CN1828731A - 磁记录介质、记录重放装置及压印模 - Google Patents

磁记录介质、记录重放装置及压印模 Download PDF

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Abstract

本发明揭示一种磁记录介质、记录重放装置及压印模。提供能够可靠读取磁信号的、具有伺服图形的磁记录介质。利用具有凸起部分40a及凹下部分40b的凹凸图形40，在伺服图形区As形成伺服图形，同时伺服图形区As的构成为具有地址图形区Aa及脉冲串图形区Ab的构成，在伺服图形区As中形成凸起部分40a，使得地址图形区Aa中形成的各凹下部分40b的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆Qa1、与脉冲串图形区Ab中形成的各凹下部分40b的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆Qb1的较大一方成为伺服图形区As中形成的各凹下部分40b的开口面的各内接圆Qx1、Qp1、Qa1、Qb1…中的最大直径的内接圆。

Description

磁记录介质、记录重放装置及压印模
技术领域
本发明涉及在伺服图形区域中利用凹凸图形形成伺服图形的磁记录介质、具有该磁记录介质的记录重放装置，以及制造该磁记录介质用的压印模。
背景技术
在美国专利5772905号说明书中，公开了在基材上形成纳米尺寸的凹凸图形的纳米压印光刻法(下面将形成纳米尺寸的凹凸图形的纳米压印光刻法也称为压印法)，该方法在制造半导体元件和信息记录介质等的工序中，用将形成纳米尺寸的凹凸图形后的压印模压入基材上的树脂层，并将压印模的凹凸形状复印到树脂层。在这种压印法中，首先制造在其复印面上形成纳米尺寸(作为一例，最小宽度为25nm左右)的凹凸图形的压印模(mold)。具体地说，用电子束光刻装置，将所要的图形描绘在覆盖硅基材的表面形成的氧化硅等薄膜(molding layer)而形成的树脂层上后，借助于利用反应性离子蚀刻装置以树脂层为掩模对薄膜进行蚀刻处理，以此在薄膜的厚度内形成具有多个凸起部分(features)的凹凸图形。以此制造压印模。
接着，在例如硅制的基材的表面旋转涂布有机玻璃(PMMA：树脂材料)，形成厚度55nm左右的树脂层(薄膜层)。接着，对基材和树脂层的叠层体以及压印模的双方进行加热后，将压印模的各突起部分压入基材的树脂层。这时，由于压印模的凸起部分压入的部位的树脂材料向压印模的凹下部分移动，在凸起部分压入的部位形成(复印)凹下部分(regions)。接着，将压入压印模后的状态的叠层体放置到室温为止后(冷却处理后)，从树脂层剥离压印模。借助于此，将压印模的凹凸图形中的各凸起部分复印到树脂层上，在基材上(树脂层)形成纳米尺寸的凹凸图形。然后，用形成凹凸图形的树脂层作为掩模对基材进行蚀刻处理，以此在基材上形成多个凹下部分。因此，借助于利用前述那样的技术(压印法)在信息记录介质用基材上的树脂层形成凹下部分，利用以该树脂层作为掩模使用的蚀刻处理，能制造具有纳米尺寸的凹凸图形的信息记录介质。
[专利文献1]美国专利5772905号说明书
但是，按照以往的压印法(制造方法)制造的信息记录介质(磁记录介质)中，存在以下所述问题。即在以往的制造方法中，借助于将压印模的凸起部分压入基材上形成的树脂层，在树脂层上设置凹下部分，形成凹凸图形，借助于用形成凹凸图形的树脂层作为掩模对基材进行蚀刻处理，在基材上形成凹凸图形。但是，按照这种制造方法制造例如不连续磁道型的磁记录介质时，有可能产生下述的问题，即凸起部分(压印模的凸起部分)对树脂的压入量不足，对在树脂层形成的(复印的)凹凸图形中的凹下部分的底部中残存的树脂材料进行清除处理时，凹下部分的开口面过分扩大，因而有可能难于高精度地将凹凸图形形成在磁记录介质上。
具体来说，例如图31所示，按照上述的制造方法制造的磁盘10z是按照下述规定制造的，即沿磁盘10z的旋转方向(该图中所示的箭头R的方向)交替排列由同心圆状多个数据记录道构成的形成数据道图形40tz的数据记录区Atz、和形成跟踪伺服用的伺服图形40sz的伺服图形区Asz。在这种情况下，如图32所示，磁盘10z的伺服图形区Asz，作为一个例子，具有形成前同步(preamble)图形的前同步图形区Apz、形成地址图形的地址图形区Aaz、以及在脉冲串(burst)区Ab1z～Ab4z的各区域中形成脉冲串图形的脉冲串图形区Abz。另外，在数据记录区Atz与前同步图形区Apz之间、前同步图形区Apz与地址图形区Aaz之间、地址图形区Aaz与脉冲串图形区Abz之间、以及脉冲串图形区Abz与数据记录区Atz之间的各区域中，形成用凹下部分构成的非伺服信号区Axz。再有，在脉冲串图形区Abz中的各脉冲串区Ab1z～Ab4z的各区域间，形成用凹下部分构成的非伺服信号区Axbz。在这种情况下，非伺服信号区Axz及Axbz中不记录跟踪伺服控制用的控制信号，成为非伺服信号区Axz及Axbz的几乎整个区域都由上述凹下部分构成而不存在凸起部分的状态。另外，在该图中用斜线涂满的区域表示伺服图形40sz及数据道图形40tz中的凸起部分的形成区。
在这种情况下，在上述磁盘10z中的数据记录区Atz和伺服图形区Asz中，形成其开口面窄的凹下部分(作为一例，沿着磁盘10z的旋转方向的开口长度和沿着磁盘10z的半径方向的开口长度中的任何一个较短的凹下部分)以及开口面宽的凹下部分(作为一例，旋转方向的开口长度和沿着半径方向的开口长度两者都较长的凹下部分)等各种凹下部分。此外，用于制造磁盘10z的压印模上，形成与磁盘10z上应该形成的凹凸图形其凹凸位置关系反转的凹凸图形39z(参照图33、34)。因此，如图33、34所示，在制造磁盘10z用的压印模上，形成其突出端面窄的凸起部分(图33所示的凸起部分39az)以及突出端面宽的凸起部分(图34所示的凸起部分39az)等各种凸起部分39az、39az…。在这种情况下，在以往的制造方法中，在压印模的全部区域用大致均匀的压力将凹凸图形39z压入树脂层。这时，如图33所示，在形成其突出端面比较窄的凸起部分39az的部位，凸起部分39az压入的部位的树脂材料向着压印模的凹下部分39bz、39bz内顺利移动，结果是能将凸起部分39az压入到树脂层的足够深的深处。其结果是，能在基材上形成凸起部分39az的前端与基材之间(凹下部分41bz的底部)的树脂层的厚度T1十分薄的凹凸图形41z。此外，在下面的说明中，将树脂层上形成的凹下部分的底面与基材间残留的树脂材料称为“残渣”。
与此相反，如图34所示，在形成其突出端面比较宽的凸起部分39az的部位，凸起部分39az压入过的部位的树脂材料向着压印模的凹下部分39bz、39bz内移动困难，结果难于将凸起部分39az压入到树脂层的十分深的深处。其结果是，在凸起部分39az的前端与基材之间(凹部41bz的底部)产生厚度T2的残渣，结果，凹下部分41bz的深度变浅。在这种情况下，在用形成凹凸图形41z的树脂层作为掩模对基材进行蚀刻处理时，有必要利用蚀刻处理等除去凹凸图形41z的凹下部分底面的41bz的底面的残渣(前述清除处理)。此外，如前所述，压入凸出端面窄的凸起部分39az、39az…的部位的残渣的厚度T1，比压入突出端面宽的凸起部分39az、39az…的部位的残渣的厚度T2还要薄得足够多。因此，在进行充分时间的蚀刻处理(清除处理)以便能确实去除厚度T2的残渣时，在厚度T2的残渣清除结束前，厚度T1的残渣的清除结束。其结果是，在厚度T1的残渣清除过的部位(开口面窄的凹下部分41bz的部位)，继续照射直到T2的残渣的清除结束为止的气体，渗透凹下部分41bz的内侧壁，凹下部分41bz过份扩大。因此，按照以往的制造方法制造的磁盘10z中，难于形成制造时所要的宽度的凹下部分41bz，所以有可能产生下述的问题，即数据记录区Atz和伺服图形区Asz形成的凹下部分的宽度过大，因此难于可靠地读取磁信号。
