CN216013793U - 光学系统 - Google Patents

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王英任
吴亚修
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Abstract

本公开提出一种光学系统。光学系统包括一活动部、一固定部、一第一感测元件、一第二感测元件以及一控制单元。一光学元件设置于活动部上，且前述第一、第二感测元件分别用以感测前述活动部相对前述固定部于第一、第二维度坐标的运动，并分别产生第一、第二感测值。前述控制单元根据前述第一感测值以及一误差关系曲线产生一误差值，且前述控制单元根据前述误差值修正前述第二感测值。

Description

光学系统
技术领域
本实用新型涉及一种光学系统，尤其涉及一种具有活动部以及固定部的光学系统。
背景技术
随着科技的发展，现今许多电子装置(例如笔记本电脑或数字相机)皆具有照相或录影的功能。这些电子装置的使用越来越普遍，并朝着便利和轻薄化的设计方向进行发展，以提供使用者更多的选择。
在一些电子装置中，为了使镜头的焦距可调整，因此配置了镜头驱动模块来移动镜头。此外，在电子装置内部的光学系统中通常会设有多个相对应的磁性元件以及感测元件，其中磁性元件设置于光学系统的一活动部，感测元件则设置于光学系统的一固定部，用以感测磁性元件的磁场强度，从而能够得知前述活动部相对于固定部在不同维度坐标的位置变化。
然而，前述感测元件往往会受到串扰现象(crosstalk)的影响而产生测量上的误差，因此如何解决前述问题成为一重要的挑战。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种光学系统，以解决上述至少一个问题。
有鉴于前述公知问题点，本实用新型的一实施例提供一种光学系统，包括一活动部、一固定部、一驱动组件、一第一感测元件、一第二感测元件以及一控制单元。前述活动部用以连接一光学元件，前述活动部可相对前述固定部运动，前述驱动组件用以驱使前述活动部相对前述固定部运动，前述第一感测元件用以感测前述活动部相对前述固定部于一第一维度坐标的运动，并产生一第一感测值，前述第二感测元件用以感测前述活动部相对前述固定部于一第二维度坐标的运动，并产生一第二感测值。
前述控制单元电性连接前述第一、第二感测元件，并根据前述第一感测值以及一第一误差关系曲线产生一第一误差值，其中前述第一误差关系曲线表示当前述活动部相对前述固定部仅沿前述第一维度坐标运动时，前述第二感测元件所产生的前述第二感测值与前述第一维度坐标间的关系曲线，且前述控制单元根据前述第一误差值修正前述第二感测值，并输出一驱动信号至前述驱动组件，以驱使前述活动部相对前述固定部运动。
于一实施例中，前述第一误差关系曲线是由一外部校准设备通过测量前述活动部相对前述固定部的位置变化所产生，且在产生前述第一误差关系曲线之后，前述外部校准设备自前述光学系统中移除。
于一实施例中，当前述外部校准设备测量前述活动部相对前述固定部的位置变化时，前述活动部相对于前述固定部固定在前述第二维度坐标上的一基准点。
于一实施例中，前述光学系统还包括具有一第一磁极方向的一第一磁性元件以及具有一第二磁极方向的一第二磁性元件，其中前述第一、第二磁性元件设置于前述活动部上，且前述第一、第二感测元件设置于前述固定部上，用以分别感测前述第一、第二磁性元件的磁场强度。
于一实施例中，前述第一磁极方向与前述第二磁极方向不平行。
于一实施例中，前述第一磁极方向与前述第二磁极方向皆垂直于与前述光学元件的一光轴。
于一实施例中，前述第一磁极方向与前述第二磁极方向相差45度。
