CZ2011597A3 - Tantalový prášek, zpusob jeho prípravy a anoda elektrolytického kondenzátoru vyrobená z tantalového prášku - Google Patents

Tantalový prášek, zpusob jeho prípravy a anoda elektrolytického kondenzátoru vyrobená z tantalového prášku Download PDF

Info

Publication number
CZ2011597A3
CZ2011597A3 CZ20110597A CZ2011597A CZ2011597A3 CZ 2011597 A3 CZ2011597 A3 CZ 2011597A3 CZ 20110597 A CZ20110597 A CZ 20110597A CZ 2011597 A CZ2011597 A CZ 2011597A CZ 2011597 A3 CZ2011597 A3 CZ 2011597A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
tantalum powder
tantalum
powder
electrolytic capacitor
particle size
Prior art date
Application number
CZ20110597A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ308565B6 (cs
Inventor
Yang@Guoqi
Shi@Wenfeng
Bao@Xifang
Li@Yong
Li@Zhongxiang
Dong@Zhangong
Yang@Xiaoyan
Original Assignee
Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd filed Critical Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd
Publication of CZ2011597A3 publication Critical patent/CZ2011597A3/cs
Publication of CZ308565B6 publication Critical patent/CZ308565B6/cs

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
    • B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
    • B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
    • B22F1/052—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles characterised by a mixture of particles of different sizes or by the particle size distribution
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004—Details
    • H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/042—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by the material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004—Details
    • H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
    • H01G9/052—Sintered electrodes
    • H01G9/0525—Powder therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)

Abstract

Tantalový prášek má merný povrch BET maximálne 0,530 m.sup.2.n./g a má nejnižší strední velikostí cástic Fisher 3,00 .mi.m. Pri zpusobu prípravy tantalového prášku je tantalový prášek pripravován redukcí slouceniny talia redukcním cinidlem, pricemž zárodecný tantalový prášek je pridáván behem redukce a tento zárodecný tantalový prášek je rozemletý tantalový prášek. Z tantalového prášku je vyrobená anoda elektrolytického kondenzátoru.

Description

Tantalový prášek, způsob jeho přípravy a anoda elektrolytického kondenzátorů vyrobená z tantalového prášku
Oblast vynálezu
Vynález se týká tantalového prášku a jeho přípravy a rovněž se týká anody elektrolytického kondenzátorů vyrobené z tantalového prášku. Zvláště se vynález týká zdokonaleného prášku pro výrobu slinuté anody tantalového kondenzátorů a způsobu jeho přípravy.
Dosavadní stav techniky
Tantalový prášek se obyčejně připravuje přípravou kovové sloučeniny tantalu reagující s redukčním Činidlem nebo hydrogenací a rozmělněním hutného kovu na prášek. Všeobecně lze říci, že tantalový prášek získaný prvním způsobem je porézní zásaditý aglomerát s vysokým specifickým povrchem složeným z mnoha primárních částic a tantalový prášek získaný druhým způsobem je vysoce čistý, avšak s malým specifickým povrchem.
Běžně se slinutý tantalový kondenzátor vyrábí sledem dále uvedených procesních kroků: slisováním tantalového prášku do tvaru pelety, slinutím pelety ve vakuové peci k vytvoření porézního tělesa, poté vytvořením anody z porézního tělesa ve vhodné elektrolytické tekutině, například ve zředěné kyselině fosforečné, čímž se vytvoří kontinuálního dielektrický film z oxidu na povrchu porézního slinutého tělesa.
Všeobecně je žádoucí, aby elektrolytický kondenzátor měl výkonnostní charakteristiku s vyšší specifickou kapacitancí, nízkým svodovým stejnosměrným proudem a vysokým průrazným napětím. Protože elektrolytický kondenzátor má řadu užitečných vlastností, je používán ve velkém rozsahu.
Tantalový prášek pro výrobu elektrolytického kondenzátorů pro oblast vysokého napětí musí mít dobrou elektrickou výkonnostní charakteristiku, jako je vyšší kapacitance a vyšší průrazné napětí. Obvykle u téhož typu tantalového prášku platí, že čím větší je specifický povrch tantalového prášku, tím komplexnější jsou částice prášku a tím nižší je průrazné napětí. Tantalový prášek s nízkou tolerancí pro vysoké napětí lze sotva použít pro vysokonapěťovou oblast. Specifický povrch tantalového prášku vyrobeného redukcí kalium-fluorotantalu sodíkem je 0,2 - 6,0 m2/g podle metody BET.
U tantalového prášku pro oblast vysokého napětí mnozí výzkumníci vynaložili velké úsilí ke zdokonalení aglomerační schopnosti tantalového prášku za účelem zvýšení kapacitance a průrazného napětí tantalového prášku. Ve WO 93/03,191, US 4,740,238, US 5,211,741, US 5,261,942 byl popsán zdokonalený vločkový tantalový prášek a způsoby výroby vločkového tantalového prášku. Avšak tyto procesy jsou složité, obtížně kontrolovatelné a vysoce nákladné, takže použití těchto technologií je omezeno.
Ve světle tohoto stavu techniky existuje potřeba získání tantalového prášku, který by bylo možno použít ve vysokonapěťovém elektrolytickém kondenzátoru. Zvláště je žádoucí, aby tantalový prášek měl vysokou kapacitanci, výtečné vlastnosti pokud jde o svodový stejnosměrný proud a dobrou toleranci k napětí. Dále existuje potřeba jednoduchého nízkonákladového a lehce kontrolovatelného způsobu, podle kterého by bylo možno připravit tantalový prášek s vysokou výkonností charakteristikou a vysokou specifickou kapacitanci a dobrou tolerancí k vysokému napětí.
Podstata vynálezu
Úlohou vynálezu je připravit tantalový prášek, který lze použít pro vysokonapěťový elektrolytický kondenzátor.
Další úlohou vynálezu je připravit tantalový prášek s vysokou specifickou kapacitanci.
