KR101305528B1 - 유무기 복합 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 코팅성과 평탄성이 우수하며 유전상수 조절이 가능한 유무기 복합 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법에 대해 개시한다.

본 발명은 a) 금속 화합물 분산체; b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; 및 ⅱ) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; c) 광개시제; d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법에 관한 것이다.

절연막, 코팅성, 평탄성, 유전상수

Description

유무기 복합 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법{ORGANIC-INORGANIC COMPOSITE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LIQUID CRYSTAL DISPLAY HAVING THAT CURING PRODUCT, METHOD OF FORMING A PATTERN OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME}

도1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 평면도이다.

도2는 도1의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도이다.

도3은 본 발명의 실시예에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물을 사용한 패턴형성 공정도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명>

10 : 액정표시장치 20 : 박막트랜지스터기판

30 : 하부 절연기판 40 : 박막트랜지스터

100 : 게이트절연막 110 : 보호막

210 : 게이트선 220 : 데이타선

본 발명은 유무기 복합 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법에 관한 것이다.

현재 액정표시장치에는 여러 가지 목적으로 절연막이 사용된다. 일반적으로 액정표시장치의 절연막(예를 들어, 게이트절연막, 층간절연막 및 보호막 등)은 실리콘 나이트라이드 또는 실리콘 옥사이드와 같은 무기 재료로 형성된다.

그러나, 무기 물질로 형성된 액정표시장치의 절연막은 그 제조 시, 스핀 코팅 등의 방법을 통해 형성할 수 없기 때문에 CVD(chemical vapor deposition) 등의 방법을 사용하여 형성하여야 함과 아울러 식각공정을 진행하여야 하는 문제점이 있다. 또한, 이로 인해 절연막의 평탄화도가 부족하게 된다. 그리고, 무기 재료는 그 특성상 고비용, 저유전상수라는 문제점을 가지고 있다.

따라서, 상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 개선된 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 제공하는 데 있다.

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 다른 목적은 상기 유무기 복합 감광성 수지 조성물의 경화로 형성되는 경화물을 갖는 액정표시장치를 제공하는 데 있다.

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 목적은 상기 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법을 제공하는 데 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 본 발명은 a) 금속 화합물 분산체; b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; 및 ⅱ) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; c) 광개시제; d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 제공한다.

본 발명의 다른 일 실시예에 따라, 본 발명은 게이트선 및 데이타선과; 상기 게이트선 및 상기 데이타선의 절연을 위한 게이트절연막과; 상기 게이트선 및 상기 데이타선과 접속된 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터를 보호하는 보호막을 포함하며, 상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나는 a) 금속 화합물 분산체; b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; 및 ⅱ) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; c) 광개시제; d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다.

본 발명의 다른 일 실시예에 따라, 본 발명은 a) 금속 화합물 분산체; b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; 및 ⅱ) 하나 이상 의 아크릴계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; c) 광개시제; d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 절연기판 상에 도포하는 단계와; 상기 네가티브 감광성 수지 조성물이 도포된 상기 절연기판 상에 노광 공정을 수행하는 단계와; 상기 노광 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 현상 공정을 수행하는 단계와; 상기 현상 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 경화 공정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 패턴형성방법을 제공한다.

이하, 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.

본 발명의 실시예에 따른 유무기 복합 감광성 수지 조성물은 a) 금속 화합물 분산체; b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; 및 ⅱ) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; c) 광개시제; d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물을 포함한다.

본 발명의 실시예에 따른 유무기 복합 감광성 수지 조성물은 상기 a)의 금속 화합물 분산체 5 내지 95 중량부; 상기 b)ⅰ)의 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물 5 내지 40 중량부; 및 상기 ⅱ)의 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물 5 내지 95 중량부를 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체 100 중량부; 상기 c)의 광개시제 0.001 내지 30 중량부; 상기 d)의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머 10 내지 100 중량부; 상기 e)의 에폭시기 또는 아민 기를 포함하는 실리콘계 화합물 0.0001 내지 5 중량부를 포함한다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 a)의 금속 화합물 분산체는 ITO, TiO2, SiO2, 또는 Al2O3 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 금속 화합물 분산체는 유무기 복합 감광성 수지 조성물의 코팅 시 평탄성의 확보 및 유전상수의 조절을 목적으로 사용된다.

