CN1879001A - 辐射罩 - Google Patents

Abstract

作为通过对工件施加受控的热量处理工件(122)的系统的一部分，加热装置包括间隔开的加热元件(102)阵列，用于与工件保持相对的关系，使得工件承受所产生的直接辐射。辐射罩(200)包括多个元件(207)，所述元件被支撑为可以在以下位置之间移动，(i)缩回位置，该位置允许直接辐射到达工件，和(ii)展开位置，在该位置中多个元件以至少部分地阻挡直接辐射到达工件并且吸收由工件发出和发射的辐射的方式相配合，因而获得与先前相比对时间－温度轮廓线更大的控制。至少某些元件(207)在相邻的加热元件(102)之间以这些特定的元件在缩回和展开位置之间移动的方式移动。可以使用管状、弯曲、板状元件结构。

Description

辐射罩

技术领域

本文主要涉及工件的快速热处理(RTP)领域，尤其涉及一种包括多个段的辐射罩，用于向工件施加受控的热量。本文讨论无阴影的遮蔽体(shadow-free shutter)装置和方法。

背景技术

在制造包括但并不限于此的设备时，如半导体、光电子设备、平板显示器以及MEMS(微型机电系统)，至少一些工序可能需要施加受控的热量。例如，在半导体中，某些工序需要向晶片或其它类似的工件上施加热量，以完成退火。特别是，离子注入被经常用于在晶片的选定区域引入搀杂剂。随后实施RTP退火，这是因为离子注入工序破坏了晶片选定区域上暴露的晶格结构，将注入的掺杂剂原子留在了电钝化的间隙位置。退火用于将掺杂剂原子移入晶格的取代位置，以使它们电活化，从而修复在离子注入过程中发生的晶格结构的损坏。

不幸地，在缺乏精确控制的情况下，对半导体晶片的设备一侧的退火会引起不希望的影响。高温下，掺杂剂原子可以以很高的速率扩散到晶片内，大多数的扩散发生在退火峰值温度，也就是需要用来激活掺杂剂的温度。由于对半导体晶片性能增强的需求以及逐渐减小设备尺寸，需要制造越来越浅和快速形成的连接。为了实现这些需求并不断的减小设备的尺寸，需要按照下述方式尽可能精确的控制晶片的退火热量轮廓线，即，在使晶片承受激活掺杂剂的同时限制掺杂剂扩散的温度条件。

一个用于实现单晶片的快速退火处理的公知的结构，利用产生辐射的加热元件，所述辐射由工件直接承受。这种方法的一种可能的实施方式如美国专利第6,054,684号，Pas等(后文中称为Pas)出版，中的图3a所示，该图被本申请的图1所重复，在图1中使用了另外的附图标记。一个热处理装置，利用附图标记10大致示出，包括晶片固定器(wafer holder)12和加热器14。后者可以由电阻性的加热元件或灯组成。遮蔽体(shutter)系统16定位于加热器14和可支撑的位于晶片固定器12上的晶片(未示出)之间。提供的遮蔽体16用于选择性地阻挡从加热器14发出的能量，使其不能到达晶片。

如Pas所承认的，所描述的结构具有问题，由于遮蔽体系统位于晶片和加热元件之间的中间位置，所以当遮蔽体位于打开位置会在晶片上产生阴影。这些阴影所导致的结果是晶片表面的不均匀加热。

虽然Pas试图通过提出在遮蔽体上使用反射性涂层来减小阴影问题，但是在考虑到本发明的教导后其整体结构仍然被认为不能接受。特别地，这些阴影将影响阴影设备区域，由于该区域只暴露在加热器14发出的非直接辐射下，从而会不完全退火。如果为了完全地对阴影区域进行热处理而增加暴露时间，会导致直接暴露于加热器下的晶片区域的掺杂剂扩散过度的问题。

由Pan出版，美国专利第6,259,062号的图3，被本文中的图2所重复，图2中也使用了另外的附图标记，包括一个与Pas的装置十分相似的装置。Pan描述了一个系统，利用附图标记30大致示出，其中晶片32支撑在位于处理腔34中的基座33上，使得晶片能够暴露在多个加热源36比如辐射热灯之下，这些热源被排列在晶片的上方和下方。作为现有技术中的通用的惯例，反射性表面38被定位在热灯的外面。然而，优于使用Pas式遮蔽体，两个辐射吸收材料件40在双箭头42所示的方向上可直线移动，使得材料40能够滑动地位于灯36和晶片32(晶片的上下两面)之间，或者侧面地移出直接位于灯36和晶片32之间的区域(参见Pan的图1和2)。然而，了解下述问题十分重要，即，为了达到提高系统生产能力的目的，Pan的专利涉及于在晶片32的后处理冷却中使用热吸收媒介40。这样，该专利显得仅仅适应于处理完成后的晶片的冷却。在其结束时，媒介40滑入晶片和反射表面38之间的位置，同时包括晶片的上方和下方，在处理完成后，为了更加快速的冷却晶片以将其移走，媒介吸收由晶片发出辐射热44。系统的产量可以提高，例如，因为热敏机器人手臂能够更快地将冷却的晶片拾取。对于这一点，应当注意，因为没有图示从热源36发出的热量，图2清楚地表示了后处理条件。

由于Pan式设备不存在Pas式遮蔽体设备的阴影问题，但是如果试图将这种结构应用于Pas之中，或者一般地作为快速热处理的一部分，就会引入另一个重要的问题，下文中将马上进行讨论。

仍然参照图2，热量轮廓线的实施受到控制，至少是部分地，由于特殊的原因媒介40的使用将会导致问题。特别地，本文认为，如下文中将要进一步描述的，将媒介40直线移动到灯36和晶片40之间中间位置的动作，会逐步的阻挡直接辐射。如果进行真实的处理，对于发射辐射的灯来说，晶片将高度不均匀的暴露在辐射中，导致的不可预言的和不可接受的结果超出了本发明预期RTP的程度。然而，此外，应当注意，Pan显得能够仅仅适应于其规定的后处理目的。

本发明提供了非常有益的设备和方法，其解决了前文所述的困难和问题，并且还提供了其它的优点。

发明内容

在一个通过向工件施加受控的热量来处理工件的系统中，描述了一种设备和一种方法。按照本发明的一个方面，具有加热平面的加热装置，用于与工件保持相对关系，以使工件承受由加热装置产生的直接辐射。分段的辐射罩包括多个段，所述多个段被支撑在(i)缩回或打开位置和(ii)展开位置之间移动，在所述缩回或打开位置所述直接辐射被允许到达工件上，在展开或关闭位置所述多个段以至少部分地阻挡所述直接辐射到达工件上的方式相配合。移动部件将多个段在缩回位置和展开位置间移动。在一个特例中，该移动部件是一种提供对段在缩回位置和展开位置之间的移动的加速度和减速度进行控制的部件。

按照本发明的另一方面，多个伸长的加热元件被设置为与工件处于相对的关系，用于使工件受到加热元件所产生的辐射。支撑装置具有至少一个表面，用于支撑多个伸长的加热元件，所述加热元件相互邻近并处于并排关系。由支撑装置铰链地支撑的多个伸长的遮蔽体件至少大致地与伸长的加热元件对齐，并且可以在缩回位置(在所述缩回位置遮蔽体件允许辐射从加热元件发出直接撞击在工件上)和展开位置之间移动，使得遮蔽体件由缩回位置开始从所述表面向外移动，夹在加热元件和工件之间，在所述展开位置，以一种防止至少部分辐射直接到达工件上的方式设置。移动部件将伸长的遮蔽体件在缩回位置和展开位置之间移动。

按照本发明的另一个方面，所提供的加热装置用于与工件保持相对的关系，使得工件承受由加热装置发出的直接辐射。辐射罩被支撑，以在(i)缩回位置和(ii)展开位置之间枢转地移动，所述缩回位置至少部分地位于与工件相对的加热装置的一侧上以允许直接辐射到达工件上，在加热装置和工件之间，在所述展开位置，辐射罩被用于至少部分地阻挡至少部分的直接辐射到达工件。

按照本发明的另一个方面，加热装置包括间隔开的加热元件阵列，用于与工件保持相对的关系，使得工件承受由加热装置产生的直接辐射。分段的辐射罩包括多个被支撑的段，以在(i)缩回位置和(ii)展开位置之间移动，在所述缩回位置所述直接辐射被允许到达工件，在所述缩回位置多个段以至少部分地阻挡至少部分的直接辐射到达工件上的方式相配合，而且所述方式被设置为使辐射罩的至少某些段在缩回位置和展开位置之间移动时在相邻的加热元件之间移动。

按照本发明的另一个方面，描述了一种通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统和方法。该系统包括一种设备，该设备具有用于与工件保持相对的关系的加热装置，使得工件的处理宽度承受由加热装置发出的直接辐射。辐射罩被支撑，以在以下状态之间移动，(i)缩回状态，该状态允许直接辐射到达工件上而且不会在工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中辐射罩至少部分地阻挡至少部分的直接辐射到达工件，使得辐射罩在缩回状态和展开状态之间移动一段小于处理宽度的距离。

按照本发明的另一个方面，作为通过施加受控的热量来处理具有热处理宽度的工件的系统的一部分，一种设备及一种方法被描述为，具有用于与工件保持相对的关系的加热装置，使得工件的处理宽度承受由加热装置发出的直接辐射。包括多个元件的辐射罩，其被支撑，以在以下状态之间移动，(i)缩回状态，该状态允许直接辐射到达工件上而且不会在工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中辐射罩至少部分地阻挡至少部分的直接辐射到达工件，使得每个元件在缩回状态和展开状态之间移动一段小于处理宽度的距离。

按照本发明的另一个方面，作为通过施加受控的热量来处理工件的系统的一部分，一种设备及一种方法被描述为，具有用于与工件保持相对的关系的加热装置，使得工件承受由加热装置发出的直接辐射。辐射罩包括多个罩元件，所述罩元件被支撑，以在以下状态之间移动，(i)打开状态，该状态允许直接辐射到达工件上而且不会在工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中罩元件至少部分地阻挡直接辐射到达工件，使得每个罩元件至少在相邻的加热元件之间移动。一种部件被用于在打开状态和展开状态之间移动辐射罩。

按照本发明的另一方面，描述了一个线性移动的实施例，其中只需要线性的遮蔽体移动。在一个特例中，采用了平面板状遮蔽体。在另一个特征中，采用了管状遮蔽体。

附图说明

参考下文中结合下述简要附图的详细描述，将能够更好地理解本发明。

图1直接摘自美国专利第6,054,684号的图3a，出于讨论一种遮蔽体实施的现有技术的目的而在在此重复；

图2直接摘自美国专利第6,259,062的图3，出于讨论’062专利中的后冷却处理的遮蔽体实施方式而在此重复；

图3为正面概视图，图示了包括按照本发明制造的遮蔽体装置的RTP系统，用于详细描述遮蔽体位于打开、缩回位置的非常有益的结构；

图4为正面概视图，图示了如图3所示包括按照本发明的遮蔽体装置的RTP系统，其中遮蔽体位于关闭、展开位置；

图5为透视概图，更加详细的图示了如图3、4所示的遮蔽体装置；

图6为用于驱动本发明的遮蔽体的装置的侧面概视图；

图7为本发明的遮蔽体装置的透视概图，由与工件相对的遮蔽体装置的一侧获取，描述了遮蔽体相对于加热装置的移动；

图8为如图7所示的遮蔽体装置的透视概图，由与工件相对的遮蔽体装置的一侧获取，描述了遮蔽体位于展开位置时的情况；

图9为如图3-8所示的遮蔽体装置的透视概图，由遮蔽体装置的后侧观察，远离工件，图示了遮蔽体驱动机构在其展开位置的情况，也详细描述了支撑遮蔽体装置的反射器总成；

图10为透视概图，图示了本发明的另一种实施方式，由与工件相对的遮蔽体装置的侧面观察，图中图示的遮蔽体在加热平面上移动，每个遮蔽体则在相邻的加热灯之间移动；

图11为如图10所示实施例的透视概图，也由遮蔽体装置的后侧观察，远离工件，其中所示遮蔽体位于展开位置，以至于一个遮蔽体与两个加热灯相对；

图12为如图10、11所示遮蔽体的透视概图，由遮蔽体装置的后侧观察，远离工件，图示了位于缩回或打开位置的遮蔽体驱动机构，也详细图示了支撑遮蔽体装置的反射器总成；

图13为如图12所示的遮蔽体装置的透视概图，也由遮蔽体装置的后侧观察，远离工件，图示了位于展开位置的遮蔽体驱动机构；

图14为本发明的遮蔽体装置的另一个实施例的正面概视图，详细描述了其非常有益的结构，图示了平面遮蔽体件从展开(关闭)到缩回(打开)位置范围内的进度；

图15为如图14所示遮蔽体装置的底视概图，更加详细地图示了其结构；

图16为放大正视图，概略地描述了一对控制棒到如图15、16所示实施例中遮蔽体的连接；

图17为按照本发明的遮蔽体装置的另一个实施例的透视概图，用于详细描述其非常有益的结构；

图18为部分的、更加放大的概视图，图示了图17所示遮蔽体装置驱动机构中的一部分，用于更为详细地说明其结构；

图19为另一个部分的、更加放大的概视图，图示了图17所示的遮蔽体装置驱动机构的另一部分，用于更加详细的说明其结构；

图20为部分去除的正面概视图，图示了本发明的遮蔽体装置的另一个实施例，用于详细说明其非常有益的结构，其中图示了平面、直线移动的遮蔽体件在由缩回到展开位置范围内的进度；

