KR20030005343A - 광 헤드, 광학 장치, 및 수차 보정 소자 - Google Patents

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Abstract

「고 NA화」「다층 기록」 등의 수법을 이용하는 경우에도, 이에 의해 발생하는 파면 수차를 간편한 방법에 의해 최적 보정하기 위해, 수차 보정 소자에 의한 위상 보정 패턴으로서, 위상 분포식 A(-r4)-B(-r2)의 변수 A 및 변수 B(A≠B)를 변화시키도록 한 수차 보정 소자를 액정 소자(30)를 사용하여 실현한다. 액정 소자(30)는 한쪽 투명 전극(31A)에 있어서 구면 수차에 대응하는 위상 분포를 발생시키도록 한 전극 패턴을 형성하고 있다. 그리고, 이들 전극에 대한 인가 전압을 제어함으로써, 상기한 변수 A 및 변수 B를 독립적으로 제어하는 것이 가능해 진다.

Description

광 헤드, 광학 장치, 및 수차 보정 소자 {OPTICAL HEAD, OPTICAL DEVICE AND ABERRATION CORRECTING ELEMENT}
근래, 광 디스크로 대표되는 광 기록 매체의 고기록 밀도화, 고기록 용량화가 진행되고 있다. 예를 들면, 광학 픽업 장치의 대물 렌즈 개구수(NA)가 0.45, 신호 판독용 광속(光束)(레이저광)의 파장이 780nm, 디스크 투과 기판 두께(광 디스크의 기록층 상에 형성된 광 투과층의 두께를 말함)가 1.2mm이며, 기록 용량 약 650MB의「CD 콤팩트 디스크: 상표명)(이하, CD라고 표기함)」와 같은 직경 120mm의 디스크를 사용하여, 광학 픽업 장치의 대물 렌즈 개구수(NA)를 0.60, 신호 판독용 광속(레이저광)의 파장을 650nm, 디스크 투과 기판 두께를 0.6mm로 하고, 기록 용량을 CD의 약 7배의 4.7GB로 높인 「DVD(디지털 버서타일 디스크: 상표명)(이하, DVD라고 표기함)」가 실용화되어 있다.
또한, 이 DVD에서는, 기록 용량을 약 2배로 하기 위해, 기록층을 수십μm의 간격으로 2층 형성한, 2층 기록도 실현하고 있다.
이러한 고기록 밀도화, 고기록 용량화를 실현하는 데에 있어서 키로 되는 기술로서, 대물 렌즈의「고 NA 화」 및 광 기록 매체에 있어서의「다층 기록」이 있다.
그러나, 「고 NA 화」 또는「다층 기록」을 실현하는 데 있어서는, 다음과 같은 문제점이 발생한다.
먼저, 대물 렌즈의 개구수(NA)가 커짐에 따라서, 디스크 투과 기판 두께의 기준치로부터의 변위량 △t에 의해 발생하는 구면(球面) 수차(收差)는, 개구수(NA)의 4승에 비례하여 증가한다. 즉, 구면 수차의 발생량은, 다음과 같이 표현된다.
〔구면 수차〕 ∝ △t {(n2-1)/n3} NA4/λ
여기서, n은 디스크기판의 굴절률, λ는 신호 판독용 광속(레이저광)의 파장이다. 즉, 상기 식으로부터 알 수 있는 바와 같이, 「고 NA 화」에 따라, 디스크 투과 기판 두께에 허용되는 오차량은 격감하게 된다.
여기서, 상술한 CD, DVD 및 한층 더 고밀도화를 상정한 비교예 「개구수(NA)= 0.85, 광속 파장= 405nm」의 3가지의 경우에 관하여, 구면 수차의 발생량을 일정하게 했을 때의, 디스크 투과 기판 두께에 허용되는 기준치로부터의 변위량 △t의 비율을 계산하면, 다음과 같이 된다.
CD(NA= 0.45, λ= 780nm)에서의 △t를 1이라고 하면,
DVD(NA= 0.60, λ= 650nm)에서의 △t는, 0.264
비교예 NA= 0.85, λ= 405nm)에서의 △t는, 0.0409
허용되는 기준치로부터의 변위량 △t는, CD로부터 DVD에서 0.264배, DVD로부터 비교예에서 0.155배로 된다. 즉, 허용되는 기준치로부터의 변위량 △t는, 비교예의 조건에서는, CD에 비해, 약 1/25로까지 감소하는 것을 알 수 있다.
또, 고기록 용량화가 유효한 방식으로서의「다층 기록」에서는, 의도적으로 디스크 투과 기판 두께의 다른 층을 복수 적층시켜 형성하는 것이 되기 때문에, 각 층마다, 집광점에서의 구면 수차의 발생량은 다른 값으로 된다.
이상과 같이, 고기록 밀도화, 고기록 용량화를 실현하기 위해, 「고 NA 화」나 「다층 기록」 등을 행하려고 하면, 어느 경우에도, 디스크 투과 기판 두께의 오차에 기인하여 발생하는 구면 수차의 증대에 의한 특성 열화가 문제로 되어 버린다.
이것에 대하여, 예를 들면, 일본국 특개평 10(1998)-269611호 공보에 개시된 바와 같이, 「다층 기록」을 행하는 데 있어서, 각 층마다 최적의 수차가 되도록, 도 1에 도시한 바와 같이 액정 패널을 사용하여 구면 수차 보정 패턴을 형성하고, 수차 보정을 행하는 방법이 제안되어 있다.
이 도 1에 있어서, 횡축은 광 기록 매체의 기록층 상에 집광되는 광속의 보정 소자에서의 반경이 1로 되도록 정규화한 경우의 반경 방향의 위치를 나타내고, 종축은 수차 보정 소자에 의해 광속에 주어지는 위상 변화량을 나타내고 있다.
또, 도 2는 수차 보정 소자에 의해 신호 판독용 광속에 주어지는 위상 변화량을 구면 수차 보정용 위상 변화량과 디포커스 보정용 위상 변화량으로 나누어 나타낸 것이며, 횡축은 광 기록 매체의 기록층 상에 집광되는 광속의 보정 소자에서의 반경이 1로 되도록 정규화한 경우의 반경 방향의 위치를 나타내고, 종축은 수차 보정 소자에 의해 광속에 주어지는 위상 변화량을 나타내고 있다.
이 도 2에 나타낸 2개의 위상 변화량의 차이를 취하면, 도 1에 도시한 바와 같은 위상 변화량의 패턴이 얻어지는 관계로 되어 있다. 디포커스 보정용 위상 변화량을 포함하지 않고, 구면 수차 보정용 위상 변화량만을 보정 소자에 의해 광속에 부여하려고 하면, 그 위상차가 커져 버리기 때문에, 디포커스 보정용 위상 변화량을 포함하여 부여하도록 하고 있는 것이다.
즉, 도 1에 나타낸 위상 분포는, 도 2에 있어서 별개로 나타낸 구면 수차에 대응하는 위상 분포(-r4) 및 디포커스 패턴(-r4)의 차를 취한 것에 상당하고, 통상은 수차분석 등을 행할 때 잘 사용되는 것이다.
도 3 (A)는, 도 1에 나타낸 위상 분포를 사용하여, 포커스 바이어스값과 수차 보정 소자가 부여하는 구면 수차 보정량의 쌍방을 최적화하는 경우의 순서를 나타낸 설명도이다. 여기서, 도 3 (A)는 신호 특성을 등고선으로 나타낸 것이며, 종축이 수차 보정 소자가 부여하는 위상 보정량, 횡축이 포커스 바이어스값을 나타내고 있다. 또, 도 3 (B)는 도 3 (A)에 나타낸 위상 보정량 및 포커스 바이어스값으로 조정되는 구면 수차량과 디포커스량의 변화를 알기 쉽도록 수정한 좌표축을 사용하여 나타낸 것이며, 종축이 구면 수차량을 나타내고, 횡축이 디포커스량을 나타내고 있다.
여기서, 수차 보정 소자(4)로서 액정 패널을 사용하여, 일본국 특개평10(1998)-269611호 공보에 개시되어 있는 바와 같이, 도 1에 도시한 바와 같은 수차 보정 패턴에 의해 구면 수차를 보정하는 구성을 취하는 경우, 다음과 같은 문제점이 발생한다.
또, 일본국 특개평 10-269611호 공보에서는, 전극 패턴의 분할에 의한 스텝형의 패턴에 따라 의사적(擬似的)으로, 도 1에 나타낸 패턴에 가까운 위상 분포를 발생시키도록 하고 있다. 한편, 이러한 스텝형이 아니더라도, 예를 들면, 「2000년 추계 응용 물리학회 학술 강연회 예고집의 4p-K-1」나, 「전자 정보 통신 학회「신학 기보」 CPM 2000-91(2000-09)」 등에서, 연속적인 위상 분포를 발생시키는 기술이 발표되어 있다. 이것은, 액정 패널 내주측과 외주측과 위치하는 전극을 사용하여, 패널의 두께 방향이 아니라 주면에 따르는 방향의 전계를 발생시켜, 액정층 중에 패널 면방향의 전위 구배를 형성하는 것이다. 그러나, 이러한 연속적인 위상 분포를 발생시킨 액정 패널을 수차 보정 소자로서 사용했다고해도, 다음과 같은 문제점에 대해서는, 동일하게 발생한다.
즉, 「고 NA」의 대물 렌즈, 또는 「다층 기록」 등을 사용한 광 기록 매체에서는, 신호 특성을 최적화하는 경우, 포커스 바이어스값 및 액정에 의한 구면 수차 보정량의 쌍방을 최적화해야 한다.
