CN1900821B - 有机无机复合感光性树脂组合物 - Google Patents

有机无机复合感光性树脂组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN1900821B
CN1900821B CN2006101063215A CN200610106321A CN1900821B CN 1900821 B CN1900821 B CN 1900821B CN 2006101063215 A CN2006101063215 A CN 2006101063215A CN 200610106321 A CN200610106321 A CN 200610106321A CN 1900821 B CN1900821 B CN 1900821B
Authority
CN
China
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
inorganic composite
ester
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2006101063215A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1900821A (zh
Inventor
尹赫敏
金柄郁
尹柱豹
丘冀赫
吕泰勳
郑义澈
金东明
崔相角
李浩真
申洪大
李东赫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongjin Semichem Co Ltd
Original Assignee
Dongjin Semichem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongjin Semichem Co Ltd filed Critical Dongjin Semichem Co Ltd
Publication of CN1900821A publication Critical patent/CN1900821A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1900821B publication Critical patent/CN1900821B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
    • G03F7/0044—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists involving an interaction between the metallic and non-metallic component, e.g. photodope systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本发明提供了一种有机无机复合感光性树脂组合物，该组合物的粘附力、耐热性、绝缘性、平整性、耐化学性等性能优异，适用于液晶显示元件的成像用材料。本发明的有机无机复合感光性树脂组合物含有：A)选自由周期表内第3、4、5、13族金属氧化物组成的组中的金属氧化物或由类似二元素金属氧化物组成的组中的金属氧化物；B)a)丙烯酸系共聚物；b)光引发剂；c)具有乙烯性不饱和键的多官能性单体；d)含有环氧基或氨基的硅系化合物；e)溶剂。

Description

有机无机复合感光性树脂组合物
技术领域
本发明涉及有机无机复合感光性树脂组合物，更详细而言，涉及一种有机无机复合感光性树脂组合物，其介电常数、透射率、粘附力、耐热性、绝缘性、平整性、耐化学性等性能优异，适用于液晶显示元件的成像用材料，尤其在液晶显示元件的有机绝缘膜形成时，因其介电常数、平整性、感光度、残膜率、UV透射率优异，所以不仅适于用作栅绝缘膜用有机绝缘膜，而且用作外涂层用抗蚀树脂、黑色矩阵用抗蚀树脂、隔离柱用抗蚀树脂或滤色器用抗蚀树脂时，能够提高感光度和残膜率。
背景技术
一般而言，元件中最常用的有机绝缘体是SiO2。这是因为SiO2绝缘率高，而且可以容易地在作为基板最常使用的Si上形成。但是，由于其是非晶结构，介电常数不高，大约为3.9，因此事实上其性能还不足以使其作为最佳的栅用有机绝缘体。
栅用有机绝缘体的介电常数一定要大，这样即使在低电压下也能聚集众多的电荷，进而能够在低电压下驱动元件。
除了介电常数，绝缘特性也一定要好。在绝缘性能不良的情况下，聚集在电介质两端的电荷被漏电流中和。这会导致驱动上的问题，即因不能长时间维持电荷而必须频繁刷新(refresh)。
以往可以使用BCB、聚酰亚胺、PMMA、聚对二甲苯(Parylene)、丙烯酸酯(acrylate)等作为有机绝缘体。单独使用这类材料时，具有可以旋涂、平整性良好、能够提高涂布性的优点，但介电常数低，实际上不能用作栅用有机绝缘体。
发明内容
为了解决以往的这些技术难题，本发明的目的在于提供一种有机无机复合感光性树脂组合物，其介电常数和绝缘性、涂布性、透射率、粘附力、耐热性、平整性、耐化学性等性能优异，适用于液晶显示元件的成像用材料，尤其在液晶显示元件的栅用有机无机复合绝缘膜形成时，因其感光度、残膜率、UV透射率优异而适于用作栅绝缘膜；本发明还提供含有上述感光性树脂的固化体的TFT型液晶显示元件和利用了上述感光性树脂组合物的TFT型液晶显示元件的图案形成方法。
本发明的目的在于，提供一种有机无机复合材料，以改善以往栅绝缘膜的脆弱点而生产出涂布性和平整性优异、介电常数高的有机无机绝缘材料，所述有机无机复合材料弥补了现有的SiO2等栅绝缘体用无机材料费用高、介电常数低、平整化度不够、不能旋涂的缺点方面和现在用作有机绝缘体的钝化(Passivation)用有机材料介电常数低等缺点。
本发明的目的还在于，利用比现有的有机绝缘膜BCB、聚酰亚胺、PMMA、聚对二甲苯等材料的介电常数高的丙烯酸酯型感光性树脂，提供一种耐热性优异、透射性高和粘附力与平整性等优异的高介电常数的材料作为栅用有机无机复合绝缘体。
为了达到上述目的，本发明提供了一种有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述有机无机复合感光性树脂组合物中含有：
A)选自由周期表内第3、4、5、13族金属氧化物组成的组或由类似二元素金属氧化物组成的组中的金属氧化物；
B)a)丙烯酸系共聚物；
b)光引发剂；
c)具有乙烯性不饱和键的多官能性单体；
d)含有环氧基或氨基的硅系化合物；
e)溶剂。
本发明优选为含有以下成分的有机无机复合感光性树脂组合物：
A)1重量％～60重量％的的金属氧化物，该金属氧化物选自由周期表内第3、4、5、13族金属氧化物组成的组或由类似二元素金属氧化物组成的组；
B)40重量％～99重量％的有机感光性树脂；
