ja) * | 1993-04-30 | 1997-07-16 | 株式会社巴川製紙所 | ポリイミドフィルム・金属箔複合フィルムの製造方法 |
JP3286467B2 (ja) * | 1994-05-25 | 2002-05-27 | 株式会社巴川製紙所 | ポリイミドフイルム−金属薄膜の複合フイルムの製造方法 |
GB9623185D0 (en) * | 1996-11-09 | 1997-01-08 | Epigem Limited | Improved micro relief element and preparation thereof |
SG87814A1 (en) * | 1999-06-29 | 2002-04-16 | Univ Singapore | Method for low temperature lamination of metals to polyimides |
US6548179B2 (en) * | 2000-08-24 | 2003-04-15 | Dupont-Toray Co., Ltd. | Polyimide film, method of manufacture, and metal interconnect board with polyimide film substrate |
KR20020071437A (ko) * | 2001-03-06 | 2002-09-12 | 유승균 | 고분자 소재 표면의 금속피막 도금방법 및 이를 이용한전자파 차폐방법 |
JP2004039897A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Toshiba Corp | 電子デバイスの接続方法 |
US6951604B2 (en) * | 2002-08-13 | 2005-10-04 | Tokai Rubber Industries, Ltd. | Production method for flexible printed board |
US20040211979A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-10-28 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Circuit board and method for manufacturing the circuit board |
US7098525B2 (en) * | 2003-05-08 | 2006-08-29 | 3M Innovative Properties Company | Organic polymers, electronic devices, and methods |
US20050112369A1 (en) * | 2003-09-29 | 2005-05-26 | Rohm And Haas Electronic Materials, L.L.C. | Printed circuit board manufacture |
JP4180004B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2008-11-12 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、グラフトパターン材料、導電性パターン形成方法、及び導電性パターン材料 |
JP2005347423A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 金属パターン形成方法、及び導電性パターン材料 |
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