그러나, 도 1의 수차 보정 패턴을 사용하여, 이것을 행하려고 한 경우, 포커스 바이어스값 및 액정에 의한 보정량을 변화시켰을 때의 신호 특성은, 도 3 (A)에 도시한 바와 같은 등고선 분포로 되는 것을 확인할 수 있다.
따라서, 도면 중「초기 위치」부터「최량 위치」를 향하여 조정을 행하는 경우, 「포커스 바이어스의 설정」와「액정 보정량의 설정」을 교대로 몇번이고 반복하지 않으면, 「최량 위치」에 추가하여 넣을 수 없다.
이것은, 조정이 복잡한 것뿐만 아니라, 이러한 요인에 의해, 「최량 위치」가 아닌 점에 조정이 수속되어 버리는 것으로도 이어진다.
이것은, 다음과 같이 생각할 수 있다.
설명을 간단히 하기 위해, 디포커스량 및 구면 수차에 대한 신호 특성은 도 3 (B)와 같이 하면 된다. 여기서, 신호 특성으로는, RF 신호의 진폭, RF 신호의 지터 등을 사용하는 것이 가능하다.
전술한 바와 같이, 우선「포커스 바이어스」를 변화시킴에 따라, 「디포커스량」은「구면 수차」에 영향을 주는 일없이 조정가능하다.
그러나, 「구면 수차」는, 「액정에 의한 위상 제어」에 의해 보정할 수 있는 반면, 한편, 구면 수차량이 제어될 때 발생하는 「액정에 의한 위상 변화」에 따라 포커스 에러 신호를 형성하기 위한 광 검출 소자 상의 광 스폿의 형상 및 강도분포에도 변화를 주어 버린다. 이로 인해, 「액정에 의한 위상 제어」에 따라, 신호 특성이 잘 되는 「포커스 바이어스」가 변화되어 버리는(실제로는, 「구면 수차제어」에 따라 신호 특성이 최량으로 되는 최량 상면(像面) 위치도 약간 변화된다.
따라서, 「포커스 바이어스」를 일정하게 하여, 「구면 수차량」을 변화시킨 경우에는, 「구면 수차량」의 변화에 따라 디포커스량도 변해 버린다. 그러나, 디스크 투명 기판 두께의 오차에 따라 발생하는 구면 수차를 보정할 때 필요하게 되는 본질적인 수차에 대응하는 위상 분포는, 구면 수차에 대응하는 위상 분포(-r4)뿐이다.
그리고, 도 1에 나타낸 위상 분포를 사용하여 수차 보정을 행하는 경우의 수차량의 변화는, 변수 C를 사용하여, 다음과 같이 표기할 수 있다.
〔패턴 0〕= C{(-r4)-(-r2)} ···식 (1)
종래의 조정은, 이 변수 C를 변화시키는 것으로서 나타낼 수 있다.
즉, 종래의 보정은, 도 1에 나타낸 위상 분포를 변수 C에 의해 종축방향으로 전체적으로 변화시키는 것이다.
이와 같이, 이 일본국 특개평 10-269611호 공보에 개시된 수차 보정 패턴을 사용하여 보정하는 경우에는, 보정량의 조정이 복잡해 진다고 하는 문제점이 있었다.
본 발명은, 예를 들면 광신호 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하기 위한 광 헤드, 이 광 헤드를 설치한 광학 장치, 및 광 헤드에 사용되는 수차 보정 소자에 관한 것이다.
도 1은, 종래의 수차 보정 소자에서의 구면 수차 보정 패턴의 일례를 나타낸 설명도이다.
도 2는, 도 1에 나타낸 수차 보정 소자에 의해 레이저광에 부여하는 위상 분포를 구면 수차 보정용 위상 분포와 디포커스 보정용 위상 분포로 나누어 나타낸 설명도이다.
도 3 (A) 및 도 3 (B)는, 도 1에 나타낸 수차 보정 소자의 위상 보정 패턴을 이용하여 포커스 바이어스값과 액정 소자에 의한 수차 보정 소자의 구면 수차 보정량의 쌍방을 최적화하는 경우의 순서를 나타낸 설명도이다.
도 4는, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에서의 수차 보정 소자 및 광 헤드를 내장한 광 디스크 광학 장치의 구성을 나타낸 블럭도이다.
도 5는, 도 4에 나타낸 광 헤드의 광학 시스템의 개요를 나타낸 설명도이다.
도 6은, 도 4에 나타낸 광 헤드의 보다 구체적인 구성예를 나타낸 설명도이다.
도 7 (A), 도 7 (B) 및 도 7 (C)는, 도 4에 나타낸 광 헤드에 형성되는 액정 소자의 구성을 나타낸 설명도이다.
도 8은, 도 7에 나타낸 액정 소자를 사용하여 생성할 수 있는 위상 보정 패턴의 구체적인 예를 나타낸 설명도이다.
도 9는, 도 8에 나타낸 위상 보정 패턴을 사용하여 포커스 바이어스값과 구면 수차 보정량을 최적화하는 경우의 순서를 나타낸 설명도이다.
도 10은, 도 4에 나타낸 광 헤드에서의 구면 수차에 대응하는 위상 분포와 디포커스 패턴과의 보정 비율 K= B/A의 값을 구하는 방법을 나타낸 설명도이다.
도 11은, 광 디스크에서의 최단 마크 길이와 보정 비율 K과의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 12는, 광 디스크 상의 최단 마크에 의한 회절 빔 스폿의 상태를 나타낸 평면도이다.
도 13 (A), 도 13 (B) 및 도 13 (C)는, 보정 비율 K의 값에 의한 수차 보정량의 차이를 나타낸 그래프이다(도 13 (A)는 K= 1, 도 13 (B)는 K= 1.25, 도 13 (C)는 K= 1.5.
도 14는, 구면 수차 보정량, 포커스 바이어스 및 신호 특성의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 15는, 광 헤드에서의 광 검출기의 수광면의 형상을 나타낸 정면도이다.
도 16 (A) 및 도 16 (B)는 포커스 에러 신호에의 고 NA 광의 기여도가 높은 계에서, (-)측으로 구면 수차 보정을 행했을 때의 광 디스크에의 입사광속(도 16 (A)) 및 반사 광속(도 16 (B))의 상태를 나타낸 측면도이다.
도 17 (A) 및 도 17 (B)는, 포커스 에러 신호에의 고 NA 광의 기여도가 높은 계에서, (+) 측으로 구면 수차 보정을 행했을 때의 광 디스크에의 입사광속(도 17A)) 및 반사 광속(도 17 (B))의 상태를 나타낸 측면도이다.
도 18은, 구면 수차 및 포커스 바이어스가 최적의 상태일 때의 광 디스크에의 입사광속 및 반사 광속의 상태를 나타낸 측면도이다.
도 19 (A) 및 도 19 (B)는, 포커스 에러 신호에의 고 NA 광 및 저 NA 광의 기여도가 동일한 정도인 계에서, (-) 측으로 구면 수차 보정을 행했을 때의 광 디스크에의 입사광속(도 19 (A)) 및 반사 광속(도 19 (B))의 상태를 나타낸 측면도이다.
도 20 (A) 및 도 20 (B)는, 포커스 에러 신호에의 고 NA 광 및 저 NA 광의 기여도가 동일한 정도인 계에서, (+) 측으로 구면 수차 보정을 행했을 때의 광 디스크에의 입사광속(도 20 (A)) 및 반사 광속(도 20 (B))의 상태를 나타낸 측면도이다.
도 21 (A), 도 21 (B) 및 도 21 (C)는, 광 투과층의 두께가 상이한 광 기록 매체에의 전환을 행한 경우에서의 구면 수차 보정을 행했을 때의 광 디스크에의 입사광속의 상태를 나타낸 측면도이다.
본 발명은, 이상의 점을 감안하여, 고기록 밀도화나 고기록 용량화를 위해, 「고 NA화」 「다층 기록」 등의 방법을 이용하는 경우에도, 이에 의하여 발생하는 파면 수차(주로 구면 수차)를 간편한 방법으로 최적 보정하는 것이 가능한 수차 보정 소자 및 이것을 사용한 광 헤드, 또한그 광 헤드를 사용한 광학 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 관한 광 헤드, 정보 신호가 기록되는 기록층 상에 광 투과층을 가지는 광 기록 매체에 정보 신호의 기록 및재생 중 최소한 한쪽을 행하는 광 헤드에 있어서, 광속을 출사하는 광원과, 상기 광속을 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광시키는 집광 수단과, 이 집광 수단에 의해 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되어 이 기록층에 의해 반사된 반사 광속을 검출하는 광 검출 수단을 포함하고, 상기 광원으로부터 상기 집광 수단에 이르는 광로 상에, 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되는 광속의 구면 수차 및 디포커스를 임의의 패턴으로 제어하는 수차 보정 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.
그리고, 본 발명에 관한 광학 장치는, 정보 신호가 기록되는 기록층 상에 광 투과층을 가지는 광 기록 매체에 정보 신호의 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하는 광학 장치에 있어서, 광 기록 매체에 대하여 광속을 조사하는 동시에 이 광 기록 매체의 기록층으로부터의 반사 광속을 검출하는 광 헤드와, 이 광 헤드로부터 출력되는 광 검출 신호에 따라 상기 광 헤드를 제어하는 서보 회로와, 상기 광 헤드로부터 출력되는 광 검출 신호를 처리하는 신호 처리 회로를 포함하고, 상기 광 헤드는, 광속을 출사하는 광원과, 상기 광속을 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광시키는 집광 수단과, 상기 집광 수단에 의해 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되어 이 기록층에 의해 반사된 반사 광속을 검출하는 광 검출 수단과, 상기 광원으로부터 상기 집광 수단에 이르는 광로 상에 설치되어 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되는 광속의 구면 수차 및 디포커스를 임의의 패턴으로 제어하는 수차 보정 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 것이다.