Další úlohou vynálezu je připravit tantalový prášek s výtečnými vlastnostmi ve vztahu k svodovému stejnosměrnému proudu.
Další úlohou vynálezu je poskytnout tantalový prášek s dobrou tolerancí k napětí.
Při plnění výše uvedených úloh vynálezci zjistili, že změnou typu morfologie tantalového prášku, který je přidáván jako zárodek redukčního procesu, lze zlepšit morfologii částic produkovaného tantalového prášku a porezitu anody a tak lze zlepšit jeho vlastnosti, včetně svodového stejnosměrného proudu a průrazného napětí, přičemž se získá tantalový prášek použitelný ve vysoce napěťovém elektrolytickém kondenzátoru.
K splnění jedné nebo více vytýčených úloh poskytuje vynález zvláště jednu nebo více následujících variant řešení.
(1) Tantalový prášek, který má specifický povrch podle metody BET maximálně 0,530 m2/g a nejnižší velikost částic podle metody Fisher 3,00 pm.
(2) Tantalový prášek podle bodu (1), u kterého specifický povrch BET je maximálně 0,525 m2/g, s výhodou maximálně 0,520 m2/g, přednostně maximálně 0,515 m2/g.
(3) Tantalový prášek podle bodu (1), který má nejnižší střední velikost částic Fisher 3,05 pm, přednostně 3,10 pm.
(4) Tantalový prášek podle bodu (1), u kterého je distribuce částic taková, že částice odpovídající rozměru ok síta -325 mesh tvoří maximálně 60 % obj. celkového objemu částic, přednostně 55 % obj., více přednostně maximálně 50 % obj. ještě více přednostně maximálně 45 % obj. as výhodou maximálně 40 % obj.
(5) Tantalový prášek podle bodu (1), který má sypnou hmotnost v rozsahu 0,5 - 2,0 g/cm3, s výhodou v rozsahu od hodnoty 0,5 do hodnoty níže než 1,8 g/cm3.
(6) Tantalový prášek podle kteréhokoli z bodů (1) - (5), jehož nejnižší měrný povrch BET je 0,2 m2/g, přednostně 0,3 m2/g a s výhodou 0,4 m2/kg.
(7) Tantalový prášek podle kteréhokoli z bodů (1) - (5), jehož maximální střední velikost Částic Fisher je 5 pm, přednostně maximálně 4,5 pm, více přednostně maximálně 4 pm a s výhodou maximálně 3,5 pm.
(8) Způsob přípravy uvedeného tantalového prášku podle kteréhokoli z bodů (1) (7), při kterém se tantalový prášek připravuje redukcí sloučeniny tantalu redukčním činidlem, přičemž během redukce je tantalový prášek přidáván jako zárodek a tento tantalový prášek přidávaný jako zárodek je rozemletý tantalový prášek.
(9) Způsob podle bodu (8), podle kterého velikost částic tantalového prášku, přidávaného jako zárodek, odpovídá rozměru ok síta -60 mesh, s výhodou 100 mesh.
(10) Způsob podle bodu (8), podle kterého je obsah kyslíku v tantalovém prášku, použitého jako zárodek, maximálně 5000 ppm (1/1 000 000), s výhodou maximálně 2000 ppm.
(11) Způsob podle bodu (8), podle kterého je obsah uhlíku v tantalovém prášku, použitého jako zárodek, maximálně 40 ppm, s výhodou maximálně 30 ppm.
(12) Způsob podle bodu (8), podle kterého je obsah uhlíku v tantalovém prášku, použitého jako zárodek, maximálně 200 ppm, s výhodou maximálně 150 ppm.
(13) Způsob podle bodu (8), podle kterého je obsah vodíku v tantalovém prášku, použitého jako zárodek, maximálně 300 ppm, s výhodou maximálně 150 ppm.
(14) Způsob podle bodu (8), podle kterého je celkový obsah železa, niklu a chrómu v tantalovém prášku, použitého jako zárodek, maximálně 30 ppm.
(15) Způsob podle bodu (8), podle kterého proces mletí probíhá kontinuálně v kulovém mlýnu s mícháním po dobu 5-40 hod, s výhodou 10-30 hod.
(16) Způsob podle bodu (8), podle kterého je množství tantalového prásku, použitého jako zárodek, 5 - 80 % hmotn. teoretického redukovaného množství tantalového prášku, přednostně 10 - 70 % hmotn. a s výhodou 30 - 60 % hmotn.
(17) Způsob podle bodu (8) který zahrnuje níže uvedené procesní kroky;
(a) smíchání sloučeniny tantalu s ředidlovým činidlem a zárodečným tantalovým práškem;
(b) přidání redukčního činidla a redukování sloučeniny tantalu při teplotě 700 1000 °C;
(c) prohřívání při teplotě 700 - 1000 °C, (d) odebráni tantalového prášku.
(18) Způsob podle kteréhokoli z bodů (8) až (17), podle kterého je sloučeninou tantalu alespoň jedna sloučenina vybraná ze skupinu kalium-fluorotantalát, natriumfluorotantalát, nebo jejich směs.
(19) Způsob podle kteréhokoli z bodů (8) až (17), podle kterého je redukčním činidlem nejméně jedno činidlo vybrané ze skupiny kovové natrium, kalium nebo jejich slitina.
(20) Způsob podle kteréhokoli z bodů (8) až (17), podle kterého je ředidlem nejméně jedno ředidlo vybrané ze skupiny natrium-chlorid, kalium-chlorid, kalium-fluorid nebo jejich směs.
(21) Způsob podle kteréhokoli z bodů (8) až (17), podle kterého se redukce provádí při teplotě 800 - 1000 °C, s výhodou 850 - 950 °C.
(22) Způsob podle kteréhokoli z bodů (8) až (17), podle kterého je doba prohřívání 0,5 - 5 hod, s výhodou 3-5 hod.
(23) Způsob podle kteréhokoli z bodů u (8) až (17), podle kterého je teplota prohřívání 800 - 1000 °C, s výhodou 900 - 950 °C.