于一实施例中，前述光学系统还包括一第一磁性元件以及一第二磁性元件，其中前述第一磁性元件具有一第一磁极方向，其中前述第一感测元件感测前述第一磁性元件于前述第一磁极方向的磁场强度，前述第二磁性元件具有一第二磁极方向，其中前述第二感测元件感测前述第二磁性元件于前述第二磁极方向的磁场强度。
于一实施例中，前述第一、第二磁性元件设置于前述活动部上，且前述第一、第二感测元件设置于前述固定部上。
于一实施例中，前述第一维度坐标为一直线坐标，垂直于前述光学元件的一光轴，且前述第二维度坐标为一角坐标。
于一实施例中，前述感测组件还包括一第三感测元件，感测前述活动部相对前述固定部于一第三维度坐标的运动，并产生一第三感测值，其中前述第三维度坐标不同于前述第一、第二维度坐标。
于一实施例中，前述控制单元电性连接前述三感测元件，并根据前述第三感测值以及一第二误差关系曲线产生一第二误差值，其中前述第二误差关系曲线表示当前述活动部相对前述固定部仅沿前述第三维度坐标运动时，前述第二感测元件所产生的前述第二感测值与前述第三维度坐标间的关系曲线，且前述控制单元根据前述第一、第二误差值修正前述第二感测值，并输出前述驱动信号至前述驱动组件，以驱使前述活动部相对前述固定部运动。
于一实施例中，前述第二误差关系曲线是由一外部校准设备通过测量前述活动部相对前述固定部的位置变化所产生，且在产生前述第二误差关系曲线之后，前述外部校准设备自前述光学系统中移除。
于一实施例中，当前述外部校准设备测量前述活动部相对前述固定部的位置变化时，前述活动部相对于前述固定部固定在前述第二维度坐标上的一基准点。
于一实施例中，前述光学系统还包括一第一磁性元件以及一第二磁性元件，前述第一磁性元件具有一第一磁极方向，其中前述第一感测元件感测前述第一磁性元件于前述第一磁极方向的磁场强度。前述第二磁性元件具有一第二磁极方向，其中前述第二感测元件感测前述第二磁性元件于前述第二磁极方向的磁场强度，其中前述第一、第二磁极方向不平行。前述第三磁性元件具有一第三磁极方向，其中前述第三感测元件感测前述第三磁性元件于前述第三磁极方向的磁场强度。
于一实施例中，前述第三磁极方向垂直于前述第一磁极方向。
于一实施例中，前述第三磁极方向与前述第一磁极方向不平行也不垂直。
于一实施例中，前述第三磁极方向平行于前述第一磁极方向或前述第二磁极方向。
于一实施例中，前述第一、第二、第三磁性元件设置于前述活动部上，且前述第一、第二、第三感测元件设置于前述固定部上。
于一实施例中，前述第三维度坐标为一直线坐标，垂直于前述光学元件的一光轴，且前述第二维度坐标为一角坐标。
本公开的有益效果在于，活动部相对于固定部的实际角位移量后，即可确认活动部相对于固定部在X轴坐标方向的位移量、在Y轴坐标方向的位移量以及以光轴为中心的角位移量，控制单元即可输出一驱动信号至驱动组件，以驱使活动部相对固定部运动到一目标位置，并可达到精准定位控制的效果。
附图说明
图1及图2表示本实用新型一实施例的光学系统的爆炸图。
图3表示图1及图2中的外框、设置于外框上的磁性元件以及设置于基板上的感测元件的相对位置关系示意图。
图4表示本实用新型另一实施例的光学系统中的外框、设置于外框上的磁性元件以及设置于基板上的感测元件的相对位置关系示意图。
图5～图7分别表示当活动部相对固定部仅沿X轴方向进行小幅度的位移时，感测元件所感测到的磁场强度变化与X轴坐标间的关系曲线。
图8～图10分别表示当该活动部相对固定部仅沿Y轴方向进行小幅度的位移时，感测元件所感测到的磁场强度变化与Y轴坐标间的关系曲线。
图11～图13分别表示当该活动部相对固定部仅绕光轴O于一小角度范围内旋转时，感测元件所感测到的磁场强度变化与一旋转角度坐标间的关系曲线。
图14表示本实用新型另一实施例的外框、设置于外框上的磁性元件以及设置于基板上的感测元件的相对位置关系示意图。