또, 본 발명에 관한 수차 보정 소자는, 정보 신호가 기록되는 기록층 상에광 투과층을 가지는 광 기록 매체에 정보 신호의 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하는 광 헤드 내의 광로 상에 설치 가능한 수차 보정 소자에 있어서, 상기 기록층 상에 집광되는 광속의 빔 스폿의 반경을 r로 하고, 서로 다른 변수를 A, B로 했을 때, 이하의 위상 분포식
A(-r4)-B(-r2)
로 표현되는 위상 분포를 투과 광속에 발생시키는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명의 광 헤드에서는, 상기 광원으로부터 상기 집광 수단에 이르는 광로 상에, 광 기록 매체의 기록층에 대한 광속의 구면 수차와 디포커스를 임의의 패턴으로 제어하는 수차 보정 수단을 형성함으로써, 고기록 밀도화, 고기록 용량을 위한「고 NA 화」 「다층 기록」 등의 방법을 사용하는 경우에도, 이에 의하여 발생하는 파면 수차(주로 구면 수차)를 간편한 방법으로 최적 보정하는 것이 가능하게 된다.
또, 본 발명의 광학 장치에서는, 상기 광원으로부터 상기 집광 수단에 이르는 광로 상에, 광 기록 매체의 기록층에 대한 광속의 구면 수차와 디포커스를 임의의 패턴으로 제어는 수차 보정 수단을 설치함으로써, 고기록 밀도화, 고기록 용량을 위한「고 NA 화」 「다층 기록」 등의 방법을 사용하는 경우에도, 이에 의하여 발생하는 파면 수차(주로 구면 수차)를 간편한 방법으로 최적 보정하는 것이 가능하게 된다.
그리고, 본 발명의 수차 보정 소자에서는, 상기 기록층 상에 집광되는 광속의 빔 스폿의 반경을 r로 하고, 서로 다른 변수를 A, B로 했을 때, 이하의 위상 분포식
A(-r4)-B(-r2)
로 표현되는 위상 분포를 투과 광속에 발생시킴으로써, 광 헤드나 광학 장치에 있어서 고기록 밀도화, 고기록 용량을 위한「고 NA 화」 「다층 기록」 등의 방법을 사용하는 경우에도, 이에 의하여 발생하는 파면 수차(주로 구면 수차를 간편한 방법으로 최적 보정하는 것이 가능하게 된다.
이하, 본 발명에 관한 광 헤드, 광학 장치 및 수차 보정 소자를 실시하기 위한 최량의 형태에 대해, 첨부 도면에 따라 상세하게 설명한다.
또, 이하에 설명하는 최량의 형태는, 본 발명의 바람직한 구체적인 예이며, 기술적으로 바람직한 여러 가지 한정이 부가어 있지만, 본 발명의 범위는, 이하의 설명에 있어서, 특히 본 발명을 한정하는 취지의 기재가 없는 한, 이들 양태에 한정되지 않는다. 즉, 이하의 최량의 형태에서는, 회전조작되는 광 디스크를 광 기록 매체로서 사용하고 있지만, 이 광 기록 매체로서는, 광 디스크에 한정되지 않고, 여러 가지 매체를 사용할 수 있다. 또, 이하의 최량의 형태에서는, 본 발명의 광학 장치를, 광 기록 매체에 대한 정보 신호의 기록 및 재생을 행하는 장치로서 구성하고 있지만, 본 발명의 광학 장치는, 광 기록 매체에 대한 정보 신호의 기록만을 행하는 기록장치나, 또는 광 기록 매체로부터의 정보 신호의 재생만을 행하는 재생 장치로 구성할 수도 있다.
도 4는, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에서의 수차 보정 소자 및 광 헤드를 내장한 광 디스크 광학 장치의 구성을 나타낸 블럭도이다. 또, 도 4에 나타낸 광 디스크 광학 장치는, 이하에 설명하는 수차 보정 소자 및 광 헤드를 탑재하는 것이 가능한 광학 장치의 일례이다.
이 광학 장치(10l)는, 도 4에 도시한 바와 같이, 광 디스크(102)를 회전구동하는 스핀들 모터(103)와, 광 헤드(104)와, 이 광 헤드(104)의 이송 모터(105)와, 후술하는 회로블록을 구비하고 있다.
여기서, 광 디스크(102)로서는 대물 렌즈의「고 NA(개구수)화」나「다층 기록화」에 대응한 광 디스크를 채용할 수 있다. 스핀들 모터(103)는, 시스템 컨트롤러(107) 및 서보 제어 회로(109)에 의해 구동제어되어 회전하여, 광 디스크(102)를 회전조작한다.
광 헤드(104)는, 시스템 컨트롤러(107) 및 신호 변복조 및 ECC 블록(108)의 명령에 따라서, 회전하는 광 디스크(102)의 신호 기록면에 대하여, 각각 광 조사를 행한다. 이러한 광 조사에 의해 광 디스크(102)에 대한 기록, 재생이 행해진다. 또, 이 광 헤드(104)는, 이 광 헤드(104)를 광 디스크(102) 상의 원하는 기록 트랙까지 이동시키기 위한 이송 모터(105)에 의한 이동 조작이 가능하게 지지되어 있다.
또, 광 헤드(104)는, 광 디스크(102)의 신호 기록면에서의 반사 광속에 따라, 후술하는 것 같은 각종 광속을 검출하고, 각 광속에 대응하는 신호를 프리앰프부(120)에 공급한다.
프리앰프부(120)는, 각 광속에 대응하는 신호에 따라 포커스 에러 신호, 트래킹에러 신호, RF 신호 등을 생성하고, RF 신호를 신호 변복조 및 ECC 블록(108)에 이송, 각 에러 신호를 서보 제어부(109)에 보낸다.
신호 변복조 및 ECC 블록(108)은, 시스템 컨트롤러(107)의 제어에 따라서, 재생대상으로 되는 광 디스크(102)의 종류에 따라서, 보내진 RF 신호의 변조, 복조 및 ECC(에러 정정 부호)의 부가를 행한다.
시스템 컨트롤러(107)는, 기록면 검출부(106)를 통하여, 장착되어 있는 광디스크(102)의 종류, 다층 기록인가 여부 등을 검출한다. 또, 시스템 컨트롤러(107)는, 액정드라이버(110)을 통하여, 광 헤드(104)에 설치된 수차 보정 소자로 되는 액정 패널의 구동을 제어한다.
기록면 검출부(106)는, 광 디스크(102)의 표면반사율이나 그 외의 형상적, 외형적인 차이 등을 검출함으로써, 장착된 광 디스크(102)의 기록방식, 종별이나, 기록면과 광속과의 상대 선속도 등을 검출하는 동시에, 이 광 디스크(102)의 기록 영역이 분할된 것인 경우에는 분할된 기록 영역의 어느 것인가, 이 광 디스크(102)가 복수 층의 적층된 기록면을 가지는 경우에는 적층된 기록면 중 어느 것인가 등을 검출한다.
또, 서보 제어부(109)는, 보내진 각 에러 신호에 따라서, 스핀들 모터(103), 광 헤드(104) 및 이송 모터(105)를 제어한다. 즉, 스핀들 모터(103)의 제어와, 이송 모터(105)의 제어와, 광 헤드(104)의 대물 렌즈를 유지하는 2축 액추에이터의 포커싱 방향 및 트래킹 방향의 제어는, 각각 서보 제어 회로(109)에 의해 행해진다.
신호 변복조 및 ECC 블록(108)에 있어서 복조된 기록 신호는, 예를 들면, 광 디스크(102)가 컴퓨터의 데이터 스토리지용이면, 인터페이스(111)를 통하여 외부 컴퓨터(130) 등에 송출된다. 이에 따라, 외부 컴퓨터(130) 등은, 광 디스크(102)에 기록된 신호를 재생신호로서 받을 수 있다.
또, 광 디스크(102)가 오디오·비쥬얼용이면, 재생신호는, D/A, A/D 변환기(112)의 D/A 변환부에서 디지털 변환되어, 오디오·비쥬얼 처리부(113)에 공급된다. 그리고, 이 오디오·비쥬얼 처리부(113)에 의해 오디오·비디오신호 처리가 실시된 재생신호는, 오디오·비쥬얼 신호 입출력부(114)를 통하여 외부의 영사기기 등의 오디오·비쥬얼기기에 전송된다.
또, D/A, A/D 변환기(112) 및 오디오·비쥬얼 처리부(113)는, 광학 장치의 용도에 따라서, 어느 한쪽만이 구비되어 있으면 되고, 반드시 쌍방이 함께 구비되어 있을 필요는 없다.
또, 이 광학 장치에 의해, 광 디스크(102)에 대한 정보 신호의 기록을 행하는 경우에는, 외부 컴퓨터(130), 또는 외부의 오디오·비쥬얼 기기로부터 공급된 신호는, 인터페이스(11), 또는 D/A, A/D 변환기(112)를 거쳐, 신호 변복조 및 ECC 블록(108)에 보내진다. 이 신호 변복조 및 ECC 블록(108)은, 시스템 컨트롤러(107)의 제어에 따라서, 보내진 신호를 변조하고, 변조된 신호에 따라, 레이저 제어 회로(115)를 통하여, 광 헤드(104)의 광원을 제어한다. 그리고, 광 헤드(104)의 광원의 발광 출력이 변조되는 것에 의해, 광 디스크(102)에의 정보 신호의 기록이 행해진다.