상기 금속 화합물 분산체는 5 내지 95 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 내지 70 중량부로 포함되는 것이다. 그 함량이 5 중량부 미만일 경우에는 유전특성이 나타나지 않는다라는 문제점이 있으며, 95 중량부를 초과할 경우에는 전압인가 시 절연파괴가 발생하여 광에 의한 가교시 감도가 매우느려지는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 b)의 아크릴계 공중합체는 b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, 및 b)ii) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물을 단량체로 하여 용매 및 중합개시제의 존재하에서 라디칼 반응하여 제조할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 b)i)의 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물 또는 이들의 혼합물은 아크릴산, 메타크릴산 등의 불포화 모노카르본산; 말레인산, 푸마르산, 시트라콘산, 메타콘산, 이타콘산 등의 불포화 디카르본산; 또는 이들의 불포화 디카르본산의 무수물 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물 또는 이들의 혼합물은 전체 총 단량체에 5 내지 40 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 내지 30 중량부로 포함되는 것이다. 그 함량이 5 중량부 미만일 경우에는 알칼리 수용액에 용해하기 어렵다는 문제점이 있으며, 40 중량부를 초과할 경우에는 알칼리 수용액에 대한 용해성이 지나치게 커지게 된다는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 b)ii)의 아크릴계 불포화 화합물은 에폭시기 함유 불포화 화합물과 올레핀계 불포화 화합물이 사용된다.

상기 에폭시기 함유 불포화 화합물로는 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸아크릴산 글리시딜, α-n-프로필아크릴산 글리시딜, α-n-부틸아크릴산 글리시딜, 아크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, 아크릴산-β-에틸글리시딜, 메타크릴산-β-에틸글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-6,7-에폭시헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, α-에틸아크릴산-6,7-에폭시헵틸, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르 또는 p-비닐벤질글리시딜에테르 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

특히, 상기 에폭시기 함유 불포화 화합물은 메타크릴산 글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, 또는 p-비닐벤질글리시딜에테르를 사용하는 것이 공중합 반응성 및 얻어지는 패턴의 내열성을 향상시키는데 있어 더욱 바람직하다.

상기 에폭시기 함유 불포화 화합물은 전체 총 단량체에 10 내지 70 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 20 내지 60 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 10 중량부 미만일 경우에는 얻어지는 패턴의 내열성이 저하된다는 문제점이 있으며, 70 중량부를 초과할 경우에는 공중합체의 보존안정성이 저하된다는 문제점이 있다.

상기 올레핀계 불포화 화합물은 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸 메타크릴레이트, tert-부틸 메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 2-메틸시클로 헥실메타크릴레이트, 이소보로닐메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실아크릴레이트, 이소보로닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 스티렌, σ-메틸 스티렌, m-메틸 스티렌, p-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시 스티렌, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 또는 2,3-디메틸 1,3-부타디엔 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 올레핀계 불포화 화합물은 전체 총 단량체에 대하여 10 내지 70 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 20 내지 50 중량부로 포함되는 것이다. 그 함량이 10 중량부 미만일 경우에는 감도가 느려지며 패턴 형성이 어렵다라는 문제점이 있으며, 70 중량부를 초과할 경우에는 현상 시 잔사가 남는다라는 문제점이 있다.