所述有机感光性树脂含有：
a)100重量份丙烯酸系共聚物；
b)0.001～30重量份光引发剂；
c)10～100重量份具有乙烯性不饱和键的多官能性单体；
d)0.0001～5重量份含有环氧基或氨基的硅系化合物；
e)使B)内固体成分的含量为10重量％～50重量％的溶剂。
此外，本发明提供TFT型液晶显示元件，其特征在于，含有上述有机无机复合感光性树脂组合物的固化体。
本发明还提供使用了上述有机无机复合感光性树脂组合物的TFT型液晶显示元件的图案形成方法。
发明效果
本发明的有机无机复合感光性树脂组合物具有以下效果：高介电特性、粘附力、耐热性、绝缘性、平整性和耐化学性等性能优异，适用于液晶显示元件的成像用材料，尤其在液晶显示元件的栅绝缘膜形成时，因其感光度、残膜率、UV透射率、介电特性和耐热性优异而适于用作栅绝缘膜，而且用作外涂层用抗蚀树脂、黑色矩阵用抗蚀树脂、隔离柱用抗蚀树脂或滤色器用抗蚀树脂时，能够提高介电特性、耐热性和平整性。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
上述A)选自周期表内第3、4、5、13族金属氧化物组或类似二元素金属氧化物组的金属氧化物，具有比其他金属化合物高的介电常数和热稳定性、带隙大，具有在高温下的硅上的稳定性、非晶结构和低漏电流等特性。上述金属氧化物优选为选自Al2O3、Y2O3、La2O3、Ta2O3、TiO2、HfO2和ZrO2组成的组中的一种或一种以上物质。上述类似二元素金属氧化物具有由第4族金属氧化物与SiO2形成的复合体的结构，一个具体的例子为(ZrO2)x(SiO2)y和(HfO2)x(SiO2)y(此时，上述x和y各自分别为0<x<1、0<y<1)等。上述类似二元素金属氧化物可以根据需要将2种氧化物组合使用。
本发明中所含有的A)金属氧化物优选为如下制造的金属氧化物分散体：准备金属氧化物粉末，使用回转式球磨粉碎机将粉末粉碎，之后，按5重量％～50重量％的浓度湿法混合到B)有机感光性树脂组合物中所使用的溶剂中，然后喷雾干燥，制成粒度为50nm～200nm的金属氧化物分散体。上述将粉末混合到溶剂中时，更优选使用500ppm～20,000ppm的分散剂作为添加剂。上述分散剂可防止粉末的变硬和重结晶，使上述金属氧化物在感光性树脂组合物中易于分散，并具有分散稳定性。
此外，本发明的有机无机复合感光性树脂化合物在含有上述金属氧化物的同时，还含有B)有机感光性树脂组合物。上述感光性树脂组合物优选含有：a)100重量份丙烯酸系共聚物、b)0.001～30重量份光引发剂、c)10～100重量份具有乙烯性不饱和键的多官能性单体、d)0.0001～5重量份具有环氧基或氨基的硅系化合物和e)使B)内的固体成分的含量为10重量％～50重量％的溶剂。
上述a)的丙烯酸系共聚物可以使用通常的丙烯酸系共聚物，可以优选以i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物和ii)丙烯酸系不饱和化合物为单体，在溶剂和聚合引发剂的存在下发生自由基反应而制得。
本发明所使用的上述a)中i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物，可以使用丙烯酸、甲基丙烯酸等不饱和单羧酸；马来酸、富马酸、甲基马来酸、中康酸(メタコン酸)、衣康酸等不饱和二羧酸；或这些不饱和二羧酸的酸酐等，上述物质可以单独一种使用，也可以将2种或2种以上混合使用。尤其是若使用丙烯酸、甲基丙烯酸或马来酸酐，则其在共聚反应性和在作为显影液的碱性水溶液中的溶解性方面是更优选的。
上述不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物在a)的全体总单体中的含量优选为5重量％～40重量％，更优选为10重量％～40重量％。当含量在上述范围内的情况下，在显影方面非常好。
此外，上述a)中的ii)丙烯酸系不饱和化合物可以使用通常的丙烯酸系不饱和化合物，优选使用含环氧基不饱和化合物和烯烃系不饱和化合物。
作为含环氧基不饱和化合物，可以使用丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁酯、丙烯酸-6，7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚或对乙烯基苄基缩水甘油醚等，上述化合物可以单独使用1种，也可以将2种或2种以上混合使用。
尤其在上述含环氧基不饱和化合物使用甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚或对乙烯基苄基缩水甘油醚时，在共聚反应性和提高所得图案的耐热性方面是更优选的。
上述含环氧基不饱和化合物在a)的全体总单体中的含量优选为10重量％～70重量％，更优选为20重量％～60重量％。当含量在上述范围内的情况下，能够同时满足图案的耐热性和共聚物的贮存稳定性，所以是优选的。
上述烯烃系不饱和化合物可以使用甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯酯、丙烯酸二环戊酯、甲基丙烯酸双环戊烯酯、甲基丙烯酸二环戊酯、丙烯酸1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸二环戊氧乙基酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己基酯、丙烯酸二环戊氧乙基酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯、1，3-丁二烯、异戊二烯或2，3-二甲基-1，3-丁二烯等，上述化合物可以单独使用1种，也可以将2种或2种以上混合使用。
尤其在上述烯烃系不饱和化合物使用苯乙烯、甲基丙烯酸二环戊基甲酯或对甲氧基苯乙烯时，在共聚反应性和在作为显影液的碱性水溶液中的溶解性方面是更优选的。
上述烯烃系不饱和化合物相对于a)的含量优选为10重量％～70重量％，更优选为20重量％～50重量％。当其含量在上述范围内的情况下，能够同时解决丙烯酸系共聚物的贮存安全性降低、丙烯酸系共聚物在作为显影液的碱性水溶液中不易溶解等问题。