附图标记如下：
BT:外框
F:软性电路板
I:图像感测器
H:上盖
HM1磁性元件(第一磁性元件)
HM2磁性元件(第三磁性元件)
HM3磁性元件(第二磁性元件)
HS1:感测元件(第一感测元件)
HS2:感测元件(第三感测元件)
HS3:感测元件(第二感测元件)
MR:承载单元
O:光轴
P:基板
S:驱动组件
具体实施方式
以下说明本实用新型实施例的光学系统。然而，可轻易了解本实用新型实施例提供许多合适的实用新型概念而可实施于广泛的各种特定背景。所公开的特定实施例仅仅用于说明以特定方法使用本实用新型，并非用以局限本实用新型的范围。
除非另外定义，在此使用的全部用语(包括技术及科学用语)具有与此篇公开所属的本领域技术人员所通常理解的相同涵义。能理解的是这些用语，例如在通常使用的字典中定义的用语，应被解读成具有一与相关技术及本公开的背景或上下文一致的意思，而不应以一理想化或过度正式的方式解读，除非在此特别定义。
有关本实用新型的前述及其他技术内容、特点与功效，在以下配合参考附图的一较佳实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。以下各实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，实施方式中所使用的方向用语是用来说明并非用来限制本实用新型。
请先一并参阅图1、图2及图3，其中图1及图2表示本实用新型一实施例的光学系统的爆炸图，图3表示图1及图2中的外框BT、设置于外框 BT上的磁性元件HM1、HM2、HM3以及设置于基板P上的感测元件HS1、 HS2、HS3的相对位置关系示意图。
如图1及图2所示，本实施例的光学系统例如为一摄像系统(camera system)，其主要包括一上盖H、一承载单元MR、一驱动组件S、一软性电路板F、一外框BT、一基板P以及一图像感测器I，其中前述上盖H连接外框BT，前述承载单元MR和软性电路板F设置在上盖H和外框BT所形成的一容纳空间内，前述图像感测器I则设置于基板P上。
应了解的是，一光学元件(例如光学镜头)可设置在承载单元MR内，且软性电路板F可用以电性连接承载单元MR以及一外部电路。
前述承载单元MR例如可包含一音圈马达(Voice Coil Motor,VCM)，其中音圈马达能够驱使前述光学元件(例如光学镜头)沿Z轴方向位移，前述驱动组件S则是设置于承载单元MR下方并且连接基板P。
在本实施例中，前述驱动组件S可包含有形状记忆合金元件(Shape MemoryAlloys,SMA)，且一电流可由外部电路经过基板P(例如印刷电路板) 而施加于前述形状记忆合金元件，此时形状记忆合金元件会变形并带动活动部(包含上盖H、外框BT、承载单元MR、软性电路板F以及光学元件)一起相对于固定部(基板P和图像感测器I)沿一水平方向平移或者绕光学元件的一光轴O旋转，其中前述水平方向系垂直于前述光轴O，且前述光轴O与Z 轴平行。
需特别说明的是，在前述外框BT的角落处设有三个磁性元件HM1、 HM2、HM3(第一、第三、第二磁性元件)，此外在基板P上则设有三个感测元件HS1、HS2、HS3(第一、第三、第二感测元件)，其中感测元件HS1、 HS2、HS3的位置分别在测磁性元件HM1、HM2、HM3的正下方(图3)，如此一来即可通过感测元件HS1、HS2、HS3分别感测磁性元件HM1、HM2、 HM3的磁场强度，从而得知前述活动部相对于固定部于不同维度坐标的位置变化。