本发明是鉴于这样的问题而作出的，其主要目的在于提供能够可靠地读取磁信号的具有伺服图形的磁记录介质及记录重放装置、以及能够制造这样的磁记录介质的压印模。
发明内容
为了达到上述目的，本发明的磁记录介质，在基材的至少一面的伺服图形区，利用具有至少突出端部由磁性材料形成的凸起部分及凹下部分的凹凸图形形成伺服图形，同时该伺服图形区具有地址图形区及脉冲串图形区，在该伺服图形区形成所述凸起部分，使得所述地址图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆、与所述脉冲串图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆中的某一较大的内接圆，成为所述伺服图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆。本说明书中的“凹下部分的开口面”，是指夹着其凹下部分相邻的凸起部分的两突起端面的相对的端部之间、即清凹凸图形中的凸起部分的突起端面外的区域。
另外，本发明的磁记录介质，是在前述磁记录介质中，在所述基材的至少所述一面的数据记录区，利用至少突出端部由所述磁性材料形成的凸起部分，形成多个数据记录道，该各数据记录道形成为沿相邻的该数据记录道间的凹下部分中的开口面的所述半径方向的长度小于等于所述某一较大的内接圆的直径。
另外，本发明的记录重放装置，具有如前所述的任何一种磁记录介质、以及根据从该磁记录介质的所述伺服图形区读取的规定信号，进行跟踪伺服控制处理的控制单元。
另外，本发明的磁记录介质，在基材的至少一面的伺服图形区，利用具有至少突出端部由磁性材料形成的凸起部分及凹下部分的凹凸图形，形成伺服图形，所述伺服图形区的具有制造时利用所述凹凸图形记录跟踪伺服控制用的控制信号的多种第1功能区、以及形成与该各第1功能区的所述凹凸图形不同种类的凹凸图形的第2功能区，同时具有作为该多种第1功能区的一种的地址图形区及脉冲串图形区，并且在所述第2功能区形成所述凸起部分，使得所述第2功能区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆的直径，小于等于所述地址图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆与所述脉冲串图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆中的某一较大内接圆的直径。
再有，本发明的记录重放装置，具有如前所述的磁记录介质、以及根据从该磁记录介质的所述第1功能区读取的规定信号进行跟踪伺服控制处理的控制单元。
另外，本发明的压印模，是前述磁记录介质制造用的压印模，形成具有与如上述任一项所述的磁记录介质的所述凹凸图形的凹下部分相对应形成的凸起部分、以及与所述磁记录介质的所述凹凸图形的凸起部分相对应形成的凹下部分的凹凸图形。
采用本发明的磁记录介质，由于在伺服图形区形成凸起部分，使得地址图形区中形成的各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆与脉冲串图形区中形成的各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆的某一较大的内接圆，成为伺服图形区中形成的各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆，通过这样在伺服图形区内不存在具有能够存在直径超过较大的内接圆的直径的内接圆的、宽开口面的凹下部分，因此为在形成伺服图形区内形成凹凸图形而进行压印处理(将压印模的凹凸图形复印到磁记录介质制造用的中间体的树脂层的处理)时，不使用具有其突起端面过宽的凸起部分的压印模，能将压印模中的各凸起部分平稳地压入树脂层。通过这样，能避免在将压印模的凹凸图形复印到树脂层时中间体上产生偏厚的残渣，因此能避免发生由于残渣清除处理而在树脂层上形成的各凹下部分过度扩大的情况。因此，能避免磁记录介质上形成的各凹下部分过度扩大的事态发生。因此，能提供能够可靠地读取磁信号的具有伺服图形的磁记录介质。
另外，采用本发明的磁记录介质，通过在数据记录区形成各数据记录道，使得沿各数据记录道间的凹下部分的半径方向的长度小于等于伺服图形区中形成的各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆的直径，从而在为形成数据记录区内的凹凸图形进行压印处理(将压印模的凹凸图形复印到磁记录介质制造用的中间体的树脂层的处理)时，不使用具有其突起端面过宽的凸起部分的压印模，能将压印模中的各凸起部分平稳地压入树脂层。通过这样，可以提供具有能可靠地读写磁信号(能进行稳定的记录重放)的磁道图形的磁记录介质。
另外，采用本发明的记录重放装置，由于具有所述某一种磁记录介质、以及根据从该磁记录介质的伺服图形区读取的规定信号进行跟踪伺服控制处理的控制单元，从而能够不受除了记录跟踪伺服控制用的控制信号的区域外的区域中形成的凹凸图形(空图形)存在的影响，对于数据记录区内的各凸起部分(数据记录道)通过在磁道上的磁头进行记录数据的记录重放。
另外，采用本发明的磁记录介质，具有在制造时利用凹凸图形来记录跟踪伺服控制用的控制信号的多种第1功能区、以及形成与各第1功能区的凹凸图形不同种类的凹凸图形的第2功能区，在第2功能区形成凹下部分，使得第2功能区中形成的各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆的直径小于等于地址图形区中形成的各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆、与脉冲串图形区中形成的各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆中的某一较大的直径，从而与非伺服信号区Axz及Axbz的整个区域由凹下部分构成的以往的磁盘10z不同，不使用具有其突起端面过宽的凸起部分(突起端面的宽度与第2功能区相等的凸起部分)的压印模，就能将压印模中的各凸起部分平稳地压入树脂层。通过这样，能避免制造工序中在第2功能区内产生偏厚的残渣的情况发生，并能避免由于残渣的清除处理而造成凹下部分扩大，其结果是，可提供具有能够可靠读取磁信号的伺服图形的磁记录介质。
另外，采用本发明的记录重放装置，由于具有所述磁记录介质以及根据从该磁记录介质的第1功能区读取的规定信号进行跟踪伺服控制处理的控制单元，从而能够不受第2记录区中形成的凹凸图形(空图形)存在的影响，对数据记录区内的各凸起部分(数据记录道)通过在道上的磁头进行记录数据的记录和重放。
另外，采用本发明的压印模，通过形成具有与所述某一种磁记录介质的凹凸图形的凹下部分相对应而形成的凸起部分以及与磁记录介质的凹凸图形的凸起部分相对应形成的凹下部分的凸凹图形，从而在对制造磁记录介质用的中间体进行压印处理时，在压印模上不存在突起端面宽的凸起部分(例如，沿旋转方向的长度和沿半径方向的长度的两者都过长的凸起部分)，所以对于中间体能平稳地压入压印模的凹凸图形(各凸起部分)。因此，能避免由于各凸起部分的压入量不足而产生的不良情况(由于在中间体上产生偏厚的残渣而造成各凹下部分过度扩大的事态)。通过这样，可供能够可靠读取伺服数据的磁记录介质。