为了将这类单体聚合成丙烯酸系共聚物所使用的溶剂，可以使用甲醇、四氢呋喃、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、乙二醇甲基乙基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇丙基醚、丙二醇丁基醚、丙二醇甲基醚醋酸酯、丙二醇乙基醚醋酸酯、丙二醇丙基醚醋酸酯、丙二醇丁基醚醋酸酯、丙二醇甲乙基丙酸酯、丙二醇乙基醚丙酸酯、丙二醇丙基醚丙酸酯、丙二醇丁基醚丙酸酯、甲苯、二甲苯、丁酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基2-甲基丙酸甲酯、2-羟基2-甲基丙酸乙酯、羟基醋酸甲酯、羟基醋酸乙酯、羟基醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸丙酯、3-羟基丙酸丁酯、2-羟基3-甲基丁酸甲酯、甲氧基醋酸甲酯、甲氧基醋酸乙酯、甲氧基醋酸丙酯、甲氧基醋酸丁酯、乙氧基醋酸甲酯、乙氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸丙酯、乙氧基醋酸丁酯、丙氧基醋酸甲酯、丙氧基醋酸乙酯、丙氧基醋酸丙酯、丙氧基醋酸丁酯、丁氧基醋酸甲酯、丁氧基醋酸乙酯、丁氧基醋酸丙酯、丁氧基醋酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯或3-丁氧基丙酸丁酯等醚类等，上述化合物可以单独使用1种或将2种或2种以上混合使用。
为了将这类单体聚合成丙烯酸系共聚物所使用的聚合引发剂，可以使用自由基聚合引发剂。具体可以使用2，2-偶氮二异丁腈、2，2-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)、2，2-偶氮二(4-甲氧基2，4-二甲基戊腈)、1，1-偶氮二(环己烷-1-腈)或二甲基2，2-偶氮二异丁酸酯等。
上述a)丙烯酸系共聚物的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)优选为6,000～90,000，更优选为6,000～40,000。在上述聚苯乙烯换算重均分子量不足6,000的情况下，感光性树脂组合物存在着显影性和残膜率等下降、图案形状和耐热性等低劣的问题。在重均分子量超过90,000的情况下，存在着所谓的接触孔(contact hole)和图案显影差的问题。
本发明所使用的上述b)光引发剂，可使用Irgacure369、Irgacure651、Irgacure907、Darocur TPO、Irgacure819、三嗪系、苯偶姻、苯乙酮系、咪唑系或呫吨酮系等化合物。
具体而言，上述光引发剂可以单独使用2，4-双三氯甲基-6-对甲氧苯乙烯基-s-三嗪、2-对甲氧苯乙烯基-4，6-双三氯甲基-s-三嗪、2，4-三氯甲基-6-三嗪、2，4-三氯甲基-4-甲萘基-6-三嗪、二苯酮、对-(二乙氨基)二苯酮、2，2-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、2-十二烷基噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮或2，2-双-2-氯苯基-4，5，4，5-四苯基-2-1，2-二咪唑等化合物中的1种，或将其2种或2种以上混合使用。
上述光引发剂相对于100重量份丙烯酸系共聚物的含量优选为0.001～30重量份，更优选为0.01～20重量份。在其含量不足0.001重量份的情况下，存在着因低感光度而导致残膜率变差的问题；在其含量超过30重量份的情况下，在贮存稳定性方面有时会发生问题，还存在着由于固化度高而导致显影时图像的粘附力降低的问题。
本发明所使用的上述c)含有乙烯性不饱和键的多官能性单体，一般为至少2种以上的含有乙烯属双键的交联性单体，可以使用1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六二丙烯酸酯、二季戊四醇三二丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯衍生物、二季戊四醇多丙烯酸酯或它们的甲基丙烯酸酯类等。
上述具有乙烯性不饱和键的多官能性单体相对于100重量份丙烯酸系共聚物的含量优选为10～100重量份，更优选为10～60重量份。在其含量不足10重量份的情况下，存在着因感光性树脂的固化度低而导致所谓的接触孔和图案形成难的问题；在其含量超过100重量份的情况下，存在着因固化度高而导致显影时接触孔和图像的分辨率降低的问题。
本发明所使用的上述d)含有环氧基或氨基的硅系化合物，可以单独使用(3-环氧丙氧丙基)-三甲氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-三乙氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-甲基二甲氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-三甲氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-二甲基乙氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)二甲基乙氧基硅烷、3，4-乙氧丁基三甲氧基硅烷、3，4-乙氧丁基三乙氧基硅烷、2-(3，4-乙氧基环己基)-乙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-乙氧基环己基)-乙基三乙氧基硅烷或氨丙基三甲氧基硅烷中的1种，或将其2种以上混合使用。
上述具有环氧基或氨基的硅系化合物相对于100重量份丙烯酸系共聚物的含量优选为0.0001～5重量份，更优选为0.005～2重量份。在其含量不足0.0001重量份的情况下，存在着所谓的ITO电极与感光性树脂之间的粘附力下降、固化后耐热特性降低的问题；在含量超过5重量份的情况下，在显影液内产生非曝光部的泛白现象和显影后接触孔或图像浮渣(scum)的问题。
本发明所使用的上述e)溶剂可以形成平整的绝缘膜和不产生涂布斑的均一的图案轮廓(patten profile)。
上述溶剂可以使用甲醇、乙醇等醇类；四氢呋喃等醚类；乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚等乙二醇醚类；甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯等乙二醇烷基醚乙酸酯类；二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚等二乙二醇类；丙二醇甲基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇丙基醚、丙二醇丁基醚等丙二醇单烷基醚类；丙二醇甲基醚醋酸酯、丙二醇乙基醚醋酸酯、丙二醇丙基醚醋酸酯、丙二醇丁基醚醋酸酯等丙二醇烷基醚醋酸酯类；丙二醇甲基醚丙酸酯、丙二醇乙基醚丙酸酯、丙二醇丙基醚丙酸酯、丙二醇丁基醚丙酸酯等丙二醇烷基醚丙酸酯类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；丁酮、环己酮、4-羟基4-甲基-2-戊酮等酮类；或醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基2-甲基丙酸甲酯、2-羟基2-甲基丙酸乙酯、羟基醋酸甲酯、羟基醋酸乙酯、羟基醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸丙酯、3-羟基丙酸丁酯、2-羟基3-甲基丁酸甲酯、甲氧基醋酸甲酯、甲氧基醋酸乙酯、甲氧基醋酸丙酯、甲氧基醋酸丁酯、乙氧基醋酸甲酯、乙氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸丙酯、乙氧基醋酸丁酯、丙氧基醋酸甲酯、丙氧基醋酸乙酯、丙氧基醋酸丙酯、丙氧基醋酸丁酯、丁氧基醋酸甲酯、丁氧基醋酸乙酯、丁氧基醋酸丙酯、丁氧基醋酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯和3-丁氧基丙酸丁酯等酯类。
