CN1837931A - 液晶装置、光学拾取器和光学记录和/或再现设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种用于双折射补偿的液晶装置以及将该液晶装置用作双折射补偿装置的光学拾取器和光学记录和/或再现设备。该液晶装置包括液晶层，在液晶层中，当不对液晶施加电场时，液晶为竖直取向，当对液晶施加电场时，液晶为轴向对称地径向取向。结果，形成与光学信息存储介质上发生的双折射分布对应的相位变化分布，并且根据施加的电场的大小来调节相位变化。

Description

液晶装置、光学拾取器和光学记录和/或再现设备
                        技术领域
本发明涉及一种光学记录和/或再现设备，更具体地讲，涉及一种用于光学信息存储介质中的双折射补偿的液晶装置以及采用该液晶装置的光学拾取器和光学记录和/或再现设备。
                        背景技术
通常，光学信息存储介质例如光盘的基底采用聚碳酸酯制成，在光学信息存储介质中，利用光将信息记录到光学信息存储介质上和/或从光学信息存储介质上再现信息。这种聚碳酸酯基底具有平面双折射和垂直双折射。垂直双折射比平面双折射对再现/记录性能的影响更大。当光聚集在光学信息存储介质上并且在信息表面上形成光点时，外围光线以比中心光线更大的角聚集在光学信息存储介质中的信息表面上。随着角变大，再现/记录性能受垂直双折射的影响比受平面双折射的影响更大。
图1示出了当光聚集在光盘1上并且在光盘1上形成光点时根据入射光线的位置的垂直双折射影响的程度。参照图1，双箭头的实线表示光的偏振方向，双箭头的点划线表示对每个光束产生垂直双折射的影响的程度。垂直双折射的影响程度与在偏振光的垂直双折射的方向上投影的分量对应。
如图1中所示，由于外围光线形成的角比中心光线形成的角大，所以外围光线受垂直双折射的影响比中心光线受垂直双折射的影响更大。由于垂直双折射的影响，导致聚集的光点尺寸变大并且每单位面积的光密度减小。聚集的光点尺寸增加和光密度的改变影响信号记录/再现操作的质量。因此，需要光学补偿影响信号记录/再现的双折射，从而能够有效地执行信号记录和再现。
为了双折射补偿，已经提出了制造波片的传统技术，其中，该波片被图案化为在径向方向的不同半径处存在具有不同相位的多个相区。然而，这种波片具有固定的相位尺寸。结果，很难补偿根据光学信息存储介质而不同的双折射的量。
                        发明内容
本发明的各方面和实例性实施例有利地提供了一种用于动态补偿根据光学信息存储介质而不同的双折射的液晶装置以及使用该液晶装置的光学拾取器和光学记录和/或再现设备。
本发明的其它方面和/或优点将在下面的描述中提到，部分将与描述不同，或者可通过本发明的实践而得知。
根据本发明的一方面，提供了一种用于双折射补偿的液晶装置，该装置包括液晶层，在液晶层中，当不对液晶施加电场时，液晶为竖直取向，当对液晶施加电场时，液晶为轴向对称地径向取向，其中，形成与光盘信息存储介质上发生的双折射分布对应的相位变化分布，并且根据施加的电场的大小来调节相位变化。
液晶装置还可包括基底，该基底在其内部上具有与在光学信息存储介质上发生的双折射分布对应的轴向对称的厚度变化轮廓。基底的厚度变化轮廓可具有梯级结构，基底可由这样一种材料制成，该材料具有与液晶的正常折射率对应的折射率或者具有与液晶的正常折射率相似的指数匹配(index-matchable)的折射率。
液晶装置还可包括：电极，被图案化为根据在光学信息存储介质上发生的双折射分布对液晶层的不同部分施加不同电压；取向膜，形成用来使液晶竖直取向和轴向对称地径向取向。取向膜可用聚酰亚胺和SiO沉积之一来制成。液晶可具有负介电各项异性性质。