图21为如图20所示的遮蔽体装置的一部分的底视概图，图示了具有遮蔽体狭槽以及定位于其中的遮蔽体的反射器板；

图22a为本发明的另一个实施例的部分去除的正面概视图，用于说明非常有益的管状遮蔽体实施方式；

图22b为图22a所示的另一个遮蔽体装置的实施例的底面透视概图，其中遮蔽体处于缩回位置；

图22c为图22b所示遮蔽体装置的另一个底面透视概图，具有选定的遮蔽体位于它们展开的位置；

图23为基于图22a所示管状遮蔽体实施方式的底视概图，用于描述管状遮蔽体与加热元件的可选择的分布，所述加热元件与遮蔽体相联系，并且接近圆形平面状的热源；

图24为部分去除的正面概视图，图示了本发明的遮蔽体的另一个实施例，用于描述同心的管状遮蔽体配置和协同操作的圆形灯阵列；

图25a为如图24所示的遮蔽体装置的底面透视概图，用于更加详细的描述其结构；

图25b为如图25a所示的实施例的底面透视概图，图中其遮蔽体处于缩回位置；

图25c为如图25b所示的遮蔽体装置的另一个底部透视概图，图中所选定的遮蔽体被示为展开位置；

图26图示了被制造为具有双段遮蔽体叶片的遮蔽体装置的截面概视图，而且描述了一个遮蔽体叶片相对于另一个的展开过程。

具体实施方式

下文中的说明是介绍给本领域的普通技术人员使其能够制造和使用本发明，也提供于专利申请的上下文及其需求中。对于本领域的技术人员来说能够容易的对所描述的实施例进行不同的变化，而其普遍原则可以应用于另外的实施例中。因此，本发明并不限于这些给出实施例，而是按照与文中所描述的原则和特例一致的最宽范围。

前文已经描述了图1和图2，下文中就直接关注图3，图3为按照本发明制造的RTP处理系统的正面概视图，由附图标记100指示。应当注意，在所有不同的附图中相似的附图标记用于表示相似的组件，并且出于令读者更容易理解的目的各附图并不是按照比例绘制。而且，应当理解，一些术语，例如，“上(upper)”、“低”、“左”、“右”、“上(above)”、“下”和“侧”，都只是用于描述的目的，而不是对于操作方向及其任何相关变化的限制。而且，在一幅附图中出现多个相似组件的情况下，为了附图清楚地目的，那些相似组件中只有少数或者只有一个，可以使用附图标记指示。

还参照图3，系统100包括一个筒形的、伸长的加热灯102阵列(它们中的几个被单独地标示，如端视图所示)，例如，钨丝卤素灯，当然也可以采用其它现存的适合种类的灯，或者是将要发展出的种类。各灯102相互配合共同形成加热平面104，用一条虚线表示。应当理解，该加热平面是一个表示一个平面源的描述的结构，从该平面源热量被放射而出，并且，作为这种结构，加热平面不限于所示的特殊位置，而是可以以任何适合的方式移入或移出灯阵列。工件106，例如，半导体晶片被支撑，其具有与灯102相对的上、主表面108。在这种结构中，工件的上表面108典型地至少大致地平行于加热平面104。工件106通常在其外围被支撑，或者由最少3个支撑销(未示出)支撑。外围支撑物可以由石英(SiO₂)或者碳化硅或者一些其它具有适宜热、化学性质的材料制成。支撑销典型地由碳化硅或石英制成。典型地，工件106在所有侧面被包围或者如果工件是晶片的话被一个自由滑动的环110围绕其周长，该环已被概略地图示，并且通常具有圆形结构，使其互补地围绕具有圆周外围的工件，如半导体晶片。如本领域所知，自由滑动环110在防止工件外围圆周不利的温度影响方面非常有用，所述影响是由于工件外围的温度变化率相对于工件106的其它部分的温度变化率更加快速所造成的。工件106通常在增强工件一致性的加热处理中以合适的速率旋转。自由滑动环通常被固定的支撑，使得任何不对称的热影响通过时间平均而降低或消除。应当理解，各灯102相互配合确定一具有矩形或正方形外形的加热平面104，而工件的外围则为大致的圆形。对于这一点，加热平面的外围可以被成形为任何合适的形状，只要工件在工件旋转时能够受到适合的穿过主表面108的辐射图。如同将要看到的，本发明还可以同样地应用于，热源包括分段的元件的情况。例如，热源可以由下述方法而成，即将具有不同长度的灯管一体化从而形成一个接近圆形的平面热源。

莲蓬头装置120可以被插入灯102和工件106之间，其包括第一最接近灯102的大致平面件122、以及第二大致平面件124，其位于第一大致平面件122和工件106之间，如图3和4所示。因此，莲蓬头腔126形成在第一和第二大致平面件之间，其中生产气体或多种气体(未示出)可以通过通道128引入，所述通道被成形在一个或多个围绕在莲蓬头腔126周位的位置。较低的平面件124具有多个通孔130，其中的几个被单独地标示，通过通道128注入的工业气体经过腔126，通过通孔130射出，撞击工件的上表面108。用于本应用的合适的气体种类包括任何适合的气体，包括但并不限于下述气体：Ar、N₂、O₂、He、N₂O、NO、H₂、NH₃和H₂O。平面件122和124可以由任何对灯102发出的辐射132来说适合地透明的材料制成，这些材料包括，例如可以容易的加工的石英板，或者氧化铝又或者氧氮化铝。

继续参照图3，按照本发明制造的遮蔽体装置由附图标记200表示。遮蔽体装置200包括反射器板202，其使用夹子(未示出)支撑灯102，所述夹子设置在每个伸长灯管相对的两端。反射器总成202可以由任何适合的耐热材料制成，例如，铝、钛或者不锈钢。

转到图5，其与图3相结合，前者附图为遮蔽体装置200被部分地去除后从上向下观察遮蔽体装置顶部的透视图，从而图示了去除灯102之后的装置的侧面。多个枢轴臂(pivot arm)204，每个枢轴臂包括在枢轴位置205枢轴地与反射器板202连接的一端。每个枢轴臂204的相对的一端通过使用带状臂207被固定地连接在多个伸长的、弓形遮蔽体件206(只有其上边缘在图5中可视)之一上，所述带状臂将在下文中详细描述。应当理解，伸长的遮蔽体件的相对的端部可以按照本质上等同于所描述的端部的方式枢轴地设置，但是由于说明性的限制这些相对的端部没有示出。应当注意，本图图示了处于缩回位置的遮蔽体件，图3所提供的遮蔽体件206的端视图由于去除了反射器板202从而暴露了遮蔽体。每个伸长遮蔽体被反射器本体202所形成的一系列狭槽208之一所接收。在图5中，由于去除了反射器背板209的一角，可以清楚地看到用于罩住遮蔽体件206(仅其尾部边缘可见)的狭槽208，所述背板209被支撑在反射器板202的上表面上。反射器背板209具有多个通孔210，所述通孔与狭槽208相对齐，通过这些通孔气体受压，以提供到灯102的冷却气体，因为特定形态的加热元件，例如，锰丝-卤素灯，需要在一定的温度范围内工作。为了提供增强地冷却，反射器板可以具有一系列的冷却槽211，通过这些槽，适合的冷却流体，例如，水或者其它热交换液体，可以在其中流动。可选择地，液体冷却剂可以位于槽中，而不需要诱发的外部流动。这样，作为为了产生反射器板内有益的热量再分配/循环的诱发加热的结果，液体可以被动地流动，例如作为对流的结果。出于清楚的目的，图3中没有图示反射器背板209。而且，在它们的缩回位置，遮蔽体件206也不需要完全地接收在反射器板202中；在合适的变型中，遮蔽体可以容易地部分的位于在反射器板202的上方或下方伸展。

仍然参照图3和5，每个遮蔽体件206包括带状臂207，其具有弓形形状，并固定地连接到枢轴臂204的上端。有益地，带状臂207可以在伸长的遮蔽体件的每个相对的末端整体成形。每个带状臂可以以任何取决于，当然是，材料类型的适合的方式，连接在分别的枢轴臂上。枢轴臂204可以由适合的材料制成，例如，铝、不锈钢、电镀铍或钛。遮蔽体件206可以由适合的材料制成，包括但不限于，钛、不锈钢、电镀铍和铝。考虑以下因素，例如，期望温度、材料厚度、热处理需求包括峰值温度、灯的能源设置和处理时间，采用特殊的材料可以适应特殊的应用。

每个枢轴臂204包括向外伸展的枢轴销214，其可以以任何适合的方式被保留在每个枢轴臂上。每个枢轴销204可以以任何适合的方式被伸长的执行机构条220上的通孔所接收，使得所有的遮蔽体206通过执行机构条的移动而能够一致的动作。应当理解，这种动作能够以基本上无限制的数量的方式完成，包括使用由适合的马达驱动的传动装置或者线性执行机构。本例描述了了具有驱动轴223的马达222(图3)，所述驱动轴驱动盘224，该驱动盘通过枢轴销214’枢轴地连接在执行机构条220上。马达驱动轴223与枢轴臂枢转地的端部对齐，同时轴223和销214’之间的距离相应于每个枢轴臂的枢轴位置205和销214之间的径向距离，从而马达驱动的盘224的旋转为执行机构条220提供适合的移动。

考虑到某些优点是由于使用步进马达或AC同步马达驱动本发明的遮蔽体装置。如下文中将要详细描述的，通常需要尽可能快速地打开和关闭遮蔽体。这样，步进马达或AC同步马达能够被编程为具有选定的“高速”和“低速”的速度轮廓线。因此，例如，马达能够以提供初始遮蔽体展开的最大加速度的方式电动地驱动。在接近遮蔽体的展开位置时，能够使用马达控制器以提供减速方式，避免“砰击”或超出展开位置—无论那种情况都能潜在地导致破坏。这种在从展开位置到缩回位置移动时需要的加速或减速可以容易地提供。对缩回方向上的控制可以同样的精确。在任何实施方式中，应当了解，本发明还预期采用步进马达或AC同步马达直接驱动传动总成，所述传动总成依次驱动遮蔽体装置。

参照图5，图示了可选择的装置，用于执行机构条220的相对端(也就是在图3、4中的马达222对面)，其中枢轴杆226枢轴地接收枢轴销214中的一个。同时，枢轴杆226相对的端部被枢轴地连接在反射器板202的枢轴点228处，使得执行机构条220的移动导致枢轴杆稳定执行机构杆220。这一装置构成了即将要叙述的可选择的驱动装置的一个基础。

参照图6，概略地描述了一种用于驱动枢轴杆226的结构。如上文所述，为了旋转，枢轴杆226枢轴地接收一个合适地定位的销214。然而，在本图所示情况下，附加马达222的驱动轴223被连接，从而提供枢轴杆226相对于枢轴点228的可选的旋转，并依次地，移动执行机构条220，随后移动遮蔽体206。应当理解，所描述的驱动装置能够采用任何合适的结构或结合。

参照图3、5和6，应当理解，为了同样地驱动设置在遮蔽体机构相对一侧的遮蔽体执行机构，伸展的驱动轴(未示出)可以连接到马达223上。下面将详细描述一个使用马达并具有双端驱动轴的相似的装置。而且，如图5所示的枢轴杆226，也可以被用在遮蔽体装置的相对的一侧。如果需要，相对的枢轴杆可以以任何适合的方式，例如，使用附加的马达或驱动装置，为遮蔽体206提供更加同步化的或者协同的移动。应当了解，在本发明的范围内，任何合适数量的马达都可以应用，即使是四马达，其中每个马达用于驱动一对执行机构条220中每个的相对的两端中的一端。如下文中将要描述的，在通常感觉中，遮蔽体的协同、平滑的移动与许多的运作考虑事项相关，包括但不限于为遮蔽体的相对两端提供“均匀”、平衡、协调的驱动。