上述溶剂特别优选选择使用选自由溶解性、与各成分的反应性和涂膜形成容易的二醇醚类、乙二醇烷基醚醋酸酯类和二乙二醇类组成的组中的1种或1种以上物质。
上述溶剂优选使B)有机感光性树脂的固体成分的含量为10重量％～50重量％，将含有上述范围的固体成分的组合物用0.1μm～0.2μm的微孔过滤器等过滤后再使用比较好。更优选为含有15重量％～40重量％的固体成分。在上述固体成分的含量不足10重量％的情况下，存在着涂层厚度变薄和涂布平板性降低的问题；在含量超过50重量％的情况下，存在着涂层厚度变厚，在涂布时有时会造成涂布装备超负荷工作的问题。
由上述成分制成的本发明的有机感光性树脂，根据需要还可以含有f)光敏剂和g)表面活性剂。
上述f)的光敏剂，对使用的紫外线波长具有适当的灵敏度，通过比光引发剂快的光引发反应使能量转移到光引发剂上，有助于加快光引发剂的光引发反应速度。
上述光敏剂可以单独使用DETX、ITX、正丁基吖啶酮或2-乙基己基-二甲氨基苯甲酸酯等物质中的1种，或将其2种或2种以上混合使用。
上述光敏剂相对于100重量份上述a)丙烯酸系共聚物的含量优选为0.001～40重量份，当含量在上述范围内的情况下，在提高感光性树脂组合物的光固化速度方面是更优选的。
上述g)表面活性剂起到提高感光性组合物的涂布性和显影性的作用。
上述表面活性剂可以使用聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、F171、F172、F173(商品名：大日本油墨化学工业株式会社)、FC430、FC431(商品名：住友スリ—エム株式会社)或KP341(商品名：信越化学工业株式会社)等。
上述表面活性剂相对于100重量份上述a)丙烯酸系共聚物的含量优选为0.0001～2重量份，当含量在上述范围内的情况下，在提高感光性组合物的涂布性和显影性方面是更优选的。
此外，在本发明的有机无机复合感光性树脂组合物中优选含有1重量％～60重量％上述A)金属氧化物和40重量％～99重量％上述B)有机感光性树脂。当含量在上述范围内的情况下，具有能够同时满足介电常数、平整性、感光度、残膜率、UV透射率、粘附力、耐热性、绝缘性、耐化学性等性能的优点。
此外，对于本发明的有机无机复合感光性树脂组合物，可以根据需要向上述组合物中添加热聚合阻止剂、消泡剂等具有相容性的添加剂，还可以根据用途添加颜料。例如，作为TFT型液晶显示元件的成像用材料之一的黑色矩阵用抗蚀剂和滤色器用抗蚀剂就是在上述组合物中混合了颜料的物质。此时，可以根据黑色矩阵用抗蚀剂和滤色器用抗蚀剂的用途适当选择颜料，无机和有机颜料均可以使用。
此外，本发明提供了含有这样的有机无机复合感光性树脂组合物的固化体的TFT型液晶显示元件和利用了上述有机无机复合感光性树脂组合物的TFT型液晶显示元件的图案形成方法。
本发明的TFT型液晶显示元件的图案形成方法特征在于，在将感光性树脂组合物制成有机绝缘膜、外涂层用抗蚀剂、黑色矩阵用抗蚀剂、隔离柱用抗蚀剂或滤色器用抗蚀剂，进而形成TFT型液晶显示元件的方法中，使用了上述有机无机复合感光性树脂组合物。
具体而言，使用上述有机无机复合感光性树脂组合物形成TFT型液晶显示元件的图案的方法的一个例子如下所述。
首先，用喷涂法、辊涂法、旋涂法等方法将本发明的有机无机复合感光性树脂组合物涂布在基板表面，通过预焙除去溶剂，形成涂膜。此时，上述预焙优选在70℃～110℃的温度下焙烤1分钟～15分钟。
之后，通过事先准备的模型对上述形成的涂膜照射可见光线、紫外线、远红外线、电子射线和X射线等，在显影液中显影，通过除去不必要的部分形成规定的图案。
上述显影液优选使用碱性水溶液，具体可以使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等无机碱类；正丙胺等伯胺类；二乙胺、正丙胺等仲胺类；三甲胺、甲基二乙胺、二甲基乙胺、三乙胺等叔胺类；二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类；或四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等季铵盐的水溶液等。此时，上述显影液是将碱性化合物以0.1重量％～10重量％的浓度溶解后再使用，可以添加适量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂和表面活性剂。
此外，以上述显影液显影后，用纯净水洗涤30秒～90秒除去不必要的成分，干燥，形成图案。对上述形成的图案照射紫外线等光线后，将图案通过烘箱等加热装置在150℃～250℃的温度加热处理30分钟～90分钟，可以得到最终的图案。
上述本发明的有机无机复合感光性树脂组合物的介电常数高，粘附力、耐热性、绝缘性、平整性、耐化学性等性能优异，适用于液晶显示元件的成像用材料，尤其在液晶显示元件的栅用有机无机复合绝缘膜形成时，因其感光度、残膜率和UV透射率优异而适合用作栅的绝缘膜，用作外涂层用抗蚀树脂、黑色矩阵用抗蚀树脂、隔离柱用抗蚀树脂或滤色器用抗蚀树脂时，可用于提高感光度和残膜率。
为了有助于理解本发明，下面列举优选的实施例，但下述实施例只是用于说明本发明，本发明的范围并不受限于以下的实施例。
实施例
实施例1
(金属氧化物分散体的制备)
分别准备Al2O3、Y2O3、La2O3、Ta2O3、TiO2、HfO2、ZrO2、(ZrO2)0.5(SiO2)0.5和(HfO2)0.5(SiO2)0.5的粉末，用回转式球磨粉碎机将粉末粉碎，加入丙二醇单甲醚醋酸酯使金属氧化物粉末的含量达到5重量％～50重量％，加入500ppm～20,000ppm的分散剂，湿法混合后进行喷雾干燥，制成粒度大小为50nm～200nm的金属氧化物分散体。
实施例2
(丙烯酸系共聚物的制备)