附图说明
图1为硬盘驱动器1的构成图。
图2为磁盘10的平面图。
图3所示为外圆周区域Ao的数据记录区At及伺服图形区As中形成的各种图形的一个例子的磁盘10的平面图。
图4所示为磁盘10的层结构的剖视图。
图5所示为表示数据记录区At中形成的数据道图形40t一个例子的磁盘10的平面图。
图6所示为表示外周侧区域Ao的前同步图形区Ap中形成的前同步图形的一个例子的磁盘10的平面图。
图7所示为表示外周侧区域Ao的地址图形区Aa中形成的地址图形一个例子的磁盘10的平面图。
图8所示为表示外周侧区域Ao的脉冲串图形区Ab的第1脉冲串区Ab1及第2脉冲串区Ab2中形成的脉冲串图形一个例子的磁盘10的平面图。
图9所示为表示外周侧区域Ao的脉冲串图形区Ab的第3脉冲串区Ab3及第4脉冲串区Ab4中形成的脉冲串图形一个例子的磁盘10的平面图。
图10所示为表示外周侧区域Ao的非伺服信号区Ax中形成的凹凸图形40一个例子的磁盘10的平面图。
图11所示为表示外周侧区域Ao的非伺服信号区Axb中形成的凹凸图形40一个例子的磁盘10的平面图。
图12所示为表示中间体20的层结构的剖视图。
图13为压印模30的剖视图。
图14为在玻璃基材31上形成抗蚀剂层32的状态的剖视图。
图15为对抗蚀剂层32照射电子束32a而形成潜像32b、32b…的状态的剖视图。
图16为对形成潜像32b、32b…的抗蚀剂层32进行显影处理而形成凹凸图形33的状态的剖视图。
图17为覆盖凹凸图形33而形成镍层34的状态的剖视图。
图18为利用镀层处理而形成镍层35的状态的剖视图。
图19为将镍层34及35的层叠体从玻璃基材31剥离形成的压印模37的剖视图。
图20为在压印模37的凹凸图形36的形成面形成镍层38的状态(将凹凸图形36复印到镍层38的状态)的剖视图。
图21为向中间体20的树脂层18压入压印模30的凹凸图形39的状态的剖视图。
图22为从图21所示的状态的树脂层18剥离压印模30后在掩膜层17上形成凹凸图形41(树脂掩膜)的状态的剖视图。
图23为将凹凸图形41作为掩膜对掩膜层17进行刻蚀处理后在磁性层14上形成凹凸图形42(掩膜)的状态的剖视图。
图24为将凹凸图形42作为掩膜对磁性层14进行刻蚀处理后在中间层13上形成凹凸图形40的状态的剖视图。
图25为覆盖凹凸图形40而形成非磁性材料层15的状态的中间体20的剖视图。
图26所示为表示外周侧区域Ao的数据记录区At及伺服图形区As中形成的各种图形的另一个例子的磁盘10a的平面图。
图27所示为表示外周侧区域Ao的伺服图形区As的脉冲串图形区Ab中形成的脉冲串图形的一个例子的磁盘10a的平面图。
图28所示为表示外周侧区域Ao的伺服图形区As的地址图形区Aa中形成的地址图形一个例子的磁盘10a的平面图。
图29为表示磁盘10b的层结构的剖视图。
图30为表示磁盘10c的层结构的剖视图。
图31为以往的磁盘10z的平面图。
图32所示为表示数据记录区Atz及伺服图形区Asz中形成的各种图形的一个例子的磁盘10z的平面图。
图33为磁盘10z的制造工序中，压印模的凸起部分39az、39az…(突起端面窄的凸起部分39az、39az…)压入的状态的树脂层的剖视图。
图34为磁盘10z的制造工序中，压印模的凸起部分39az、39az…(突起端面宽的凸起部分39az、39az…)压入的状态的树脂层的剖视图。
标号说明
1   硬盘驱动器
6   控制单元
10、10a～10d  磁盘
11  玻璃基材
14  磁性层
15  非磁性材料
30  压印模
39、40  凹凸图形
39a、40a  凸起部分
39b、40b  凹下部分
40s  伺服图形
40t  数据道图形
Aa   地址图形区
Ab   脉冲串图形区
Ab1～Ab4  第1～第4脉冲串区
Ax、Axb  非伺服信号区
Ap  前同步图形区
As  伺服图形区
At  数据记录区
L1、L2、L1a、L2a、L5  直径
L3、L4  长度
Qa1、Qb1、Qp1、Qx1、Qa2、Qb2、Qp2、Qx2  内接圆
具体实施方式
以下参照附图说明本发明的磁记录介质、记录重放装置以及压印模的最佳形态。
图1所示的硬盘驱动器1是本发明的记录重放装置的一个例子，具有电动机2、磁头3、检测单元4、驱动单元5、控制单元6、存储单元7及磁盘10，形成能够进行各种数据的记录重放的结构。电动机2按照控制单元6的控制，使磁盘10以例如4200rpm的转速恒速旋转。磁头3通过摇臂3a安装在执行机构3b上，在对磁盘10进行记录数据的记录和重放时，利用执行机构3b使磁头3在磁盘10上移动。另外，磁头3从磁盘10的伺服图形区As(参照图2)读出伺服数据，对数据记录区At(参照图2)进行记录数据的磁写入，以及对数据记录区At中磁写入的记录数据进行读出。另外，磁头3实际上形成在使磁头3相对于磁盘10浮起用的滑块的底面(空气轴承面)上，关于该滑块的说明及图示则省略。执行机构3b在控制单元6的控制下，利用驱动单元5供给的驱动电流，使摇臂3a摇动，从而使磁头3移动至磁盘10上的任意的记录重放位置。
检测单元4从磁头3输出的输出信号(模拟信号)取得(检测)伺服数据，向控制单元6输出。驱动单元5按照控制单元6输出的控制信号，控制执行机构3b，使磁头3位于所希望的数据记录道上。控制单元6对硬盘驱动器1进行综合控制。另外，控制单元6是本发明的控制单元的一个例子，根据检测单元4输出的伺服数据(“从伺服图形区读出的规定信号”的一个例子)，对驱动单元5进行控制(进行跟踪伺服控制处理)。存储单元7存储控制单元6的动作程序等。
另外，磁盘10是本发明的磁记录介质的一个例子，与前述电动机2及磁头3等一起设置在硬盘驱动器1的壳体内。该磁盘10是可利用垂直记录方式对记录数据进行记录的不连续磁道型磁盘(图形介质)，如图4所示，在玻璃基材上依次形成软磁性层12、中间层13及磁性层14。在这种情况下，磁性层14形成从突出端部(该图中的上端部)到根端部(该图中的下端部)全部由磁性材料形成的凸起部分40a、40a…以及在凸起部分40a、40a…之间的凹下部分40b、40b…，构成凹凸图形40。另外，在凹下部分40b、40b…中埋入SiO2等非磁性材料15，使磁盘10的表面平坦。再有，在埋入凹下部分40b、40b…的非磁性材料15和磁性层14(凸起部分40a)的表面，利用类金刚石碳(DLC)等，形成厚度为2nm左右的保护层16(DLC膜)。另外，在保护层16的表面涂布避免磁头3与磁盘10的双方划伤用的润滑剂(例如フオンブリン系润滑剂)。
玻璃基材11相当于本发明中的基材，对玻璃板进行表面研磨，形成厚度为0.6mm左右的圆片状。另外，本发明中的基材不限定于玻璃基材，可以使用铝或陶瓷等各种非磁性材料形成的圆片状的基材。软磁性层12是将CoZrNb合金等软磁性材料通过溅射形成厚度为100nm～200nm左右的薄膜状。中间层13是作为形成磁性层14用的衬底层起作用的薄层，是将Cr或CoCr非磁性合金等中间层形成用的材料通过溅射形成厚度为40nm左右的薄膜状。磁性层14是构成凹凸图形40(图3所示的数据道图形40t及伺服图形40s)的薄层，如后所述，是对例如溅射CoCrPt合金形成的薄层进行刻蚀处理，从而形成凹下部分40b、40b…。