单独参照图5，为了监测过程参数的目的，可以以任何适合的方式采用仪表。例如，反射器板209支撑一个仪表设备232，该仪表设备通过开口234(只图示了其入口)穿过遮蔽体装置观察工件106。适合的仪表包括，但并不限于光学高温计、发射计和反射反射计。应当注意，仪表设备232对于确定遮蔽体206的温度也很有用，尤其是当遮蔽体受到任何时间段的灯辐射的情况下。任何适合数量的仪表都可以使用。

监测过程参数的另一个方面在于对遮蔽体叶片位置的了解。对于这一点，应当理解，分档和AC同步马达可以通过数字马达控制器被容易地驱动。因此，马达控制器能够监测旋转轴的旋转位置，所述旋转轴被命令移动以追踪处于闭环方式的遮蔽体的位置。端部开关或者“归位”开关，经常被用于确定原始位置，可以被用于指示马达控制器一个遮蔽体叶片的特殊位置，例如，遮蔽体叶片的缩回位置。作为进一步的增强或可选择的增强，可以在马达轴上连接编码器如光学编码器，以直接地指示马达轴的位置，这种方式被本领域技术人员所熟知。

已经详细地描述了本发明的遮蔽体总成200，下面将关注于其详细的操作及其伴随的优点。到其结尾，读者最初参考图3和5，每一附图都描述了按照本发明的遮蔽体装置200，其中遮蔽体206位于它们的打开或缩回位置。在遮蔽体关闭开始时，遮蔽体206在灯102的方向从反射器板202移出。

参照图7，结合图3、5和6，在遮蔽体的移动过程中，每个单独的遮蔽体向一对相邻的灯102(图7)移动接近或者位于中间，然后经过加热平面104。在图7中，遮蔽体装置200以底面透视概图的方式示出，描述了在沿着箭头252所指示方向旋转之后向中间位置移动的遮蔽体206，该中间位置位于缩回和展开位置之中。加热平面104被用虚线描述，以表示在该中间位置中每个遮蔽体与加热平面的沿着虚线260的相交位置。对于这一点，应当了解，不需要将遮蔽体206撤回“打开”位置，如图7所示，所述“打开”位置完全位于灯102或加热平面104之上。即，在它们的缩回位置，遮蔽体可以至少部分地展开在相邻的灯102之间，或者部分地展开在加热平面104前面，只要辐射132直接发生在工件106上。遮蔽体206完全缩回进入反射器板202，可以有益地避免遮蔽体在直接的灯辐射之下的延长曝光。

图4、8和9图示了处于展开位置的遮蔽体206，尤其是图8，很有帮助，其概略地图示了遮蔽体展开位置的细节，由标记206a-g表示。特别地，第一遮蔽体206a的前边缘262与第二遮蔽体206b的外表面264接近。当然，遮蔽体206g包括该系列中最后的遮蔽体，因而，没有遮蔽体超过它，与其在展开位置接触。

应当注意，图4中所示的位于遮蔽体装置右侧的端遮蔽体206a，并不阻碍光线240，所述光线由最右侧灯102发出，因而该光线不照在工件106上，而是照在自由滑动环110上。对于这一点，记住如图所示遮蔽体叶片的形状十分重要，例如图3-5所示形状。这样，在图4的端视图中可见的各带状臂207，它们并不是用来阻碍光线，只有在最低端的带状臂的伸长的遮蔽体起到这种作用。相似地，光线250由最左端的灯102射出，也不照在工件106上，而是照在自由滑动环110上。虽然如此，光线250也被如图4所示的遮蔽体装置阻碍，因为这些光线直接地照在展开的遮蔽体叶片上。

参照图3和图4，应当理解，狭槽208(只有一个有附图标记标注)，如图3中所示的最右端的狭槽，被构造为帮助每个遮蔽体沿着位于缩回和展开位置之间的通道导向的方式。至少，狭槽208被构造为与遮蔽体叶片在缩回和展开位置之间的轨迹相配合，因为每个遮蔽体叶片都具有刚性的形状。因此，狭槽被设计为在其处于缩回位置时接收遮蔽体叶片，从而使得遮蔽体叶片不削弱从灯射出的光线，并且可以穿透遮蔽体的存储空间。在本实施例中，至少接近地，灯102的数量与遮蔽体206的数量具有一一对应的关系。应当引起注意，每个遮蔽体在从缩回位置到展开位置的转变中围绕灯102之一旋转大约一半的距离。如图4所示，每个遮蔽体移动经过灯并相对其旋转，从而至少部分地位于下一个相邻灯102的下方。

参照图3-5和9，带状臂204和狭槽208被设置为相互配合，避免在缩回位置和展开位置之间移动时出现的相邻遮蔽体和带状臂的冲突。参考本文公开，出于防止遮蔽体和臂在任何遮蔽体叶片旋转的位置相互接触的目的，本领域技术人员能够容易地做出许多种适合的带状臂结构的变化。

上文详细描述了本发明的遮蔽体装置200，其具有的几个优点是值得讨论的。一个优点是实际上完全避免了在工件上形成影子，同时仍然采用分段的遮蔽体装置。这被认为是相对于现有技术的遮蔽体装置提供了压倒性的优点，现有技术中的遮蔽体装置被支撑在热源和处理源之间，如上文中所述的Pas文献。直到现在，现有技术也没有解决当采用分段遮蔽体时出现阴影的方法。

作为另一个优点，不出现阴影是与以高度均匀、快速的方式至少部分地阻挡辐射不接触工件的能力相关的。也就是说，单一的滑入遮蔽体如上文中所述Pan的文献所述，例如，估计遮蔽体将会由于一个300mm厚的晶片而需要在其缩回和展开位置之间移动至少14英寸。如果在相当水平的辐射照射到工件上时执行这一动作，就将导致高度不均匀和不平衡的热处理。这一动作具有附加的影响，导致基层的不均匀冷却。这些影响是对自然条件的附加，会导致更大的热处理不均匀。一种消除这种困难的努力就是更加快速的移动遮蔽体，然而，这却需要极度高速、不可实现的移动速率。对于这一点，应当注意，仅仅工件的旋转被认为无助于解决这种不均匀的结果，因为遮蔽体通常在小于一个旋转内展开。即使工件旋转速度可以获得实质的增加，然而Pan式遮蔽体仍然会导致辐射的不均匀。与其相反，本发明利用分段遮蔽体装置，其中每个遮蔽体移动一个相对较短的距离，将完全地消除阴影。如图3和4所示的实施例，估计每个遮蔽体件在每个遮蔽体的缩回和展开位置之间移动的弓形长度不超过4英寸(远小于晶片直径)。值得注意的是，移动被超过三个因素所减小。在其自身并通过其自身，考虑到伴随消除了阴影，这种差别被认为是相对于现有技术来说提供了压倒性的优点。

公认的，Pan式遮蔽体装置能够进行改进，至少一定限度的改进，例如，通过使用从相对两侧滑入的遮蔽体或者使用虹状遮蔽体，如照相机中所采用的。这些改进在具有更多处理需求的大工件时仍然不能胜任。

另外一点非常重要应当了解的是，任何遮蔽体装置，如Pas所教导的，其遮蔽体在所有时间都定位于加热装置和晶片之间，承受巨大的热量所引起的问题。例如，在不考虑遮蔽体相对于加热装置的方向以及选定的放射能力表面和涂层的情况下，将遮蔽体长期直接暴露于加热装置之下，将会最终导致遮蔽体的高温度。在某种情况下，这种涂层自身就会成为现有技术实施中的问题。例如，通常需要在遮蔽体的展开位置具有面对晶片的高放射能力涂层。如果这些遮蔽体随后旋转到缩回位置，高放射涂层至少部分地直接暴露于加热装置的辐射之下。因此，这种现有技术的遮蔽体装置相对于组件的热膨胀系数的选择需要极度注意，因此严重的限制了可以采用的特殊材料。人们也许考虑采用有效的冷却装置以试图解决这一问题，例如，通过形成穿过每个遮蔽体的液体接收冷却槽。然而，不幸的是，由于遮蔽体的动量和体积有了重大的增长，更加复杂的情况被引入，因此降低了动作的响应性。本发明被认为完全的解决了这些问题，因为缩回的遮蔽体可以被完全的罩在反射器总成中。

参照图5，遮蔽体叶片206的温度在叶片被缩回时被射到遮蔽体空间内的热辐射所调节，同时被从反射器板209流向狭槽208的冷却气体调节，因此去除了包含在空间208内的缩回叶片的热量。实际上，每个遮蔽体的前边缘可以被轻微地缩回反射器总成，这样其具有由直接暴露而得的阴影，或者如下文所述，所述前边缘可以被设置为用于反射辐射。在一个实施例中，遮蔽体叶片可以被预热，以在处理第一工件之前达到预定的热平衡状态。

遮蔽体装置200具有与本发明所有实施例共同分享的非常有益的能力，即，改变工件所经历的时间-温度曲线。通过调整速度以及遮蔽体叶片相对于灯被关闭(或者一些其它触发事件)时间的展开的起始时间，热轮廓峰值形状能够被改变为上升的速率最大化，导致达到最大温度的时间被最小化，并且从最高温度的冷却速率也最大化，导致形成锐利的峰值或尖锋而不是圆形的轮廓。当然，通过这种期望目标，遮蔽体操作可以被控制，例如，响应于高温计的读取，比如工件达到一个预定的温度。将热轮廓线的锐度最大化能够有益于导致越来越浅和快速形成的连接。因此，对比之前能够获得的控制，本发明的遮蔽体装置达到了对时间-温度轮廓线的更大的控制。对于这一点，需要尽可能快的将遮蔽体叶片从它们缩回的位置移动到展开位置。本发明预期的遮蔽体展开时间区域范围从大约10ms到300ms。50-150ms的遮蔽体展开时间被认为具有过程优势。

参照图10和11，本发明的另一个遮蔽体装置的实施例，利用附图标记300大致示出。遮蔽体装置300分享了前述的遮蔽体装置200的优点，并且提供了另外的优点。因此，本讨论将在极大程度上限于遮蔽体总成300与遮蔽体总成200的区别上。应当考虑到，本领域的普通技术人员通过使用本说明与前述遮蔽体装置200的说明能够容易地实现遮蔽体装置300。然而，主要的区别在于，遮蔽体装置300采用多个遮蔽体306，每个遮蔽体都至少大约为遮蔽体总成200中的遮蔽体206宽度的两倍。按照这种方式，遮蔽体306在每两盏灯102之间移动，如图10所概略图示。图11描述了处于展开位置的遮蔽体306，使得每个遮蔽体至少大致地位于两盏灯102下，以阻挡辐射132。

参照图12和13，图示了遮蔽体装置300自上而下的透视概图，其具有反射器总成302，与装置200(图5)的狭槽208相比，该反射器总成所包括的狭槽308的数量是其一半，使得每个遮蔽体306都被接收到狭槽308中。图12描述了处于缩回、打开位置的遮蔽体装置300，而图13描述了处于展开位置的遮蔽体装置300。每个遮蔽体件306包括带状臂312，与装置200的带状臂207相似，从侧面看时，其具有弓形形状，并且其被固定地连接在枢轴臂204之一的上端。此外，带状臂312可以一体地成形在每个伸长的遮蔽体件的每一端。每个带状臂可以以任何适合的方式被连接在分别的枢轴臂上。然而，与实施例200(图5，用于比较)中带状臂207的连续弓形结构相对应，如图12所示，带状臂312通过使用直角偏移部分316而成形。相对于图5之中的仪器设备232，遮蔽体装置300所提供的仪器也更有利，因为在装置300的狭槽308之间的空间大约是装置200上两狭槽208之间空间的两倍。

应当注意，遮蔽体装置，在位于展开位置时，可以以任何合适的方式相对于加热灯排列。对于这一点，应当了解，在所有的适合的实施例中，本发明的遮蔽体装置，被认为是对于任何形态的“阵列”热源或者由空间隔离元件排列组成的热源都有效，因为本发明的遮蔽体可以容易地被设置为穿过任何阵列在遮蔽体的缩回和展开位置间移动。而且，依靠缩放比例的考虑，遮蔽体可以相对于加热元件的间隔被加宽，以面对三个或更多的加热元件。