상기와 같은 단량체를 아크릴계 공중합체로 중합하기 위해 사용되는 용매는 메탄올, 테트라히드로퓨란, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 프로필에테르, 프로필렌글리콜 부틸에테르, 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 메틸에틸프로피오네이트, 프로필렌글리콜 에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜 프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜 부틸에테르프로피오네이트, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 4-히드록시 4-메틸 2-펜타논, 초산메틸, 초산에틸, 초산프로필, 초산부틸, 2-히드록시 프로피온산에틸, 2-히드록시 2-메틸 프로피온산메틸, 2-히드록시 2-메틸 프로피온산에틸, 히드록시 초산메틸, 히드록시 초산에틸, 히드록시 초산부틸, 유산메틸, 유산에틸, 유산프로필, 유산부틸, 3-히드록시 프로피온산메틸, 3-히드록시 프로피온산에틸, 3-히드록시 프로피온산프로필, 3-히드록시 프로피온산부틸, 2-히드록시 3-메틸 부탄산메틸,　　메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산프로필, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸, 에톡시초산프로필, 에톡시초산부틸, 프로폭시초산메틸, 프로폭시초산에틸, 프로폭시초산프로필, 프로폭시초산부틸, 부톡시초산메틸, 부톡시초산에틸, 부톡시초산프로필, 부톡시초산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피온산프로필, 2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필, 또는 3-부톡시프로피온산부틸 등과 같은 에테르류 등을 사용할 수 있으며, 상기 화합물을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기와 같은 단량체를 아크릴계 공중합체로 중합하기 위해 사용되는 중합개시제는 라디칼 중합개시제를 사용할 수 있으며, 구체적으로 2,2-아조비스이소부티로니트릴, 2,2-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2-아조비스(4-메톡시 2,4-디메틸발레로니트릴), 1,1-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 또는 디메틸 2,2-아조비스이소부틸레이트 등을 사용할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 c)의 광개시제는 구체적으로, 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2-p-메톡시스티릴-4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-4-메틸나프틸-6-트리아진, 벤조페논, p-(디에틸아미노)벤조페논노, 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2-도데실티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4- 디에틸티오크산톤, 또는 2,2-비스-2-클로로페닐-4,5,4,5-테트라페닐-2-1,2-비이미다졸 등을 사용할 수 있으며, 상기 화합물을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 광개시제는 아크릴계 공중합체 100 중량부에 대하여 0.001 내지 30 중량부로 포함하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 20 중량부로 포함되는 것이다.

상기 광개시제는 아크릴계 공중합체 100 중량부에 대하여 0.001 내지 30 중량부로 포함하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 20 중량부로 포함되는 것이다.　그 함량이 0.001 중량부 미만일 경우에는 낮은 감도로 인해 잔막율이 나빠지게 된다는 문제점이 있으며, 30 중량부를 초과할 경우에는 보존안정성에 문제가 발생할 수 있으며, 높은 경화도로 인해 현상시 패턴의 접착력이 저하된다는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 d)의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노모는 일반적으로 적어도 2 개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 가지는 가교성 모노머로, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 솔비톨트리아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트 유도체, 또는 이들의 메타크릴레이트류 등을 사용할 수 있다.

　상기 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머는 아크릴계 공중합체 100 중량부에 대하여 10 내지 100 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 내지 60 중량부로 포함되는 것이다. 그 함량이 10 중량부 미만일 경우에는 감광성 수지와의 낮은 경화도로 인하여 컨텍 홀 및 패턴 구현이 어렵다는 문제점이 있으며, 100 중량부를 초과할 경우에는 높은 경화도로 인해 현상시 컨텍 홀 및 패턴의 해상력이 저하된다는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 상기 e)의 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물은 (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시릴레인, (3-글리시드옥시프로필)트리에톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)메틸디메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)디메틸에톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리메톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리에톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리에톡시실레인 또는 아미노프로필트리메톡시 실레인 등을 사용할 수 있으며, 상기 화합물을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물은 아크릴계 공중합체 100 중량부에 대하여 0.0001 내지 5 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 2 중량부로 포함되는 것이다. 그 함량이 0.0001 중량부 미만일 경우에는 ITO 전극과 감광성 수지와의 접착력이 떨어지며, 경화 후 내열 특성이 떨어진다는 문제점이 있으며, 5 중량부를 초과할 경우에는 현상액 내에서 비노광부의 백화현상 및 현상 후 컨텍 홀이나 패턴의 스컴(scum)이 생기게 된다는 문제점이 있다.

상기 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 용해시키기 위한 용매는 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르 아세테이트류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 디에틸렌글리콜류; 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜에틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 프로필렌글리콜부틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류 등을 사용할 수 있다. 특히, 상기 용매는 용해성, 각 성분과의 반응성, 및 도포막 형성이 용이한 글리콜에테르류, 에틸렌알킬에테르아세테이트류, 및 디에틸렌글리콜류로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용하는 것이 바람직하다.