将10重量份2，2-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)、200重量份丙二醇单甲基醚醋酸酯、20重量份甲基丙烯酸、35重量份甲基丙烯酸缩水甘油酯、15重量份甲基丙烯酸甲酯和30重量份苯乙烯加入到具有冷却管和搅拌器的烧瓶中，进行氮气置换后缓慢搅拌。将上述反应液升温至62℃，在5小时内一边保持该温度一边制备含有丙烯酸系共聚物的聚合物溶液。将上述制得的丙烯酸系共聚物滴加到5000重量份己烷中，进行析出，过滤分离后，向其中加入200重量份丙酸酯，加热至30℃，制成固体成分的浓度为45重量份、聚合物的重均分子量为11,000的聚合物溶液。此处的重均分子量是使用GPC测定的聚苯乙烯换算平均分子量。
实施例3
(有机无机复合感光性树脂组合物的制备)
将100重量份上述实施例2中制得的含有丙烯酸系共聚物的聚合物溶液、15重量份作为光引发剂的Irgacure819、5重量份作为光敏剂的2-乙基己基-4-二甲氨基苯甲酸酯和5重量份正丁基吖啶酮、40重量份作为多官能性单体的二季戊四醇六丙烯酸酯和10重量份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、1重量份作为硅系化合物的2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷和2重量份作为硅系表面活性剂的F171混合。向上述混合物中加入二乙二醇二甲基醚，溶解，使固体成分的浓度达到35重量％。
将实施例1中制得的Al2O3金属氧化物分散体与上述制得的有机感光性树脂按5:95的重量比混合，制成有机无机复合感光性树脂组合物。
将由此制得的有机无机复合感光性树脂组合物用0.2μm的微孔过滤器过滤，除去杂质。此时，粘度为15cps，可以通过调节涂膜形成时的涂布速度得到0.3微米～0.8微米的厚度。
实施例4
(有机无机复合感光性树脂组合物的制备)
与上述实施例3同法制备，制成Y2O3金属氧化物分散体与有机感光性树脂的混合重量比为10:90的有机无机复合感光性树脂组合物。
将由此制得的有机无机复合感光性树脂组合物用0.2μm的微孔过滤器过滤，除去杂质。此时，粘度为15cps，可以通过调节涂膜形成时的涂布速度得到0.3微米～0.8微米的厚度。
实施例5
(有机无机复合感光性树脂组合物的制备)
与上述实施例3同法制备，制成Ta2O3金属氧化物分散体与有机感光性树脂的混合重量比为15:85的有机无机复合感光性树脂组合物。
将由此制得的有机无机复合感光性树脂组合物用0.2μm的微孔过滤器过滤，除去杂质。此时，粘度为16cps，可以通过调节涂膜形成时的涂布速度得到0.3微米～0.8微米的厚度。
实施例6
(有机无机复合感光性树脂组合物的制备)
与上述实施例3同法制备，制成TiO2金属氧化物分散体与有机感光性树脂的混合重量比为20:80的有机无机复合感光性树脂组合物。
将由此制得的有机无机复合感光性树脂组合物用0.2μm的微孔过滤器过滤，除去杂质。此时，粘度为15cps，可以通过调节涂膜形成时的涂布速度得到0.3微米～0.8微米的厚度。
实施例7
(有机无机复合感光性树脂组合物的制备)
与上述实施例3同法制备，制成HfO2金属氧化物分散体与有机感光性树脂的混合重量比为30:70的有机无机复合感光性树脂组合物。
将由此制得的有机无机复合感光性树脂组合物用0.2μm的微孔过滤器过滤，除去杂质。此时，粘度为17cps，可以通过调节涂膜形成时的涂布速度得到0.3微米～0.8微米的厚度。
实施例8
(有机无机复合感光性树脂组合物的制备)
与上述实施例3同法制备，制成(ZrO2)0.5(SiO2)0.5金属氧化物分散体与有机感光性树脂的混合重量比为40:60的有机无机复合感光性树脂组合物。
将由此制得的有机无机复合感光性树脂组合物用0.2μm的微孔过滤器过滤，除去杂质。此时，粘度为18cps，可以通过调节涂膜形成时的涂布速度得到0.3微米～0.8微米的厚度。
实施例9
(有机无机复合感光性树脂组合物的制备)
与上述实施例3同法制备，制成(HfO2)0.5(SiO2)0.5金属氧化物分散体与有机感光性树脂的混合重量比为50:50的有机无机复合感光性树脂组合物。
将由此制得的有机无机复合感光性树脂组合物用0.2μm的微孔过滤器过滤，除去杂质。此时，粘度为19cps，可以通过调节涂膜形成时的涂布速度得到0.4微米～0.9微米的厚度。
利用上述实施例3～9制得的有机无机复合感光性树脂组合物涂布液，按以下方法评价物理性质后，其结果如下表1所示。
i)感光度—用旋涂器在玻璃(glass)基板上涂布上述实施例3～9制得的有机无机复合感光性树脂组合物后，在90℃下在电热板上预焙2分钟，形成涂膜。
使用规定的掩模(pattern mask)，对上述制得的涂膜照射365nm的强度为15mW/cm2的紫外线6秒钟。之后，在25℃下在四甲基氢氧化铵为0.38重量份的水溶液中显影2分钟后，用纯净水洗涤1分钟。
之后，对上述显影过的图案照射365nm的强度为15mW/cm2的紫外线34秒钟，在120℃下中焙3分钟后，在烘箱中在220℃加热60分钟，使其固化，得到图案膜。
ii)残膜率—测定在上述i)的感光度测定时形成的图案膜的最下侧和最上侧的高度。此时，以预焙得到的膜的厚度为基准，厚度的变化率为0～10％的情况为优秀，10％～40％的情况为良好，超过40％的情况为差。
iii)透射率—测定上述i)的感光度测定时预焙后的膜厚度为1微米的涂膜的可见光线的吸收光谱(spectrem)。在400nm处的透光率达98％或98％以上为非常优秀，94％～98％为优秀，92％～94％为普通，92％以下为差。
iv)耐热性—测定最终涂膜穿透TGA、重量减少5重量％时的温度。减少5重量％的温度时在300℃或300℃以上为非常优秀，280℃或280℃以上为优秀，250℃或250℃以上为普通，250℃以下为差。
v)粘附力—对于完成最后固化的涂膜，利用3M带(3M tape)在Mo、AI、ITO基板上进行粘附试验(Taping test)。将涂膜按一定的间隔划分为100个单元格，贴上3M带(3M tape)后，缓慢取下时，100个单元格中残留的单元格数在95个或95个以上为非常优秀，90个或90个以上为优秀，80个或80个以上为普通，80个以下为差。
vi)平整性—在玻璃(glass)上涂布涂膜后，用光学装备等厚度测定仪对约100点测定厚度。其显著误差不足1％的为非常优秀，不足2％的为优秀，不足3％的为普通，3％或3％以上为差。通过这种方法可以确认使用球磨粉碎机制成的金属化合物分散体和丙烯酸共聚物间的分散稳定性以及金属化合物的沉淀可能性。
vii)介电常数—测定电容器的电容，通过下式求得结果。首先，在涂布一定厚度的电介质薄膜后，通过阻抗测定仪测定电容，通过下式计算各自的介电常数。
C = &epsiv; 0 &times; &epsiv; r &times; A d
上式中：
C：电容
ε0：真空介电常数
εr：电介质薄膜相对介电常数
A：有效面积
d：电介质薄膜厚度
[表1]
Figure S061A6321520060804D000162