参照图14，图示了另一个本发明的遮蔽体装置，利用附图标记400大致示出，其分享了前述各实施例的优点。图14为正面的部分截面视图，图示了反射器总成402被去除，以显示伸长遮蔽体406与一系列在反射器总成402内的伸长的狭槽408的关系。用于制造遮蔽体408的合适的材料包括，但并不限于钛、不锈钢、电镀铍和铝。遮蔽体406a和406b图示为位于它们的展开位置，同时遮蔽体406c-e图示为位于中间位置。遮蔽体406f图示为位于完全的缩回位置。应当理解，为便于示出不同的可操作的遮蔽体位置，以图14的方式描述了遮蔽体406，但是为了一致的移动，遮蔽体可以容易地按照下文将要描述得方式的设定。

参照图15，结合图14，前者为遮蔽体装置400的底视图，其中所有的遮蔽体406都图示为处于它们的缩回位置，位于反射器总成狭槽408内。应当注意，每盏灯102被位于其相对两端的夹子409支撑，如上文中所述实施例。如图14所示，每个遮蔽体406为大致平面，具有在一对相对的主表面416和418之间的一定厚度。当遮蔽体位于它们的展开位置，遮蔽体406a的前边缘420与相邻的遮蔽体406b的后边缘421接近，最好不接触。在所描述的实施例中，狭槽408具有一致的宽度，该宽度比每个遮蔽体406的厚度稍宽。因此，每个遮蔽体的枢轴移动被执行，遮蔽体被完全地移出各自的狭槽408。然而，应当理解，这不是必要的；狭槽408可以包括这样一种结构(未示出)，即，该结构与遮蔽体的至少部分的旋转相适应，所述遮蔽体部分地容纳于狭槽内。在这种方法中，遮蔽体旋转的实现将在下文中描述。

参照图14-16，利用一对控制杆420来使每个遮蔽体406移动，所述控制杆设置在每个遮蔽体的相对的两端。每对控制杆包括第一控制杆422和第二控制杆424。图16为放大视图，图示了一对控制杆与一个遮蔽体的连接。第一和第二控制杆的遮蔽体的端部枢轴地连接在位置426和428上，沿着每个遮蔽体的宽度或厚度方向间隔开，接近其后边缘421。因此，一致地移动一对控制杆导致了所支撑的遮蔽体的具有一固定角度θ的平移，所述角度形成在控制杆和遮蔽体之间。控制杆422和424相互之间的移动导致所支撑的遮蔽体旋转。也就是说，角度θ响应于相对移动而改变。控制杆的协调移动导致了遮蔽体在缩回位置和展开位置之间的控制移动。对于这一点，应当理解，通过采用控制杆的不同的协调移动，遮蔽体可以以不限数量的不同的方式移动。

在图14所示的例子中，控制杆的枢转紧随着每个遮蔽体经过反射器总成402而发生。如可选择的例子(未示出)，遮蔽体可以以两个基本步骤移动。首先，控制杆可以一致的被移动到将遮蔽体从其缩回位置变为旋转位置。在旋转位置，控制杆就相对以另一个控制杆移动，以旋转遮蔽体达到其展开位置。用于协调地移动控制杆特定的机构未示出，因为考虑到本领域的普通技术人员根据整个公开就能够提出许多种适合的结构以达成这一目的。然而，应当理解，控制杆422和424必须被构造为，使得所支撑的遮蔽体406旋转的相对移动不会造成在控制杆的端部接近枢轴位置426和428处的冲突。例如，如图14的侧视图所示，遮蔽体406e的控制杆看上去并排排列，其遮蔽体从控制杆线形对应地展开。然而，遮蔽体406a和406b，在它们的展开位置，控制杆424看上去移动到控制杆422之前的位置上；使得后者几乎不可见，也许根本看不到。在一种实施方式中，控制杆424可以使用不同长度的铰接销连结，以将控制杆的端部与遮蔽体的边缘间隔不同的距离，它们是枢轴地连接在遮蔽体上，同时，遮蔽体可以由弹性材料以一种允许它们在遮蔽体从不旋转到旋转、从线性对应位置到展开位置的转变时轻微变形的方式制成。用于制造控制杆的合适材料包括但不限于不锈钢和钛。

适合的着色/涂层方案可以提供给任何本发明的遮蔽体装置，下面将采用图14中的遮蔽体装置400作为非限制举例进行描述。作为例子，遮蔽体处于它们的展开位置，遮蔽体的面对灯102的表面418可以是反射性的。在一个实施中，反射性的涂层例如，金、银、抛光或散射铝、白色油漆、或者氧化铝可以被施加到这些表面上。表面416，与工件相对(如图4)，位于其展开位置，通过高度吸收从大约1到10微米波长的电磁辐射可以具有高度发射率。例如，该表面能够被黑漆或者具有选定反射性质的白漆覆盖，以允许叶片不会在散开过程中被灯的辐射加热，但是，仍旧吸收由工件所发出的辐射。每个遮蔽体406的前边缘420可以是白色的或者反射性的，以改进遮蔽体的加热，所述前边缘在遮蔽体位于缩回位置时与灯相对。而且，反射器总成402的表面440或者任何其它已出现在描述过的实施例中的反射器总成表面，可以具有反射性涂层442，以改变射向工件的辐射444，因此改善了加热的一致性，通过反射器总成限制了热量的吸收。而且，选择反射能力(selective reflectivity)可以被用在反射器总成或者其它的表面上，以于2003年7月28日提交的名称为“selective reflectivity process chamber withcustomized wavelength response(具有定制波长响应的选择反射能力处理腔)”的美国专利序号10/629,400所教导的非常有利的方式实行，该申请由本发明的申请人所拥有，在此将其全文并入作为参考。

下面将注意力指向图17，该图描述了一系统，利用附图标记500大致示出。系统500包括本发明的遮蔽体装置的另一个实施例，由附图标记501指示。遮蔽体装置501类似于前文所述的遮蔽体装置200，但是具有改动的由反射器总成503所支撑的步进马达驱动装置502，如透视图所示。反射器总成被腔504旋转地支撑。也应当注意，另一个设置在腔504的相对一侧的遮蔽体装置501′，能够被设置为与遮蔽体装置501等同，但并不是必须如此。

参照图18，结合图17，前者提供了更加详细的步进马达的视图，所述步进马达安装在反射器总成上，并且包括双端驱动轴508。驱动轴508的一端旋转一凸轮。连接件512的一端枢轴地连接在凸轮上，同时连接件512的另一端则枢轴地连接在执行机构条220上。连接件和枢轴杆226可以以任何合适的方式被枢转地连接在执行机构条220的共用点514。因此，凸轮510的旋转移动连接件512，依次地，导致执行机构条220令遮蔽体206在其缩回和展开位置间移动。

参照图17和19，步进马达506的相对驱动输出被连接到伸展的驱动轴516(用虚线所示)上，其向位于遮蔽体装置500相对一侧的致动装置(actuation arrangement)520伸展。致动装置520，如图19所示，包括第二凸轮522，该凸轮被法兰524支撑用于旋转。第二凸轮522接收为了在此旋转的伸展的驱动轴516。第二连接件526枢轴地连接到第二凸轮522上，其相对的一端则枢轴地连接在执行机构条220相对的一端。通过使用这一结构，每个遮蔽体206的首尾相连的作用移动得到平衡。这样，每个遮蔽体在其两端受到，至少接近地受到，相同的作用力。这一结构，以及所描述的相似的结构，由于下文中即将叙述的原因被认为具有特殊的优点。

本发明的遮蔽体装置的操作的一个重要的方面就是致动速度。特别是，遮蔽体能够在缩回和展开位置之间的两个方向上被移动得多快。即使本发明的遮蔽体装置具有在移动单独的遮蔽体叶片较短的距离而没有阴影的方面高度有利，但是考虑到特殊的处理，遮蔽体叶片应当至少被足够快速的移动，以获得可接受的一致性。一种如图17-19所示的结构，在本说明中许多其它地方已被描述，相对于作用时间来说尤其有益。应当理解，因为致动速度提高了，任何只在遮蔽体的一端被驱动的实施例将告知一个遮蔽体叶片扭曲的增长量。然而，一个方法就是使叶片变得坚硬，该方法内在地增加叶片的动量，使其与速度上随之而来的增长相竞争。然而，通过驱动遮蔽体的两端，为了实践的目的。这种对于遮蔽体叶片扭曲的关注就被解决了。以一种稍微不同的方式观察，与单端驱动相比较，重量上相当轻的遮蔽体叶片可以被用于双端驱动结构，随之而来的是作用时间的降低。而且，较轻的组件可以被用于整个完全的遮蔽体致动机构，从而超越使用较轻的、硬度稍弱的叶片的益处。相关地，在任何速度下的执行的平滑性关系到可重复性。也就是说，可重复性表现为所需的打开或关闭遮蔽体装置的时间允许值。较高的可重复性直接转化为更多可再生的处理结果。因此，为了准确地处理应用，需要高度的可再生性能，所以在任何合适的实施例中通常预期使用双端遮蔽体驱动。

将注意力转移到图20，该图图示了另一个按照本发明制造的遮蔽体实施例，利用附图标记600大致示出。遮蔽体装置600与灯阵列602合作，所述灯阵列包括由灯102所成的阵列，从而限定出加热平面104。工件(未示出)可以被支撑，例如，与前文中图3和4所示的系统100所描述的相一致的方式。而且莲蓬头装置可以被夹在灯102与工件之间，例如，图3和4中所示的莲蓬头装置120。出于简洁的目的，工件和莲蓬头装置就不再重复了。

仍然参照图20，遮蔽体装置600包括遮蔽体叶片支撑板604，其形成有多个间隔开的狭槽606，每个狭槽接收多个遮蔽体608之一的端部。遮蔽体叶片分别由608a-g所指示。遮蔽体叶片支撑板只是在两个不同的垂直位置部分地示出，为了描述不同的操作条件，然而，应当了解，所有的遮蔽体叶片能够被单一的遮蔽体叶片支撑板支撑以一致地移动。遮蔽体叶片支撑板在朝向和远离反射器板610的方向可动，如双箭头612所示，以展开和缩回遮蔽体叶片。最左侧的遮蔽体叶片608a被示为处于完全的缩回位置，从而遮蔽体608a的低端陷于反射器板610中一段适合的距离611，在本实施例中该距离大约2.5mm。特别的，叶片凹陷的量足够用于阻碍直视相应于直接位于遮蔽体608a两侧下方的灯102的灯丝。

图20中由左至右图示了遮蔽体叶片608的展开过程，其中，叶片608b-c为展开到足够将这些叶片的低端移动到大致与反射器板的表面614对齐。叶片608d-h从左至右进一步图示了递增的遮蔽体叶片的展开，叶片608i-j则示为完全展开位置，与定位在与反射板610相抵的支撑板604相连接。在本例子中，完全展开遮蔽体叶片从低端反射器板表面614开始大约展开了40mm。对于这一点，每盏灯102包括一个被表示为一个点的灯丝616。灯丝距离反射器板表面614大约12mm，并且相互间隔大约16mm。因此，遮蔽体叶片608之间间隔的量与灯与灯之间间隔的距离相等也是16mm。应当了解，所有给出的尺寸都是出于为了提供对许多种可能结构之一的描述的精神，而不作为限制，考虑到本公开，这些上述可能的结构可以被本领域的普通技术人员所利用。应当理解，遮蔽体结构可以被提供为遮蔽体并不必须位于每两盏与之相邻的灯之间，例如，遮蔽体能够被定位在其它的每两盏灯之间。

参照图21，结合图20，前者描述了一个遮蔽体608位于一个狭槽618内的平面概视图，所述狭槽由反射器板610(只部分地示出)所形成，该图是从灯102的视点观察的。每个狭槽618可以具有轴承装置620。在本例子中，轴承装置包括两对轴承件622，并且每一对都设置在遮蔽体608相对的两端上。轴承件可以由下述材料制成，例如，任何适于高温的聚合物，例如、碳氟化物相关聚合物、碳、石墨玻璃碳(graphite glassy carbon)、金刚石涂层陶瓷。可选择的，也可以使用金属和干式或湿式润滑剂导入的多孔材料。因此，在远离轴承件的位置，遮蔽体叶片608与狭槽606的外周间隔一段距离，该距离近似等于轴承件622的厚度，从而形成了围绕遮蔽体叶片的外围通道623。轴承件可以由任何适合的方式制成，例如，沿着整个反射器板610的厚度方向，在与反射器板的主、相对表面相邻的位置和/或在沿着反射器板厚度方向间隔的位置。按照这种方式，只要支撑板604不位于与反射器板610相抵的位置，冷却气体就能够穿过围绕每个遮蔽体叶片的外围通道623。这些冷却气体不仅起到冷却遮蔽体叶片的作用，而且，据此冷却附加的组件，例如，在其下方的莲蓬头或窗装置(如图3和4所示)。