상기와 같은 본 발명의 실시예에 따른 유무기 복합 감광성 수지 조성물은 접착력, 내열성, 절연성, 평탄성, 내화학성 등의 성능이 우수하여 액정표시장치의 화상 형성용 재료로 적합하고, 특히 액정표시장치의 절연막 형성 시 감도, 잔막율, UV 투과율이 우수하기 때문에, 그 경화물은 액정표시장치의 절연막으로 적합하다. 이에 대해, 도1 및 도2를 참조하여 보다 상세히 설명한다.

도1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 평면도이고, 도2는 도1의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도이다.

도1 및 도2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(10)는 박막트랜지스터기판(20)과, 박막트랜지스터기판(20)과 대향하도록 합착된 칼라필터기판(140)과, 박막트랜지스터기판(20) 및 칼라필터기판(140) 사이에 형성된 액정(200)을 구비하고 있다.

박막트랜지스터기판(20)은 하부 절연기판(30) 상에 서로 교차되게 형성된 게이트선(210) 및 데이터선(220)과, 게이트선(210) 및 데이터선(220)과 접속된 박막트랜지스터(40)와, 박막트랜지스터(40)와 접속된 화소전극(130)과, 박막트랜지스터(40)와 화소전극(130) 사이에 형성되는 보호막(110)을 구비하고 있다.

게이트선(210)은 게이트온/오프전압을 자신과 접속된 박막트랜지스터(40)의 게이트전극(50)에 공급한다. 데이타선(220)은 데이타전압을 자신과 접속된 박막트랜지스터(40)의 소스전극(60)에 공급한다. 이러한 게이트선(210)과 데이터선(220)의 절연을 위해 게이트선(210) 및 데이터선(220) 사이에 게이트절연막(100)이 형성되어 있다. 이 게이트절연막(100)은 상기 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 사용한 도포, 노광, 현상 및 경화공정을 통해 형성될 수 있다.

박막트랜지스터(40)는 게이트선(210)으로부터의 게이트온/오프전압에 응답하여 데이타선(220)으로부터의 데이타전압을 화소전극(130)에 공급한다. 이를 위해, 박막트랜지스터(40)는 게이트선(210)과 접속된 게이트전극(50)과, 데이타선(220)과 접속된 소스전극(60)과, 소스전극(60)과 마주보고 형성되어 있으며 화소전극(130)과 접속된 드레인전극(70)과, 게이트절연막(100)을 사이에 두고 게이트전극(50)과 중첩된 활성층(80) 및 오믹접촉층(90)을 구비하고 있다.

화소전극(130)은 인듐 틴 옥사이드 또는 인듐 징크 옥사이드와 같은 투명한 금속으로 형성되어 있으며 드레인전극(70)으로부터의 데이타전압을 액정(200)에 인가한다. 이를 위해, 화소전극(130)은 보호막(110)을 관통하는 콘택홀(120)을 통해 드레인전극(70)과 접속되어 있다.

보호막(110)은 박막트랜지스터(40)를 덮도록 형성됨과 아울러 하부 절연기판(30)의 전면에 형성되어 있다. 보호막(110)은 박막트랜지스터(40)를 보호함과 아울러 데이타선(220)과 화소전극(130) 간의 절연을 위해 형성된다. 이 보호막(110)은 상기 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 사용한 도포, 노광, 현상 및 경화공정을 통해 형성된다.

칼라필터기판(140)은 상부 절연기판(150) 상에 빛샘 방지를 위해 형성된 블랙매트릭스(160)와, 색구현을 위해 형성된 칼라필터(170)와, 블랙매트릭스(160) 및 칼라필터(170)를 덮도록 형성된 오버코트(180)와, 오버코트(180) 상에 형성된 공통전극(190)을 구비하고 있다.

블랙매트릭스(160)는 액정(200)을 제어할 수 없는 영역을 통해 광이 투과되는 것을 막기 위해 불투명한 유기물질 또는 불투명한 금속으로 형성되어 있다. 칼라필터(170)는 색을 구현하기 위해 적색, 녹색, 및 청색칼라필터(170)를 구비하고 있다. 오버코트(180)는 투명한 유기물질로 형성되어 있으며 칼라필터(170)를 보호 하며 공통전극(190)의 양호한 스텝 커버리지(Step Coverage)를 위해 형성된다. 공통전극(190)은 인듐 틴 옥사이드 또는 인듐 징크 옥사이드와 같은 투명한 금속으로 형성되어 있으며 공통전압을 액정(200)에 인가한다.