(24) Anoda elektrolytického kondenzátoru vyrobená z tantalového prášku podle kteréhokoli z bodů (1) - (7).
(25) Anoda elektrolytického kondenzátoru podle bodu (24), která má specifickou kapacitanci v rozsahu 6000 - 30000 pFV/g, s výhodou 10000 - 30000 pFV/g a optimálně 15000 až 25000 pFV/g.
(26) Anoda elektrolytického kondenzátoru podle bodu (24) se zdrojovým napětím v rozsahu 100 - 250 V.
Popis obrázků na výkrese.
Obr. 1 znázorňuje fotografii vzorku 1 pořízenou skenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) s 300 násobným zvětšením;
Obr. 2 znázorňuje fotografii vzorku J pořízenou skenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) s 500 násobným zvětšením;
Obr. 3 znázorňuje fotografii vzorku I pořízenou skenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) s 5000 násobným zvětšením;
Obr. 4 znázorňuje fotografii vzorku J pořízenou skenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) s 5000 násobným zvětšením;
Obr. 5 znázorňuje porezitu slinutých pelet, které jsou slinovány při teplotě 1500 °C po dobu 30 minut připravených třemi různými způsoby.
Obr. 6 znázorňuje porezitu slinutých pelet, které jsou slinovány při teplotě 1500 °C po dobu 30 minut připravených třemi různými způsoby.
Příklady provedení vynálezu
V tomto popisu přihlášky, pokud není uvedeno něco jiného, představuje jednotka ppm počet hmotných částic na milion; tak zvané vysoké napětí znamená všeobecně napětí 100 V nebo vyšší, zvláště pak 100 V - 250 V.
Tak, jak je to používáno v popisu této přihlášky, a jak je dobře známo odborníkům v oboru, při použití termínu mesh k vyjádření velikosti částice, znamená znaménko nebo + uvedené před příslušným číslem mesh, že částice procházejí nebo neprocházejí oky síta s příslušným číslem mesh, například -60 mesh, znamená, že tyto částice procházejí sítem s oky 60 mesh a naopak +200 mesh znamená, že částice neprocházejí sítem s oky 200 mesh. Tudíž, označení částic -60 - +200 mesh se vztahuje na částice, které procházejí sítem s oky 60 mesh, avšak neprocházejí sítem s oky 200 mesh.
Parametry charakterizující Částice prášku zahrnují: specifický povrch (m2/g) podle metody BET, testovaný procesem absorpce kapalného dusíku při nízké teplotě, střední velikost částic podle metody Fisher (FSSS/pm) měřenou prosévacím analyzátorem Fisher, sypkou hmotnost (SBG g/cm3) měřenou analyzátorem sypké hmotnosti Scott, distribuci porezity anody měřenou Auto-rtuťovým tlakovým analyzátorem, distribuci velikostí Částic prášku měřenou laserovým analyzátorem distribuce Částic, morfologický rozměr částic měřený skenovacím elektronickým mikroskopem a transmisním elektronovým mikroskopem.
Anoda elektrolytického kondenzátoru je připravována a charakterizována následovně: slisováním tantalového prášku do pelet podle požadované hustoty a rozměru; pak slinováním pelet při požadované teplotě ve vakuové peci do slinutých pelet; pak udržováním slinutých pelet v 0,01 % obj. kyselině fosforečné, při teplotě 80 °C při konstantním napětí po určitou dobu a vytvořením anody ze slinuté pelety pro anodu elektrolytického kondenzát ořu.
Zařízení pro analýzu parametrů týkajících se vynálezu jsou uvedena v následující tabulce:
Parametr Zařízeni Model /značka Výrobce
Obsah O, N Analyzátor kyslíku a dusíku LEČO CS-436 LEČO CS
Obsah K+Na Atomová absorpční spektrometrie. Varian 220FS/220Z Varian
Obsah C Analyzátor uhlíku a síry LEČO CS-406 LEČO CS
SBD Analyzátor sypké hmotnosti FL4-1 Vyrobený dle GB 1479-84
CV Přesný měřič LCR HP-4284A HP
BET Analyzátor BET ASAP2010 Micromerities, USA
Porezita Auto-rtuťový, tlakový analyzátor AUTOPORE III 9400 Micromerities, USA
Morfologie částic Skenovací elektronový mikroskop JSM-5610LV Japan Electronics
Výsledky měření měrného povrchu metodou BET mohou odrážet velikost primárních částic. Čím jemnější jsou primární částice tantalového prášku, tím větší je měrný povrch BET a všeobecně tím vyšší je specifická kapacitance prášku. Střední velikost částic podle metody Fisher se získá měřením rychlosti vzduchu procházejícího kovovou trubicí naplněnou práškem. Střední velikost Částic prášku Fisher souvisí s velikostí Částic a mezitím se vztahuje na rozsah aglomerátů. U redukovaných primárních prášků připravených redukcí platí, že Čím nižší je střední velikost částic Fisher, tím větší je povrch a tím větší je specifická kapacitance a tím vyšší svodový stejnosměrný proud; avšak u agiomerováného prášku, mohou mít prášky s rozdílným měrným povrchem podobnou střední hodnotu velikosti částic Fisher; a u prásků se stejnou specifickou kapacitancí, má prášek s vyšším stupněm aglomerace vyšší střední hodnotu velikosti částic Fisher.
Podle tohoto vynálezu je shora uvedený tantalový prášek ten, který je použit pro elektrolytický kondenzátor se zdrojovým napětím 100 V - 250 V.
Podle vynálezu neexistuje žádné zvláštní omezení použití zárodečného tantalového prášku, pokud jde o jeho možné přidávání do redukčního procesu jako zárodek. V přednostním provedení vynálezu má tantalový prášek použitý jako zárodek (tj. rozemletý tantalový prášek) níže uvedené vlastnosti: velikost částic -60 mesh, s výhodou -100 mesh, obsah kyslíku maximálně 5000 ppm, přednostně maximálně 2000 ppm, obsah uhlíku maximálně 40 ppm, přednostně maximálně 30 ppm, obsah dusíku maximálně 200 ppm.
přednostně maximálně 150 ppm, obsah vodíku maximálně 300 ppm, přednostně maximálně 150 ppm, celkový obsah železa, niklu a chrómu maximálně 30 ppm.