为了将板在图示的双箭头612所示的方向上移动，任何适合的致动机构都能够被采用，例如，至少一个线性执行机构626，其具有执行轴628，该轴连接到遮蔽体支撑板604上以将其移动。任何适合数量的执行机构都能够被利用，以移动支撑板604或者移动分别的遮蔽体。考虑到只需要线性移动，应当理解，本领域技术人员能够在整个公开的基础上容易的提供任何适合数量的执行器机构。

适合用于制造遮蔽体叶片608的材料包括，但并不限于铝、不锈钢、钛、电镀铍、陶瓷、碳基复合材料以及适合的组合物。反射器板610可以由，例如，铝、不锈钢、钛和适合的组合物制成，而遮蔽体叶片支撑板604则可以由，例如，铝、钛以及适合的组合物制成。遮蔽体叶片608可以固定地接收于遮蔽体叶片支撑板604内，例如，通过机械的定位器、环氧树脂、压缩装置、金属连接件。所述遮蔽体叶片主表面颜色或结构应该能够吸收辐射，从而在遮蔽体伸长时吸收尽量多的灯的辐射，而它们的低端的颜色或结构应当能够反射辐射，从而在遮蔽体缩回时吸收尽量少的辐射。所述颜色和结构可以通过任何适合的方式获得，例如，通过使用涂层。应当注意，在所描述的任何实施例的特定遮蔽体装置中，不同的遮蔽体或遮蔽体的小集合可以具有不同的长度和/或由不同的材料制成。

在所采用的加热/遮蔽体装置同时位于工件上方和下方(未示出)的情况下，将一个加热/遮蔽体装置相对于其它的加热/遮蔽体装置在其主平面旋转大约90度可能是有益的，至少是出于将任何可分布在遮蔽体叶片狭槽上的光学作用最小化的目的。

使用具有最快冷却响应的灯102被认为是有益的。当然这已应用于本文所述的所有实施例中，尤其适合于遮蔽体装置600，也就是下文中即将介绍的实施例，因为在遮蔽体完全伸长时，至少工件的一些受限制的暴露直接处于辐射下，如下文将要进一步叙述的。

上面详细介绍了遮蔽体结构600的结构。最初，遮蔽体装置600的设计被按照下述方式执行，即计划将与遮蔽体叶片变形相关的问题最小化的方式。例如，由遮蔽体叶片制造过程所造成的变形，或者由热应力所造成的变形，所述热应力起因于遮蔽体叶片在暴露在灯以及其它热转移表面的能量之下时所吸收的能量，又或者由于在叶片的展开过程中遮蔽体叶片的加速所造成的变形。热转移表面包括任何表面，例如，腔表面，该表面受到辐射吸收和处理腔内的再辐射。应当理解，遮蔽体叶片608部分地阻挡了辐射620直接到达工件，该工件位于遮蔽体装置下方，如图20所示。然而，基于所描述的几何图形，这些遮蔽体在其展开位置阻挡了相当数量的灯的辐射。如图所示，相对于灯102j，只有由灯102j发射的处于α角度内的辐射潜在地直接发生下方的工件上，同时另一个较小的辐射发射角度范围内的辐射，由β表示，则潜在地从反射板表面614反射到工件上。如果遮蔽体叶片被设想为具有最好的吸收以及预期的尺寸，那么会有大约87％(315°/360°)的直接灯辐射被遮蔽体装置所接收。当然，该图可以容易地调整到合适的尺寸改变。考虑到遮蔽体装置的简化，这一特性被认为是非常显著的优点，尤其是相对于需要遮蔽体只有线性移动的情况。在这一移动中，任何对于相邻遮蔽体间的冲突的任何关注都被消除，同时对由旋转地得到的冲突的关注也被消除。而且，遮蔽体的极度快速的移动由于遮蔽体装置600的结构而更加容易，至少由于下述原因，即移动是线性的，而且每个遮蔽体沿其长度方向与支撑板604充分配合。全部结果非常有效，并且仍然具有引人注目的简单的遮蔽体装置。

遮蔽体装置600的结构可以出于不同的目的而被改变成许多种不同的方式。例如，非线性灯可以和具有不同展开长度的遮蔽体一起使用，所述展开长度基于灯阵列的结构而确定。如另一个例子，可以通过调整展开长度的固定分配或者动态的结构分配而完成对热轮廓线的调节。这样，所有的叶片能够展开相同的量和/或不同的叶片能够展开不同的量。再比如另外的例子，其中的遮蔽体叶片不需要正常地向反射器板展开。后者在增加直接辐射的阻挡程度以及调节一致性的目的十分有益。

下面参照图22a，其图示了另外一个按照本发明的遮蔽体装置及系统的实施例，利用附图标记700大致示出。遮蔽体装置700与灯阵列702相配合，所述灯阵列包括灯704组成的阵列，从而形成了加热平面104。灯704以端点结构设置。本例预期采用管状遮蔽体与具有突出结构的钨丝-卤素灯相结合。可以使用管状结构的灯构成这种形态的阵列，在管的每一端都具有电连接，并且每个管状灯都具有合适的反射器结构。例如，美国专利第5,155,336号所展示的“光管”的结构。对于这一点，应当考虑到，任何形态的具有伸长灯丝灯或者任何形态的具有辐射发生点状源的灯、围绕的封壳以及关联的反射器板可以通过将其灯丝横向于工件的主表面的设置与管状遮蔽体共同使用。遮蔽体可以在每个遮蔽体及其相关联的反射器板或者围绕的一个或多个这种装置之间展开。工件(未示出)可以被支撑，例如，以前文中图3和4所示的系统100所述相一致的方式。而且，莲蓬头和窗装置可以被夹在灯704和工件之间，例如，图3和4所示的莲蓬头装置120。为了简洁的目的，对工件和莲蓬头的描述就不再重复了。

继续参照图22a，遮蔽体装置700包括遮蔽体叶片支撑板705，其形成有多个间隔开的遮蔽体接收狭槽706，每个狭槽被设置为接收多个管状遮蔽体708之一的端部。在本例子中，每个被接收在狭槽内的遮蔽体的形状是环形，每个管状遮蔽体件708是筒形的结构，虽然这不是必要的。例如，可以使用任何适合的具有连续表面的封闭形状，例如，旋转的管状表面(例如椭圆形)，或者封闭的多边形，如三角形、菱形、六边形、正方形或者矩形结构。应当注意，为了增强读者的理解，本图图示了线性分布的管状遮蔽体和灯，但是也可以采用其它任何适合的灯和管状遮蔽体的分配方式，如下文将要详细描述的。

遮蔽体叶片支撑板705只被部分地图示在两个不同的垂直偏移位置，由705a和705b指示，然而，为了说明不同的操作条件，应当了解，为了一致性的移动，所有的管状遮蔽体叶片能够被单独的遮蔽体支撑板支撑。遮蔽体叶片支撑板在朝向或者远离反射器板的方向上可动，如双箭头712所示，以展开或缩回遮蔽体叶片。至少可以使用一个执行器，例如，具有连接到支撑板705的执行器轴628的线性执行器626。此外，为了完成希望的移动，也可以使用任何结构的执行器。遮蔽体叶片支撑板的最左侧的部分705a图示为处于完全的缩回位置，使得遮蔽体708的低端凹陷在反射器板710中一段合适的距离，在本例子中，该距离大约2.5mm。反射器板710可以，例如，被涂覆任何适合的高度放射性材料，例如，金、铝、硫酸钡、氧化钛、氧化铝其它不同的氧化物，以及它们的组合。

连续的环型狭槽714围绕每个灯而成形，从而允许一个管状遮蔽体708从其中移动通过。每个狭槽714具有一个宽度，其允许冷却气体，例如，空气按照图中所示的向下的方向经过狭槽。这些冷却气体通过一组由支撑板705所具有的开口715，并随后进入狭槽714。在管状遮蔽体和反射器板710冷却之后，这些气体就会冲击到位于下方的窗/莲蓬头装置上(如图3和4所示)。具有反射性内表面的灯接收套716被成形，用于接收每个灯704。反射性的表面可以通过下述方法形成，例如通过涂层(使用前段中所列出的材料)或者通过使用成型材料，但是，应该记得不需要使用反射器。

管状遮蔽体叶片的展开过程如图22a由左至右所示，其中叶片708a-b缩回。叶片708c-f从左至右递增的图示了遮蔽体叶片的进一步展开，叶片708g-h则图示为处于完全的展开位置，与由附图标记705b指示的支撑板一起，以能够提供连续冷却气体的方式被定位于最接近的抵在反射器板710上。如果需要阻挡冷却气体的流动，反射器板710和支撑板705可以被设置为互相协同地接合以完成该目的。

参照图22b和22c，结合图22a，前者图示了图22a所示管状遮蔽体装置的另一个实施例的底面透视图，其中遮蔽体708处于缩回位置。图22c图示了选定的一些处于展开位置的遮蔽体708，当然，应当了解，所有的遮蔽体可以同时的展开。应当理解，每个遮蔽体708具有一个内部，其在从缩回位置到展开位置移动时至少部分地接收一个加热元件。当然，也可以实现为使得至少每个加热元件的一部分在遮蔽体移动过程中的某一时间在遮蔽体的内部的外面。例如，管状遮蔽体能够从其缩回位置被完全的拉出反射器板705。如另一个例子，管状遮蔽体能够被支撑件支撑，该支撑件从支撑板705向每个遮蔽体的主管状体展开，限定了遮蔽体的内部，使得加热元件在遮蔽体位于完全的展开位置时，至少部分的位于闸管内部的外部。

在本例中，完全展开的遮蔽体叶片展开到与低端反射器板表面715相距45mm。每个管状遮蔽体叶片的直径大约25mm。应当了解，所有给出的尺寸都是出于为了提供对许多种可能结构之一的描述的精神，使得本领域的普通技术人员可以利用本公开，而不作为限制。基于这种几何结构，具有小角α和β，相对于完全展开的管状遮蔽体708g所展示，遮蔽体被用于阻挡相当部分的光线，否则在遮蔽体完全缩回时上述光线就会照在工件上。应当理解，考虑到整个公开，可以容易的对本图进行调整，对遮蔽体直径和展开长度进行改变。而且，应当注意，位于展开位置的遮蔽体，与本文中所描述的所有实施例一样，也会吸收由工件和腔所发射和反射的能量。

参照图23，图示了用于遮蔽体装置700的灯和管状遮蔽体可选择的分布的平面视图。应当理解，相对于图22a所示实施的主要区别在于灯/遮蔽体的分布。在本实施中，提供了一种由灯704和遮蔽体708所组成的六边形阵列800。至少可以接受的接近，本分布可以被认为是提供了一个圆形的热源，从而完成对工件一致的加热和冷却。

用于成形管状遮蔽体叶片708的适合的材料包括但并不限于铝、不锈钢、钛、电镀铍、石墨复合/叠层材料以及合适的组合。反射器板710可以由下述材料制成，例如，使用铝、不锈钢、钛以及合适的组合。遮蔽体708可以被固定地接收于遮蔽体叶片支撑板705，例如，通过机械的定位器、环氧树脂、压缩装置、金属连接件。至少遮蔽体叶片内部主表面应该可以吸收灯或热源能量的辐射。内表面也可以被设置为吸收由工件和其它能量转移表面发出的辐射，虽然这不是必要的。每个管状遮蔽体的最低端应该能够反射辐射，至少应该反射灯或热源的辐射，以至于在遮蔽体缩回时吸收尽可能少的辐射。优选地，每个遮蔽体的外主表面是辐射吸收表面，从而吸收由工件发射和反射的辐射。如上文所述，涂层是一种提供这些性质的方式，虽然可以利用许多中可选择的实施方式，例如，由具有吸收或反射性质的松散材料制造相关的组件。

出于不同的目的，遮蔽体装置700的结构可以按照许多种方式改变。例如，能够使用基于灯阵列和/或的具有不同展开长度的遮蔽体以产生更为一致的冷却。如另一个例子，可以通过调整展开长度的固定分配或者动态的结构分配而完成对热轮廓线的调节。这样，所有的叶片能够展开相同的量和/或不同的叶片能够展开不同的量，即使是在不同的时间。

一般地，相对于本发明的遮蔽体装置，预期采用不一致的遮蔽体结构，例如，其中遮蔽体结构不以同一种方式阻挡，或者不阻挡的相同程度的穿过整个遮蔽体阵列辐射，从而允许非一致性的调节。如另一个例子，遮蔽体装置被预期为，具有超过一个执行机构，从而驱动不同集团的遮蔽体，也是为了非一致性调节。