상기와 같은 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 사용하여 액정표시장치의 패턴형성방법에 대해 도3을 참조하여 상세히 설명한다.

도3은 본 발명의 실시예에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물을 사용한 패턴형성 공정도이다.

도3을 참조하면, 먼저 본 발명의 실시예에 따른 감광성 수지 조성물을 스프레이법, 롤코터법, 회전도포법 등으로 절연기판 상에 도포하고, 프리베이크에 의해 용매를 제거하여 도포막을 형성한다.　이때, 상기 프리베이크는 70 내지 110℃의 온도에서 1 내지 15분간 실시하는 것이 바람직하다.(S1)

이어, 미리 준비된 패턴에 따라 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, 엑스선 등을 상기 형성된 도포막에 조사 즉, 노광 공정을 수행하고(S2), 현상액으로 현상하여 불필요한 부분을 제거함으로써 소정의 패턴을 형성한다.(S3)

이후, 현상액으로 현상한 후 초순수로 30 내지 90초간 세정하여 불필요한 부분을 제거하고 건조하여 패턴을 형성하고, 상기 형성된 패턴에 자외선 등의 빛을 조사한 후, 패턴을 오븐 등의 가열장치에 의해 150 내지 250℃의 온도에서 30 내지 90분간 가열처리 즉, 경화 공정을 수행하여 절연막을 형성한다.(S4)

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 합성예 및 실시예를 제시하나, 하기 합성예 및 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 합성예 및 실시예에 한정되는 것은 아니다.

합성예 1.

(금속 화합물 분산체 제조)

아크릴 중합체에 분산되는 TiO2 등의 금속 산화물 성분은 다음과 같은 방법으로 제조한다. 우선 아크릴 중합체에 직접 금속 화합물을 분산시키지 않고, 1차적으로 금속 화합물 분산체를 용매에 5% ~ 50%의 농도에 분산물로 안정화 시킨다.

ITO 등의 분말을 준비하여 회전식 볼 분쇄기를 사용하여 분말을 분쇄시키고, 용매를 혼합하여 습식 혼합시킨 후, 분무 건조시켜서 입도가 50nm ~ 200nm 크기를 갖는 금속 화합물 분산체를 제조한다.

합성예 2

(아크릴계 공중합체 제조)

냉각관과 교반기를 구비한 플라스크에 2,2‘-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 10 중량부, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200 중량부, 메타크릴산 20 중량부, 메타크릴산 글리시딜 35 중량부, 메틸 메타크릴레이트 15 중량부 , 및 스티렌 30 중량부를 넣고, 질소치환한 후 완만히 교반하였다.　　상기 반응 용액을 62 ℃까지 승온시켜 5 시간 동안 이 온도를 유지하면서 아크릴계 공중합체를 포함하는 중합체 용액을 제조하였다.　중합체의 중량평균분자량은 11,000이었다.　이때, 중량평균분자량은 GPC를 사용하여 측정한 폴리스티렌 환산평균분자량이다.

실시예1.

(유무기 복합 감광성 수지 조성물 제조)

상기 제조한 아크릴계 공중합체를 포함하는 중합체 용액 100 중량부, 광개시제로는 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 20중량부, 다관능성 모노머로 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 50 중량부, 실리콘계 화합물로 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인 1 중량부를 혼합하였다.　상기 혼합물에 고형분 농도가 35 중량부가 되도록 디에틸렌글리콜 디메틸에테르를 가하여 용해시킨다.

위와 같이 제조한 아크릴계 공중합체와 합성예1에서 제조된 금속 화합물 분산체를 혼합 중량비가 95 : 5가 되도록 제조하였다.

이렇게 제조된 유무기 복합 수지 조성물 0.2um의 밀리포아필터로 여과하여 불순물을 제거하였고, 이 때 15 cps 의 점도를 보였으며, 막을 형성시킬 경우 코팅 속도에 따라 0.3 ~ 0.8 마이크론의 두께를 얻을 수 있었다.

실시예2.

(유무기 복합 감광성 수지 조성물 제조)

상기 제조한 아크릴계 공중합체를 포함하는 중합체 용액 100 중량부, 광개시제로는 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 20중량부, 다관능성 모노머로 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 50 중량부, 실리콘계 화합물로 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인 1 중량부를 혼합하였다.　　상기 혼합물에 고형분 농도가 35 중량부가 되도록 디에틸렌글리콜 디메틸에테르를 가하여 용해시킨다.