根据本发明的另一方面，提供了一种光学拾取器，其包括：光源；物镜，用来将从轴向对称光源发出的光聚集到光学信息存储介质上，形成光点；光检测器，用来接收从轴向对称光学信息存储介质反射的光并且检测信息信号和误差信号中的至少一个；双折射补偿装置，用来补偿轴向对称光学信息存储介质上的双折射，其中，双折射补偿装置包括具有上述特点中的至少一个的液晶装置。
光学拾取器还可包括波片，用来转换从轴向对称光源入射的光的偏振，其中，双折射补偿装置可位于波片和物镜之间。
波片还可为相对于从光源发出的光的波长的四分之一波片，从而入射到双折射补偿装置的有效光为圆偏振光。
根据本发明的又一方面，提供了一种光学记录/再现设备，其包括：光学拾取器，安装为在光学信息存储介质的径向方向上移动，用于再现光学信息存储介质上的信息和/或在光学信息存储介质上记录信息；控制单元，用来控制光学拾取器的操作，其中，光学拾取器光学拾取器的上述特点中的至少一个。
除了如上所述的实例性实施例和方面，本发明的其它方面和实施例将通过参照图和通过下面的描述获知而清楚。
                        附图说明
通过结合附图理解下面的实例性实施例和权利要求的详细描述，本发明更好的理解将变得更加清楚，所有这些成为本发明公开的一部分。尽管下面所写和所示出的公开集中在本发明公开的实例性实施例上，但是应该清楚地理解，仅通过示出和实例的方式示出了本发明，而本发明不限于此。本发明的精神和范围仅通过权利要求的术语限定。下面示出了图的简要描述，其中：
图1示出了当光聚集在光盘上并且在光盘上形成光点时根据入射光的位置的垂直双折射的影响程度；
图2是根据本发明实施例的将液晶装置作为双折射补偿装置的实例性的光学拾取器的示图；
图3A和图3B分别示出了当电场关闭和当电场打开时根据本发明实施例的液晶装置的液晶层中的液晶分子的实例性排列；
图4A和图4B分别是图3A和图3B中示出的实例性排列的平面图；
图5是轴向对称的实例性径向擦(rubbing)处理的示图；
图6是根据本发明另一个实施例的液晶装置的剖视图；
图7是图6中示出的电极的图案的平面图；
图8是使用根据本发明实施例的光学拾取器的实例性光学记录和/或再现装置的示图。
                          具体实施方式
现在，将详细描述本发明的实施例，附图中示出了本发明的实例，其中，相同的标号始终表示相同的元件。以下，通过参照附图表述了实施例以解释本发明。
图2是根据本发明实施例的将液晶装置作为双折射补偿装置的实例性的光学拾取器的示图。如图2中所示，光学拾取器包括：光源10；物镜30，布置用来将从光源10发射的光聚集到光学信息存储介质例如光盘1上，形成光点；双折射补偿装置19，布置用来补偿光盘1上的双折射；光检测器40，布置用来接收从光盘1反射的光并且检测信息信号和/或误差信号。
另外，光学拾取器还可包括波片17，波片17将从光源10发出并向双折射补偿装置19前进的有效光转换为圆偏振光。此外，光学拾取器还可包括偏振相关光路转换器，例如偏振分束器14，该转换器根据偏振改变入射光的前进路径，以满足光学记录系统中的高效需求。
标号12表示光栅，该光栅将从光源10发射的光分束，从而用三光束法或差分推挽法来检测寻轨误差信号。标号16表示准直透镜，该准直透镜将从光源10发射的发散光转换成平行光并且使该平行光指向物镜30。标号15表示像散透镜，该像散透镜产生像散，从而用像散法检测聚焦误差信号。标号18表示反光镜，该反光镜改变光的前进路径。
光源10可发射蓝色波长范围内的光，即发射405nm波长的光。物镜30可具有满足高密度光盘例如高清晰数字多功能盘(HD DVD)标准的大约为0.65的高数值孔径(NA)。