광 헤드(104)는, 도 5에 도시한 바와 같이, 광원(2), 빔 스플리터(편광빔 스플리터)(3), 수차 보정 소자(4), 1/4 파장판(5), 대물 렌즈(6), 광 검출 소자(7)를 구비하고 있고, 이들 각 광학 부품이 개별적으로 마운트되어 구성되어 있다. 광원(2)으로는, 반도체 레이저를 사용한다.
이 광 헤드(104)에 있어서, 광원(2)으로부터 출사된 광속은, 빔 스플리터(3)에 입사하고, 이 빔 스플리터(3)의 반사면에 대하여 P 편광인 것에 의해 이 반사면을 투과하고, 수차 보정 소자(4)에 의해 수차가 주어진다. 그리고, 1/4 파장판(5)을 투과하고, 대물 렌즈(6)에 따라 광 디스크(102)의 신호 기록면 상의 어떤 일점에 수속되어 조사된다.
대물 렌즈(6)의 개구수 NA는, 예를 들면, 0.65 이상으로 되어있다. 또, 광 디스크(102)는, 전술한 바와 같이, 최소한 2층 이상의 기록층이 형성되어 있을 수도 있다.
광 디스크(102)의 신호 기록면에서의 반사 광속은, 다시 대물 렌즈(6), 1/4 파장판(5), 수차 보정 소자(4)를 투과하여, 빔 스플리터(3)에 입사한다. 이 반사 광속은, 이 빔 스플리터(3)의 반사면에 대하여 S 편광인 것에 의해 이 반사면에서 반사되어, 광원(2)으로 되돌아가는 광로로부터 분기되어, 즉 광원(2)으로부터 출사된 광속으로 분리되어, 광 검출 소자(7)에 의해 수광된다.
그리고, 이 광 검출 소자(7)로부터의 출력 신호를 사용하여, 광 디스크(102)에 기록된 신호의 재생 및 각 에러 신호의 생성이 행해진다. 또, 광 디스크(102)에 조사되는 광속에 의해, 이 광 디스크(102)에 대한 정보 신호의 기록이 행해진다.
이 광 헤드(104)는, 보다 구체적으로는, 도 6에 도시한 바와 같이, 광원으로되는 반도체 레이저 소자(12), 콜리메이터 렌즈(13, 19), 편광빔 스플리터(14), 수차 보정 소자로 되는 액정 소자(15), 1/4 파장판(16), 대물 렌즈(17), FAPC(Front Auto Power Contro1)용 광 검출 소자(18), 빔 스플리터(20), 광 검출 소자(21, 22)를 구비하여 구성된다.
즉, 이 광 헤드(104)에 있어서, 반도체 레이저 소자(12)로부터 출사되는 광속은, 콜리메이터 렌즈(13)에 의해 대략 평행 광속으로 되어, 편광빔 스플리터(14)에 입사한다.
편광빔 스플리터(14)에서는, 반도체 레이저 소자(12)로부터 출사된 광속을, 레이저광 강도를 모니터하기 위한 광속과, 신호의 기록, 또는 재생을 행하기 위한 광속으로 분기된다.
편광빔 스플리터(14)에 의해 분리되어 투과한 반도체 레이저 소자(12)로부터의 광속은, 이 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태의 수차 보정 소자인 액정 소자(15)에 따라 전술한 바와 같이 수차가 부여되고, 1/4 파장판(16)을 통하여, 대물 렌즈(17)에 의해 광 디스크(102)의 신호 기록면의 어떤 일점에 수속하여 조사된다.
광 디스크(102)의 신호 기록면에서의 반사 광속은, 다시 대물 렌즈(17), 1/4 파장판(16), 액정 소자(15)를 통하여 다시 편광빔 스플리터(14)에 입사된다. 편광빔 스플리터(14)에 재입사한 광속은, 이 편광빔 스플리터(14)의 반사면에서 반사되고, 콜리메이터 렌즈(19)에 입사하여 수속 광속으로 된다, 이 수속 광속은, 빔 스플리터(20)에 따라 예를 들면, 이른바「스폿 사이즈법」에 의해 포커스 에러 신호를 얻기 위한 한 쌍의 광 검출 소자(21, 22)에 의해 수광되도록 분기되고, 이들 광 검출 소자(21, 22)에 의해 수광된다.
이들 광 검출 소자(21,22)로부터의 출력 신호를 이용하여, 포커스 에러 신호를 포함한 서보신호의 생성 및 광 디스크(102)에 기록된 신호의 재생이 행해진다.
그리고, 본 최량의 형태에서의 수차 보정 소자(4)는, 전술한 식 (1)과 동일한 표기이며, 서로 다른 변수 A 및 변수 B를 사용하여, 이하의 식 (2)와 같이 표기되는 패턴의 위상차를 투과 광속에 부여한다.
〔패턴 1〕= A(-r4)-B(-r2) ···식 (2)
(단, A≠B )
그리고, 이 수차 보정 소자(4)는, 이 식 (2)에서의 변수 A 및 변수 B의 쌍방 또는 한쪽을 변화시킬 수 있는 것을 특징으로 하고 있다. 이러한 변수 A, 변수 B를 변화시키는 것 같은 수차 보정 소자는, 예를 들면, 도 7 (A)에 도시한 바와 같은 구성의 액정 소자에 의해 실현할 수 있다.
액정 소자(30)는, 도 7 (A)에 도시한 바와 같이, 2매의 유리기판(31A, 31B)의 사이에 액정 분자(34)를 밀봉하여 구성되어 있다. 각 유리기판(31A, 31B)의 내측(서로 대향하는 면)에는, 액정 분자(34)에 전압을 인가하기 위한 투명 전극(32A, 32B)이 형성되어 있다. 또, 각 투명 전극(32A, 32B)의 내측(서로 대향하는 면)에는, 액정 분자(34)에 배향을 부여하는 배향막(33A, 33B)이 형성되어 있다. 또, 도 7 (A) 중의 화살표 α는, 배향막(33A, 33B)의 배향 방향(러빙 방향)을 나타내고 있다.
이러한 액정 소자(30)에서는, 각 투명 전극(32A, 32B)에 전압을 인가하지 않는 상태에서는, 액정 분자(34)는, 각 배향막(33A, 33B)에 의해 부여되는 배향 방향을 따라, 각 배향막(33A, 33B)에 평행하게 배치되어 있다. 또, 각 투명 전극(32A, 32B)에 전압을 인가하면, 액정 분자(34)는, 각 배향막(33A, 33B)에 직교하는 방향으로 상승한다. 이 때, 인가 전압의 레벨에 의해 액정 분자(34)가 상승하는 각도를 제어할 수 있다.
그리고, 이 최량의 형태에 있어서 액정 소자(30)에 의해 구성된 수차 보정 소자(4)에서는, 전극(32A, 32B)에 의해 액정 분자(34)에 전압을 인가하면, 이 액정 분자층의 굴절률은, 인가 전압에 따라 변화된다.
또, 각 투명 전극(32A, 32B)을, 일본국 특개평 10-269611호 공보에 기재되어 있는 것 같은 분할 전극으로서 형성하고, 분할된 각 전극에 다른 전압을 인가하여 전압 분포를 제어함으로써, 투과하는 광속에 주어지는 위상 분포를 제어하는 것이 가능하다. 또, 전술한 「2000년 추계응용 물리학회 학술강연회 예고집의 4p-K-1」나「전자정보 통신학회「신학기보」 CPM 2000-91( 2000-0-9」 등에 기재되어 있는 바와 같이, 액정 패널 내주측과 외주측과 위치하는 전극을 형성하고, 패널의 두께 방향이 아니라 주면에 따르는 방향의 전계를 발생시켜, 액정층 중에 패널 면방향의 전위 구배(句配)를 형성하여 연속적인 위상 분포를 발생시키는 것으로 해도 된다.
그리고, 이 최량의 형태에서는, 한쪽 투명 전극(32A)에는, 도 7 (B)에 도시한 바와 같이, 구면 수차에 대응하는 위상 분포를 발생시키는 것 같은 전극 패턴을 형성하고, 다른 쪽 투명 전극(32B)에는, 도 7 (C)에 도시한 바와 같이, 디포커스 패턴을 발생시키도록 한 전극 패턴을 형성하고 있다. 그리고, 이들 전극에 대한 인가 전압을 제어함으로써, 상술한 변수 A 및 변수 B를 독립적으로 가변제어하는 것이 가능하다.
또, 이 액정 소자(30)에 의해 구성된 수차 보정 소자(4)는, 광원으로부터의광속이 한쪽 투명 전극(32A)의 측으로부터 입사되도록 배치할 수도 있고, 또 광원으로부터의 광속이 다른 쪽 투명 전극(32B)의 측으로부터 입사되도록 배치할 수도 있다.
또, 액정 소자를 2매 이상 겹쳐 사용함으로써, 상술한 바와 같이 위상 분포의 발생을 실현할 수도 있다.
또, 이 최량의 형태에서는, 수차 보정 소자(4)로서 액정 소자를 사용한 예를 설명하였으나, 수차 보정 소자(4)는 이것에 한정되지 않고, 예를 들면, PLZT(지르콘산티탄산연란탄으로 이루어지는 강유전성, 압전성, 전기광학성의 세라믹재) 등의 위상 변화 재료를 사용하더라도 구성할 수 있다.