上文中详细描述了许多种本发明的实施例，现在值得提出几点与现有技术的对比。与现有技术不同，如本文所引用的，例如，Pas发明的，本发明的遮蔽体装置在遮蔽体处于缩回(打开)位置时完全的避免了工件上出现的阴影。对于这一点，理解下述内容很重要，即，这一优点与以提供了工件高度一致的受热的方式展开(关闭)或缩回(打开)遮蔽体的能力同时提供。这样，与使用简单地滑入加热元和工件之间的位置的单片遮蔽体相比，本发明的遮蔽体装置提供了一种热处理的实施方式，通过开始和/或结束工序潜在地一致地穿越整个工件的表面。通过调整速度以及相对于灯的关闭或其它相关的触发事件的遮蔽体叶片的展开起始时间，热轮廓线可以被改变以获得比以往可获得的时间-温度轮廓线更大的控制，上述触发事件，例如，对工件温度的读取。这些优点的组合-无阴影的一致性-被认为是相对于现有技术来说具有压倒性的优势。

现在参照图24和25a，图示了另一个按照本发明制造的系统的实施例，利用附图标记1000大致示出。系统1000包括遮蔽体装置1002，其与圆形灯阵列1004(最好如图25a所示)相配合，从而确定了加热平面104，上述灯阵列是由灯704所组成的阵列。如上文所述，具有反射性内表面的灯接收套716被成形，用于接收每一个灯704。应当理解，一致平面的圆形热源被适当地接近。如上文所述，管状遮蔽体可以与其它形态的伸长灯一起使用，该灯包括在一个光管结构(未示出)中，所述光管结构被设置为与工件的主平面横截的方向或法向上。工件(未示出)可以被支撑，例如，以与前文所述图3和4所示的系统100相一致的方式。而且，莲蓬头和窗装置可以被置于灯阵列和工件之间，例如，图3和4所示莲蓬头装置120。

继续参照图24和25a，遮蔽体1002包括遮蔽体叶片支撑板1006(如图24所示)，其形成有多个间隔开的同心遮蔽体接收狭槽1008，每个狭槽被设置为接收多个管状遮蔽体1010之一的端部。这些遮蔽体为筒形结构，虽然这不是必要的，并且同心，使得遮蔽体1010a具有最小直径，并且相对整个圆形灯阵列中最内侧的灯704而设置。然而，应当理解，中心灯不是必要的。遮蔽体1010b-d具有逐步增大的直径以环绕逐步增多数量的灯704。反射器板1012具有一系列环形的遮蔽体接收狭槽1014a-d，每个狭槽具有逐渐增大的直径，而且每个狭槽都用于以下述方式接收相应的遮蔽体1010之一，即，为了展开和缩回的目的允许遮蔽体可移动的从中穿过。如上文中所述实施例的情况，任何适合的封闭形状都能够用于遮蔽体和反射器板接收狭槽(具有接近灯阵列的结构)，所述狭槽具有连续表面，如旋转的管状表面(例如，椭圆形)或者封闭的多边形，如三角形、菱形、六边形、正方形或矩形结构。

遮蔽体叶片支撑板1006只被部分地图示了三个不同的偏移位置，由附图标记1016a-c指示，为了描述不同的操作条件，然而，应当了解，为了一致移动的目的，所有的管状遮蔽体叶片都能够被单一的遮蔽体支撑板所支撑，虽然这不是必要的，例如，一个遮蔽体能够被单独的移动和/或集合两个或更多的遮蔽体一起移动。在本例子中，遮蔽体叶片支撑板1006在朝向和远离反射器板1012的方向上可移动，如双箭头1020所示，以将遮蔽体1010移动穿过环型狭槽1014。可以使用一对执行器例如，具有连接到支撑板1006的执行器轴628的线性执行器626。此外，任何适合的执行器结构都可以使用以完成希望的动作。遮蔽体叶片支撑板的中心部分图示为处于完全缩回位置1016a，使得遮蔽体1010a的低端大至与反射器平面1012对齐，虽然遮蔽体的低端在这一位置可能轻微的凹陷，与上文中所描述的遮蔽体机构700相同。反射器板1012可以，例如，被涂覆任何如上文所述的适合的高度反射性材料，例如，参照遮蔽体装置700。

每个环形遮蔽体接收狭槽1014可以具有一个宽度，该宽度允许冷却气体，例如，空气沿着图中所示向下的方向穿过狭槽。该冷却气体先进入并穿过一组由支撑板1006所具有的开口1022，随后进入狭槽1014。在冷却管状遮蔽体和反射器板1012之后，气体就冲击到下方的窗/莲蓬头装置上(如图3和4所示)。

图24图示了管状遮蔽体叶片708展开的进度，其中遮蔽体1010a完全地缩回。遮蔽体1010b图示为位于完全展开和缩回之间的中间位置。遮蔽体1010c和1010d完全地展开，使得支撑板1006与反射器板1012以阻挡冷却气体的方式接触。对冷却气体的阻挡在本实施例和其它实施例中可以用于减少组件上的物力和/或热应力，所述组件，例如，将遮蔽体与处理环境相分离的窗或莲蓬头。如果需要提供冷却气流，反射器板和支撑板之间就会提供一段距离，即使是在遮蔽体完全展开时。

参照图25b和25c，前者图示了处于缩回位置的遮蔽体1010的底面透视图。图25c则图示了遮蔽体中一些选定的处于展开位置的遮蔽体，虽然，应到了解，所有的遮蔽体可以同时地展开。

参照图24和25a-c，应当理解，每个遮蔽体1010具有一个内部，其在从缩回位置到展开位置的移动过程中至少部分地接收至少一个加热元件，与上文中所描述的管状遮蔽体装置700相同。可选择的结构也可以被使用，如同上文中关于管状遮蔽体装置700的描述。在本例子中，灯704被设置在与管状遮蔽体结构同心的圆中，使得管状遮蔽体在每两圈灯的同心圆之间展开。因此，遮蔽体的直径每个一段距离就逐渐变大，所述距离取决于一圈灯的集合的增加。应当注意，管状遮蔽体不需要位于每两个由灯704组成的连续的同心环之间，例如，基于目标性能决定。

在本例子中，完全展开的遮蔽体叶片从反射器板低表面展开了大约45mm的距离。每个管状遮蔽体叶片的直径大约25mm。应当了解，所有给出的尺寸都是出于为了提供对许多种可能结构之一的描述的精神，使得本领域的普通技术人员可以利用本公开，而不作为限制。基于这种几何结构，一些有益数量的直接辐射被遮蔽体装置阻挡。当然，通过在几何形状上进行适合的改变，本图能够被调节升高或降低，例如，改变遮蔽体到遮蔽体之间的间隔距离以及展开长度。而且，应当注意，位于展开位置的遮蔽体，与本文所描述的所有实施例一样，也会吸收由工件和腔所发射和反射的能量。

用于制造管状遮蔽体叶片1010的适合的材料包括上文中所述的那些材料，例如，参考遮蔽体装置700的管状遮蔽体。同样地，上述材料的使用同样可应用于遮蔽体装置100的其它组件中。遮蔽体叶片1010能够被固定地接收在遮蔽体叶片支撑板1006中，例如，通过机械的定位器、环氧树脂、压缩装置、金属连接件。每个遮蔽体叶片的两个主表面被设置为可以吸收灯或热源能量的辐射，以及由工件或其它热转移表面发出的辐射。管状遮蔽体的最低端表面应当能够反射辐射，至少是反射灯或热源的辐射，从而在遮蔽体缩回是尽可能少的吸收辐射。如上文所述，为了获得需要的反应，涂层以及任何其它适合的可选择方案都能被采用。

与遮蔽体装置700的情况相同，遮蔽体装置1000的结构可以以许多种不同的方式被改变，这些方式是出于对不同目的的考虑，例如，结合遮蔽体装置700的讨论。

关于如图23和25所示的灯阵列，应当了解，无论有多少反射器，都没有将反射板设置为接近每个灯的需要。例如，灯的轴对称阵列能够从平面反射器开始展开。如另一个例子，环状灯结构可以被“槽形”反射器向后推。管状遮蔽体，如用于主题附图中的，可以与这些设计同样地应用。应当提及，可以提供一个网状结构，例如，蜂窝状结构，为了一致地移动，其中所有管状遮蔽体都相互地连接，或者整体的成形。尽管如此，这种网状结构也被认为是分段的辐射护罩，只要其可动地穿过加热元件阵列。

参照图25a，应当理解，任何管状遮蔽体都能被分割成两个或更多的段，这些段合作形成了整个结构和内部。作为一个例子，遮蔽体1010d能够在线1016a和1016b被分割，从而将遮蔽体分成两半。

参照图26，图示了另外一个按照本发明制造的遮蔽体装置的实施例，利用附图标记1100大致示出。应当注意，本实施例与图3-19所描述的实施例最为接近，在上述实施例中伸长的灯被排列为，使它们的伸长轴至少大概地与工件的主表面对齐，而遮蔽体则至少在每两个相邻的灯之间移动。由于上文中已经提供了关于本装置的细节，因此出于简洁的目的就不再重复了。然而，引起注意的是，遮蔽体装置1100包括了分段的遮蔽体叶片结构1102，其由反射器板1103支撑并罩住。在本例子中，每个遮蔽体叶片1102具有两段结构。该图中由左至右图示了遮蔽体1102的展开进度。遮蔽体1102a完全的缩回在反射器板1106中。遮蔽体1102b正从反射器板中移出。遮蔽体1102c已经从反射器板中冒出，同时其第一段1108和第二段1110相互保持固定的关系。图示的遮蔽体1102d为，在进一步的展开过程中，段1110正从段1108中移出。遮蔽体1102e描述了遮蔽体段1110相对于段1108已经完全展开。应当理解，在遮蔽体段之间的相对移动可能在展开/缩回过程中的任何时间发生，所描述的实施例并不想对其作出限制。

总而言之，本文公开了下述内容：作为通过对工件施加受控的热量处理工件的系统的一部分，加热装置包括间隔开的加热元件阵列，用于与工件处于相对关系，使工件受到其所产生的直接辐射。辐射罩包括多个元件，其被支撑以在以下位置之间移动，(i)缩回位置，在该位置所述直接辐射被允许到达工件上，和(ii)展开位置，在该位置多个元件以至少部分地阻挡直接辐射到达工件上并吸收由工件发射和反射的辐射的方式相配合，因而能过获得与先前相比对时间-温度轮廓线更大的控制。至少特定的工件在相邻的加热元件中移动，也就是将这些确定的工件在缩回和展开位置间移动。管状的、弯曲的以及平板状的结构都能被采用。

虽然，每个前述的物理实施例描述了具有特殊的各自倾向的不同的组件，但是，应当了解，本发明可以具有多种特定的结构，在这些结构中不同的组件被置于更多样的位置和相互方向上。而且，本文所描述的方法可以以无限种方式修改，例如，重新排序、修改和将各不同步骤重组。因此，应当清楚，本文中所公开的装置和与之相联系的方法可以以多种不同的结构提供，并且能够以无数种不同方式进行修改，本发明可以表现为许多种其它的特定形态而不偏离本发明的精神和范围。因此，这些例子和方法被认为是说明性而不是限制性的，本发明并不限于本文所给出的细节，而可以在权利要求所限定的范围内进行修改。

Claims (89)

1.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种设备包括：

加热装置，该加热装置具有一加热平面，用于与所述工件保持相对关系，以使所述工件承受由所述加热装置产生的直接辐射；

分段的辐射罩，其包括多个段，所述多个段被支撑以在下述位置之间至少部分地通过所述加热平面移动，(i)缩回位置，在该位置允许所述直接辐射到达所述工件上，和(ii)展开位置，在该位置所述多个段以至少部分地阻挡所述直接辐射到达工件上的方式相配合；

用于将所述多个段在所述缩回位置和所述展开位置间移动的部件。

2.如权利要求1所述的设备，其中，所述加热装置包括加热元件阵列，并且至少某些所述段以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动的方式移动于所述加热元件中的相邻的加热元件之间。

3.如权利要求2所述的设备，其中，每个所述加热元件具有一加热轴，使得所有加热元件的加热轴处于并排关系，并且每个所述段都是形成遮蔽体长度尺寸的伸长的遮蔽体件，使得所述伸长的遮蔽体件的长度尺寸至少相互对准。