如结合图2所述，当光源10发射蓝色波长范围内的光并且物镜30的数值孔径(NA)为0.65时，根据本发明实施例的光学拾取器能在高密度光盘尤其是在HD DVD上执行记录和/或再现。
可对光源10的波长和物镜30的数值孔径(NA)进行各种改变。另外，根据本发明实施例的光学拾取器的光学结构也可进行各种改变。例如，为了使根据本发明实施例的光学拾取器在一侧上具有多个记录层的DVD上执行记录和/或再现，光源10可被设计成发射适于DVD的红色波长范围内的光，例如发射650nm波长的光，物镜30可被设计成具有适于DVD的数值孔径(NA)，例如数值孔径为0.6或者0.65。
另外，为了使根据本发明的光学拾取器兼容蓝光光盘(BD)、HD DVD和DVD，光源10可作为发射多种波长的光的光源模块，所述多种波长为例如适于高密度光盘的蓝色波长和适于DVD的红色波长。物镜30可被设计成具有适于BD标准和DVD标准的有效的数值孔径(NA)。可选地，还可设置调节有效的数值孔径(NA)的单独构件。
此外，根据本发明的实施例，光学拾取器具有图2中示出的光学结构，以在高密度光盘上执行记录和/或再现，还具有附加的光学结构，以在DVD和/或压缩盘(CD)上记录和/或再现。可选地，光源10和物镜30可被设计成使光学拾取器兼容DVD和CD，以在DVD和CD上执行记录和/或再现。
同时，偏振相关光路转换器将从光源10发射的光指向物镜30并且将从光盘1反射的光指向光检测器40。如图2所示，根据偏振来选择性地透过光或者反射光的偏振分束器14用作偏振相关光路转换器。可选地，偏振全息装置可用作偏振相关光路转换器，其中，该偏振全息装置透射从光源10发射的且在一个方向上偏振的光，并且对从光盘1反射的且在其它方向上偏振的光执行光的+1或-1级衍射。
波片17可为相对于从光源10发射的光的波长的四分之一波片。
从光源10入射到偏振分束器14的线性偏振光例如p-偏振光穿过偏振分束器14的镜面，并且被波片17转换为向光盘1前进的圆偏振光例如右圆偏振光。然后，圆偏振光被光盘1反射并且被转换为不同的圆偏振光例如左圆偏振光。不同的圆偏振光被波片17转换为不同的线性偏振光例如s-偏振光。不同的线性偏振光被偏振分束器14的镜面反射并且指向光检测器40。
双折射补偿装置19补偿光盘1上的双折射，具体地讲，补偿光盘1的厚度方向上发生的垂直双折射。双折射补偿装置19可通过根据本发明实施例的用于双折射补偿的液晶装置20或20′来实现，下面将参照图3A至图7来描述所述液晶装置。
液晶装置20或20′以这样的方式设计，即，当不施加电场时，液晶层中的液晶分子竖直取向，当施加电场时，液晶分子轴向对称地径向取向。液晶装置20或20′以这样的方式设计，即，液晶装置20或20′产生与光盘1上的双折射分布对应的相位变化分布并且能根据对液晶层施加的电场的密度来调节相位变化分布。当使用液晶装置20或20′时，能主动地补偿根据光盘1而改变的双折射。
现在转向图3A和图3B，示出了根据本发明实施例的实例性液晶装置20的剖视图。具体地，图3A示出了当电场关闭时一对基底之间的液晶层中的液晶分子的实例性排列。图3B示出了当电场打开时一对基底之间的液晶层中的液晶分子的实例性排列。图4A和图4B分别是图3A和图3B中示出的实例性排列的平面图。
参照图3A至图4B，液晶装置20使用具有在基底内侧与光盘1(图2)上发生的双折射分布对应的轴向对称的厚度变化轮廓的基底，优选地，使用具有在基底内侧与光盘1的具体格式上发生的平均双折射分布对应的轴向对称的厚度变化轮廓的基底。因为根据聚集在光盘1上并在光盘1上形成光点的光的位置的垂直双折射的影响程度轴向对称地发生，所以这种具有轴向对称的厚度变化轮廓的基底能用于双折射补偿。