또, 위상 보정 패턴은, 변수 A, B의 비를 변화시킴으로써, 예를 들면, 도 8에 열거한 바와 같이, 여러 가지 변화시키는 것이 가능하다. 또, 도 8에서는, 패턴형상의 변화를 나타내기 위해, A=1, K=B/A로서,
〔패턴 1〕= A{(-r4)-K(-r2)}
의 K(보정 비율)을 변화시켜 나타내고 있다.
또, 상술한「구면 수차 보정에 의한 최적 포커스 바이어스의 변화」는, 포커스 에러의 형성 방법에 따라서도 다르지만, 적절한 K를 선택하면, 「포커스 바이어스값」와「위상 보정량 A」에 대한 신호 특성의 분포를, 도 9에 도시한 바와 같이, 조정이 용이한 분포로 하는 것이 가능하다. 이에 따라, 초기 위치로부터 최량 위치에의 조정 순서를 간편화, 정확화하는 것이 가능하다.
다음에, 구면 수차에 대응하는 위상 분포와 디포커스 패턴과의 보정 비율 K= B/A의 값을 구하는 방법에 대해, 도 10를 사용하여 간단히 설명한다. 광학 장치에 광 디스크를 장착하여, 광 헤드의 광원을 점등된 상태에서 이하의 조작을 행한다.
(1) 먼저, 초기 위치로부터, 「포커스 바이어스값」을 변화시켜, 신호 특성의 최량점(또는 톨러런스 중심점)을 구한다.
(2) 다음에, 구면 수차에 대응하는 위상 분포에 의한 수차 보정을 행하고, 구면 수차를 A(-r4)만큼 부가한다(또, 부가하는 방향은 신호 특성이 향상되는 방향으로 한다.
(3) 다음에, 구면 수차량, 포커스 바이어스값을 일정하게 하여, 디포커스 패턴에 의한 디포커스 조정량을 변화시켜, 신호 특성이 그 상태에서 최량으로 되도록 한다(조정량은, B(-r2)).
(4) 상기의 스텝에 의해, K= B/A가 구해진다. 이 K를 일정하게 한 채로, A를 변화시키고, 즉 구면 수차에 대응하는 위상 분포 및 디포커스 패턴의 양 전극의 전압을 제어하여, 신호 특성이 최량(또는 톨러런스 중심)으로 되도록 한다.
또, 여기서는, K의 최적치가 불명인 경우에 대해, 그 도출 방법을 설명했지만, 이 K의 값은, 광 디스크와 광 헤드의 구성이 결정되면, 대략 결정할 수 있다. 그 경우에, 원하는 K의 값에 상당하는 수차 보정 패턴을 수차 보정 소자(액정 소자)의 한쪽 투명 전극으로서 형성할 수 있고, 다른 쪽 투명 전극은 고정 전극(전체면 전극)으로서 두는 것도 가능하다. 그에 따라서, 액정 소자를 구동하는 핀수를저감하는 것이 가능하다.
또, 원하는 K의 값에 상당하는 수차 보정 패턴을 한쪽 투명 전극에 형성하고, 다른 쪽 투명 전극에 디포커스 패턴을 형성해 두고, K를 일정하게 유지하여 변화시킬 때는, 한쪽 투명 전극의 인가 전압에만 분포를 갖게 하고, 필요에 따라서, 다른 쪽 투명 전극의 디포커스 패턴의 기능을 사용하도록 할 수도 있다.
이하, 또한, 구면 수차 보정 패턴의 최적화에 대해 고찰한다.
최적의 패턴으로는 크게 나누어, 이하의 두 가지가 고려된다.
(1) 어떤 광 디스크에 대하여, 「보정량의 최적화(조정)」가 용이한 패턴
(2) 광 디스크에서의 다층 기록층 간의 전환시에, 포커스 바이어스(F0CUS BIAS)가 변하지 않도록 하는 패턴
여기서, 우선 대물 렌즈와 광 디스크의 기록면과의 위치관계가 변하지 않는 경우에, 구면 수차(r4항)과 디포커스(r2항)과의 최적의 보정 비율 K이 몇개가 될 것인가에 대해 생각한다.
〔보정 패턴〕= A{(-r4)-K(-r2)}
또, 구면 수차, 디포커스 등의 변화에 대하여, 신호 특성이 최량으로 되는 상태의 판단은, RF 신호의 지터, 에러 레이트, RF 신호진폭 등에 따라 행한다. 본원 출원인은, 이들 중에서도, 최단 마크의 진폭이 최대로 되는 상태를 기준으로 하는 것이, 감도도 양호하고, 마진의 중심과의 어긋남도 비교적 작다고 하는 실험결과를 경험적으로 얻고 있다. 여기서, 최단 마크라고 하는 것은, 예를 들면, EFM변조에서는, 3T 마크를 가르키고, (1,7)변조에서는, 2T 마크를 가르킨다.
최단 마크에 의한 변조의 기초로 되는 회절 패턴의 상태를 나타낸 것으로 하여,
〔λ/(NA×〔최단 마크 길이〕×2)〕을 횡축으로 하고, 종축으로 최적의 K가 값을 취하면, 도 11에 도시한 바와 같이, 이들 사이에는 일정한 관계가 있는 것을 알 수 있다.
여기서, 최적의 K 란, 구면 수차를 보정하기 위해, 보정 패턴의 형상에 대응한 수차를, 패턴의 형상을 유지한 채로 크기를 변화시켜, A를 변화시킨 경우에, 최단 마크 진폭의 변화가 가장 작아지는 K 라고 하는 것이다. 따라서, 최단 마크 길이가 다르면, 최적의 K의 값은 변화되어 버린다.
도 11에 나타낸 그래프의 경향은, 다음과 같이 해석할 수 있다. 즉, 최단 마크가 작아질 수록, 〔λ/(NA×〔최단 마크 길이〕×2)〕의 값은 커지고, 도 12에 나타낸 바와 같이, 최단 마크의 이어짐에 의해 회절된 0차 광과 ± 1차 광과의 겹쳐짐은, 어퍼쳐의 주변부, 즉 대물 렌즈의 개구수(NA)가 큰 부분에 상당하는 영역으로 된다.
한편, K가 커지면, 도 13 (A), 도 13 (B) 및 도 13 (C)에 도시한 바와 같이, 위상 분포가 플랫에 가까운 부분이, 개구수(NA)가 큰 부분에 상당하는 영역에 시프트하여 간다. 도 13 (A)는 K= 1, 도 13 (B)는 K= 1.25, 도 13 (C)는 K= 1.5에서의 광속 반경 방향의 위상 분포를 나타내고 있다.
따라서, 최단 마크에 기여하는 영역의 광선이 집광하는 위치가, 수차 보정에의해 그다지 변하지 않는 것 같은 위상 분포로 되어 있는 것이, 최적의 K의 조건이라고 해석할 수 있다.
실제로는, 귀환광에서의 수차의 변화에 따라 포커스 에러도 변화되어 버리기 때문에, 상기의 최적의 K의 값은, 상술한「수차 보정의 조정을 간편하게 하는 K」와는 일치하지 않는다.
또, 「DVD(디지털 버서타일 디스크)」용 광 헤드에서는, 최적의 K의 값은, 1.35정도로 되어 있다. 그리고, DVD 보다도 보다 고밀도화를 도모한 광 디스크용 광 헤드에서는, 전술한 최단 마크가 보다 작아져 가는 것에 따라서, 최적의 K의 값은, 보다 커진다. 즉, DVD와 동등, 또는 보다 고밀도화를 도모한 광 디스크용 광 헤드에서는, 최적의 K의 값은, 1을 넘은 값이라고 할 수 있다.
여기서, 전술한 기준에서 최적의 K가 1.15로 되는 최단 마크 길이의 계에서, K= 1인 액정 소자를 사용하여 수차 보정을 행한 결과를 나타낸다. 이 때의 구면 수차 보정량을 종축으로 하고, 포커스 바이어스를 횡축으로 취하면, 도 14에 도시한 바와 같이, 신호 특성을 등고선으로 나타낼 수 있다. r2항에 의한 디포커스 효곽 1μm 변화되는 양의 (+)의 구면 수차 보정을 행한 경우에, 최적의 포커스 바이어스는, O.15μm 상당량만, 광 디스크에서 멀어지는 측(Disc Far)으로 어긋났다. 이 경우, K= 0.85로 함으로써 포커스 바이어스 어긋남이 없어지는 것을 의미한다. 이 점에 관해서는, 다음과 같이 해석할 수 있다.
즉, 이 실험에서는, 포커스 에러 신호의 검출을, 도 15에 도시한 바와 같이,중앙 부분이 분할된 수광면을 가지는 광 검출기를 사용하여, 이 중앙 부분에서 수광된 광에 관해서는 포커스 에러 검출에 사용하지 않고, 주변 측의 4개의 수광면에서 수광된 광만을 사용하여 이른바「비점 수차법」에 의해 검출한다고 하는 방식(본건 출원인이 먼저 제안하고 있는 일본국 특원평 11(1999)-277544호(특개 2001-101681)(미국특허출원 09/671103, 미국 출원일 2000년 9월27일, 명칭「광 헤드, 광 검출 소자, 광정보 기록 재생 장치 및 초점 오차 검출 방법」)에 나타낸 방식)에 의해 행했다. 이로 인해, 개구수(NA)가 작은 부분의 광속(이하, 「저 NA 광」이라고 함)은, 포커스 에러 신호의 변화에 대부분 기여하고 있지 않고, 개구수(NA)가 큰 부분의 광속(이하, 「고 NA 광」이라고 함)의 귀환 합초 위치가, 포커스 에러 신호의 변화에 대하여 지배적으로 되어 있다.