4.如权利要求3所述的设备，其中，所述加热元件的加热轴和所述伸长遮蔽体的遮蔽体长度尺寸被间隔成至少大致并排对齐的关系。

5.如权利要求3所述的设备，其中，所述工件包括要暴露给所述加热装置的主表面，并且所述遮蔽体长度尺寸以并排间隔开的关系与工件的主表面至少大致对准。

6.如权利要求3所述的设备，其中，所述工件包括要暴露给加热装置的主表面，并且所述遮蔽体长度尺寸至少大致垂直于所述工件的主表面。

7.如权利要求3所述的设备，其中，所述伸长的遮蔽体件被设置为使得至少一个伸长的遮蔽体件以在该遮蔽体件的缩回位置和展开位置之间移动的方式移动并至少部分地穿过在相邻的加热元件间的加热平面。

8.如权利要求3所述的设备，其中，包括支撑装置，该支撑装置支撑所述加热元件，并且具有面对所述加热装置的表面，所述支撑装置还具有多个伸长的遮蔽体狭槽，每个所述遮蔽体狭槽都包括形成于所述表面的遮蔽体开口，使得每个所述遮蔽体狭槽被设置为在所述缩回位置至少部分地接收所述伸长的遮蔽体件之一。

9.如权利要求8所述的设备，其中，所述支撑装置具有垂直于所述表面的厚度，并且具有穿过所述厚度的多个通孔，每个通孔包括成形于该表面上的一开口，用于对至少所述加热元件进行冷却的气体。

10.如权利要求8所述的设备，其中，所述支撑装置具有垂直于所述表面的厚度，并且在所述厚度内具有至少一个冷却槽，用于在该冷却槽内容纳冷却流体。

11.如权利要求8所述的设备，其中，每个所述伸长的遮蔽体件包括一对相对的端部，在所述端部之间具有伸长长度，每个相对应的端部被铰链装置支撑，该铰链装置包括能与所述支撑装置铰链地连接的铰链臂，使得每个伸长的遮蔽体件在其缩回位置和展开位置间可旋转地移动。

12.如权利要求5所述的设备，其中，在所述展开位置，每个遮蔽体件可以至少是部分地定位于所述加热平面和所述工件之间，以与其它遮蔽体件相互配合而阻挡所述直接辐射。

13.如权利要求3所述的设备，其中，每个伸长的遮蔽体件在垂直于每个伸长的遮蔽体件的长度尺寸的横截平面内是弓形。

14.如权利要求13所述的设备，其中，每个伸长的遮蔽体件包括前边缘和后边缘，在所述展开位置一特定的伸长的遮蔽体件的前边缘沿着一条接近线与相邻的伸长的遮蔽体件相接近，所述接近线位于其前边缘与相邻伸长的遮蔽体件的后边缘之间。

15.如权利要求14所述的设备，其中，所述接近线与相邻遮蔽体的后边缘相邻。

16.如权利要求3所述的设备，其中，每个伸长的遮蔽体件包括前边缘和后边缘，使得至少在遮蔽体位于所述缩回位置时所述前边缘与所述加热装置相对，并且至少一个遮蔽体的所述前边缘包括反射性颜色。

17.如权利要求3所述的设备，其中，每个伸长的遮蔽体件包括在所述展开位置与所述加热元件相对的内表面，并且至少一个遮蔽体的所述内表面支撑了反射型材料。

18.如权利要求3所述的设备，其中，每个伸长的遮蔽体件包括在所述展开位置与所述工件相对的外表面，并且至少一个遮蔽体的所述外表面包括辐射吸收颜色。

19.如权利要求3所述的设备，其中，所述伸长的遮蔽体件以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动的方式至少部分地围绕各自的伸长加热元件而旋转。

20.如权利要求3所述的设备，其中，所述伸长的遮蔽体件中连续的遮蔽体件在交替的相邻的加热元件之间移动。

21.如权利要求3所述的设备，其中，每个所述伸长的遮蔽体件被成形为大致的矩形平面板，所述矩形平面板具有一对相对的主表面并且具有一对相对的端部，所述主表面之间有一定厚度，所述端部之间具有所述遮蔽体长度尺寸，并且所述移动部件包括一对控制臂，所述一对控制臂定位于每个伸长的遮蔽体件相对的两端，并且每个所述控制臂包括枢轴地连接在所述伸长的遮蔽体件之一上的控制臂端，使得每对控制臂所控制的移动导致一个枢轴地连接的伸长的遮蔽体件以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动的方式相对这对控制臂枢转(它们不与控制臂一起旋转？)。

22.如权利要求1所述的设备，其中，所述移动部件被设置为用于将所有的所述段在所述缩回位置和所述展开位置之间一致地移动。

23.如权利要求1所述的设备，其中，所述加热装置包括处于并排关系的加热元件阵列，并且在从所述缩回位置向所述展开位置移动时，每个所述段从缩回位置开始沿展开方向移动并穿过所述加热元件阵列。

24.如权利要求23所述的设备，其中，所述展开方向至少大致由缩回位置朝向所述工件，并且每个所述段是被设置为从所述缩回位置向所述工件展开的遮蔽体件。

25.如权利要求24所述的设备，其中，每个所述遮蔽体件被成形为限定了主平面的至少大致平的板，并且所述展开方向至少大致地与主平面对齐，并朝向工件。

26.如权利要求24所述的设备，其中，每个遮蔽体件被成形为限定了遮蔽体内部的管状结构，使得在每个遮蔽体件从所述缩回位置向所述展开位置移动时，至少一个所述加热元件至少部分地被接收于每个遮蔽体件的所述遮蔽体内部中。

27.如权利要求26所述的设备，其中，至少一个所述遮蔽体件被接收到另一个所述遮蔽体件的遮蔽体内部中。

28.如权利要求26所述的设备，其中，所述管状结构为筒形。

29.如权利要求23所述的设备，其中，所述加热元件被排列为一系列同心环，所述遮蔽体也被同心地排列，使得从所述阵列的中心点开始每个连续的管状遮蔽体，从所述中心点向外，围绕更多数量的所述环移动。

30.如权利要求1所述的设备，其中，所述移动部件包括提供对所述段在缩回位置和展开位置之间移动的加速度和减速度进行控制的部件。

31.如权利要求3所述的设备，其中，每个遮蔽体件具有一遮蔽体平面，并且所述移动部件分别地采用朝向和远离所述加热装置方向的线性运动将每个遮蔽体展开和缩回，使得每个遮蔽体在其遮蔽体平面内移动。

32.如权利要求31所述的设备，其中，每个遮蔽体具有一对相对的主表面，并且至少一个遮蔽体在所述相对的主表面上包括辐射吸收颜色。

33.如权利要求31所述的设备，其中，每个遮蔽体件包括一对伸长的第一和第二相对主边缘，所述第一伸长主边缘被所述支撑板所接收，并且所述移动部件通过在朝向和远离所述加热装置的方向上线性地移动所述支撑板而将所述遮蔽体件一致地移动。

34.如权利要求33所述的设备，其中，当所述遮蔽体在所述缩回位置和所述展开位置之间移动时，至少一个遮蔽体的所述第二相对主边缘移动并穿过所述加热平面。

35.如权利要求34所述的设备，其中，至少一个遮蔽体的所述第二相对主边缘包括辐射反射性颜色。

36.如权利要求31所述的设备，其中，所述遮蔽体装置包括在所述加热装置的一侧上并与其面对的反射器板，该反射器板与所述工件相对，并且在所述反射器板上具有多个伸长遮蔽体狭槽，使得每个遮蔽体在展开和缩回的过程中在一个遮蔽体狭槽中移动。

37.如权利要求36所述的设备，其中，每个遮蔽体具有全面的外表面区域，至少一个选定的狭槽形成一内部的周边，其中所述反射器板在所述的选定狭槽内具有多个轴承件，用于与所述全面的外表面的一部分相接触，使得与所述轴承件远离的所述遮蔽体的全面的外表面，与所述狭槽的内部的周边间隔开，在所述狭槽的内部的周边中所述遮蔽体的全面的外表面由近似为所述轴承件厚度的间隔所接收。

38.如权利要求37所述的设备，其中，所述遮蔽体与所述狭槽间隔开，从而形成了多个冷却槽，冷却气体能够流过该冷却槽从而提供至少对所述选定遮蔽体的冷却。

39.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种方法，包括下述步骤：

提供一加热装置，该装置具有一加热平面，该平面用于与所述工件保持相对关系，使所述工件承受由加热装置产生的直接辐射；

配置一分段的辐射罩，使其包括多个段，所述多个段被支撑为在以下位置之间移动，(i)缩回位置，在该位置允许所述直接辐射到达所述工件上，和(ii)展开位置，在该位置多个工件以至少部分地阻挡所述直接辐射到达所述工件上的方式相配合。

40.如权利要求39所述的方法，其中，提供的所述加热装置包括一加热元件阵列，使得某些所述段以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动的方式移动于所述加热元件中的相邻的加热元件之间。

41.如权利要求40所述的方法，其中，每个所述加热元件在长度方向伸长，具有一加热轴，使得所述加热元件的加热轴处于并排关系，并且每个所述段是作为形成遮蔽体长度尺寸的伸长的遮蔽体件而提供的，还包括将所述伸长的遮蔽体件的长度尺寸至少相互对准。

42.如权利要求41所述的方法，其中，将所述加热元件的加热轴和所述伸长遮蔽体的遮蔽体长度尺寸排列成间隔开的至少大致并排对齐的关系。

43.如权利要求42所述的方法，其中，所述工件包括要暴露给所述加热装置的主表面，还包括将所述遮蔽体长度尺寸与工件的主表面排列成间隔开的至少大致并排对齐的关系。

44.如权利要求42所述的方法，其中，所述工件包括要暴露给所述加热装置的主表面，还包括将所述加热元件的加热轴与所述遮蔽体长度尺寸排列成至少大致垂直于所述工件的主表面。

45.如权利要求41所述的方法，其中，所述伸长的遮蔽体件被设置为使得每个伸长的遮蔽体件以在所述遮蔽体件的缩回位置和展开位置之间移动的方式移动并至少部分地穿过在相邻的加热元件间的加热平面。

46.如权利要求41所述的方法，其中，包括形成支撑装置的步骤，所述支撑装置用于支撑所述加热元件并具有一个面对所述加热元件的表面，所述支撑装置还被成形为具有多个伸长的遮蔽体狭槽，每个所述遮蔽体狭槽都具有形成于所述表面的遮蔽体开口，使得每个所述遮蔽体狭槽都被设置为用于在所述缩回位置至少部分地接收所述伸长的遮蔽体件之一。

47.如权利要求46所述的方法，其中，所述支撑装置被成形为具有垂直于所述表面的厚度，并且具有穿过所述厚度的多个通孔，每个通孔包括成形于该表面上的一开口，用于对所述加热元件进行冷却的气体。

48.如权利要求46所述的方法，其中，所述支撑装置被成形为具有垂直于所述表面的厚度，并且在所述厚度内具有至少一个冷却槽，用于在该冷却槽内容纳冷却流体。

49.如权利要求46所述的方法，其中，所述伸长的遮蔽体件被设置为包括一对相对的端部，在所述端部之间具有伸长长度，还包括使用铰链装置将每个所述相对端部支撑的步骤，该铰链装置包括能与所述支撑装置铰链地连接的铰链臂，使得每个所述伸长的遮蔽体件在其缩回位置和展开位置间旋转地移动。

50.如权利要求31所述的方法，其中，在所述展开位置，每个伸长的遮蔽体件可以至少是部分地定位于所述加热平面和所述工件之间，使其与其它遮蔽体件相互配合而阻挡所述直接辐射。

51.如权利要求41所述的方法，其中，每个伸长的遮蔽体件被设置为在垂直于每个伸长的遮蔽体件的长度尺寸的横截平面内是弓形。

52.如权利要求51所述的方法，其中，每个伸长的遮蔽体件还被设置为具有前边缘和后边缘，在所述展开位置一特定的伸长的遮蔽体件的前边缘沿着一条接近线与相邻的伸长的遮蔽体件相接近，所述接近线位于所述相邻伸长的遮蔽体件的前边缘与后边缘之间。

53.如权利要求52所述的方法，其中，所述接近线与所述相邻遮蔽体的后边缘相邻。

54.如权利要求41所述的方法，其中，每个伸长的遮蔽体件被设置为包括前边缘和后边缘，使得至少在遮蔽体位于所述缩回位置时所述前边缘与所述加热装置相对，还包括将所述前边缘成形为包括反射性颜色的步骤。