于一实施例中，前述感测元件HS1、HS2、HS3可为霍尔效应感测器(Hall Sensor)、磁阻效应感测器(Magnetoresistance Effect Sensor,MR Sensor)、巨磁阻效应感测器(Giant Magnetoresistance Effect Sensor,GMR Sensor)、穿隧磁阻效应感测器(Tunneling Magnetoresistance Effect Sensor,TMR Sensor)，前述磁性元件HM1、HM2、HM3则可为磁铁。
接着请参阅图4，其中图4表示本实用新型另一实施例的光学系统中的外框BT、设置于外框BT上的磁性元件HM1、HM2、HM3以及设置于基板 P上的感测元件HS1、HS2、HS3的相对位置关系示意图。
如图4所示，在本实用新型另一实施例的光学系统中，也可将磁性元件 HM1、HM2设置在外框BT上相邻两侧边的中央位置处，并将磁性元件HM3 设置在外框BT的另一侧边的中央位置处。
具体而言，前述磁性元件HM1的磁极方向平行于X轴，前述磁性元件HM2的磁极方向平行于Y轴，前述磁性元件HM3的磁极方向则与X、Y轴皆不平行。在本实施例中，前述磁性元件HM3的磁极方向系与X、Y轴皆呈45度角，但并不以本实施例所公开者为限。
应了解的是，设置于基板P上的感测元件HS1、HS2、HS3主要系用以分别感测磁性元件HM1、HM2、HM3的磁场强度，从而能够得知前述活动部相对于固定部在不同维度坐标的位置变化。
于本实施例中，因为磁性元件HM1、HM2、HM3的磁极方向不同，感测元件HS1可用以感测活动部相对固定部于X轴方向上的位移量，感测元件HS2可用以感测活动部相对固定部于Y轴方向上的位移量，而感测元件 HS3则可用以感测活动部相对固定部绕光轴O的角位移量。
再请一并参阅图5～图7，其中图5～图7分别表示当活动部相对固定部仅沿X轴方向进行小幅度的位移时，感测元件HS1、HS2、HS3所感测到的磁场强度变化与X轴坐标间的关系曲线。
如图5所示，当活动部相对固定部仅沿X轴方向位移时，由于磁性元件 HM1的磁极方向与X轴平行，因此感测元件HS1可感测出磁性元件HM1 相对于X轴坐标的磁场变化。
然而，如图6所示，当该活动部相对固定部仅沿X轴方向位移时，由于磁性元件HM2的磁极方向与X轴垂直，因此感测元件HS2并不会感测到磁性元件HM2相对于X轴坐标的磁场变化。
另外，如图7所示，当活动部相对固定部仅沿X轴方向位移时，虽然活动部并未相对于固定部旋转，但是因为受到串扰现象(crosstalk)的影响，感测元件HS3仍会感测到磁性元件HM3的磁场强度改变；在此情况下，感测元件HS3所感测到的磁场强度变化将无法反应出活动部相对于固定部的实际角位移量，也就是说图7的关系曲线乃是由于串扰现象(crosstalk)所导致而产生的一第一误差关系曲线。
接着请一并参阅图8～图10，其中图8～图10分别表示当该活动部相对固定部仅沿Y轴方向进行小幅度的位移时，感测元件HS1、HS2、HS3所感测到的磁场强度变化与Y轴坐标间的关系曲线。
如图8所示，当活动部相对固定部仅沿Y轴方向位移时，由于磁性元件 HM1的磁极方向与Y轴垂直，因此感测元件HS1并不会感测到磁性元件HM1相对于Y轴坐标的磁场变化。
然而，如图9所示，当活动部相对固定部仅沿Y轴方向位移时，由于磁性元件HM2的磁极方向与Y轴平行，因此感测元件HS2可感测出磁性元件 HM2相对于Y轴坐标的磁场变化。
另外，如图10所示，当活动部相对固定部仅沿Y轴方向位移时，虽然活动部并未相对于固定部旋转，但是因为受到串扰现象(crosstalk)的影响，感测元件HS3仍会感测到磁性元件HM3的磁场强度改变；在此情况下，感测元件HS3所感测到的磁场强度变化同样无法反应出活动部相对于固定部的实际角位移量，也就是说图10的关系曲线乃是由于串扰现象(crosstalk)所导致而产生的一第二误差关系曲线。