여기서, 도 18에 도시한 바와 같이, RF 신호의 질이 최량인 상태에서 포커스 에러 신호가 0으로 될 때를 기준으로 생각한다. 도 16 (A) 및 도 16 (B)는, 각각 (-)의 수차 보정을 행한 경우에서의 광 디스크에 의한 반사 전의 광속의 상태 및 광 디스크에 의한 반사 후의 광속의 상태를 나타내고 있다. 또, 이들 도 16 (A), 도 16 (B), 도 18 및 후술하는 도 17 (A), 도 17 (B), 도 19 (A), 도 19 (B), 도 20 (A) 및 도 20 (B)에서, 파선은, 포커스 에러 신호가 0에서 RF 신호의 질이 최량으로 되는 귀환 광출사 초점 위치를 나타내고 있다.
즉, (-)의 수차 보정을 행한 경우에서는, 도 16 (A) 및 도 16 (B)에 도시한 바와 같이, 신호 최량의 상태에서는, 광 디스크가 실제로는 멀어지고 있는 (K > D에도 불구하고, 고 NA 광에 있어서는, 합초 위치보다도 니어(Near)측에 있는 듯이보인다(귀환광의 출사 초점 위치가, 최적 상태보다도 대물 렌즈에 가까운 측으로 된다). 이렇게 하면 포커스 에러 신호에서는, 신호 최량점이 니어(Near)측으로 어긋났다고 하는 결과로 된다. 도 16 (A)는, 반사 전의 광속의 상태를 나타내고, 도 16 (B)는, 반사 후의 광속의 상태를 나타내고 있다.
그리고, 도 17 (A) 및 도 17 (B)는, 각각 (+)의 수차 보정을 행한 경우에서의 광 디스크에 의한 반사 전의 광속의 상태 및 광 디스크에 의한 반사 후의 광속의 상태를 나타내고 있다. (+)의 수차 보정을 행한 경우에서는, 도 17 (A) 및 도 17 (B)에 도시한 바와 같이, 신호 최량의 상태에서는, 광 디스크는 실제로는 근접하고 있음(K > 1)에도 불구하고, 고 NA 광에 있어서는, 합초 위치 보다도 파(Far)측에 있는 것 같이 보인다(귀환 광의 출사초점 위치가 최적 상태 보다도 대물 렌즈로부터 먼 쪽으로 된다). 그렇게 하면, 포커스 에러 신호에서는, 신호 최량점이 파(far)측으로 어긋났다고 하는 결과로 된다. 도 17 (A)는, 반사 전의 광속의 상태를 나타내고, 도 17 (B)는, 반사 후의 광속의 상태를 나타내고 있다.
이 결과는, 포커스 에러 신호를 이른바「비점 수차법」이나「스폿 사이즈법」 등 어퍼쳐 내의 광속이 포커스 에러 신호에 기여하는 정도가 상이한 방법으로 검출하는 계에서는, 다른 결과로 되는 것을 나타내고 있다.
또한 실제로는, 포커스 에러 신호를 검출하는 귀환 광로의 NA를 어느 정도로 할 것인가, 「스포트 사이즈법」이면, 광 검출기의 분할폭을 어떻게 설정할 것인가 등에 따라서도 변화되기 때문에, K의 값은, 각각의 설계에 따라서, 적절하고, 최적화하는 것이 바람직한 것으로 된다.
또 하나의 일례로서, 고 NA 광과 저 NA 광과의 포커스 에러 신호에 대한 기여의 정도가 같은 계에 관해서, 전술한과 같이, 도 19 (A), 도 19 (B), 도 20 (A) 및 도 20 (B)에 모식적으로 나타낸다. 고 NA 광과 저 NA 광의 포커스 에러 신호에 대한 기여가 동일인 것을 고려하여, 반사 후에 있어서, 포커스 에러 신호가 O으로 되는 출사초점 위치에 대하여, 고 NA 광과 저 NA 광이 니어(Near)측, 또는, 파(Far)측으로 대칭으로 되도록 한 상태를 상정한다. 반사 후에 이와 같이 되는 수차를 반사전에 부여하여 두는 것을 생각하면, 저 NA 광의 합초 위치의 이동량(시프트량)을 보다 크게 한다, 즉, K > 1로 하면 된다.
또, 도 19 (A)는, (-)의 수차 보정을 행한 경우에서의 광 디스크(102)에 의한 반사 전의 광속, 도 19 (B)는, (-)의 수차 보정을 행한 경우에서의 광 디스크(102)에 의한 반사 후의 광속, 도 20 (A)는, (+)의 수차 보정을 행한 경우
에서의 광 디스크(102)에 의한 반사 전의 광속, 도 20 (B)는, (+)의 수차 보정을 행한 경우에서의 광 디스크(102)에 의한 반사 후의 광속을, 각각 나타내고 있다.
다음에, 다층 기록의 광 디스크의 경우 등과 같이, 커버 일층의 두께가 크게 다른 상태의 사이에서 전환을 행하는 경우에 대해 생각한다. 이 경우에는, 상술한 경우와는 달리, 신호 기록면 상에서 구면 수차가 최적 보정되는 것으로 되기 때문에, 보정 전후에서 포커스 에러 신호에 기여하는 광속의 합초 위치가 되도록이면 변화하지 않은 K가 최적의 K라는 것으로 된다.
도 15에 나타낸 중앙 부분이 분할된 수광면을 가지는 광 검출기를 사용하는경우에 대해 생각하면, 이 경우에는, 포커스 에러 신호에 주로 기여하는 것은, NA가 높은 영역의 광속이다. 따라서, 도 21 (A), 도 21 (B) 및 도 21 (C)에 도시한 바와 같이, NA가 높은 영역의 광속의 합초 위치를 유지한 채로, NA가 낮은 영역의 광속의 합초 위치의 어긋남(구면 수차)를 보정하는 것 같은 패턴이 바람직하다. 즉, 도 21 (A)에 도시한 바와 같이, 커버 일층이 얇은 상태에 있어서 수차가 보정되어 있는 것으로 하면 도 21 (B)에 도시한 바와 같이, 커버 일층이 두꺼운 상태로 되면, 고 NA 광의 합초 위치가 저 NA 광의 합초 위치 보다도 멀어지게 된다. 이것을 보정할 때는, 도 21 (C)에 도시한 바와 같이, 저 NA 광의 합초 위치를 고 NA 광의 합초 위치에 맞추도록 하면 된다.
이것을 실현하는 K의 값은, 상술한「최단 마크의 진폭을 유지하는 K의 값의 부분의 도면」(도 13 (A), 도 13 (B) 및 도 13 (C))으로부터 알 수 있는 바와 같이, 1.25정도로 된다.
그리고, 이 경우에도, 포커스 에러 신호의 검출 방식에 따라, 최적의 K의 값은 다르게 된다. 또, 전술한 바와 같이, 최적의 구면 수차 보정 패턴(즉, K의 값)을 생각한 경우, 일반적으로, 어떤 광 디스크에 대하여「보정량의 최적화(조정)」를 용이하게 하는 패턴과, 다층 간의 전환시에 포커스 바이어스(F0CUS BIAS)를 변화시키지 않는 패턴과는, 일치하지 않는 경우가 많다.
다음에, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에서의 광 헤드에 있어서 채용할 수 있는 각 패턴이, 어떤 경우에 적합한 것인가에 대해, 이하의 보정 패턴에 있어서 생각한다.
〔보정패턴〕= A{(-r4)-K(-r2)}
모든 K 를 실현할 수 있는 패턴으로는, 이하의 4가지(패턴 (A) 내지 패턴 (D))를 생각할 수 있다.
패턴(A)
일면: A(-r4)
타면: B(-r4)
보정 패턴: A(-r4)-B(-r2)
= A{(-r4)-(B/A)(-r2)}
= A{(-r4)-K(-r2)} (∵ B/A= K)
이 경우, K= B/A로 된다.
패턴(B)
일면: A(-r4)-B1(-r2)
타면: B2(-r2)
보정 패턴: A(-r4)-B1(-r2)-B2(-r2)
= A(-r4)-(B1+B2)(-r2)
= A(-r4)-B(-r2) (∵ B1+B2 = B)
= A{(-r4)-(B/A)(-r2)}
= A{(-r4)-K(-r2)} (∵ B/A = K)
패턴(C)
일면: A1(-r4)-B(-r2)
타면: -A2(-r4)
보정 패턴: A1(-r4)-B(-r2)+A2(-r4)
=(A1+A2)(-r4)-B(-r2)
= A(-r4)-B(-r2) (∵ A1+A2 = A)
= A{(-r4)-(B/A)(-r2)}
= A{(-r4)-K(-r2)} (∵ B/A= K)
이 경우, K=B/A=B/(A1+A2)로 된다.
패턴(D)
일면: A1(-r4)-B1(-r2)
타면: -A2(-r4)+B2(-r2)
보정 패턴: A1(-r4)-B1(-r2)+A2(-r4)-B2(-r2)
=(A1+A2)(-r4)-(B1+B2)(-r2)
=A(-r4)-B(-r2) (∵ A1+A2=A) (∵ B1+B2= B)
= A{(-r4)-(B/A)(-r2)}
= A{(-r4)-K(-r2)} (∵ B/A= K)
이 경우, K= B/A =(B1+B2)/(A1+A2)로 된다.