U tohoto vynálezu neexistuje zvláštní omezení způsobu přípravy zárodečného tantalového prášku, avšak výhodný je rozemletý zárodečný prášek. Podle přednostního provedení vynálezu se zárodečný tantalový prášek průběžně rozemílá na kulovém mlýně s mícháním po dobu 5-40 hod.
Mlecí proces může být s výhodou volen takto: výchozí materiál je mlet v míchacím kulovém mlýně a smíchán s alkoholem jako mlecím mediem k vytvoření vločkovitého prášku s poměrem stran 5 - 20, poté jsou toužením odstraněny nečistoty z rozemletého prášku. Tento poměr stran představuje poměr šířky částice k její tloušťce. Poměr stran lze měřit skenovacím elektronovým mikroskopem. Například lze poměr stran spolehlivě zjistit tímto způsobem: rozptýlením částic a jejich spolehlivým přilepením na lepicí pásku k pozorování skenovacím elektronovým mikroskopem a zjištěním radiální délky a tloušťky 2000 - 3000 částic, spočtením průměrné hodnoty radiální délky k tloušťce těchto částic.
Procesem podle vynálezu lze získat částice tantalového prášku s větším rozměrem částic a menším specifickým povrchem přidáním zárodečného tantalového prášku beze změny systému a podmínek procesu. Tudíž, výsledný tantalový prášek má dobré slinovací vlastnosti, jakož i vysokou kapacitanci pri vysokých teplotách, vysoké průrazné napětí, nízký svodový stejnosměrný proud a dobré aglomeraČní vlastnosti. Proto je tantalový prášek podle vynálezu zvláště užitečný pro vysokonapěťový elektrolytický kondenzátor.
U způsobu podle vynálezu neexistuje zvláštní omezení pokud jde o množství přidaného zárodečného prášku; jestliže se bude jednat o množství, které je dostatečné, aby působilo jako zárodek. V přednostním provedení vynálezu uvedené přidané množství zárodečného tantalového prášku činí 5-80 % hmotn. teoretické redukční hmotnosti, přednostně 10 - 70 % hmotn. a s výhodou 30 - 60 % hmotn. Tak zvaná teoretická redukční hmotnost znamená hmotnost tantalového prášku, kterou lze podle vynálezu získat teoretickým výpočtem a která představuje množství tantalového prášku získaného redukcí a množství zárodečného tantalového prášku. V dané aplikaci byly veškeré procentní údaje týkající se množství zárodečného tantalového prášku pojaty ve výše uvedeném smyslu.
Kromě toho, výraz beze změny systému a podmínek procesu znamená, že tantalový prášek je připraven redukcí sloučeniny tantalu redukčním činidlem beze změny jakýchkoli procesních podmínek. Odborníkům z oboru je tento proces znám. Podle vynálezu nejsou parametry procesu nijak zvlášť omezeny.
Rozumí se, že dále uvedený popis přednostních provedení vynálezu pomocí příkladů ve spojení s průvodními výkresy je předkládán pouze za účelem ilustrace znaků a výhod tohoto vynálezu a neomezuje rozsah připojených nároků.
V níže uvedených příkladech jsou vzorky tantalového prášku připraveny následujícím způsobem tak, že:
(a) U vzorků A, D a H: smíchání a nadávkováni množství 150 kg K2TaF7 s ředidlovou solí KCI v množství 160 kg do reakční nádoby;
U vzorků B, C, E, F, I a J, je výše uvedené množství 150 kg K2TaF7 částečně nahrazeno zárodečným tantalovým práškem s nezměněným množstvím tantalu, a typ zřeďující soli a její přidané množství zůstává nezměněno, poté jsou složky smíchány a vsazeny do reakční nádoby;
(b) Po vsazení, ohřátí naplněné reakční nádoby na 920 °C, se soustavně vstřikuje kapalný sodík do reakční nádoby k provedení redukce v procesu stálého řízeného mícháni s 80 otáčky za minutu a reakční teplota je regulována řízením rychlosti vstřikování sodíku; (c) prohrivání za teploty 920 °C po dobu 0,5-5 hod. po ukončení vstřikování sodíku;
(d) odebrání prášků z pece po ochlazení a tím získání uvedeného vzorku tantalových prášků
V níže uvedených příkladech je tantalový prášek použitý jako zárodek zkráceně uváděn jako zárodečný tantalový prášek. Zárodečný tantalový prášek má níže uvedenou charakteristiku: velikost částic -100 mesh; obsah kyslíku 4750 ppm; obsah uhlíku 35 ppm; obsah dusíku 170 ppm; obsah vodíku 260 ppm, a celkový obsah železa, niklu a chrómu 25 ppm. Zde je třeba uvést, že ne všechny vzorky podle následujících příkladů spadají do rozsahu vynálezu. Pro vhodné porovnání vložil přihlašovatel vzorky podle vynálezu a vzorky mimo rozsah vynálezu do téhož příkladu. Konkrétně, vzorky A, D a H představují tantalové prášky spadající mimo rozsah vynálezu (jinými slovy bez přidání zárodečného prášku do procesu) a příklady B, C, E, F, I a J spadají do rozsahu tohoto vynálezu (jinými slovy s přidáním zárodečného prášku do procesu).
Příklad 1
Vzorek A (nikoli podle vynálezu): získaný přímou redukcí sodíkem
Vzorek B (podle vynálezu): získaný s přidáním 10 % hmotn. zárodečného tantalového prášku do procesu redukce.
Vzorek C (podle vynálezu): získaný přidáním 20 % hmotn. zárodečného tantalového prášku do redukce.