如图3A和图3B中所示，基底的厚度变化轮廓可具有轴向对称的梯级结构。当基底以椭圆形或抛物线梯级结构制成时，由于光点聚集在光盘1上时发生的双折射具有R2形式(form)即与半径的二次幂成比例的形式，所以可补偿在光盘1上发生的双折射。
当使用这种基底时，可形成能补偿光盘1上的基准平均双折射分布的相位变化分布。当使用具有与基准平均双折射分布不同的双折射分布的光盘1时，通过调节对液晶装置20的液晶层施加的电压来调节相位变化分布，从而补偿双折射。
具体地，参照图3A和图3B，液晶装置20包括：第一基底21和第二基底29；第一电极22和第二电极27，分别形成在第一基底21和第二基底29内侧；液晶层25，填充在第一基底21和第二基底29之间；第一取向膜23和第二取向膜26，分别位于液晶层25和第一电极22之间以及液晶层25和第二电极27之间。
第一基底21可具有与光盘1的具体格式上的平均双折射分布对应的轴向对称的厚度变化轮廓。第二基底29可为平坦的。例如，厚度的轴向对称分布例如轴向对称梯级结构可以以与将被补偿的平均双折射分布相同的形式形成在第一基底21的内侧上。
同时，第一电极22和第一取向膜23形成在第一基底21的内侧上。第二电极27和第二取向膜26形成在第二基底29的内侧上。
第一基底21可采用具有与液晶层25中的液晶的正常折射率相同的折射率的材料制成，或者采用具有与液晶层25中的液晶的正常折射率相似的指数匹配的折射率的材料制成。
当不对液晶层25施加电场时，如图3A和图4A所示，液晶分子竖直取向。当对液晶层25施加电场时，如图3B和图4B所示，液晶分子轴向对称地径向取向。为了这种取向，形成第一取向膜23和第二取向膜26以使液晶竖直取向，并且第一取向膜23和第二取向膜26如图5所示被轴向对称地擦，其中，图5示出了轴向对称的径向擦处理的实例。
第一取向膜23和第二取向膜26可利用竖直取向的聚酰亚胺制成或者利用SiO沉积制成。所述SiO沉积是将用于取向膜的材料沉积在基底上以使该材料的分子以特定的角排列在基底上的工艺。
在第一取向膜23和第二取向膜26形成为竖直取向膜之后，在第一取向膜23和第二取向膜26上轴向对称地执行径向擦处理。结果，如图3A和图4A所示，当不对液晶层25施加电场时，液晶指向失25a竖直取向。然而，如图3B和图4B中所示，当对液晶层25施加电场时，液晶指向失25a轴向对称地与第一基底21和第二基底29平行取向。
为了得到这种液晶取向，液晶层25可采用专门用于竖直取向的负介电各向异性液晶例如负介电各向异性扭曲液晶制成。
负介电各向异性液晶在与施加的电场垂直的方向上移动。因此，当施加电场时，液晶平行于基底展开。这里，如果取向膜没有经过任何预处理，则液晶随意地展开。然而，如果已经预先迅速地作了径向擦处理，则液晶在擦的方向即径向方向上展开。因此，当对液晶层25施加电场时，能够获得适于双折射补偿的期望的相位变化分布。
对于液晶层25，可采用竖直取向模式的高各向异性液晶，例如Merck制造的MAT-03-427(Δε＝-3.9，ne＝1.6733，no＝1.5024，Δn＝0.1709)。这里，Δε表示介电各向异性性能，ne表示异常折射率，no表示正常折射率，Δn表示异常折射率和正常折射率之差。
在这种情况下，第一基底21可采用材料例如玻璃制成，其中，所述材料具有与液晶的正常折射率相同的折射率如ng＝no＝1.5并且在从大约400至418nm的波长中具有最小化的吸收率。第一基底21可通过将玻璃材料成型处理为具有与预定格式的光盘上的预计的平均折射率分布对应的厚度变化轮廓。第一基底21的材料可为玻璃，所述玻璃具有与液晶相同的正常折射率或者具有在指数匹配范围内与液晶的正常折射率相似的折射率。第二基底29可采用与第一基底21相同的材料制成。然而，与第一基底21不同，第二基底29不需要成型处理。