在这种情况下，如图2所示，在该磁盘10中是这样规定的，即在数据记录区At、At…之间设置伺服图形区As、As…，数据记录区At与伺服图形区As在磁盘10的旋转方向(箭头R的方向)上交替排列。另外，在本说明书中，将在旋转方向上排列的两个数据记录区At、At之间夹着的区域(从一个数据记录区At中的旋转方向一侧的端部到另一个数据记录区At中的旋转方向一侧的端部之间的区域)记为伺服图形区As。另外，设数据记录区At中的旋转方向一侧的端部与将该数据记录区At中形成的多个数据记录道(下述凸起部分40a、40a…)的旋转方向一侧的各端部加以连接的假想线段(沿磁盘10的半径方向的直线状或圆弧段的线段)一致。
另外，在装有该磁盘10的硬盘驱动器1中，如前所述形成这样的构成，即电动机2按照控制单元6的控制，使磁盘10以恒角速度旋转。因而，在该磁盘10中是这样规定的，即沿磁盘10的旋转方向的数据记录区At的长度及沿旋转方向的伺服图形区As的长度与每单位时间磁头3的下方通过的磁盘10上的长度成正比，越是远离数据记录道40t的中心O，长度越长(数据记录区At及伺服图形区As的外周侧区域Ao的宽度比内周侧区域Ai要宽，越是外周侧区域越是宽)。其结果是，数据记录区At内形成的数据记录道(凸起部分40a)的突出端面的沿旋转方向的长度、以及伺服图形区As内形成的伺服图形40s用的各凸起部分40a、40a…的突出端面及各凹下部分40b、40b…的开口面(夹着其凹下部分40b相邻的凸起部分40a、40a…的两突起端面的相对的端部之间)的沿旋转方向上的基准长度(例如对应于基准信号长的长度)，在磁盘10的外周侧区域Ao比内周侧区域Ai要长，越是外周侧区域越是长。再有，在以下的说明中，沿凹下部分40b中的开口面的旋转方向的长度，也称为“沿凹下部分40b的旋转方向的长度”。此外，沿凹下部分40b中的开口面的磁盘10的半径方向的长度，也称为“沿凹下部分40b的半径方向的长度”。
另外，伺服图形区as内的各凸起部分40a、40a…的突出端面沿旋转方向的基准长度、以及各凹下部分40b、40b…的沿旋转方向的基准长度，假定在磁盘10的半径方向上，在相邻的数十条磁道的范围内为大致相等的长度。因此，在本说明书中，在该数十体条磁道的范围内沿旋转方向的基准长度是作为相等进行说明的。具体来说，例如设内周侧区域Ai中所包含的数十条磁道的范围内沿旋转方向的基准长度相等，外周侧区域Ao中包含的数十条磁道的范围内沿旋转方向的基准长度相等。另外，在说明各伺服图形区As中形成的凸起部分40a、40a…的突出端面沿旋转方向的长度、以及各凹下部分40b、40b…的沿旋转方向的长度时，只要不特别限定，则将距数据道图形40t的中心O的距离相等的同一半径位置(同一半径的区域内)的对应的长度作为基准进行说明。
另外，如图3所示，在数据记录区At中形成数据道图形40t。另外，在该图及后面参照的图5～11、26～28中用斜线涂满的区域，表示凹凸图形40中的凸起部分40a的形成区域。在这种情况下，如图5所示，数据道图形40t由以中心O(参照图2)为中心的同心圆状的多个凸起部分40a、40a…(数据记录道)与各凸起部分40a、40a…之间的凹下部分40b、40b…(磁道间凹下部分)所构成。另外，最好是磁盘10的旋转中心与数据道图形40t的中心O一致，但在磁盘10的旋转中心与数据道图形40t的中心O之间，有时产生因制造误差而引起的30～50μm左右的极小的偏移。但是即使是这样程度的偏移量，也能够对磁头3进行充分的跟踪伺服控制，因此可以说旋转中心与中心O实际上相同。
另外，如图5所示，在该磁盘10的数据记录区At中，作为一个例子，凸起部分40a(数据记录道)的突出端面沿磁盘10的半径方向的长度L3、与凹下部分40b(道间凹下部分)的沿半径方向的长度L4(开口长度)为相等的长度(长度比为1∶1)。另外，在该磁盘10中，数据记录区At中形成的凸起部分40a沿半径方向的长度L3、和凹下部分40b沿半径方向的长度L4规定为从磁盘10的内周侧区域Ai到外周侧区域Ao相等的长度。再有，将非磁性材料15埋入数据道图形40t的凹下部分40b、40b…，使数据记录区At的表面平滑。
另外，如图3所示，在伺服图形区As中形成伺服图形40s，该伺服图形40s具有在前同步图形区Ap形成的前同步图形、在地址图形区Aa形成的地址图形、在脉冲串图形区Ab形成的脉冲串图形、以及在非伺服信号区Ax形成的空图形。在这种情况下，前同步图形区Ap、地址图形区Aa及脉冲串图形区Ab相当于本发明的第1功能区，这些区域中形成的伺服图形40s相当于与本发明的“跟踪伺服控制用的控制信号”相对应的图形。另外，伺服图形40s中，前同步图形、地址图形及脉冲串图形(即除了空图形以外的图形)的凸起部分40a、40a…及凹下部分40b、40b…的形成位置及各自的大小(沿磁盘10的旋转方向的长度等)与本发明的“跟踪伺服控制用的控制信号”相对应来规定。
具体来说，前同步图形区Ap中形成的前同步图形是对从地址图形区Aa等读取各种控制信号用的基准时钟根据磁盘10的旋转状态(转速)进行修正用的伺服图形，如图6所示，磁盘10的半径方向(该图中的上下方向)长的带状的凸起部分40a、40a…沿磁盘10的旋转方向(箭头R的方向)夹着凹下部分40b、40b…形成。在这种情况下是这样规定的，即使得前同步图形区Ap中形成的凹下部分40b、40b…的沿旋转方向的长度L5、以及凸起部分40a、40a…中的突起端面沿旋转方向的长度是在相距中心O的距离相等的同一半径处相等的长度，而且外周侧区域Ao一侧比内周侧区域Ai要长。
在这种情况下，前同步图形区Ap中形成的凹下部分40b在外周侧区域Ao的开口面沿旋转方向的长度L5，作为一个例子，规定为数据记录区At中形成的凹下部分40b(道间凹下部分)的开口面的沿半径方向的长度L4的一半长度。另外，前同步图形的凸起部分40a及凹下部分40b沿旋转方向的长度不限定于上述例子，另外也可以将凸起部分40a的长度与凹下部分40b的长度规定为互相不同的长度。另外，由于前同步图形区Ap中形成的凹下部分40a、40a…的沿旋转方向的长度在同一半径位置上相等，因此与凹下部分40b、40b…的开口面的旋转方向一侧的两端部以两个点接触的各内接圆的直径在同一半径位置上相等。再有，在该磁盘10中，在前同步图形区Ap中的从内周侧区域Ai到外周侧区域Ao的整个区域形成的凹下部分40b、40b…的开口面上的各内接圆中，外周侧区域Ao中形成的凹下部分40b的开口面的内接圆Qp1的直径L5为最大直径。此外，以下的说明中，也将凹下部分40b的开口面中的内接圆称为“凹下部分40b的内接圆”。
另外，地址图形区Aa中形成的地址图形是与表示磁头3在道上的磁道的磁道编号等的地址数据等相对应形成的伺服图形，如图7所示，凸起部分40a、40a…的突出端面沿旋转方向的各长度、以及凹下部分40b、40b…的沿旋转方向的各长度与上述地址数据相对应来规定。在这种情况下是这样规定的，即使得地址图形区Aa中形成的凹下部分40b、40b…的沿半径方向的各长度中的最小长度，作为一个例子，与数据道图形40t的凸起部分40a的突起端面沿半径方向的长度L3及凹下部分40b的沿半径方向的长度L4之和(即道间距)相等。另外，在该磁盘10中，在伺服图形区As内形成凸起部分40a、40a…，使得地址图形区Aa中形成的凹下部分40b、40b…的各内接圆中的最大直径的内接圆Qa1(图7所示直径L1的内接圆)成为伺服图形区As内的所有凹下部分40b、40b…的各内接圆中的最大直径的内接圆。