Tabulka 1: Specifický povrch, sypná hmotnost a střední velikost částic podle Fisher u příkladů A, B a C
Vzorek Specifický povrch (cm2/g) Sypná hmotnost (g/cm3) Střední velikost částic podle Fisher (pm)
A 0,5328 1,84 3,05
B 0,5120 1,78 3,15
C 0,4875 1,76 3,12
Tabulka 2: Distribuce velikosti části u příkladů A, BaC (všechny procentní údaje jsou vyjádřeny v % obj. a totéž platí i dále)
Vzorek +60(%) -60/+200(%) -200/+325(%) -325/+400(%) -400(%)
A 0,46 27,58 10,42 15,86 45,68
B 0,36 28,12 12,32 13,46 45,74
C 0,48 30,26 15,46 13,88 39,92
Tantalový prášek v množství 0,5 g z příkladů A, B a C byl slisován do pelet s měrnou hmotností 5,0 g/cm3. Pelety byly slinovány ve vakuové peci při tlaku 10'3 Pa, za různých teplot 1450 °C, 1500 °C, 1550 °C a 1600 °C po dobu 30 minut k vytvoření slinutých pelet. Tyto slinuté pelety byly v 0,01 % obj. roztoku kyseliny fosforečné připojeny na napětí 100 V k vytvoření anod elektrolytického kondenzátoru. Vlastnosti byly změřeny a výsledky shrnuty do Tabulek 3, 4 a 5.
Tabulka 3: Specifická kapacitance anod elektrolytického kondenzátoru z příkladů A, B a C slinutých za různých podmínek slinování.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 °C/30 min 1550 °C/30 min 1600 °C/30 min
A 25680 23060 17328 13436
B 25565 22140 18510 13725
C 25326 20100 17680 14015
Tabulka 4: Svodový stejnosměrný proud anod elektrického kond enzátoru z příkladů
A, B a C slinutých za různých podmínek slinováni.
Vzorek 1450 “030 min 1500 C/30 min 1550 “C/30 min 1600 °C/30 min
A 0,42 0,18 0,21 Í 0,32
B 0,38 0,17 0,19 1 0,30
C 0,37 0.17 0,18 J 0,28
Tabulka 5: Smršťování anod elektrolytického kondenzátoru z p říkladů A, B a C slinutých za různých podmínek slinování.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 °C/30 min 1550 °C/30 min 10'00 °C/30 min
A 7,4 9,6 10,8 14,8
B 6,8 9,4 10,6 15,4
C 5,5 7,8 8,4 1 1,4
Příklad 2
Vzorek D (mimo rozsah vynálezu): získaný redukcí sodíkem.
Vzorek E (podle vynálezu): získaný přidáním zárodečného tantalového prášku v množství 30 % hmotn. v procesu redukce.
Vzorek F (podle vynálezu): získaný přidáním zárodečného tantalového prášku v množství 50 % hmotn. v procesu redukce
Tabulka 6: Specifický povrch, sypná hmotnost a střední velikost částic podle Fisher u vzorků D, E a F.
Vzorek Specifický povrch (cm2/g) Sypná hmotnost (g/cm3) Střední velikost částic podle Fisher (pm)
D 0,5238 1,82 2,90
E 0,4662 1,68 3,30
F 0,4584 1,63 3,35
Tabulka 7: Distribuce velikosti částic u vzorků D, E a F,
Vzorek 4-60 (%) -60/+200 (%) 200/+325(%) 325/+400(%) -400(%)
D 0,56 26,62 10,86 16,42 45,54
E 0,62 30,12 22,32 12,80 34,14
F 0.36 31,86 21.46 13.20 33,12
• · · · · · · * · ,T:·: Γ-Á- ’i • · · ♦ ·» · « · · ♦ «
Tantalový prášek v množství 0,5 g z příkladů D, E a F byl slisován do pelet s > *3 měrnou hmotností 5,0 g/cm . Pelety byly slinovány ve vakuové peci pn tlaku 10‘ Pa, za různých teplot 1450 °C, 1500 °C, 1550 °C a 1600 °C po dobu 30 minut k vytvoření slinutých pelet. Tyto slinuté pelety byly v 0,01 % obj. roztoku kyseliny fosforečné připojeny na napětí 100 V k vytvoření anod elektrolytického kondenzátoru. Vlastnosti byly změřeny a výsledky shrnuty do Tabulek 8, 9 a 10.
Tabulka 8: Specifická kapacitance anod elektrolytického kondenzátoru z příkladů D, E a F slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 100 V.
Vzorek 1450°C/30 min 1500°C/30 min 1550X2/30 min 16OO°C/3O min
D 25700 22980 17160 13360
E 24875 23120 18236 15238
F 24207 23740 19508 16848
Tabulka 9: Svodový stejnosměrný proud anod z příkladů D, E a F slinutých a různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 100 V.
Vzorek 1450 “C/30 mín 1500 °C/30 min 1550 °C/30 min 1600 °C/30 min
D 0,40 0,17 0,21 0,32
E 0,35 0,16 0,18 0,26
F 0,32 0,16 0,18 0,22
Tabulka 10: Smrštění anod z příkladů D, E a F slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 100 V.
Vzorek 1450°C/30 min 1500°C/30 min 1550°C/30 min 1600Ό30 min
D 5,0 20,1 28,2 36,7
E 3,0 12,6 16,2 28,6
F 2,0 7,4 11,3 23,2
Tantalový prášek v množství 0,5 g z příkladů D, E a F byl slisován do pelet s měrnou hmotností 5,0 g/cm3. Pelety byly slinovány ve vakuové pecí při tlaku 10'3 Pa, za různých teplot 1450 °C, 1500 °C, 1550 °C a 1600 °C po dobu 30 minut k vytvoření slinutých pelet Tyto slinuté pelety byly v 0,01 % obj. roztoku kyseliny fosforečné připojeny na napětí 160 V k vytvoření anod elektrolytického kondenzátoru. Vlastnosti byly změřeny a výsledky shrnuty do Tabulek 11, 12 a 13.