再请一并参阅图11～图13，其中图11～图13分别表示当该活动部相对固定部仅绕光轴O于一小角度范围内旋转时，感测元件HS1、HS2、HS3所感测到的磁场强度变化与一旋转角度坐标间的关系曲线。
从图11～图13中可以看出，当活动部相对固定部仅绕光轴O于一小角度范围内旋转时，对于感测元件HS1、HS2而言并不会产生串扰现象 (crosstalk)，也就是说感测元件HS1、HS2并不会感测到磁性元件HM1、HM2 相对于旋转角度坐标的磁场变化(图11及图12)，而只有感测元件HS3能感测到磁性元件HM3相对于旋转角度坐标的磁场变化。
应了解的是，前述感测元件HS1、HS2、HS3可根据其所感测到的磁场强度而产生相对应的感测值，因此图7中的第一误差关系曲线表示当活动部相对固定部仅沿X轴坐标运动时，感测元件HS3所产生的感测值与X轴坐标间的关系曲线。
同理，图10中的第二误差关系曲线可视为当活动部相对固定部仅沿Y 轴坐标运动时，感测元件HS3所产生的感测值与Y轴坐标间的关系曲线。
为了使活动部相对于固定部的实际角位移量能够准确地被计算出来而不致于受到活动部沿X、Y轴方向位移的影响，在本实施例的光学系统中额外设有一控制单元(未图示)，其中前述控制单元可为设置在基板P上并且电性连接感测元件HS1、HS2、HS3的一处理器。
需特别说明的是，前述控制单元除了可接收来自感测元件HS1、HS2、 HS3的感测值外，更可根据感测元件HS1、HS2所产生的感测值和前述第一、第二误差关系曲线而对HS3的感测值进行修正，从而可推算出活动部相对于固定部的实际角位移量。
在得知活动部相对于固定部的实际角位移量后，即可确认活动部相对于固定部在X轴坐标方向的位移量、在Y轴坐标方向的位移量以及以光轴O 为中心的角位移量；接着，控制单元即可输出一驱动信号至驱动组件S，以驱使活动部相对固定部运动到一目标位置，并可达到精准定位控制的效果。
举例而言，当前述活动部相对固定部沿X轴坐标(第一维度坐标)移动并且同时沿一角坐标(第二维度坐标)绕光轴O旋转时，可先根据感测元件 HS1(第一感测元件)所产生的感测值(第一感测值)与X轴坐标间的关系曲线 (图5)得知活动部在X轴方向上的实际位移量。
接着，可根据该X轴方向的实际位移量以及前述第一误差关系曲线(图 7)推算出感测元件HS3因活动部在X轴方向上运动而导致串扰现象所测量到的误差值(第一误差值)；然后，可再根据该误差值修正原本感测元件 HS3(第二感测元件)所测量产生的感测值(第二感测值)，以得知活动部相对于固定部的实际角位移量。
同理，当前述活动部相对固定部更同时沿Y轴坐标(第三维度坐标)移动时，可先根据感测元件HS2(第三感测元件)所产生的感测值(第三感测值)与Y 轴坐标间的关系曲线(图8)得知活动部在Y轴方向上的实际位移量。
接着，可根据该Y轴方向的实际位移量以及前述第一误差关系曲线(图 10)推算出感测元件HS3因活动部在Y轴方向上运动而导致串扰现象所测量到的误差值(第二误差值)；然后，可再根据多个所述误差值(第一、第二误差值)修正原本感测元件HS3所测量产生的感测值(第二感测值)，以得知活动部相对于固定部的实际角位移量。
最后，控制单元即可输出一驱动信号至驱动组件S，以驱使活动部相对固定部运动到一目标位置，并可达到精准定位控制的效果。
应了解的是，图7及图10中的第一、第二误差关系曲线可由一外部校准设备通过接收感测元件HS1、HS2、HS3的感测值以及测量活动部相对固定部的位置变化所产生，且在产生该第一、第二误差关系曲线之后，该外部校准设备便可自该光学系统中移除。
其中，当该外部校准设备测量该活动部相对该固定部的位置变化时，该活动部相对于该固定部固定在该角坐标(第二维度坐标)的一基准点而不会绕 O轴旋转。此外，由前述说明可知，该角坐标(第二维度坐标)的中心轴系平行于光轴O，并且垂直于X、Y轴(第一、第三维度坐标)。