위와 같이 제조한 아크릴계 공중합체와 합성예1에서 제조된 금속 화합물 분 산체를 혼합 중량비가 90 : 10가 되도록 제조하였다.

이렇게 제조된 유무기 복합 수지 조성물 0.2um의 밀리포아필터로 여과하여 불순물을 제거하였고, 이 때 15 cps 의 점도를 보였으며, 막을 형성시킬 경우 코팅 속도에 따라 0.3 ~ 0.8 마이크론의 두께를 얻을 수 있었다.

실시예 3.

(유무기 복합 감광성 수지 조성물 제조)

상기 제조한 아크릴계 공중합체를 포함하는 중합체 용액 100 중량부, 광개시제로는 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 20중량부, 다관능성 모노머로 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 50 중량부, 실리콘계 화합물로 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인 1 중량부를 혼합하였다.　　상기 혼합물에 고형분 농도가 35 중량부가 되도록 디에틸렌글리콜 디메틸에테르를 가하여 용해시킨다.

위와 같이 제조한 아크릴계 공중합체와 합성예1에서 제조된 금속 화합물 분산체를 혼합 중량비가 85 : 15가 되도록 제조하였다.

이렇게 제조된 유무기 복합 수지 조성물 0.2um의 밀리포아필터로 여과하여 불순물을 제거하였고, 이 때 16 cps 의 점도를 보였으며, 막을 형성시킬 경우 코팅 속도에 따라 0.3 ~ 0.8 마이크론의 두께를 얻을 수 있었다.

실시예4.

(유무기 복합 감광성 수지 조성물 제조)

상기 제조한 아크릴계 공중합체를 포함하는 중합체 용액 100 중량부, 광개시 제로는 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 20중량부, 다관능성 모노머로 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 50 중량부, 실리콘계 화합물로 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인 1 중량부를 혼합하였다.　　상기 혼합물에 고형분 농도가 35 중량부가 되도록 디에틸렌글리콜 디메틸에테르를 가하여 용해시킨다.

위와 같이 제조한 아크릴계 공중합체와 합성예1에서 제조된 금속 화합물 분산체를 혼합 중량비가 80 : 20가 되도록 제조하였다.

상기 실시예 1에서 4에서 제조된 유무기 복합 감광성 수지 조성물 코팅용액을 이용하여 하기와 같은 방법으로 물성을 평가한 후, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.

비교예 1.

상기 실시예 1 ~ 4에서 제조된 유무기 복합 감광성 수지 조성물 코팅용액에서 금속 화합물 분산체를 사용하지 않은 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.

실험예

상기 실시예 1 내지 4, 상기 비교에 1에서 제조된 유무기 복합 감광성 수지 조성물 코팅용액을 이용하여 하기와 같은 방법으로 물성을 평가한 후, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.

ㄱ) 감도 - 유리기판 상에 스핀코터를 사용하여 상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1에서 제조된 유무기 복합 감광성 수지 조성물 코팅용액을 도포한 뒤, 90℃로 2분간 핫 플레이트 상에서 프리베이크하여 막을 형성하였다.

상기에서 얻어진 막에 소정 패턴 마스크(pattern mask)를 사용하여 365㎚에서의 강도가 15㎽/㎠인 자외선을 6초간 조사하였다.　이후, 테트라메틸 암모늄히드록시드 0.38 중량부의 수용액으로 25℃에서 2분간 현상한 후, 초순수로 1분간 세정하였다. 그 다음, 상기에서 현상된 패턴에 365㎚에서의 강도가 15㎽/㎠인 자외선을 34초간 조사하고, 120℃에서 3분간 미드베이크한 후, 오븐속에서 220℃로 60분간 가열하여 경화시켜 패턴 막을 얻었다.

ㄴ) 잔막율 - 상기 ㄱ)의 감도 측정시 형성된 패턴 막의 가장 아래와 패턴의 가장 윗쪽의 높이를 측정하였다.　이때, 두께 변화율이 프리베이크하여 얻어진 막의 두께를 기준으로, 0 내지 10%인 경우를 우수, 10 내지 40%인 경우를 양호, 40%를 넘는 경우를 나쁨으로 나타내었다.