그리고, 2개의 K의 값의 간편한 전환을 실현할 수 있는 패턴으로는, 이하의 패턴(E)이 고려된다.
패턴(E) 패턴(D)에 있어서, 2면을 개별적으로 움직인다(각 면에 대해 움직일 때, 다른 쪽 면에 대해서는 움직이지 않는다).
또, 하나의 K에 맞추어 넣은 패턴으로는, 이하의 패턴 (F)가 고려된다.
패턴(F)
일면: A(-r4)-B(-r2)
타면: 고정 전극(전체면 전극)
보정 패턴: A(-r4)-B(-r2)
= A{(-r4)-B/A)(-r2)}
= A{(-r4)-K(-r2)} (∵ B/A= K)
이 경우, K= B/A 로 되고, A,B는 동일 전극에 대한 변수이기 때문에, K는 일정치로 된다.
그리고, 이하의 4개의 케이스(케이스(1) 내지 케이스(4))에 대하여, 각각 전술한 패턴의 어느 것이 적합한가를 나타낸다.
〔케이스(1)〕 다층 디스크 등에 대응하지 않고, 조정의 간편성만 중시하는 경우에는, 패턴(F)를 사용하는 것이 바람직하다.
〔케이스(2)〕편차 등도 포함시켜, K의 값을 임의로 설정한 경우에는, 패턴 (A) 내지 패턴 (D)중 어느 하나의 패턴을 사용하는 것이 바람직하다.
〔케이스(3)〕예를 들면, 조정과, 복수의 기록층 간의 전환을 위해, 2개의 K가 필요한 경우에는, 패턴(D)를 사용하는 것이 바람직하다.
〔케이스(4)〕수차 보정 소자의 구조나, 구동, 제어의 간소화를 생각하고, 조정, 또는 복수의 기록층 간의 전환 중 어느 하나, 또는 쌍방의 트레이드 오프로되는 하나의 K 에만 설정하는 경우에는, 패턴(F)를 사용하는 것이 바람직하다.
그 외에, 본 발명은, 상술한 최량의 형태에 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 응용 및 변형이 고려된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태의 광 헤드에 의하면 대물 렌즈와 광원과의 사이에, 상기 대물 렌즈와 상기 광원과의 사이에, 광 기록 매체의 기록층에 대한 광속의 구면 수차와 디포커스를 임의의 패턴으로 제어하는 수차 보정 소자를 형성함으로써, 고기록 밀도화, 고기록 용량을 위한「고 NA 화」「다층 기록」 등의 방법을 사용하는 경우에도, 이에 의하여 발생하는 파면 수차(주로 구면 수차)를 간편한 방법으로 최적 보정하는 것이 가능하게 된다.
또, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태의 광학 장치에 의하면, 광 헤드의 대물 렌즈와 광원과의 사이에, 상기 대물 렌즈와 상기 광원과의 사이에, 광 기록 매체의 기록층에 대한 광속의 구면 수차와 디포커스를 임의의 패턴으로 제어하는 수차 보정 소자를 형성함으로써, 고기록 밀도화, 고기록 용량을 위한「고 NA 화」 「다층 기록」등의 수법을 이용하는 경우에도, 이에 의하여 발생하는 파면 수차(주로 구면 수차를 간편한 방법으로 최적 보정하는 것이 가능하게 된다.
또, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태의 수차 보정 소자에 의하면, 광 헤드에 의한 신호 기록 방향에 대응하는 방향의 유효반경을 r로 했을 때, A≠B를 채우는 변수 A, B에 대해, 위상 분포식 A(-r4)-B(-r2)에 상당하는 위상 분포를 발생시킴으로써, 광 헤드나 광학 장치에 있어서 고기록 밀도화, 고기록 용량을 위한「고 NA 화」「다층 기록」 등의 방법을 이용하는 경우에도, 이에 의하여 발생하는 파면 수차(주로 구면 수차)를 간편한 방법으로 최적 보정하는 것이 가능하게 된다.

Claims (45)

  1. 정보 신호가 기록되는 기록층 상에 광 투과층을 가지는 광 기록 매체에 정보 신호의 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하는 광 헤드에 있어서,
    광속(光束)을 출사하는 광원과,
    상기 광속을 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광시키는 집광 수단과,
    상기 집광 수단에 의해 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되어 이 기록층에 의해 반사된 반사 광속을 검출하는 광 검출 수단을 포함하며,
    상기 광원으로부터 상기 집광 수단에 이르는 광로 상에 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되는 광속의 구면 수차(球面 收差) 및 디포커스를 임의의 패턴으로 제어하는 수차 보정 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 기록층 상에 집광되는 광속의 빔 스폿의 반경을 r로 하고, 서로 다른 변수를 A, B로 했을 때, 이하의 위상 분포식
    A(-r4)-B(-r2)
    으로 표현되는 위상 분포를 광속에 발생시키는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 집광 수단은 개구수가 0.65 이상인 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 위상 분포식에서의 변수 A 및 변수 B를 서로 독립적으로 변화시키는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 이 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 상기 K의 값을, 광속에 부여하는 구면 수차량을 변화시켰을 때 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 어긋남을 상쇄하여 포커스 바이어스값의 변화량이 극소로 되는 값으로 설정하는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 K의 값은 1보다 큰 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  7. 제2항에 있어서,
    최소한 2층 이상의 기록층이 형성되어 있는 광 기록 매체에 대하여 정보 신호의 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하는 것을 특징으로 하는 광 헤드
  8. 제7항에 있어서,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 이 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 상기 K의 값을, 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층 중 기록층의 선택의 전환에 의해 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 변화를 상쇄하는 값으로 하는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 이 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 상기 K의 값으로, 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층에 대응시켜 미리 복수의 값을 설정해 두고, 선택된 기록층에 대응하는 K의 값을 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  10. 제2항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 인가 전압에 따라 굴절률이 변화되는 굴절률 가변 수단과, 상기 굴절률 가변 수단에 전압을 인가하기 위한 전극을 구비하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광 헤드
  11. 제10항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 액정 소자에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 전극에 의해 인가되는 전압치는 투과하는 광속에 대하여 동심원형의 분포를 가지는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 한쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔A(-r4)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔B(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 B= B1+B2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A(-r4)-B1(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔B2(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  15. 제10항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 A= A1+A2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A1(-r4)-B(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔-A2(-r4)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 A=A1+A2, B=B1+B2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A1(-r4)-B1(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔-A2(-r4)+B2(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  17. 제10항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 이 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 한쪽 전극에 의해 K의 값이 광속에 부여하는 구면 수차량을 변화시켰을 때 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 어긋남을 켄슬하여 포커스 바이어스값의 변화량이 극소로 되는 값으로 설정되고, 다른 쪽 전극에 의해 K의 값이 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층 중 기록층의 선택의 전환에 의해 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 변화를 상쇄하는 값으로 설정되는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  18. 제10항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 상기 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 한쪽 전극에 의해 K의 값이 광속에 부여하는 구면 수차량을 변화시켰을 때 생기는 포커스 바이어스를 상쇄하고 포커스 바이어스값의 변화량이 극소로 되는 값으로 설정되고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층에 대응시켜 미리 설정된 복수의 K의 값으로부터, 선택된 기록층에 대응하는 K의 값이 선택되는 것을 특징으로 하는 광 헤드.