另外，如图3所示，脉冲串图形区Ab具有第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4的各脉冲串区、以及非伺服信号区Axb、Axb…。在这种情况下，第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4中形成的脉冲串图形是使磁头3在所希望的道上用的位置检测用伺服图形，如图8及图9所示，沿磁盘10的旋转方向形成多个凹下部分40b、40b…，通过这样形成凸起部分40a与凹下部分40b沿旋转方向交替排列的区域以及凹下部分40b在旋转方向上连续的区域。
在这种情况下是这样规定的，即使得脉冲串图形区Ab的第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4中沿旋转方向排列的凸起部分40a、40a之间的凹下部分40b的沿旋转方向的长度，作为一个例子，与同一半径位置上的前同步图形区Ap中形成的凹下部分40b的沿旋转方向的长度相等。又是这样规定的，即使得脉冲串图形区Ab中形成的凸起部分40a、40a…的沿突起端面的沿旋转方向的长度，作为一个例子，与同一半径位置上的前同步图形区Ap中形成的凸起部分40a的沿突起端面的旋转方向的长度相等。还这样规定的，即使得脉冲图形区Ab的第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4中沿半径方向排列的凸起部分40a、40a之间的凹下部分40b的沿半径方向的最小长度，与地址图形区Aa中形成的凹下部分40b的沿半径方向的最小长度相等，而且，与数据道图形40t中形成的凸起部分40a的沿半径方向的长度L3及凹下部分40b的沿半径方向的长度L4之和(即磁道间距)相等。
另外，如图3所示，脉冲串图形区Ab中形成的凸起部分40a、40a…的列(沿旋转方向的排列的列)，在第1脉冲串区Ab1与第2脉冲串区Ab2之间沿半径方向错开一个磁道间距，同时在第3脉冲串区Ab3与第3脉冲串区Ab4之间沿半径方向错开一个磁道间距。再有，第1脉冲串区Ab1内的凹凸图形40和第2脉冲串区Ab2内的凹凸图形40成一对构成的脉冲串图形、与第3脉冲串区Ab3内的凹凸图形40和第4脉冲串区Ab4内的凹凸图形40成一对构成的脉冲串图形，沿半径方向相互错开1/2磁道间距。在这种情况下，如图8及9的两个图所示，在脉冲串图形区Ab的第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4内形成的凹下部分40b的各内接圆中的最大直径的内接圆Qb1，在沿磁盘10的旋转方向排列的凸起部分40a、40a的列之间，与四个凸起部分40a、40a…以四点点接触。另外，该内接圆Qb1的直径L2小于前述地址图形区Aa内的内接圆Qa1的直径L1。
再有，如图3所示，在数据记录区At与前同步图形区Ap之间、前同步图形区Ap与地址图形区Aa之间、地址图形区Aa与脉冲串图形区Ab之间、以及脉冲串图形区Ab与数据记录区At之间，分别规定本发明的第2功能区的一个例子、即非伺服信号区Ax。在该非伺服信号区ax中形成与上述前同步图形区Ap、地址图形区Aa及脉冲串图形区Ab(第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4)中形成的各种图形不同的图形(“与第1功能区的凹凸图形的种类不同的凹凸图形”的一个例子)。具体来说，如图10所示，在非伺服信号区Ax中形成沿磁盘10的半径方向(该图中的上下方向)长的带状的凸起部分40a、40a…，并沿磁盘10的旋转方向(箭头R的方向)在当中夹着凹下部分40b、40b形成。
在这种情况下是这样规定的，即非伺服信号区Ax中形成的凸起部分40a的突出端面沿旋转方向的长度、以及凹下部分40b的沿旋转方向的长度，作为一个例子，是在距中心O的距离相等的同一半径位置上相等的长度，而且外周侧区域Ao一侧的长度比内周侧区域Ai要长。从而，非伺服信号区Ax中形成的凹下部分40b、40b…的开口面的旋转方向一侧的两端部以两点相接触的各内接圆的直径在同一半径位置上相等，而且凹下部分40b的开口面在外周侧区域Ao的内接圆Qx1(直径L6)为非伺服信号区Ax内的凹下部分40b、40b…的各内接圆中的最大直径的内接圆。另外，在该磁盘10中是这样规定的，即非伺服信号区Ax的外周侧区域Ao上形成的凸起部分40a的突起端面沿旋转方向的长度、以及凹下部分40b的沿旋转方向的长度，与数据记录区At的凸起部分40a的突起端面的长度L3及凹下部分40b的的长度L4相等。另外，非伺服信号区Ax的凸起部分40a及凹下部分40b沿旋转方向的长度不限定于上述的例子，也可以将凸起部分40a的长度与凹下部分40b的长度规定为互相不同的长度。另外，也可以规定为与数据记录区At中形成的凸起部分40a的长度L3和凹下部分40b的长度L4不同的长度。
该非伺服信号区ax中形成的凹凸图形40是为了在制造时将压印模30(参照图13)的凸起部分39a、39a…平滑地压入树脂层18而形成的空图形，在对该磁盘10进行记录数据的记录和重放时，虽然利用磁头3进行磁信号的读取及利用检测单元4进行伺服数据的检测处理，但与该非伺服信号区Ax中形成的凹凸图形40相对应的数据被控制单元6判别为与跟踪伺服用的伺服数据不同的数据。因而，非伺服信号区Ax内形成的凸起部分40a及凹下部分40b的长度，不受其它图形的长度影响，在制造工序中的压印处理时可在不产生不合适的情况的范围内任意规定。另外，对于凸起部分40a及凹下部分40b的形状，也可以任意规定。
再有，如图3所示，在脉冲串图形区Ab的第1脉冲串区Ab1与第2脉冲串区Ab2之间、第2脉冲串区Ab2与第3脉冲串区Ab3之间、以及第3脉冲串区Ab3与第4脉冲串区Ab4之间，分别形成非伺服信号区Axb。该非伺服信号区Axb与上述的非伺服信号区Ax相同，是为了在制造时将压印模30(参照图13)的凸起部分39a、39a…平滑地压入树脂层18而形成的空图形的区域，如图11所示，与第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4的各区域中形成的脉冲串图形相同种类(相同形状)的图形形成为空图形。具体来说，在第1脉冲串区Ab1与第2脉冲串区Ab2之间的非伺服信号Axb(图中左侧的非伺服信号区Axb)中，在旋转方向的第1脉冲串区Ab1一侧形成与第1脉冲串区Ab1相同种类的脉冲串图形(凸起部分40a、40a…及凹下部分40b、40b…)，在旋转方向的第2脉冲串区Ab2一侧形成与第2脉冲串区Ab2相同种类的脉冲串图形(凸起部分40a及凹下部分40b、40b…)。
另外，在第2脉冲串区Ab2与第3脉冲串区Ab3之间的非伺服信号区Axb(图11的中央的非伺服信号区Axb)中，在旋转方向的第2脉冲串区Ab2一侧形成与第2脉冲串区Ab2相同种类的脉冲串图形，在旋转方向的第3脉冲串区Ab3一侧形成与第3脉冲串区Ab3相同种类的脉冲串图形。再有，在第3脉冲串区Ab3与第4脉冲串区Ab4之间的非伺服信号区Axb(图中右侧的非伺服信号区Axb)中，在旋转方向的第3脉冲串区Ab3一侧形成与第3脉冲串区Ab3相同种类的脉冲串图形，在旋转方向的第4脉冲串区Ab4一侧形成与第4脉冲串区Ab4相同种类的脉冲串图形。因而，脉冲串图形区Ab看起来就像不存在非伺服信号区Axb，而是第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4互相连接、连续的状态。但是，在对该磁盘10进行记录数据的记录、重放时，虽然从非伺服信号区Axb利用磁头3进行磁信号的读取等，但与该非伺服信号区Axb中形成的凹凸图形40相对应的数据被控制单元6判别为与跟踪伺服用的伺服数据不同的数据。