Tabulka 11; Specifická kapacitance anod elektrolytického kondenzátoru u vzorků D,
E a F slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 160 V.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 °C/30 min 1550 °C/30 min 1600 °C/30 min
D 23700 18600 15120 12980
E 21980 19800 17680 14960
F 22340 20400 18150 15200
Tabulka 12: Svodný stejnosměrný elektrický proud anod elektrolytického kondenzátoru u vzorků D, E a F slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 160 V.
Vzorek 1450 Έ/30 min 1500 Έ/30 min 1550 °C/30 min 1600 °C/30 min
D 0,52 0,35 0,31 0,32
E 0,41 0,29 0,28 0,27
F 0,32 0,27 0,25 0,25
Tabulka 13: Smrštění anod u vzorků D, E a F slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 160 V.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 T/30 min 1550 “C/30 min 1600 °C/30 min
D 4,3 15,4 20,6 28,6
E 2,1 6,8 12,4 21,5
F 1,8 5,9 9,8 18,6
Příklad 3
Vzorek H (nikoli podle vynálezu): získaný přímou redukcí sodíkem.
Vzorek I (podle vynálezu): získaný přidáním 50 % hmotn. zárodečného tantalového prášku v procesu redukce.
Vzorek J (podle vynálezu): získaný přidáním 70 % hmotn. zárodečného tantalového prášku.
Tabulka 14. Specifický povrch specifická hmotnost a střední velikost částic u vorků Η, I a
J.
Vzorek Specifický povrch (cm2/g) Sypná hmotnost (g/cm3) Střední velikost částic podle Fisher (pm)
h 1 0,5348 1,80 2,98
i i 0,4568 1,66 3,28
j i 0,4532 1,60 3,30
Tabulka 15: Distribuce velikosti částic u vzorků Η, I a J (% obj.)
Vzorek +60 -60/+200 -200/+325 -325/+400 -400
H 0,56 25,52 11,38 14,98 47,56
1 0,36 30,98 24,66 11,88 32,12
J 0,52 32,86 27,52 10,24 28,86
Tantalový prášek v množství 0,5 g z příkladů Η, I a J byl slisován do pelet s měrnou hmotností 5,0 g/cm3. Pelety byly slinovány ve vakuové peci při tlaku 10'3 Pa, za různých teplot 1450 °C, 1500 °C, 1550 °C a 1600 °C po dobu 30 minut k vytvoření slinutých pelet. Tyto slinuté pelety byly v 0,01 % obj. roztoku kyseliny fosforečné připojeny na napětí 160 V k vytvoření anod elektrolytického kondenzátoru. Vlastnosti byly změřeny a výsledky shrnuty do Tabulek 16, 17 a 18.
Tabulka 16: Specifická kapacitance anod elektrolytického kondenzátoru v příkladech Η, I a J slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 160 V.
Vzorek 1450 °C/30min 1500 °C/30min 1550 °C/30min 1600 °C/30min
n 23460 17580 14420 12650
I 21320 19620 17330 15180
J 20380 20560 17650 15210
Tabulka 17: Svodný stejnosměrný proud anod elektrolytického kondenzátoru u vzorků Η, I a J slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 160 V.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 ΧΞ/30 min 1550 “C/30 min 1600 °C/30 min
H 0,66 0,46 0,36 0,35
I 0,48 0,28 0,27 0,26
J 0,36 0,28 0,26 0,24
Tabulka 18: Smrštění anod elektrolytického kondenzátoru u vzorků Η, I a J slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 160 V.
Vzorek 1450 Ό 30 min 1500 °C/30 min 1550 “C/30 min 1600 °C/30 min
H 4,8 15,8 18,6 27,4
I 2,0 6,2 10,2 17,8
J 0,8 5,6 9,4 16,6
Tantalový prášek v množství 0,5 g z příkladů 1, K a H byl slisován do pelet s měrnou hmotností 5,0 g/cm3. Pelety byly slinovány ve vakuové peci při tlaku 10'3 Pa, za různých teplot 1450 °C, 1500 °C, 1550 °C a 1600 °C po dobu 30 minut k vytvoření slinutých pelet. Tyto slinuté pelety byly v 0,01 % obj. roztoku kyseliny fosforečné připojeny na napětí 200 V k vytvoření anod elektrolytického kondenzátorů. Vlastnosti byly změřeny a výsledky shrnuty do Tabulek 19, 20 a 21.
Tabulka 19: Specifická kapacitance anod elektrolytického kondenzátorů v příkladech Η, I a J slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 200 V.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 Έ/30 min 1550 “C/30 min 1600 “C/30 min
H 17652 15420 12180 10250
I 17180 17230 15830 14360
J 17268 17280 15850 14380
Tabulka 20: Svodný stejnosměrný proud anod elektrolytického kondenzátorů u vzorků Η, I a J slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 200 V.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 “C/30 min 1550 “C/30 min 1600 “C/30 min
H 1,32 0,76 0,52 0,40
I 0,86 0,42 0,36 0,32
J 0,82 0,40 0,36 0,30
Tabulka 21: Smrštění anod u vzorků D, E a F slinutých za různých slinovacích podmínek a připojených na zdroj napětí 200 V.
Vzorek 1450 °C/30 min 1500 °C/30 min 1550 °C/30 min 1600 “C/30 min
H 4,8 15,8 18,6 27,4
I 2,0 6,2 10,2 17,8
J 0,8 5,6 9,4 16,6
Jak je výše popsáno, má tantalový prášek podle vynálezu vhodnou sypnou hmotnost. Tantalový prášek podle vynálezu má lepší aglomerační účinek a podstatně nižší poměr jemných částic ve srovnání s částicemi podle stavu techniky. Zvláště částice o velikosti -325 mesh obsahují pouze maximálně 60 % obj. všech částic. Anody elektrolytického katalyzátoru vyrobené z tantalového prášku připojené na zdroj vysokého napětí mají srovnatelnou nebo dokonce vyšší specifickou kapacitanci a nízký svodný proud a mají zlepšené slinovací vlastnosti (smrštění). Tudíž je zjevné, že tantalový prášek podle vynálezu je zvláště vhodný pro vysokonapěťový elektrolytický kondenzátor. Kromě toho, jak je patrné ze srovnávacích příkladů F a I, které byly provedeny při identických parametrech procesu, je způsob podle vynálezu výtečně reprodukovatelný, což je v praxi velice výhodné.