第一电极22和第二电极27通过用透明电极例如氧化铟锡(ITO)电极涂覆选择的玻璃材料来形成。
液晶分子的取向可通过采用通常的同类型聚酰亚胺旋涂和擦聚酰亚胺来完成。因此，第一取向膜23和第二取向膜26可通过采用作为聚酰亚胺取向剂的材料例如JSR制造的竖向取向剂JALS1H659形成或者通过SiO沉积形成。
在制造液晶装置20的过程中，第一基底21和第二基底29的每个可被成型处理，使得各个第一基底21和第二基底29的厚度变化轮廓的结合与期望的单元间隙分布对应。
根据本发明上述实施例的液晶装置20具有这样的结构，其中，由于光盘1而不同的双折射、尤其是垂直双折射通过利用基底变形而实现的厚度变化轮廓和通过调节对液晶施加的电压来补偿。这里，当不施加电场时，液晶分子竖直取向，当施加电场时，液晶分子在水平方向上径向取向。
由于基底的变形而实现的厚度变化轮廓对应于发生在光盘1的特定格式上的平均双折射分布形成。相对于具有与平均双折射分布不同的双折射分布的光盘1，调节对液晶施加的电压，使得液晶装置20中的全部相位变化分布变得与不同的双折射分布匹配。
当对第一电极22和第二电极27施加预定电压(V)以使在第一基底21和第二基底29之间相位变化分布与光盘1的特定格式的平均双折射分布对应时，对液晶层25施加的电场(E＝V/d)的大小分布变得与平均双折射分布对应。这里，由于第一基底21具有能够补偿平均双折射分布的厚度变化轮廓，所以能够得到与平均双折射分布对应的电场的大小分布，因为电场的大小与第一电极22和第二电极27之间的距离(d)成反比，因此第一电极22和第二电极27之间的距离(d)根据第一基底21的厚度变化轮廓而改变。
由于液晶分子的排列对应于电场的大小分布改变，所以能在入射光中给出与平均双折射分布对应的平均相位变化分布，从而也可补偿双折射。当光盘1具有与平均双折射分布不同的双折射分布时，调节对第一电极22和第二电极27施加的电压，以改变对液晶层25施加的电场的大小分布，从而改变液晶分子的排列。结果，与光盘1上的不同的双折射分布对应的相位变化分布被应用到入射光，并且补偿光盘1上的双折射。换而言之，液晶装置20能主动地补偿根据光盘1而改变的双折射。
同时，在液晶装置20中，第一电极22和第二电极27通过用透明电极例如ITO电极完全涂覆第一基底21和第二基底29来形成。这是因为双折射补偿主要通过第一基底21和第二基底29中的至少一个的厚度变化轮廓来实现，仅略微地通过液晶层25来实现。
在液晶装置20中，由于液晶装置20中的第一电极22和第二电极27能利用简单涂覆工艺来形成，所以不需要ITO电极图案化和金属电极沉积。因此，显著地简化了电极制造工艺从而降低了制造成本。另外，能防止由于ITO电极和附加的金属电极单独形成导致的透光率和补偿效果下降。另外，由于仅仅需要两条导线来驱动，所以大大简化了驱动方法和布线方法。因此，根据本发明上述实施例的液晶装置20能有助于制造紧凑、重量轻并且廉价的光学拾取器。
图6是根据本发明另一个实施例的液晶装置20′的剖视图。图7是图6中示出的电极的图案的平面图。这里，将不重复用上述元件的相同标号表示的元件的详细描述。
如图6和图7中所示，用作根据本发明实施例的光学拾取器中的双折射补偿装置19(图2)的液晶装置20′使用电极来代替使用与基底的变形对应的厚度变化轮廓，其中，所述电极被图案化为根据光盘1(图2)上发生的双折射分布对液晶层25的不同部分施加不同的电场。图6示出了没有对液晶层25施加电场的情况。然而，当对液晶装置20′中的液晶层25施加电场时，液晶分子如图3B和图4B所示排列。