接着请参阅图14，图14表示本实用新型另一实施例的外框BT、设置于外框BT上的磁性元件HM1、HM2、HM3以及设置于基板P上的感测元件 HS1、HS2、HS3的相对位置关系示意图。
如图14所示，本实施例与图4的实施例的主要不同之处在于：磁性元件HM1(第一磁性元件)的磁极方向(第一磁极方向)平行于X轴，磁性元件HM3(第二磁性元件)的磁极方向(第二磁极方向)平行于X轴，磁性元件 HM2(第三磁性元件)的磁极方向(第三磁极方向)则是平行于Y轴，其中感测元件HS1、HS2、HS3的磁极方向皆垂直于光轴O。
于一实施例中，前述磁性元件HM2的磁极方向(第三磁极方向)也可以和磁性元件HM1的磁极方向(第一磁极方向)不平行也不垂直；或者，磁性元件 HM2的磁极方向(第三磁极方向)也可以平行于磁性元件HM1的磁极方向(第一磁极方向)或者磁性元件HM2的磁极方向(第三磁极方向)，而并不以本实施例所公开者为限。
虽然本实用新型的实施例及其优点已公开如上，但应该了解的是，本领域技术人员在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作更动、替代与润饰。此外，本实用新型的保护范围并未局限于说明书内所述特定实施例中的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，任何所属技术领域中技术人员可从本实用新型公开内容中理解现行或未来所发展出的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，只要可以在此处所述实施例中实施大抵相同功能或获得大抵相同结果皆可根据本实用新型使用。因此，本实用新型的保护范围包括上述工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤。另外，每一权利要求构成个别的实施例，且本实用新型的保护范围也包括各个权利要求及实施例的组合。
虽然本实用新型已以较佳实施例公开于上，然其并非用以限定本实用新型，本领域技术人员在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视随附的权利要求所界定者为准。

Claims (20)

1.一种光学系统，其特征在于，包括：
一活动部，用以连接一光学元件；
一固定部，其中该活动部可相对该固定部运动；
一驱动组件，用以驱使该活动部相对该固定部运动；
一第一感测元件，用以感测该活动部相对该固定部于一第一维度坐标的运动，并产生一第一感测值；
一第二感测元件，用以感测该活动部相对该固定部于一第二维度坐标的运动，并产生一第二感测值；以及
一控制单元，电性连接该第一、第二感测元件，并根据该第一感测值以及一第一误差关系曲线产生一第一误差值，其中该第一误差关系曲线表示当该活动部相对该固定部仅沿该第一维度坐标运动时，该第二感测元件所产生的该第二感测值与该第一维度坐标间的关系曲线，且该控制单元根据该第一误差值修正该第二感测值，并输出一驱动信号至该驱动组件，以驱使该活动部相对该固定部运动。
2.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，该第一误差关系曲线是由一外部校准设备通过测量该活动部相对该固定部的位置变化所产生，且在产生该第一误差关系曲线之后，该外部校准设备自该光学系统中移除。
3.如权利要求2所述的光学系统，其特征在于，当该外部校准设备测量该活动部相对该固定部的位置变化时，该活动部相对于该固定部固定在该第二维度坐标上的一基准点。