在这种情况下，如图11所示，非伺服信号区Axb内形成的凹下部分40b的各内接圆中的最大直径的内接圆Qb1，与第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4内形成的凹下部分40b的各内接圆中的最大直径的内接圆Qb1相同，在沿旋转方向排列的凸起部分40a、40a的列之间对四个凸起部分40a、40a…在四点点接触。另外，该内接圆Qb1的直径L2小于前述地址图形区Aa内的内接圆Qa1的直径L1。另外，非伺服信号区Axb内形成的凸起部分40a及凹下部分40b的长度及形状，不受其它图形的长度影响，在制造工序中的压印处理时可以在不产生不合适情况的范围内任意规定。
在该磁盘10中，如前所述，地址图形区Aa中形成的各凹下部分40b、40b…的各内接圆中的最大直径的内接圆Qa1(直径L1)成为伺服图形区As内形成的各凹下部分40b、40b…的各内接圆中的最大直径的内接圆。换句话说，在该磁盘10中，在伺服图形区As内形成凸起部分40a、40a…，使得在伺服图形区As内不存在具有能够存在直径超过上述内接圆Qa1的直径L1的内接圆的开口面的凹下部分40b。另外，在该磁盘10中，数据记录区At中形成的凹下部分40b(磁道间的凹下部分)的沿半径方向的长度L4比上述内接圆Qa1的直径L要短很多。换句话说，在该磁盘10中，在数据记录区At内形成凸起部分40a、40a…(数据记录道)，使得在数据记录区内At内不存在具有能够存在直径超过上述内接圆Qa1的直径L1的内接圆的开口面的凹下部分40b。
下面说明磁盘10的制造方法。
在制造上述磁盘10时，使用图12所示的中间体20及图13所示的压印模30。在这种情况下，如图12所示，中间体20是在玻璃基材11上依次形成软磁性层12、中间层13及磁性层14，同时在磁性层14上形成掩膜层17以及厚80nm左右的树脂层(抗蚀剂层)18而构成的。另外，压印模30是本发明的磁记录介质制造用的压印模的一个例子，如图13所示，它形成能够形成凹凸图形41的凹凸图形39，该凹凸图形41是用来形成磁盘10的凹凸图形40(数据道图形40t及伺服图形40s)的图形的，形成可利用压印法制造磁盘10的结构。在这种情况下，压印模30的凹凸图形39的凸起部分39a、39a…与磁盘10的凹凸图形40的凹下部分40b、40b…相对应而形成，凹下部分39b、39b…与凹凸图形40的凸起部分40a、40a…相对应而形成。
在制造该压印模30时，如图14所示，首先，在玻璃基材31上旋转涂布例如正型抗蚀剂后，进行烘烤处理，从而在玻璃基材31上形成厚150nm左右的抗蚀剂层32。然后，如图15所示，对与压印模30的凹下部分39b、39b…相对应的部位(即与磁盘10的凸起部分40a、40a…相对应的部位)照射电子束32a，在抗蚀剂层32中形成潜像32b(磁道图形及伺服图形)。接着，对抗蚀剂层32进行显影处理，从而如图16所示，在玻璃基材31上形成由抗蚀剂层32构成的凹凸图形33(凸起部分33a及凹下部分33b)。接着，如图17所示，利用溅射法形成厚30nm左右的镍层34，以覆盖凹凸图形33的凸起部分33a、33a…及凹下部分33b、33b…。然后，将该镍层34用作为电极使用，进行电镀处理，从而如图18所示，在镍层34上形成镍层35。这时，利用抗蚀剂层32形成的凹凸图形33被复印至镍层34与35的层叠体上，在凹凸图形33的凸起部分33a、33a…的部位形成凹下部分36b、36b…，同时在凹下部分33b、33b的部位形成凸起部分36a、36a…，在镍层34与35的层叠体上形成凹凸图形36。
接着，将玻璃基材31、抗蚀剂层32及镍层34与35的层叠体浸入抗蚀剂剥离液中，从而除去镍层34与35的层叠体和玻璃基材31之间的抗蚀剂层32。通过这样，如图19所示，将镍层34与35的层叠体从玻璃基材31上剥离，完成压印模37。然后，将压印模37用作为主压印模，制成压印模30(母压印模)。具体来说，首先对压印模37进行表面处理，从而在压印模37的凹凸图形36的形成面上形成氧化膜。接着，如图20所示，对形成了氧化膜的压印模37利用镀层处理形成镍层38。这时，压印模37的凹凸图形36被复印至镍层38，在凸起部分36a、36a…的部位形成凹下部分39b、39b…，同时在凹下部分36b、36b…的部位形成凸起部分39a、39a…，在镍层38上形成凹凸图形39。然后，从镍层38剥离压印模37之后，对镍层38的背面(相对于凹凸图形39的形成面的背面)进行研磨处理，使其平坦化，通过这样如图13所示完成压印模30。
另外，在制造中间体20时，首先在玻璃基材11上溅射CoZrNb合金，在玻璃基材11上形成软磁性层12之后，在软磁性层12上通过溅射中间层形成用的材料，形成中间层13。然后，在中间层13上通过溅射CoCrPt合金，形成厚15nm左右的磁性层14。接着，在磁性层14上形成掩膜层17，再在掩膜层17上例如旋转涂布抗蚀剂层，形成厚80nm左右的树脂层18。通过这样完成中间体20。
接着，如图21所示，对中间体20的树脂层18利用压印法复印压印模30的凹凸图形39。具体来说，将压印模30的凹凸图形39的形成面按压在中间体20的树脂层18上，通过这样将凹凸图形39的凸起部分39a、39a压入中间体20的树脂层18。这时，用这种压印模30制造的磁盘10如前所述，在伺服图形区As的全域及数据记录区At的全域中，形成凸起部分40a、40a…，使得不存在具有能够存在直径超过内接圆Qa1的直径L1的内接圆的开口面的凹下部分40b(不存在开口面过宽的凹下部分40b)。因此，在制造这种磁盘10用的压印模30中，在与该磁盘10的伺服图形区As及数据记录区At对应的全域中，形成凹下部分39b、39b…，使得不存在具有能够存在直径超过上述内接圆Qa1的直径L1的内接圆的突起端面的凸起部分39a(不存在突起端面过宽的凸起部分39a)。因此，将凸起部分39a、39a…平滑地压入压入树脂层18的结果是，在压印模30中的凸起部分39a的前端部与中间体20的掩模层17之间不会产生残渣，能将凸起部分39a、39a…压入树脂层18到足够的深度。
然后，从中间体20上剥离压印模30，再利用氧等离子体处理，除去底面残存的树脂(残渣：未图示)，如图22所示，以此在中间体20的掩膜层17上形成由树脂层18构成的凹凸图形41。接着，将上述凹凸图形41(树脂层18)用作为掩膜，进行刻蚀处理，通过这样在凹凸图形41的凹下部分41b、41b…的底部对从掩膜(凸起部分41a、41a…)露出的掩膜层17进行刻蚀，如图23所示，在中间体20的掩膜层17上形成具有凸起部分42a及凹下部分42b的凹凸图形42。接着，将凹凸图形42(掩膜层17)用作为掩膜，进行刻蚀处理，通过这样在凹凸图形42的凹下部分42b、42b…的底部对从掩膜(凸起部分42a、42a…)露出的磁性层14进行刻蚀，这样，如图24所示，在中间体20的磁性层14上形成具有凸起部分40a和凹下部分40b的凹凸图形40(数据道图形40t及伺服图形区40s)，该凸起部分40a的突起端面的宽度与压印模30中的凹下部分39b的开口面大致相等，该凹下部分40b的开口面的宽度与压印模30中的凸起部分39a的突起端面大致相等。接着，对凸起部分40a、40a…上残存的掩膜层17有选择地进行刻蚀处理，从而完全除去残存的掩膜层17，使凸起部分40a、40a…的突出端面露出。