具体地，液晶装置20′包括第一基底21′和第二基底29′以及第一电极22′和第二电极27′。如图6所示，第一基底21′和第二基底29′都是平坦的。然而，第一电极22′和第二电极27′中的至少一个具有用于获得相位变化分布的图案，所述相位变化分布具有与光盘1上的双折射分布对应的椭圆或抛物线梯级结构。例如，第一电极22′可如图7中所示被图案化，第二电极27′可类似地形成在第二基底29′的整个表面上。
除了第一基底21′和第二基底29′均为平坦的并且第一电极22′和第二电极27′中的至少一个如图7所示被图案化以外，液晶装置20′的结构与液晶装置20的结构基本相同。这里，第一基底21′和第二基底29′可采用与如图3A和图3B所示的第一基底21和第二基底29相同的材料制成。相似地，第一电极22′和第二电极27′可采用与图3A和图3B中所示的第一电极22和第二电极27相同的材料制成。
参照图7，第一电极22′和第二电极27′中的至少一个的图案包括多个同心环区域35。每个环电极区域35的宽度根据光盘1的平均双折射分布确定。不同的电压分别被施加到多个环电极区域35，以改变与环电极区域35对应的液晶分子的排列，从而形成与光盘1上的双折射分布对应的相位变化分布。结果，可补偿双折射。使用具有多个环电极区域35的电极图案用于双折射补偿的原因是因为在入射光的不同位置的垂直双折射的影响程度大体轴向对称，其中，所述入射光聚集在光盘1上并且形成光点。
作为图7中示出的图案的代替品，形成在第一电极22′和第二电极27′中的至少一个上的环电极区域35的每个可被分为多个部分，以形成与光盘1上的双折射分布对应的更精细的相位变化分布。
通过液晶装置20或20′实现的双折射补偿装置19可位于波片17和物镜30之间，从而相位差被给定为圆偏振光。这里，仅用一个双折射补偿装置19，相对于射入光和射出光能克服偏振依赖并且能实现双折射补偿。
图8是使用根据本发明实施例的光学拾取器的实例性的光学记录和/或再现设备的示图。参照图8，光学记录和/或再现设备包括：主轴电机455，用于旋转光盘1即光学信息存储介质；光学拾取器450，安装光学拾取器450使其在光盘1的径向方向上运动并且再现光盘1上的信息和/或在光盘1上记录信息；驱动单元457，用于驱动主轴电机455和光学拾取器450；控制单元459，用于控制光学拾取器450的聚焦和寻轨伺服。标号452表示转盘。标号453表示用于卡紧的夹具。光学拾取器450具有根据本发明的上述实施例的光学结构。
通过设置在光学拾取器450中的光检测器来检测从光盘1反射的光并将该光转换为电信号。电信号经过驱动单元457输入到控制单元459。驱动单元457控制主轴电机455的旋转速度，放大输入信号并且驱动光学拾取器450。控制单元459根据从驱动单元457接收的信号来调节聚焦伺服指令和寻轨伺服指令，并且向驱动单元457发送指令，从而完成了光学拾取器450的聚焦和寻轨操作。
当在光盘1上记录信息和/或从光盘1上再现信息时，根据图8中示出的实施例的光学记录和/或再现设备通过对由液晶装置20或20′实现的双折射补偿装置19施加电压和形成与双折射分布对应的相位变化分布，具体地与光盘1上发生的垂直双折射分布对应的相位变化分布来补偿光盘1的双折射。因此，可防止由于双折射导致的光点尺寸增加和每单位面积光密度减小。结果，光盘1的双折射不影响信号记录和再现。
如上所述，根据本发明，能主动地补偿根据光学信息存储介质的类型而改变的双折射，因此，能防止由双折射导致的光点变大和每单位面积光密度的减小。结果，能有效地执行记录和再现。