如上表1所示，本发明实施例3～9的有机无机复合感光性树脂表现出感光度优异、透射率良好、耐热性和粘附力等全部物理性质都良好的特性。
另外还确认了，可以确保使金属化合物稳定分散的优异的涂布平整性，使用金属化合物可以调节介电常数。
由此可以确认，尤其在将本发明的有机无机复合感光性树脂组合物用作TFT-LCD用栅绝缘膜的情况下，可以得到非常优异的感光度、残膜率和透射率、粘附力，能够得到高介电常数、平整性和耐热性。
以上只对本发明所述的具体例进行了详细说明，但专业人员清楚在本发明的技术构思范围内，可以进行多种变形和修正，这样的变形和修正当然属于附加的权利要求的范围。

Claims (16)

1.一种有机无机复合感光性树脂组合物，其含有：
A)1重量％～60重量％的金属氧化物，该金属氧化物选自由周期表内第3、4、5、13族金属氧化物组成的组，所述金属氧化物的粒度为50nm～200nm；
B)40重量％～99重量％的有机感光性树脂；
所述有机感光性树脂含有：
a)100重量份丙烯酸系共聚物；
b)0.001～30重量份光引发剂；
c)10～100重量份具有乙烯性不饱和键的多官能性单体；
d)0.0001～5重量份含有环氧基或氨基的硅系化合物；
e)使B)内的固体成分的含量为10重量％～50重量％的溶剂。
2.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述A)金属氧化物为选自由Al2O3、Y2O3、La2O3、Ta2O3、TiO2、HfO2和ZrO2组成的组中的至少一种物质。
3.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述B)中的a)丙烯酸系共聚物是以i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物和ii)丙烯酸系不饱和化合物作为单体，在溶剂和聚合引发剂的存在下发生自由基反应而制成的。
4.如权利要求3所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，在所述B)中，a)中的i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物为选自由丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、富马酸、甲基马来酸、中康酸、衣康酸和这些不饱和二羧酸的酸酐组成的组中的至少一种物质。
5.如权利要求3所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，在所述B)中，a)中的ii)丙烯酸系不饱和化合物为选自由下述物质组成的组中的至少一种物质，所述物质为作为含环氧基不饱和化合物的丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁酯、丙烯酸-6，7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6，7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚和对乙烯基苄基缩水甘油醚。
6.如权利要求3所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，在所述B)中，a)中的ii)丙烯酸系不饱和化合物为选自由下述物质组成的组中的至少一种物质，所述物质为作为烯烃系不饱和化合物为的甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸 2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯酯、丙烯酸二环戊酯、甲基丙烯酸双环戊烯酯、甲基丙烯酸二环戊酯、丙烯酸 1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸 1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸二环戊氧乙基酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸 2-甲基环己基酯、丙烯酸二环戊氧乙基酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸 2-羟乙酯、苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯、1，3-丁二烯、异戊二烯和 2，3-二甲基-1，3-丁二烯。
7.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述B)中的a)丙烯酸系共聚物换算成聚苯乙烯的重均分子量Mw为6,000～90,000。
8.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述b)光引发剂为选自由下述物质组成的组中的至少一种物质，所述物质为Irgacure 369、Irgacure 651、Irgacure 907、Darocur TPO、Irgacure819、2，4-双三氯甲基-6-对甲氧苯乙烯基-s-三嗪、2-对甲氧苯乙烯基-4，6-双三氯甲基-s-三嗪、2，4-三氯甲基-6-三嗪、2，4-三氯甲基-4-甲萘基-6-三嗪、二苯酮、对-(二乙氨基)二苯酮、2，2-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、2-十二烷基噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮和2，2-双-2-氯苯基-4，5，4，5-四苯基-2-1，2-二咪唑。
9.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述c)含有乙烯性不饱和键的多官能性单体为选自由下述物质组成的组中的至少一种物质，所述物质为1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六二丙烯酸酯、二季戊四醇三二丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯衍生物、二季戊四醇多丙烯酸酯、以及上述物质的甲基丙烯酸酯类。