ㄷ) 투과율 -　　상기 ㄱ)의 감도 측정시 프리베이크 후의 막두께가 3미크론인 도막의 가시광선의 광흡수 스펙트럼(spectrem)을 측정하고, 400㎚에 있어서 광선 투과율이 98% 이상의 경우를 매우 우수, 94 내지 98%인 경우를 우수, 92 내지 94%인 경우를 보통, 92% 이하인 경우를 나쁨으로 나타내었다.

ㄹ) 내열성 - 최종도막을 긁어서 TGA를 통한 5wt% 중량감소온도를 측정하고, 5wt% 감소 온도가 300도 이상에서는 매우 우수, 280도 이상에서는 우수, 250도 이상에서는 보통, 250도 이하에서는 나쁨으로 나타내었다.

ㅁ) 접착력 -　　Mo, Al, ITO 기판에서, 최종 경화를 끝낸 도막에 대하여 테이프를(제조사 :3M)를 이용하여 테이핑 검사를 통해 나타내었다. 도막을 일정한 간격으로 100개의 셀로 나누어 놓은 후에 상기 테이프를 붙인 후, 천천히 떼어냈을 때 100개의 셀 가운데 남아있는 셀의 수가 95개 이상이면 매우 우수, 90개 이상이면 우수, 80개 이상이면 보통, 80개 이하이며 나쁨으로 나타내었다.

ㅂ) 평탄성 - 유리기판에 도막을 코팅한 후, 약 100 point에 대한 두께를 광학장비 등의 두께 측정기로 측정한 후 그 유의차가 1% 미만이면 매우 우수, 2% 미만이면 우수, 3%미만이면 보통, 그 이상이면 나쁨으로 나타내었다. 이 방법을 통해 본 특허를 통해 볼 분쇄기를 통해 제조한 금속 화합물 분산체와 아크릴 공중합체간의 분산 안정성과 금속 화합물의 침전 가능성을 확인할 수 있다.

ㅅ) 유전율 - 캐퍼시터의 정전 용량을 측정하여, 하기 수학식 1을 통해 구하였다. 먼저 유전체 박막을 일정 두께로 코팅한 후 임피던스 어넬라이저를 통해 정전용량을 측정하였고, 하기 수학식 1을 통해 각각의 유전상수를 계산하였다.

상기 수학식 1에서 C는 정전용량을, ε0는 진공유전율을, εr은 유전체박막비유전율을, A는 유효면적을, d는 유전체박막두께를 나타낸다.

구분	실시예 1	실시예 2	실시예 3	실시예 4	비교예 1
감도(mJ/㎠)	18	21	27	34	15
잔막율	우수	우수	우수	양호	우수
투과율	매우 우수	매우 우수	매우 우수	우수	매우 우수
내열성	우수	우수	우수	우수	우수
접착력	우수	우수	우수	우수	우수
평탄성	우수	우수	우수	보통	우수
유전상수	4.0	4.6	5.0	5.4	3.4

상기 표 1을 통하여, 본 발명에 따라 유무기 복합 감광성 수지를 제조한 실시예 1 내지 4는 감도가 우수하고, 투과도가 좋으며, 내열성과 접착력이 양호한 특성을 보였다.

특히, 금속 화합물을 안정적으로 분산시켜 코팅의 평탄성을 확보할 수 있었으며, 금속 화합물들을 사용하여 유전상수의 조절이 가능한 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 제조하였다.

본 발명에 따른 유무기 복합 감광성 수지 조성물은 낮은 유전상수에서 높은 유전상수까지 조절 가능하다라는 장점이 있다. 이 때문에, 액정표시장치의 절연막 제조 시, 그 제품 특성 맞게 유전상수를 조절할 수 있다.

또한, 기존 무기 재료로 형성된 절연막 대신 유무기 복합 감광성 수지 조성물의 경화물인 절연막으로 인해 액정표시장치의 절연막 제조 시, CVD 증착 공정 및 후속되는 식각 공정을 진행하지 않아도 되므로 공정 시간의 단축과 아울러 생산성 증가 효과를 얻을 수 있다.

이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.