接着，如图25所示，溅射作为非磁性材料15的SiO2。这时，充分溅射非磁性材料15，以形成利用非磁性材料15完全填埋凹下部分40b、40b…、而且在凸起部分40a、40a…上形成例如厚60nm左右的非磁性材料层15。接着，对磁性层14上(凸起部分40a、40a…上及凹下部分40b、40b…上)的非磁性材料层15进行离子束刻蚀处理。这时继续进行离子束刻蚀，直到各凸起部分40a、40a…的突出端面从非磁性材料15露出为止。通过这样使中间体20的表面平坦化。接着，利用CVD法形成类金刚石碳(DLC)的薄膜，覆盖中间体20的表面，从而形成保护层16，然后在保护层16的表面涂布フオンブリン系润滑剂，使其平均厚度为例如2nm左右。通过这样，如图4所示完成磁盘10的制造。
在装有该磁盘10的硬盘驱动器1中，如前所述，在对磁盘10进行记录数据的记录重放时，与非伺服信号区Ax、Ax…及非伺服信号区Axb、Axb…中形成的凹凸图形40相对应的数据被控制单元6判别为是与跟踪伺服用的伺服数据不同的数据。具体来说，控制单元6在包含检测单元4输出的伺服数据的数据中，根据与前同步图形区Ap、地址图形区Aa及脉冲串图形区Ab(除了非伺服信号区Axb外)中形成的凹凸图形40相对应的数据，控制驱动单元5，通过这样驱动执行机构3b，使磁头3在所希望的道上。其结果是，不受非伺服信号区Ax及Axb中形成的凹凸图形40(空图形)存在的影响，能够对数据记录区At内的凸起部分40a、40a…(数据记录道)通过在磁道上的磁头3进行记录数据的记录和重放。
这样，采用该磁盘10及硬盘驱动器1，由于在伺服图形区As形成凸起部分40a、40a…，使得地址图形区Aa中形成的各凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆Qa1为伺服图形区As中形成的各凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆，从而在伺服图形区As内不存在具有能够存在直径超过上述内接圆Qa1的直径L1的内接圆的宽开口面的凹下部分40b，因此，在对形成伺服图形区As内的凹凸图形40用的压入处理时(在本例中，将压印模30的凹凸图形39复印到中间体20中的树脂层18上的处理时)，不使用其突起端面具有过宽的凸起部分的压印模，能将凸起部分39a、39a…平稳地压入树脂层18。通过这样，能避免在将压印模30的凹凸图形39复印到树脂层18上时，在掩模层17上产生偏厚的残渣的情况，因此能避免因为残渣的清除处理而使凹下部分41b、41b…变得过宽的情况发生。从而，能避免凹下部分41b、41b…的部位上最后形成的凹下部分40b、40b…变得过宽的情况发生。因此，能够提供能可靠地读取磁信号的具有伺服图形的磁盘10、以及具有该磁盘10的硬盘驱动器1。
另外，采用该磁盘10及硬盘驱动器1，在数据记录区At形成各数据记录道(凸起部分40a、40a)，使得凹下部分40b的半径方向上的长度L4小于等于伺服图形区As中形成的各凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆的直径(在这一例子中，是地址图形Aa中形成的凹下部分40b的开口面的内接圆QA1的直径L1)，因此，在用于形成数据记录区At内的凹凸图形40的压入处理进行时(在本例中，将压印模30的凹凸图形39复印到中间体20中的树脂层18上的处理时)，不使用其突起端面具有过宽的凸起部分的压印模，能将压印模30的凸起部分39a、39a…平稳地压入树脂层18。通过这样，可提供能够可靠地读写磁信号(进行稳定的记录和重放)的具有磁道图形的磁盘10、以及具有该磁盘10的硬盘驱动器1。
再有，采用该磁盘10及硬盘驱动器1，具有制造时利用凹凸图形40来记录跟踪伺服控制用的控制信号的多种第1功能区(在这一例子中，是前同步图形区Ap、地址图形区Aa及脉冲串图形区Ab)、以及形成与各第1功能区的凹凸图形40不同种类的凹凸图形40的第2功能区(非伺服信号区Ax)，构成伺服图形区As，通过在非伺服信号区Ax形成凸起部分40a、40a，使得在非伺服信号区Ax形成的各凹下部分40b、40b…的开口面中的各内接圆中的最大直径的内接圆的直径，小于等于在地址区Aa形成的各凹下部分40b、40b…的开口面中的各内接圆中的最大直径的内接圆Qa1的直径，通过这样，与用凹下部分构成非伺服信号区Axz及Axbz的整个区域的以往的磁盘10z不同，不使用其突起端面具有过宽的凸起部分(突起端面的宽度与第2功能区相等的凸起部分)的压印模，能将压印模30中的各凸起部分39a、39a…平稳地压入树脂层18。通过这样，能避免制造工序中在非伺服信号区Ax内产生偏厚的残渣，并能避免由于残渣的清除处理而产生的凹下部分41b的扩大，其结果是，可提供能可靠读取磁信号的具有伺服图形的磁盘10、以及具有该磁盘10的硬盘驱动器1。
另外，采用该硬盘驱动器1，具有根据从磁盘10的伺服图形区As读取的规定信号进行跟踪伺服控制处理的控制单元6，从而可以不受非伺服信号区Ax(第2功能区)中形成的凹凸图形40(空图形)存在的影响地，对数据记录区At内的凸起部分40a、40a…(数据记录道)通过在磁道上的磁头3进行记录数据的记录和重放。
另外，采用上述压印模30，形成具有与磁盘10的凹凸图形40的凹下部分40b、40b…相对应的而形成的凸起部分39a、39a…、以及与磁盘10的凹凸图形40的凸起部分40a、40a…相对应而形成的凹下部分39b、39b…的凹凸图形39，从而在对中间体20进行压印处理时，因为在压印模30上不存在突起端面宽的凸起部分39a(例如，沿旋转方向的长度和沿半径方向的长度的两者都过长的凸起部分39a)，所以，能对于中间体平滑地压入凹凸图形39(凸起部分39a、39a…)。因此能避免因凸起部分39a、39a…的压入量不足而产生的不合适的情况(由于掩模层17上产生偏厚的残渣而使凹下部分41b过宽的情况)。通过这样，能制造可以可靠读取伺服数据的磁盘10。
另外，本发明不限定于上述结构。例如，在上述磁盘10中，是在伺服图形区As内形成凸起部分40a、40a…，使得地址图形区Aa中形成的各凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径(在这一例中，是直径L1)的内接圆Qa1成为伺服图形区As内形成的全部凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆，但本发明不限定于此，例如也可以如图26所示的磁盘10a那样，在伺服图形区As内形成凸起部分40a、40a…，使得脉冲串图形区Ab(第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区域Ab4)中形成的各凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆Qb2成为伺服图形区As内形成的全部凹下部分40a、40a…的开口面的各内接圆(在这一例子中，是内接圆Qx2、Qp2、Qa2)中的最大直径的内接圆。具体来说，在该磁盘10a中，如图27所示，脉冲串图形区Ab中形成的凹下部分40b的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆Qb2，在沿磁盘10的旋转方向排列的凸起部分40a、40a…的列之间与四个凸起部分40a、40a…在四个点点接触。另外，如图28所示，地址图形区Aa中形成的凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆Qa2，在凹下部分40b的开口面中的旋转方向一侧的两端部，与凸起部分40a、40a在两个点上点接触，该内接圆Qa2的直径L1a小于上述内接圆Qb2的直径L2a。