4.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，该光学系统还包括具有一第一磁极方向的一第一磁性元件以及具有一第二磁极方向的一第二磁性元件，其中该第一、第二磁性元件设置于该活动部上，且该第一、第二感测元件设置于该固定部上，用以分别感测该第一、第二磁性元件的磁场强度。
5.如权利要求4所述的光学系统，其特征在于，该第一磁极方向与该第二磁极方向不平行。
6.如权利要求4所述的光学系统，其特征在于，该第一磁极方向与该第二磁极方向皆垂直于与该光学元件的一光轴。
7.如权利要求4所述的光学系统，其特征在于，该第一磁极方向与该第二磁极方向相差45度。
8.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，该光学系统还包括：
一第一磁性元件，具有一第一磁极方向，其中该第一感测元件感测该第一磁性元件于该第一磁极方向的磁场强度；以及
一第二磁性元件，具有一第二磁极方向，其中该第二感测元件感测该第二磁性元件于该第二磁极方向的磁场强度。
9.如权利要求8所述的光学系统，其特征在于，该第一、第二磁性元件设置于该活动部上，且该第一、第二感测元件设置于该固定部上。
10.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，该第一维度坐标为一直线坐标，垂直于该光学元件的一光轴，且该第二维度坐标为一角坐标。
11.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，该光学系统还包括一第三感测元件，感测该活动部相对该固定部于一第三维度坐标的运动，并产生一第三感测值，其中该第三维度坐标不同于该第一、第二维度坐标。
12.如权利要求11所述的光学系统，其特征在于，该控制单元电性连接该三感测元件，并根据该第三感测值以及一第二误差关系曲线产生一第二误差值，其中该第二误差关系曲线表示当该活动部相对该固定部仅沿该第三维度坐标运动时，该第二感测元件所产生的该第二感测值与该第三维度坐标间的关系曲线，且该控制单元根据该第一、第二误差值修正该第二感测值，并输出该驱动信号至该驱动组件，以驱使该活动部相对该固定部运动。
13.如权利要求12所述的光学系统，其特征在于，该第二误差关系曲线是由一外部校准设备通过测量该活动部相对该固定部的位置变化所产生，且在产生该第二误差关系曲线之后，该外部校准设备自该光学系统中移除。
14.如权利要求13所述的光学系统，其特征在于，当该外部校准设备测量该活动部相对该固定部的位置变化时，该活动部相对于该固定部固定在该第二维度坐标上的一基准点。
15.如权利要求11所述的光学系统，其特征在于，该光学系统还包括：
一第一磁性元件，具有一第一磁极方向，其中该第一感测元件感测该第一磁性元件于该第一磁极方向的磁场强度；
一第二磁性元件，具有一第二磁极方向，其中该第二感测元件感测该第二磁性元件于该第二磁极方向的磁场强度，其中该第一、第二磁极方向不平行；以及
一第三磁性元件，具有一第三磁极方向，其中该第三感测元件感测该第三磁性元件于该第三磁极方向的磁场强度。
16.如权利要求15所述的光学系统，其特征在于，该第三磁极方向垂直于该第一磁极方向。
17.如权利要求15所述的光学系统，其特征在于，该第三磁极方向与该第一磁极方向不平行也不垂直。
18.如权利要求15所述的光学系统，其特征在于，该第三磁极方向平行于该第一磁极方向或该第二磁极方向。
19.如权利要求15所述的光学系统，其特征在于，该第一、第二、第三磁性元件设置于该活动部上，且该第一、第二、第三感测元件设置于该固定部上。
20.如权利要求15所述的光学系统，其特征在于，该第三维度坐标为一直线坐标，垂直于该光学元件的一光轴，且该第二维度坐标为一角坐标。
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