Claims (12)

1. a) 금속 화합물 분산체 5 내지 95 중량부;

   b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물 5 내지 40 중량부; 및

   ⅱ) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물 5 내지 95 중량부를 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체 100 중량부;

   c) 광개시제 0.001 내지 30 중량부;

   d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머 10 내지 100 중량부; 및

   e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물 0.0001 내지 5 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
2. 삭제
3. 제1항에 있어서,

   상기 a)의 금속 화합물 분산체가 ITO, TiO2, SiO2, Al2O3로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
4. 제1항에 있어서,

   상기 b)ⅰ)의 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물 또는 이들의 혼합물이 아크릴산, 메타크릴산, 말레인산, 푸마르산, 시트라콘산, 메타콘산, 이타콘산, 및 이들의 불포화 디카르본산의 무수물로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
5. 제1항에 있어서,

   상기 b)ⅱ)의 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물은 에폭시기 함유 불포화 화합물 10 내지 70 중량부; 및

   올레핀계 불포화 화합물 10 내지 70 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
6. 제5항에 있어서,

   상기 에폭시기 함유 불포화 화합물이 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸아크릴산 글리시딜, α-n-프로필아크릴산 글리시딜, α-n-부틸아크릴산 글리시딜, 아크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, 아크릴산-β-에틸글리시딜, 메타크릴산-β-에틸글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-6,7-에폭시헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, α-에틸아크릴산-6,7-에폭시헵틸, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, 및 p-비닐벤질글리시딜에테르로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
7. 제5항에 있어서,

   상기 올레핀계 불포화 화합물이 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸 메타크릴레이트, tert-부틸 메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 2-메틸시클로 헥실메타크릴레이트, 이소보로닐메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실아크릴레이트, 이소보로닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 스티렌, σ-메틸 스티렌, m-메틸 스티렌, p-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시 스티렌, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 및 2,3-디메틸 1,3-부타디엔으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
8. 제1항에 있어서,

   상기 c)의 광개시제가 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2-p-메톡시스티릴-4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-4-메틸나프틸-6-트리아진, 벤조페논, p-(디에틸아미노)벤조페논노, 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2-도데실티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 및 2,2-비스-2-클로로페닐-4,5,4,5-테트라페닐-2-1,2-비이미다졸로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
9. 제1항에 있어서,

   상기 d)의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머가 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 솔비톨트리아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트 유도체 및 이들의 메타크릴레이트류로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
10. 제1항에 있어서,

    상기 e)의 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물이 (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시릴레인, (3-글리시드옥시프로필)트리에톡시실레인, (3-글리 시드옥시프로필)메틸디메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시실레인, (3-글리시드옥시프로필)디메틸에톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리메톡시실레인, 3,4-에폭시부틸트리에톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실레인, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리에톡시실레인, 및 아미노프로필트리메톡시 실레인으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물.
11. 게이트선 및 데이타선과;

    상기 게이트선 및 상기 데이타선의 절연을 위한 게이트절연막과;

    상기 게이트선 및 상기 데이타선과 접속된 박막트랜지스터와;

    상기 박막트랜지스터를 보호하는 보호막을 포함하며,

    상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나는

    a) 금속 화합물 분산체 5 내지 95 중량부;

    b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물 5 내지 40 중량부; 및

    ⅱ) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물 5 내지 95 중량부를 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체 100 중량부;

    c) 광개시제 0.001 내지 30 중량부;

    d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머 10 내지 100 중량부; 및

    e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물 0.0001 내지 5 중량부를 포함하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
12. a) 금속 화합물 분산체 5 내지 95 중량부;

    b)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물 5 내지 40 중량부; 및

    ⅱ) 하나 이상의 아크릴계 불포화 화합물 5 내지 95 중량부를 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체 100 중량부;

    c) 광개시제 0.001 내지 30 중량부;

    d) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머 10 내지 100 중량부; 및

    e) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물 0.0001 내지 5 중량부를 포함하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물을 절연기판 상에 도포하는 단계와;

    상기 유무기 복합 감광성 수지 조성물이 도포된 상기 절연기판 상에 노광 공정을 수행하는 단계와;

    상기 노광 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 현상 공정을 수행하는 단계와;

    상기 현상 공정이 수행된 상기 절연기판 상에 경화 공정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 패턴형성방법.

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