在该磁盘10a中，如上所述，脉冲串图形区Ab中形成的各凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆Qb2(直径L2a)为伺服图形区As内形成的各凹下部分40b、40b…的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆。换句话说，在该磁盘10a中，在伺服图形区As内形成凹凸图形40，使得具有能够存在直径超过上述内接圆Qb2的直径L2a的内接圆的开口面的凹下部分40b不存在。另外，在该磁盘10a中，数据记录区At的凸起部分40a、40a之间的凹下部分40b(磁道间凹下部分)沿半径方向的长度L4比上述内接圆Qb2的直径L2a短很多。换句话说，在该磁盘10a中，在数据记录区At内形成凹凸图形40，使在具有能够存在直径超过上述内接圆Qb2的直径L2a的内接圆的开口面的凹下部分40b不存在。
因此，采用该磁盘10a，与前述磁盘10相同，在树脂层18上形成将凹凸图形40形成在中间体20上用的凹凸图形41时(压入处理时)，能够将压印模30的凸起部分39a、39a…平稳地压入树脂层，其结果是，在压印模30中的凸起部分39a的前端部与中间体20的掩模层17之间不会产生偏厚的残渣，能将凸起部分39a、39a…压入树脂层18直到足够深为止。其结果是，能避免偏厚的残渣产生的情况，所以能避免在残渣清除处理时凹下部分41b过度扩大的情况发生。通过这样，与前述磁盘10相同，可提供能够可靠读取伺服数据的磁盘10a。
另外，在上述的磁盘10中，是从凹凸图形40的凸起部分40a的突出端部到根端部全部由磁性层14(磁性材料)形成，但构成本发明的凹凸图形的凸起部分不限定于此。具体来说，例如，如图29所示的磁盘10b那样，通过形成较薄厚度的磁性层14，以覆盖玻璃基材11上形成的凹凸图形(与凹凸图形40的凹凸位置关系相同的凹凸图形)，从而能够利用其表面由磁性材料形成的多个凸起部分40a、40a…及底面由磁性材料形成的多个凹下部分40b、40b…构成凹凸图形40。另外，也可以如图30所示的磁盘10c那样，不仅是凸起部分40a，而且包含凹下部分40b的底部也可以由磁性层14形成，构成凹凸图形40。再有，也可以例如仅凹凸图形40的凸起部分40a的突出端部由磁性层14形成，而根端部一侧由非磁性材料或软磁性材料形成，具有这样形成的凸起部分40a、40a…，从而构成凹凸图形40(未图示)。
另外，在上述磁盘10中，是在非伺服信号区Ax、Ax…及非伺服信号区Axb、Axb…中形成空图形(凹凸图形40)，但本发明不限定于此。例如，在数据记录区At与前同步图形区Ap之间、前同步图形区Ap与地址图形区Aa之间、地址图形区Aa与脉冲串图形区Ab之间、以及脉冲串图形区Ab与数据记录区At之间，规定用凸起部分40a构成全区域的非伺服信号区，同时在脉冲串图形区Ab的第1脉冲串区Ab1与第2脉冲串区Ab2之间、第2脉冲串区Ab2与第3脉冲串区Ab3之间、以及第3脉冲串区Ab3与第4脉冲串区Ab4之间，也规定用凸起部分40a构成全区域的非伺服信号区，构成磁盘。
另外，在上述磁盘10中，是在非伺服信号区Ax、Ax…内形成具有外周侧区域Ao中沿旋转方向的长度与数据记录区At内的凹下部分40b沿半径方向的长度L4(数据记录道间的道间凹下部分的道宽)相等的带状凹下部分40b、40b…的凹凸图形40作为空图形，但本发明不限定于此。例如，可以像磁盘10的非伺服信号区Axb那样，采用形成和与非伺服信号区Ax在旋转方向相邻的区域内形成的凹凸图形40相同种类的图形作为空图形的结构(伺服图形区As内不存在本发明的第2功能区的结构)，或者形成形状与本发明的第1功能区内的凹凸图形40不相同的任意形状的凹凸图形40作为空图形的结构。再有，在上述磁盘10中，是在非伺服信号区Axb内形成与第1脉冲串区Ab1～第4脉冲串区Ab4内的凹凸图形40相同种类的凹凸图形40作为空图形，但本发明不限定于此。例如，可以采用在非伺服信号区Axb内形成与非伺服信号区Ax内的凹凸图形40相同种类的凹凸图形40的结构，或者采用形成形状与本发明的第1功能区内的凹凸图形40不相同的任意形状的凹凸图形40作为空图形的结构。除此以外，在上述磁盘10～10c中，是仅在玻璃基材11的单面形成伺服图形40s及数据道图形40t，但本发明的磁记录介质不限定于此，也可以在玻璃基板11的正反两面上形成伺服图形40s及数据道图形40t。

Claims (6)

1.一种磁记录介质，其特征在于，
在基材的至少一面的伺服图形区，利用具有至少突出端部由磁性材料形成的凸起部分及凹下部分的凹凸图形，形成伺服图形，同时该伺服图形区具有地址图形区及脉冲串图形区，
在该伺服图形区形成所述凸起部分，使得所述地址图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆、与所述脉冲串图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆的较大一方成为所述伺服图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆。
2.如权利要求1所述的磁记录介质，其特征在于，
在所述基材的至少所述一面的数据记录区，利用至少突出端部由所述磁性材料形成的凸起部分，形成多个数据记录道，该各数据记录道形成为沿相邻的该数据记录道间的凹下部分中的开口面的半径方向的长度小于等于所述任一较大的内接圆的直径。
3.一种磁记录介质，其特征在于，
在基材的至少一面的伺服图形区，利用具有至少突出端部由磁性材料形成的凸起部分及凹下部分的凹凸图形，形成伺服图形，
所述伺服图形区的构成为具有制造时利用所述凹凸图形记录跟踪伺服控制用的控制信号的多种第1功能区、以及形成与该各第1功能区的所述凹凸图形不同种类的凹凸图形的第2功能区，同时具有作为该多种第1功能区的一种的地址图形区及脉冲串图形区，并且
在该第2功能区形成所述凸起部分，使得所述第2功能区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆的直径小于等于所述地址图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆与所述脉冲串图形区中形成的所述各凹下部分的开口面的各内接圆中的最大直径的内接圆中的某一较大一方的直径。
4.一种记录重放装置，其特征在于，
具有权利要求1或2所述的磁记录介质、以及根据从该磁记录介质的所述伺服图形区读取的规定信号进行跟踪伺服控制处理的控制单元。
5.一种记录重放装置，其特征在于，
具有权利要求3所述的磁记录介质、以及根据从该磁记录介质的所述第1功能区读取的规定信号进行跟踪伺服控制处理的控制单元。
6.一种磁记录介质制造用的压印模，其特征在于，
形成具有与权利要求1至3的任一项所述的磁记录介质的所述凹凸图形的凹下部分相对应形成的凸起部分以及与所述磁记录介质的所述凹凸图形的凸起部分相对应形成的凹下部分的凹凸图形。
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