尽管已经参照本发明的示例性实施例具体示出和描述了本发明，但是本领域的普通技术人员应该理解，这里可作各种形式和细节上的改变而不脱离本发明的精神和范围。例如，可利用光学拾取器中的元件的其它排列，只要液晶装置以结合图2、图3A至图3B、图4A至图4B和图6描述的方式被利用。另外，光学记录和/或再现设备的组件也可与图8所示不同地构造。因此，意图是本发明不限于公开的各种实例性实施例，而是本发明包括落入权利要求范围内的所有实施例。
本申请要求2005年1月10日在韩国知识产权局提交的第10-2005-0002048号韩国专利申请的所有权益，其公开通过引用被包含于此。

Claims (14)

1、一种用于双折射补偿的液晶装置，包括：
一对基底；
液晶层，形成在所述基底之间，在所述液晶层中，当不对液晶施加电场时，所述液晶为竖直取向，当对所述液晶施加电场时，所述液晶为轴向对称地径向取向，
其中，形成与在光学信息存储介质上发生的双折射分布对应的相位变化分布，并且根据施加的电场的大小来调节相位变化。
2、如权利要求1所述的液晶装置，其中，所述基底中的至少一个在其内部具有与在所述光学信息存储介质上发生的所述双折射分布对应的轴向对称的厚度变化轮廓。
3、如权利要求2所述的液晶装置，其中，所述基底中的所述至少一个的所述厚度变化轮廓具有梯级结构。
4、如权利要求2所述的液晶装置，其中，所述基底中的所述至少一个由这样一种材料制成，所述材料具有与所述液晶的正常折射率相同的折射率，或者具有与所述液晶的所述正常折射率相似的指数匹配的折射率。
5、如权利要求1所述的液晶装置，还包括被图案化的电极，所述电极根据在所述光学信息存储介质上发生的所述双折射分布对所述液晶层的不同部分施加不同电压。
6、如权利要求1所述的液晶装置，还包括取向膜，形成所述取向膜以使所述液晶竖直取向，所述取向膜被轴向对称地径向擦。
7、如权利要求6所述的液晶装置，其中，所述取向膜采用竖直取向的聚酰亚胺和SiO沉积之一来制成。
8、如权利要求1所述的液晶装置，其中，所述液晶具有负介电各项异性性质。
9、一种光学拾取器，包括：
光源；
物镜，被布置用来将从所述光源发出的光聚集到光学信息存储介质上，形成光点；
光检测器，被布置用来接收从所述光学信息存储介质反射的光并且检测信息信号和误差信号中的至少一个；
双折射补偿装置，被布置用来补偿所述光学信息存储介质上的双折射，所述双折射补偿装置包括如权利要求1至权利要求8中的任何一个的所述液晶装置。
10、如权利要求9所述的光学拾取器，还包括：
波片，被布置用来转换从所述光源入射的光的偏振，
其中，所述双折射补偿装置位于所述波片和所述物镜之间。
11、如权利要求10所述的光学拾取器，其中，所述波片为相对于从所述光源发出的所述光的波长的四分之一波片，从而入射到所述双折射补偿装置的有效光为圆偏振光。
12、一种光学记录和/或再现设备，包括：
光学拾取器，被安装为在光学信息存储介质的径向方向上移动，用于再现所述光学信息存储介质上的信息和/或在所述光学信息存储介质上记录信息；
控制单元，被布置用来控制所述光学拾取器的操作，
其中，所述光学拾取器通过如权利要求9所述的光学拾取器来实现。
13、如权利要求12所述的光学记录和/或再现设备，其中，所述光学拾取器还包括用于转换从所述光源入射的光的偏振的波片，其中，所述双折射补偿装置位于所述波片和所述物镜之间。
14、如权利要求13所述的光学记录和/或再现设备，其中，所述波片为相对于从所述光源发射的光的波长的四分之一波片，从而入射到所述双折射补偿装置的有效光为圆偏振光。
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