Ostatní provedení vynálezu jsou zjevná pro odborníky znalé stavu techniky na základě hodnocení údajů a praktického provedení tohoto vynálezu jak jsou zde uvedeny. Záměrem je, aby popis a příklady provedení byly považovány pouze za příkladné, přičemž skutečný rozsah a duch tohoto vynálezu je uveden v následujících nárocích.

Claims (13)

  1. Patentové nároky
    1. Tantalový prášek vyznačující se tím, že má specifický povrch BET maximálně 0,530 m2/g a nejnižší střední velikost částic Fisher 3,00 μτη.
  2. 2. Tantalový prášek podle nároku 1, vyznačující se tím, že specifický povrch BET je 2 2 maximálně 0,525 m /g, přednostně maximálně 0,520 m /g, a s výhodou maximálně 0,515 m2/g.
  3. 3. Tantalový prášek podle nároku 1, vyznačující se tím, že nejnižší střední velikost částic Fisher je 3,05 pm, s výhodou 3,10 pm.
  4. 4. Tantalový prášek podle nároku 1, vyznačující se tím, že distribuce velikosti jeho částic je taková, že částice odpovídající rozměru síta -325 mesh tvoři maximálně 60 % obj. celkového objemu částic, přednostně maximálně 550 % obj., dále přednostně maximálně 50 % obj., a dále přednostně maximálně 45 % obj. a s výhodou maximálně 40 % obj.
  5. 5. Tantalový prášek podle nároku 1, vyznačující se tím, že má sypnou hmotnost v rozsahu 0,5 - 2,0 g/cm3, s výhodou 0,5 - až méně než 1,8 g/cm3.
  6. 6. Způsob přípravy tantalového prášku podle kteréhokoli z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že se tantalový prášek připravuje redukcí sloučeniny tantalu redukčním činidlem, přičemž během redukce je tantalový prášek přidáván jako zárodek a tento zárodečný tantalový prášek je rozemletý tantalový prášek.
  7. 7. Způsob podle nároku 6, vyznačující se tím, že velikost částic zárodečného tantalového práškuje -60 mesh, s výhodou -100 mesh.
  8. 8. Způsob podle nároku 6, vyznačující se tím, že, mletí tantalového prášku probíhá kontinuálně v míchacím kulovém mlýně po dobu 5-40 hodin s výhodou 10-30 hod.
  9. 9. Způsob podle nároku 6, vyznačující se tím, že obsah kyslíku v zárodečném tantalovém prášku je maximálně 5 - 80 % hmotn. přednostně 10 - 70 % hmotn., s výhodou 30 - 60 % hmotn.
  10. 10. Způsob podle nároku 6, vyznačující se tím, že způsob obsahuje následující kroky;
    (a) smíchání sloučeniny tantalu se ředidlovým činidlem a zárodečným tantalovým práškem, (b) přidání redukčního činidla a redukování sloučeniny tantalu při teplotě 700 - 1000 °C;
    (c) prohřívání při teplotě 700 - 1000 °C;
    (d) odebrání tantalového prášku.
  11. 11. Anoda elektrolytického kondenzátoru vyznačující se tím, že anoda je vyrobena z tantalového prášku podle kteréhokoli z nároků 1-5.
  12. 12. Anoda elektrolytického kondenzátoru podle nároku 11, vyznačující se tím, že její specifická kapacitance je v rozsahu 6000 - 30000 pFV/g, přednostně 10000 - 30000 pFV/g a s výhodou 15000 až 25000 pFV/g.
  13. 13. Anoda elektrolytického kondenzátoru podle nároku 11, vyznačující se tím, že zdrojové napětí je v rozsahu 100 - 250 V.
CZ2011-597A 2009-03-05 2010-03-05 Způsob přípravy tantalového prášku CZ308565B6 (cs)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200910119165XA CN101491834B (zh) 2009-03-05 2009-03-05 钽粉的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2011597A3 true CZ2011597A3 (cs) 2011-10-19
CZ308565B6 CZ308565B6 (cs) 2020-12-09

Family

ID=40922723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2011-597A CZ308565B6 (cs) 2009-03-05 2010-03-05 Způsob přípravy tantalového prášku

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20100226070A1 (cs)
CN (1) CN101491834B (cs)
CZ (1) CZ308565B6 (cs)
IL (1) IL214604A (cs)
MX (1) MX2011009311A (cs)
WO (1) WO2010099701A1 (cs)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7856265B2 (en) * 2007-02-22 2010-12-21 Cardiac Pacemakers, Inc. High voltage capacitor route with integrated failure point
CN101491834B (zh) 2009-03-05 2012-06-20 宁夏东方钽业股份有限公司 钽粉的制备方法
US8725252B2 (en) 2009-12-18 2014-05-13 Cardiac Pacemakers, Inc. Electric energy storage device electrode including an overcurrent protector
US8619408B2 (en) 2009-12-18 2013-12-31 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered capacitor electrode including a folded connection
US8873220B2 (en) * 2009-12-18 2014-10-28 Cardiac Pacemakers, Inc. Systems and methods to connect sintered aluminum electrodes of an energy storage device
EP2513930B1 (en) 2009-12-18 2020-10-07 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered electrodes to store energy in an implantable medical device
US9123470B2 (en) 2009-12-18 2015-09-01 Cardiac Pacemakers, Inc. Implantable energy storage device including a connection post to connect multiple electrodes