10.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述d)含有环氧基或氨基的硅系化合物为选自由下述物质组成的组中的至少一种物质，所述物质为(3-环氧丙氧丙基)-三甲氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-三乙氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-甲基二甲氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-三甲氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)-二甲基乙氧基硅烷、(3-环氧丙氧丙基)二甲基乙氧基硅烷、3，4-乙氧丁基三甲氧基硅烷、3，4-乙氧丁基三乙氧基硅烷、2-(3，4-乙氧基环己基)-乙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-乙氧基环己基)-乙基三乙氧基硅烷和氨丙基三甲氧基硅烷。
11.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，其进一步含有f)光敏剂，所述f)光敏剂为选自由DETX、ITX、正丁基吖啶酮和2-乙基己基-二甲氨基苯甲酸酯组成的组中的至少一种物质。
12.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，其进一步含有g)表面活性剂，所述g)表面活性剂为选自由聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、F171、F172、F173、FC430、FC431和KP341组成的组中的至少一种物质。
13.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，其进一步含有选自由分散剂、热聚合阻止剂、消泡剂和颜料组成的组中的至少一种物质。
14.如权利要求1所述的有机无机复合感光性树脂组合物，其特征在于，所述有机无机复合感光性树脂组合物用于形成TFT型液晶显示元件的栅电介质。
15.TFT型液晶显示元件，其特征在于，含有权利要求1～14任一项所述的有机无机复合感光性树脂组合物的固化体。
16.TFT型液晶显示元件的图案形成方法，其特征在于，使用权利要求1～14任一项所述的有机无机复合感光性树脂组合物。
CN2006101063215A 2005-07-19 2006-07-19 有机无机复合感光性树脂组合物 Active CN1900821B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050065510A KR101221450B1 (ko) 2005-07-19 2005-07-19 유무기 복합 감광성 수지 조성물
KR1020050065510 2005-07-19
KR10-2005-0065510 2005-07-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1900821A CN1900821A (zh) 2007-01-24
CN1900821B true CN1900821B (zh) 2011-08-31

Family

ID=37656735

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006101063215A Active CN1900821B (zh) 2005-07-19 2006-07-19 有机无机复合感光性树脂组合物

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5194224B2 (zh)
KR (1) KR101221450B1 (zh)
CN (1) CN1900821B (zh)
TW (1) TW200708894A (zh)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101305528B1 (ko) * 2006-02-03 2013-09-05 주식회사 동진쎄미켐 유무기 복합 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법
KR100911889B1 (ko) * 2007-07-16 2009-08-11 한국전기연구원 유무기 하이브리드 감광성 수지 조성물 및 이의 경화체를이용한 액정표시소자
KR101482552B1 (ko) * 2008-04-30 2015-01-21 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물
KR101316397B1 (ko) 2008-09-30 2013-10-10 코오롱인더스트리 주식회사 유기 절연막용 감광성 수지 조성물
JP4897922B2 (ja) * 2009-09-10 2012-03-14 積水化学工業株式会社 ソルダーレジスト組成物及びプリント配線板
JP5540689B2 (ja) * 2009-12-18 2014-07-02 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性組成物、硬化膜及びこの形成方法
JP6057891B2 (ja) * 2010-05-03 2017-01-11 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ 低温適用のためのカラーフィルター
TW201213420A (en) * 2010-06-02 2012-04-01 Sumitomo Chemical Co Curable resin composition
CN105607424A (zh) * 2010-06-07 2016-05-25 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、分隔壁的形成方法、图像显示装置及制造方法和应用
KR20120021488A (ko) * 2010-08-03 2012-03-09 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물
KR20120118600A (ko) * 2011-04-19 2012-10-29 삼성디스플레이 주식회사 감광성 조성물 및 이를 이용한 표시장치용 기판의 제조 방법
JP5699096B2 (ja) * 2012-01-26 2015-04-08 東京応化工業株式会社 感光性組成物、パターンおよびパターンを有する表示装置
JP6171677B2 (ja) * 2013-07-26 2017-08-02 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP6255806B2 (ja) * 2013-09-04 2018-01-10 Jsr株式会社 ゲート絶縁膜、感放射線性樹脂組成物、硬化膜、ゲート絶縁膜の形成方法、半導体素子および表示装置