  19. 정보 신호가 기록되는 기록층 상에 광 투과층을 가지는 광 기록 매체에 정보 신호의 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하는 광학 장치에 있어서,
    광 기록 매체에 대하여 광속을 조사하는 동시에 이 광 기록 매체의 기록층으로부터의 반사 광속을 검출하는 광 헤드와,
    상기 광 헤드로부터 출력되는 광 검출 신호에 따라 상기 광 헤드를 제어하는 서보 회로와,
    상기 광 헤드로부터 출력되는 광 검출 신호를 처리하는 신호 처리 회로를 포함하며,
    상기 광 헤드는 광속을 출사하는 광원과, 상기 광속을 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광시키는 집광 수단과, 상기 집광 수단에 의해 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되어 상기 기록층에 의해 반사된 반사 광속을 검출하는 광 검출 수단과, 상기 광원으로부터 상기 집광 수단에 이르는 광로 상에 설치되어 상기 광 기록 매체의 기록층에 집광되는 광속의 구면 수차 및 디포커스를 임의의 패턴으로 제어하는 수차 보정 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 기록층 상에 집광되는 광속의 빔 스폿의 반경을 r로 하고, 서로 다른 변수를 A, B로 했을 때, 이하의 위상 분포식
    A(-r4)-B(-r2)
    로 표현되는 위상 분포를 광속에 발생시키는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 집광 수단은 개구수가 0.65 이상인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 위상 분포식에서의 변수 A 및 변수 B를 서로 독립적으로 변화시키는 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  23. 제20항에 있어서,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 이 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 상기 K의 값을, 광속에 부여하는 구면 수차량을 변화시켰을 때 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 어긋남을 상쇄하여 포커스 바이어스값의 변화량이 극소로 되는 값으로 설정하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  24. 제23항에 있어서,
    상기 K의 값은 1보다 큰 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  25. 제20항에 있어서,
    최소한 2층 이상의 기록층이 형성되어 있는 광 기록 매체에 대하여 정보 신호의 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  26. 제20항에 있어서,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 상기 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 상기 K의 값을, 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층 중 기록층의 선택의 전환에 의해 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 변화를 상쇄하는 값으로 하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  27. 제20항에 있어서,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 상기 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 상기 K의 값으로, 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층에 대응시켜 미리 복수의 값을 설정해 두고, 선택된 기록층에 대응하는 K의 값을 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  28. 제20항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 인가 전압에 따라 굴절률이 변화되는 굴절률 가변 수단과, 이 굴절률 가변 수단에 전압을 인가하기 위한 전극을 구비하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  29. 제28항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 액정 소자에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  30. 제28항에 있어서,
    상기 전극에 의해 인가되는 전압치는 투과하는 광속에 대하여 동심원형의 분포를 가지는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  31. 제28항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 한쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔A(-r4)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔B(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  32. 제28항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 B= B1+B2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A(-r4)-B1(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔B2(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  33. 제28항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 A= A1+A2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A1(-r4)-B(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔-A2(-r4)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  34. 제28항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 A= A1+A2, B= B1+B2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A1(-r4)-B1(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔-A2(-r4)+ B2(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  35. 제28항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 이 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 한쪽 전극에 의해 K의 값이 광속에 부여하는 구면 수차량을 변화시켰을 때 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 어긋남을 상쇄하여 포커스 바이어스값의 변화량이 극소로 되는 값으로 설정되고, 다른 쪽 전극에 의해 K의 값이 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층 중 기록층의 선택의 전환에 의해 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 변화를 상쇄하는 값으로 설정되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  36. 제28항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며,
    상기 위상 분포식에서의 A, B를 사용하여 B/A= K로 하고, 이 위상 분포식을 다음 식
    A(-r4)-B(-r2)
    = A{(-r4)-B/A(-r2)}
    = A{(-r4)-K(-r2)}
    과 같이 나타냈을 때, 한쪽 전극에 의해 K의 값이 광속에 주어지는 구면 수차량을 변화시켰을 때 생기는 포커스 바이어스의 최적치의 어긋남을 상쇄하여 포커스 바이어스값의 변화량이 극소로 되는 값으로 설정되고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 광 기록 매체에서의 2층 이상의 기록층에 대응시켜 미리 설정된 복수의 K의 값으로부터, 선택된 기록층에 대응하는 K의 값이 선택되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  37. 정보 신호가 기록되는 기록층 상에 광 투과층을 가지는 광 기록 매체에 정보 신호의 기록 및 재생 중 최소한 한쪽을 행하는 광 헤드 내의 광로 상에 설치 가능한 수차 보정 소자에 있어서,
    상기 기록층 상에 집광되는 광속의 빔 스폿의 반경을 r로 하고, 서로 다른 변수를 A, B로 했을 때, 이하의 위상 분포식
    A(-r4)-B(-r2)
    으로 표현되는 위상 분포를 투과 광속에 발생시키는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  38. 제37항에 있어서,
    인가 전압에 따라 굴절률이 변화되는 굴절률 가변 수단과, 상기 굴절률 가변 수단에 전압을 인가하기 위한 전극을 구비하여 구성되는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  39. 제38항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 액정 소자에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  40. 제38항에 있어서,
    상기 전극에 의해 인가되는 전압치는 투과하는 광속에 대하여 동심원형의 분포를 갖는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  41. 제37항에 있어서,
    상기 위상 분포식에서의 변수 A 및 변수 B를 서로 독립적으로 변화시키는 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  42. 제38항에 있어서,
    상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 한쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에 있어서의 〔A(-r4)〕항에 상당하는 위상 분포를발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에 있어서의 〔B(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  43. 제38항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 B= B1+B2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A(-r4)-B1(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔B2(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  44. 제38항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 A= A1+A2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A1(-r4)-B(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔-A2(-r4)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
  45. 제38항에 있어서,
    상기 수차 보정 수단은 상기 굴절률 가변 수단의 양측에 쌍을 이루는 전극이 형성되어 구성되며, 상기 위상 분포식에 있어서 A=A1+A2, B=B1+B2로 한 경우, 한쪽 전극에 의해 〔A1(-r4)-B1(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키고, 다른 쪽 전극에 의해 상기 위상 분포식에서의〔-A2(-r4)+B2(-r2)〕항에 상당하는 위상 분포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 수차 보정 소자.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100887612B1 (ko) * 2008-02-29 2009-03-10 주식회사 엘엠에스 광대역 위상지연소자의 제조방법 및 이를 포함하는 광픽업 장치

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6526897B1 (en) * 2000-09-21 2003-03-04 V. John Ondrasik Shelving system
US7277365B2 (en) 2001-12-07 2007-10-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information processing apparatus and method of processing optical information
JP4145593B2 (ja) * 2002-07-25 2008-09-03 パイオニア株式会社 球面収差補正装置及び球面収差補正方法
CN1890729B (zh) * 2003-09-12 2012-10-10 惠普开发有限公司 增强光学密度
JP4231759B2 (ja) 2003-09-22 2009-03-04 株式会社日立メディアエレクトロニクス 光情報記録装置
JP2005158171A (ja) * 2003-11-27 2005-06-16 Pioneer Electronic Corp 光ピックアップ
CN100452199C (zh) * 2004-04-21 2009-01-14 松下电器产业株式会社 共焦光学系统开口位置检测装置、控制装置、及其检测方法、光学头装置及光信息处理装置
EP1769499B1 (en) * 2004-07-14 2008-09-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Focus control in a multiple-beam disc drive
KR100716990B1 (ko) * 2005-01-05 2007-05-14 삼성전자주식회사 수차 보정용 액정소자 및 이를 구비한 광픽업 및 광 기록및/또는 재생기기
WO2006109414A1 (ja) * 2005-03-30 2006-10-19 Pioneer Corporation 光学式記録再生装置およびフォーカスサーチ方法
KR100717024B1 (ko) * 2005-08-29 2007-05-10 삼성전자주식회사 호환형 광픽업 및 이를 채용한 광 기록 및/또는 재생기기
JP4581969B2 (ja) * 2005-11-14 2010-11-17 コニカミノルタホールディングス株式会社 液晶デバイスおよび光ピックアップ
JP4407623B2 (ja) * 2005-11-18 2010-02-03 ソニー株式会社 再生装置、球面収差補正値及びフォーカスバイアス調整方法
JP2008071423A (ja) * 2006-09-14 2008-03-27 Sony Nec Optiarc Inc ディスクドライブ装置、フォーカスバイアス及び球面収差補正値の調整方法
JP2008310903A (ja) * 2007-06-15 2008-12-25 Sony Corp 補正値設定装置及び補正値設定方法
JP5692969B2 (ja) * 2008-09-01 2015-04-01 浜松ホトニクス株式会社 収差補正方法、この収差補正方法を用いたレーザ加工方法、この収差補正方法を用いたレーザ照射方法、収差補正装置、及び、収差補正プログラム
TWI406275B (zh) * 2010-08-20 2013-08-21 Sunplus Technology Co Ltd 光碟機中尋找最佳聚焦偏壓及球差補償值的方法與裝置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0567558A (ja) * 1991-09-06 1993-03-19 Nikon Corp 露光方法
JPH0777031B2 (ja) * 1991-10-16 1995-08-16 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 収差補償装置
JPH08212611A (ja) * 1995-02-01 1996-08-20 Asahi Optical Co Ltd 波面収差補正装置および光情報記録再生装置
JP3443226B2 (ja) * 1995-08-31 2003-09-02 パイオニア株式会社 光ピックアップ
JPH09251657A (ja) 1996-03-15 1997-09-22 Sony Corp 記録媒体記録再生装置および記録媒体記録再生方法
JP3795998B2 (ja) 1996-04-30 2006-07-12 パイオニア株式会社 波面収差補正ユニット、波面収差補正装置及び光ピックアップ
JPH10269611A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Pioneer Electron Corp 光ピックアップ及びそれを用いた多層ディスク再生装置
US6151154A (en) * 1998-03-12 2000-11-21 Pioneer Electronic Corporation Optical pickup, aberration correction unit and astigmatism measurement method
JP2000011388A (ja) * 1998-06-19 2000-01-14 Sony Corp 光情報記録再生装置および光情報記録再生方法
JP2000040237A (ja) * 1998-07-17 2000-02-08 Sony Corp 光記録再生装置及び光記録再生方法
JP4234837B2 (ja) * 1999-02-24 2009-03-04 富士通株式会社 光記憶装置
JP2003518703A (ja) * 1999-12-24 2003-06-10 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 光走査ヘッド
JP2001331964A (ja) 2000-05-24 2001-11-30 Pioneer Electronic Corp 収差補正ユニット、光ピックアップ装置及び記録再生装置
US6690500B2 (en) * 2000-06-30 2004-02-10 Pioneer Corporation Aberration correction apparatus and method
WO2003098615A1 (en) * 2001-08-24 2003-11-27 Sharp Kabushiki Kaisha Optical pickup device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100887612B1 (ko) * 2008-02-29 2009-03-10 주식회사 엘엠에스 광대역 위상지연소자의 제조방법 및 이를 포함하는 광픽업 장치

Also Published As

Publication number Publication date
CN1245714C (zh) 2006-03-15
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CN1459100A (zh) 2003-11-26
EP1288927A1 (en) 2003-03-05
US7542398B2 (en) 2009-06-02
JPWO2002073610A1 (ja) 2004-07-02
KR100931278B1 (ko) 2009-12-11
US20070230295A1 (en) 2007-10-04
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WO2002073610A1 (fr) 2002-09-19

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