55.如权利要求41所述的方法，其中，每个伸长的遮蔽体件被成形为包括内表面，在所述展开位置该内表面与所述加热元件相对，还包括在所述内表面支撑反射型材料的步骤。

56.如权利要求41所述的方法，其中，每个伸长的遮蔽体件包括外表面，在所述展开位置该外表面与工件相对，并且至少一个遮蔽体的所述外表面包括辐射吸收颜色。

57.如权利要求41所述的方法，其中，所述伸长的遮蔽体件被支撑为，以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动的方式至少部分地围绕各自的伸长加热元件旋转。

58.如权利要求41所述的方法，包括将所述伸长的遮蔽体件中连续的遮蔽体件设置为在交替的相邻的加热元件之间移动。

59.如权利要求41所述的方法，其中，包括将每个所述伸长的遮蔽体件成形为大致的矩形平面板的步骤，所述矩形平面板具有一对相对的主表面并且具有一对相对的端部，所述主表面之间有一定厚度，所述端部之间具有所述遮蔽体长度尺寸，还包括设置移动部件的步骤，所述移动部件包括一对控制臂，一对控制臂定位于每个伸长的遮蔽体件相对的两端，并且每个控制臂包括枢轴地连接在所述伸长的遮蔽体件之一上的控制臂端，使得每对控制臂所控制的移动导致一个枢轴地连接的伸长的遮蔽体件以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动的方式相对这对控制臂枢转。

60.如权利要求39所述的方法，其中，所述移动部件被设置为用于将所有的所述段在所述缩回位置和所述展开位置之间一致地移动。

61.如权利要求39所述的方法，其中，所提供的所述加热装置包括以并排关系排列的一加热元件阵列，并且在从所述缩回位置向所述展开位置移动时，其中每个所述段从所述缩回位置开始沿展开方向移动并穿过所述加热元件阵列。

62.如权利要求61所述的方法，其中，所述展开方向至少大致由所述缩回位置朝向所述工件，并且将每个所述段配置成从所述缩回位置向所述工件展开的遮蔽体件。

63.如权利要求62所述的方法，其中，每个所述遮蔽体件被成形为限定了主平面的至少大致平的板，并且所述展开方向至少大致地与所述主平面对齐，并朝向所述工件。

64.如权利要求62所述的方法，包括将每个遮蔽体件被成形为限定了遮蔽体内部的管状结构，使得在每个遮蔽体件从所述缩回位置向所述展开位置移动时，一个所述加热元件至少部分地被接收于每个遮蔽体件的所述遮蔽体内部中。

65.如权利要求64所述的方法，其中，至少一个所述遮蔽体件被接收到另一个所述遮蔽体件的遮蔽体内部中。

66.如权利要求64所述的方法，其中，所述管状结构为筒形。

67.如权利要求39所述的方法，其中，所述移动部件被设置为包括提供对所述段在缩回位置和展开位置之间的移动的加速度和减速度进行控制的部件。

68.如权利要求62所述的方法，包括将所述加热元件排列为一系列同心环，所述遮蔽体也被同心地排列，使得从所述阵列的中心点开始每个连续的管状遮蔽体，从所述中心点向外，围绕更多数量的所述环移动。

69.如权利要求41所述的方法，其中，每个遮蔽体件具有一遮蔽体平面，并且所述移动部件被设置为分别地采用朝向和远离所述加热装置方向的线性运动将每个遮蔽体展开和缩回，使得每个遮蔽体在其遮蔽体平面内移动。

70.如权利要求69所述的方法，其中，每个遮蔽体具有一对相对的主表面，还包括在至少一个遮蔽体的所述相对的主表面上提供辐射吸收颜色。

71.如权利要求41所述的方法，其中，包括将反射器板排列在所述加热装置的一侧上并与其面对，该反射器板与所述工件相对，并且在所述反射器板上具有多个伸长遮蔽体狭槽，使得每个遮蔽体在展开和缩回的过程中在一个遮蔽体狭槽中移动。

72.如权利要求71所述的方法，其中，每个遮蔽体具有全面的外表面区域，并且所述方法包括形成至少一个选定的狭槽以形成一内部的周边，并且将所述反射器板形成为具有多个轴承件，用于与所述全面的外表面的一部分相接触，使得与所述轴承件远离的所述遮蔽体的全面的外表面，与所述狭槽的内部的周边间隔开，在所述狭槽的内部的周边中所述遮蔽体的全面的外表面由近似为所述轴承件厚度的间隔所接收。

73.如权利要求72所述的方法，其中，所述遮蔽体与所述狭槽间隔开，从而形成多个冷却槽，冷却气体能够流过该冷却槽从而提供对至少所述选定遮蔽体的冷却。

74.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种设备包括：

多个伸长的加热元件，用于使所述工件承受由所述加热元件所产生的辐射；

支撑装置，其具有至少一个用于支撑所述加热元件的表面，所述加热元件并排地处于与所述工件相对的关系；

多个伸长的遮蔽体件，至少大致与所述伸长加热元件对齐，并且在所述遮蔽体件允许所述辐射从所述加热元件发出直接撞击在工件上的缩回位置和使得所述遮蔽体件由所述缩回位置开始从所述表面向外移动，以被夹在选定的相邻加热元件之间的展开位置之间可移动，在所述展开位置，以一种防止至少部分所述辐射直接照到工所述件上的方式设置；

用于在所述缩回位置和所述展开位置之间支撑和移动所述伸长的遮蔽体件的部件。

75.如权利要求74所述的设备，其中，在所述展开位置，所述遮蔽体件还被夹在所述工件和所述加热元件之间。

76.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种方法，包括下述步骤：

提供由多个伸长的加热元件，用于使所述工件承受由所述加热元件产生的辐射；

形成一支撑装置，其具有至少一个用于支撑所述加热元件的表面，所述加热元件并排地处于与所述工件相对的关系；

支撑多个伸长的遮蔽体件，使其至少大致与所述伸长加热元件对齐，并且在所述遮蔽体件允许所述辐射从所述加热元件发出直接撞击在所述工件上的缩回位置和使得所述遮蔽体件由所述缩回位置开始从所述表面向外移动，以被夹在所述加热元件与所述工件之间的展开位置之间可移动，在所述展开位置，以一种防止至少部分所述辐射直接照到所述工件上的方式设置。

77.如权利要求76所述的方法，其中，在所述展开位置，所述遮蔽体件还被夹在所述工件和所述加热元件之间。

78.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一设备包括：

加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件承受由所述加热装置发出的直接辐射；

辐射罩，被支撑，以在以下位置之间枢转地移动，(i)缩回位置，至少部分地位于与所述工件相对的所述加热装置的一侧上以允许所述直接辐射到达工件上，和(ii)展开位置，在所述加热装置和所述工件之间，在所述展开位置，所述辐射罩被用于至少部分地阻挡所述直接辐射到达所述工件。

79.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种方法包括下述步骤：

提供一加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件承受由所述加热装置发出的直接辐射；

支撑辐射罩，以在以下位置之间在所述加热装置和所述工件之间选择性地枢转移动，(i)缩回位置，至少部分地位于与所述工件相对的所述加热装置的一侧上以允许所述直接辐射到达所述工件上，和(ii)展开位置，在所述展开位置，所述辐射罩被用于至少部分地阻挡所述直接辐射到达所述工件。

80.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一设备包括：

加热装置，其包括间隔开的一加热元件阵列，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件承受由所述加热装置产生的直接辐射；

分段的辐射罩，包括多个段，所述多个段被支撑为在以下位置之间移动，(i)缩回位置，该位置允许所述直接辐射照射所述工件，和(ii)展开位置，在该位置所述多个段以至少部分地阻挡所述直接辐射到达工件上的方式相配合；并被设置为在位于相邻的加热元件之间以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动这些特定段的方式移动至少某些所述辐射罩中的段。

81.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种方法包括以下步骤：

提供一加热装置，该加热装置包括间隔开的一加热元件阵列，用于与工所述件保持相对的关系，使得所述工件承受由所述加热装置产生的直接辐射；

设置分段的辐射罩，该辐射罩包括多个段，所述多个段被支撑为在以下位置之间移动，(i)缩回位置，该位置允许所述直接辐射照射所述工件，和(ii)展开位置，在该位置所述多个段以至少部分地阻挡所述直接辐射到达所述工件上的方式相配合，所述多个段并被设置为在位于相邻的加热元件之间以在所述缩回位置和所述展开位置之间移动这些特定段的方式移动至少某些所述辐射罩中的段。

82.在一个通过对工件施加受控的热量来处理具有处理宽度的工件的系统中，一种设备包括：

加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件的处理宽度承受由所述加热装置发出的直接辐射；

辐射罩，被支撑，以在以下状态之间移动，(i)打开状态，该状态允许所述直接辐射到达所述工件上而且不会在所述工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中所述辐射罩阻挡所述直接辐射到达所述工件，使得所述辐射罩在所述缩回状态和所述展开状态之间移动一段小于所述处理宽度的距离；

用于在所述打开状态和所述展开状态之间移动所述辐射罩的部件。

83.在一个通过对工件施加受控的热量来处理具有处理宽度的工件的系统中，一种方法，包括下述步骤：

提供一加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件的处理宽度承受由所述加热装置发出的直接辐射；

支撑辐射罩，以在以下状态之间移动，(i)打开状态，该状态允许所述直接辐射到达所述工件上而且不会在所述工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中所述辐射罩阻挡所述直接辐射到达所述工件，使得所述辐射罩在所述缩回状态和所述展开状态之间移动一段小于所述处理宽度的距离；

在所述打开状态和所述展开状态之间移动辐射罩。

84.在一个通过对工件施加受控的热量来处理具有处理宽度的工件的系统中，一种设备包括：

加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件的处理宽度承受由所述加热装置发出的直接辐射；

辐射罩，包括多个元件，所述元件被支撑，以以下状态在之间移动，(i)打开状态，该状态允许所述直接辐射到达所述工件上而且不会在所述工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中所述辐射罩阻挡所述直接辐射到达所述工件，使得每个所述元件在所述打开状态和所述展开状态之间移动一段小于所述处理宽度的距离；

用于在所述打开状态和所述展开状态之间移动所述辐射罩的部件。

85.如权利要求84所述的设备，其中，所述加热装置包括由加热元件所组成的装置，并且所述辐射罩包括多个段，作为上述的多个元件，这些段在所述展开状态相互配合至少部分地阻挡所述直接辐射，而且在向所述打开状态的移动中至少缩回在选定的相邻的所述加热元件之间。

86.在一个通过对工件施加受控的热量来处理具有处理宽度的工件的系统中，一种方法，包括下述步骤：

提供一加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件的处理宽度承受由所述加热装置发出的直接辐射；

设置辐射罩，使其包括多个元件，所述元件被支撑，以在以下状态之间移动，(i)打开状态，该状态允许所述直接辐射到达所述工件上而且不会在所述工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中所述辐射罩阻挡所述直接辐射到达所述工件，使得每个所述元件在所述打开状态和所述展开状态之间移动一段小于所述处理宽度的距离；

在所述打开状态和所述展开状态之间移动所述辐射罩。

87.如权利要求86所述的方法，其中，提供的所述加热装置包括由所述加热元件所组成的装置，并且所述辐射罩被设置为包括多个段，作为上述的多个元件，这些段在所述展开状态相互配合至少部分地阻挡所述直接辐射，而且在向所述打开状态的移动中至少缩回在选定的相邻的所述加热元件之间。

88.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种设备包括：

加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件承受由所述加热装置产生的直接辐射，所述加热装置包括多个间隔开的加热元件；

辐射罩包括多个罩元件，所述罩元件被支撑，以在以下状态之间移动，(i)打开状态，该状态允许所述直接辐射到达所述工件上而且不会在所述工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中所述罩元件至少部分地阻挡所述直接辐射到达所述工件，使得每个所述罩元件至少在相邻的加热元件之间移动；

用于在所述打开状态和所述展开状态之间移动所述辐射罩的部件。

89.在一个通过对工件施加受控的热量来处理工件的系统中，一种方法包括下述步骤：

提供一加热装置，用于与所述工件保持相对的关系，使得所述工件承受由所述加热装置产生的直接辐射，所述加热装置包括多个间隔开的加热元件；

设置辐射罩，使其包括多个罩元件，所述罩元件被支撑，以在以下状态之间移动，(i)打开状态，该状态允许所述直接辐射到达所述工件上而且不会在所述工件上造成阴影，和(ii)展开状态，在该状态中所述罩元件至少部分地阻挡所述直接辐射到达所述工件，使得每个所述罩元件至少在相邻的加热元件之间移动；

在所述打开状态和所述展开状态之间移动所述辐射罩。

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