US9269498B2 (en) 2009-12-18 2016-02-23 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered capacitor electrode including multiple thicknesses
US8848341B2 (en) 2010-06-24 2014-09-30 Cardiac Pacemakers, Inc. Electronic component mounted on a capacitor electrode
US9322081B2 (en) 2011-07-05 2016-04-26 Orchard Material Technology, Llc Retrieval of high value refractory metals from alloys and mixtures
CN102382993B (zh) * 2011-10-09 2013-08-28 广东致远新材料有限公司 一种靶材级超高纯钽金属的制取方法
WO2015096048A1 (zh) 2013-12-25 2015-07-02 宁夏东方钽业股份有限公司 一种改善了电性能的电容器级高比容钽粉及其制备方法
WO2015100519A1 (zh) * 2013-12-30 2015-07-09 宁夏东方钽业股份有限公司 一种高氮含量电容器级钽粉的制备方法及由其制得的钽粉及钽电容器
CN104858436B (zh) * 2014-02-21 2018-01-16 宁夏东方钽业股份有限公司 高可靠高比容电解电容器用钽粉的制备方法
CN107350482B (zh) * 2017-06-19 2019-08-02 西安建筑科技大学 一种V-Ti-Fe储氢合金粉的液相反应制备方法
US20220080502A1 (en) * 2020-09-14 2022-03-17 Kemet Electronics Corporation Freeze Drying and Tumble Drying of Flake Powder

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4441927A (en) * 1982-11-16 1984-04-10 Cabot Corporation Tantalum powder composition
JPS60131901A (ja) * 1983-12-17 1985-07-13 Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk タンタル粉末の製法
US4555268A (en) * 1984-12-18 1985-11-26 Cabot Corporation Method for improving handling properties of a flaked tantalum powder composition
US4684399A (en) * 1986-03-04 1987-08-04 Cabot Corporation Tantalum powder process
US4722756A (en) * 1987-02-27 1988-02-02 Cabot Corp Method for deoxidizing tantalum material
US5211741A (en) * 1987-11-30 1993-05-18 Cabot Corporation Flaked tantalum powder
JPH0270028A (ja) * 1988-09-02 1990-03-08 Nippon Mining Co Ltd Ｔａ又はＮｂの製造方法
CN1073480C (zh) 1998-05-08 2001-10-24 宁夏有色金属冶炼厂 团化钽粉的生产方法
CN1169643C (zh) * 2001-09-29 2004-10-06 宁夏东方钽业股份有限公司 高比表面积钽粉和/或铌粉的制备方法
CN1278804C (zh) 2002-03-30 2006-10-11 宁夏东方钽业股份有限公司 铌和/或钽粉的生产方法
EP1827739B1 (de) * 2004-12-09 2009-08-19 H.C. Starck GmbH Herstellung von ventilmetallpulvern
EP1928620B1 (en) * 2005-09-29 2020-03-18 Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd. Method for spherically granulating and agglomerating metal particles
CN101182602B (zh) * 2006-11-14 2010-04-14 宁夏东方钽业股份有限公司 粉末冶金用钽和/或铌粉末及其制备方法
CN101491834B (zh) 2009-03-05 2012-06-20 宁夏东方钽业股份有限公司 钽粉的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101491834A (zh) 2009-07-29
CN101491834B (zh) 2012-06-20
MX2011009311A (es) 2012-01-20
CZ308565B6 (cs) 2020-12-09
WO2010099701A1 (en) 2010-09-10
US9199307B2 (en) 2015-12-01
US20120291593A1 (en) 2012-11-22
IL214604A (en) 2016-08-31
IL214604A0 (en) 2011-09-27
US20100226070A1 (en) 2010-09-09
WO2010099701A8 (en) 2011-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ2011597A3 (cs) Tantalový prášek, zpusob jeho prípravy a anoda elektrolytického kondenzátoru vyrobená z tantalového prášku
KR102389784B1 (ko) 구형 분말을 함유하는 애노드 및 커패시터
Wang et al. Influence of nano-SiC on microstructure and property of MAO coating formed on AZ91D magnesium alloy
EP3020083B1 (en) Mixed positive active material comprising lithium metal oxide and lithium metal phosphate
US11205776B2 (en) Lithium metal oxide cathode materials and method to make them
Wang et al. Fabrication of Mo–Cu composite powders by heterogeneous precipitation and the sintering properties of the composite compacts
CZ162899A3 (cs) Niobové prášky a niobové elektrolytické kondenzátory
EP3543210B1 (en) Method for producing aluminum hydroxide-coated silicon carbide particle powder and method for producing dispersion containing said powder and dispersion medium
KR101251567B1 (ko) 니켈 분말 및 그 제조 방법, 그리고 도전성 페이스트
KR20170117036A (ko) 분말, 이 분말을 포함하는 전극 및 배터리
CZ20032852A3 (cs) Způsoby výroby oxidu niobu
Zhang et al. Microstructure and properties of Al 2 O 3 dispersion-strengthened copper fabricated by reactive synthesis process
JP2014222619A (ja) 導電膜
JP2018070985A (ja) チタン系多孔体及びその製造方法
EP2826576A1 (en) Silver-based electrical contact material
JP2008122030A (ja) ヒートパイプ構成原料
JP4254222B2 (ja) ジルコニア粉末
CN114423541A (zh) 具有用石墨烯材料包覆的铁基粒子的复合粉末
EP3919462A1 (en) Coated particle, dispersion solution and molded body containing same, and sintered body formed using same
EP2826874B1 (en) Method for preparing silver-based electrical contact material
Guo et al. Field-assisted solid phase sintering of W-20 wt.% Cu nanocomposites prepared by co-precipitation method
CZ20032169A3 (cs) Tantal-křemíkové a niob-křemíkové substráty pro anody kondenzátorů
CN109545564B (zh) 一种固体铝电容器用涂碳铝箔及其制备方法
US11993829B2 (en) Powders based on niobium-tin compounds for producing superconductive components
JP2005047760A (ja) 銅被覆黒鉛粉末及びその製造方法