KR102142648B1 (ko) * 2013-12-16 2020-08-10 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 유기막 형성방법 및 유기막을 포함하는 표시장치
JP6764636B2 (ja) * 2014-10-08 2020-10-07 東京応化工業株式会社 感放射線性樹脂組成物、パターン製造方法、透明絶縁膜、及び表示装置
KR20180121550A (ko) * 2016-03-28 2018-11-07 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 조성물 및 패턴 형성 방법
CN107586387B (zh) * 2017-08-25 2021-01-26 无锡龙驰氟硅新材料有限公司 一种氟硅树脂用uv光引发剂化合物及其制备方法
CN110894367A (zh) * 2019-11-28 2020-03-20 江苏胜帆电子科技有限公司 一种高强度lcp复合材料的制备方法
CN117210141B (zh) * 2023-11-07 2024-01-26 明士(北京)新材料开发有限公司 一种耐显影的光敏胶膜及其制备与应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1455933A (zh) * 2001-01-29 2003-11-12 捷时雅株式会社 介电体用复合颗粒、超微颗粒复合树脂颗粒、介电体形成用组合物及其用途

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3870463B2 (ja) * 1996-12-11 2007-01-17 東レ株式会社 感光性グリーンシートおよびプラズマディスプレイの製造方法
JP4175591B2 (ja) 1999-11-26 2008-11-05 日本化薬株式会社 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルム
EP1289967B1 (en) * 2000-06-12 2009-10-28 LG Chemical Co. Ltd Triazine-based compound comprising functionalized alkylthio groups, and photopolymerization initiator
JP2003316000A (ja) * 2002-04-24 2003-11-06 Toray Ind Inc 感光性セラミックス組成物
KR100995451B1 (ko) 2003-07-03 2010-11-18 삼성전자주식회사 다층 구조의 게이트 절연막을 포함하는 유기 박막 트랜지스터
JP4292985B2 (ja) * 2003-12-25 2009-07-08 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性組成物、マイクロレンズとその形成方法および液晶表示素子

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1455933A (zh) * 2001-01-29 2003-11-12 捷时雅株式会社 介电体用复合颗粒、超微颗粒复合树脂颗粒、介电体形成用组合物及其用途

Also Published As

Publication number Publication date
JP5194224B2 (ja) 2013-05-08
KR101221450B1 (ko) 2013-01-11
TW200708894A (en) 2007-03-01
KR20070010712A (ko) 2007-01-24
JP2007025678A (ja) 2007-02-01
CN1900821A (zh) 2007-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1900821B (zh) 有机无机复合感光性树脂组合物
CN1877449B (zh) 负型感光性树脂组合物
CN101051186B (zh) 负型感光性树脂组合物
CN101349867B (zh) 有机-无机复合感光树脂组合物及使用其硬化体的液晶显示元件
KR101302508B1 (ko) 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법
JP6026757B2 (ja) 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置、光重合開始剤、及び化合物
TWI432898B (zh) 彩色濾光片用藍色感光性樹脂組成物及其應用
CN103946747A (zh) 负型感光性树脂组合物、分隔壁、黑色矩阵以及光学元件
TWI471697B (zh) 負型感光性樹脂組成物
JP6174663B2 (ja) アルカリ可溶性樹脂およびそれを含む感光性樹脂組成物ならびにその応用
KR20180121872A (ko) 흑색 감광성 수지 조성물
JP2013534326A (ja) ネガティブ感光性樹脂組成物
JP2012063745A (ja) 着色組成物、着色組成物の製造方法、着色パターン、カラーフィルタ、カラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法
CN103717625A (zh) 氟树脂和包含其的光敏树脂组合物
CN103890128A (zh) 拒墨剂的制造方法、负型感光性树脂组合物、分隔壁以及光学元件
KR102084433B1 (ko) 네가티브형 컬러필터의 제조방법, 이로부터 제조된 네가티브형 컬러필터 및 화상표시장치
TW574619B (en) Photosensitive resin, photoresist for color filters, and process for producing color filter
CN117130224A (zh) 一种液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物
TW201523138A (zh) 液晶顯示元件及感放射線性樹脂組成物
JP2001194520A (ja) カラーフィルターの保護層用の光硬化性樹脂組成物及びその硬化物
CN115236939A (zh) 一种高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物
TW202024144A (zh) 化學增幅型正型感光性樹脂組成物及其應用

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant