CN1653561A - 透明导电层合薄膜、含透明导电层合薄膜的接触面板以及透明导电层合薄膜的制备方法 - Google Patents

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Abstract

用于接触面板的透明导电层合薄膜接触面板，其对透过光束变色小，光透过率高。所述透明导电层合薄膜(100)包括层压于透明衬底(A)上的、光学厚度在100～175nm之间的中间层(B)和光学厚度在10～60nm之间的导电层(C)。中间层的折射率在1.7～1.85范围内，其值介于衬底的折射率和导电层的折射率之间。

Description

透明导电层合薄膜、含透明导电层合薄膜的接触面板 以及透明导电层合薄膜的制备方法
                        技术领域
本发明涉及一种透明导电层合薄膜以及使用了这种薄膜的接触面板，所述薄膜的制作成本低，制作过程简单，且透过光变色较小。
                        背景技术
作为使用在各种显示仪器，如液晶显示器和阴极射线管(CRT)，的显示表面上，并通过接触面板幕来输入信息的设备，接触面板已经被人们熟知。典型的接触面板的种类包括电阻式接触面板，它含排列好的两个电极衬底，使每个衬底上的导电层为互相面对。
电阻式接触面板所用的传统电极衬底包括：衬底，它由玻璃板、树脂片或者热塑性聚合物薄膜制成；以及形成于衬底表面的导电层。导电层含导电金属氧化物，如氧化铟锡(ITO)和氧化锌。
在传统的电极衬底中，具备相对较短波长的可见光由于在导电层上被反射及吸收而使其透过率被降低，因而总的光线透过率就被降低了，透过接触面板的光成为黄色或者褐色，从而很难在接触面板的显示设备上显示出真实色彩。
为了解决这个问题，日本早期公开专利No.6-218864作为首个在先技术，披露了一种具有比导电层和衬底折射率折射率都要高的、位于导电层和衬底之间的高折射率折射率层的层合薄片和一种具有比导电层和衬底折射率都要低的、位于导电层和衬底之间的低折射率层的层合薄片。根据所述在先技术的层合薄片，波长在550nm左右的光的反射率被降低了，如图5所示，同时波长在550nm左右的光的透过率被改善了，如图6所示。因此，总的光透过率被改善了。然而，透过的光线颜色变黄或变褐的问题仍然没有解决。
日本早期公开专利号NO.11-286066作为第二在先技术，披露了一种导电薄膜，其中，导电层和衬底之间，层压有多层光学薄膜。
第二在先技术的导电薄膜具备非常复杂的结构，并且由于具有数量众多的光学薄膜，其生产成本也较高。
                        发明内容
本发明的一个目的是提供一种透明导电层合薄膜以及使用这种层合薄膜的接触面板，所述层合薄膜制作成本低，制作过程简单，且透过光变色很小。
本发明者发现，能防止透过光线变黄的透明导电材料，可以通过将衬底、具有特殊性能的中间折射率层以及具有特殊性能的导电层以特殊的顺序层压制得。
按照本发明的一个方面，提供了一种透明导电层合薄膜，它包括：光透过衬底、通过至少一层直接或间接层压在衬底一个表面或两个表面上的中间层以及层压在中间层上的导电层。中间层的光学厚度为100～175nm，导电层的光学厚度为10～60nm，中间层的折射率为1.7～1.85，其值介于衬底和导电层的折射率值之间。
按照本发明的另一个方面，提供了透明导电层合薄膜的制备方法。该方法包括：制备光透过衬底；在衬底的一个表面上覆盖一光学厚度在100～175nm、折射率为1.7～1.85(比衬底的折射率要高)的中间层；以及在中间层上覆盖一光学厚度在10～60nm、折射率比中间层高的导电层。
                        附图说明
图1为本发明实施例1的透明导电层合薄膜的横截面的示意图；
图2为本发明实施例5的接触面板的横截面的示意图；
图3和图4分别为本发明优选实施方式的透明导电层合薄膜的反射率和透过率的图表；以及
图5和图6分别为传统导电层合薄膜的反射率和透过率的图表。
                        具体实施方式
下面将详细描述本发明的一个优选实施方式。
按照本优选实施方式，透明导电层合薄膜包括：光透过衬底A、通过至少一层直接或间接层压在衬底一个表面或两个表面上的中间折射率层B以及导电层C。中间折射率层B的光学厚度为100～500nm，导电层C的光学厚度为10～60nm。中间折射率层B的折射率为1.7～1.85。衬底A的折射率低于中间折射率层B的折射率，而中间折射率层B的折射率低于导电层C的折射率〔衬底A的折射率＜中间折射率层B的折射率＜导电层C的折射率〕，光学厚度指折射率n和层厚度d的乘积(n×d)。
衬底A没有特别的限制，只要它是公知的透明材料。作为衬底A，优选，例如，玻璃和透明树脂，如聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、甲基丙烯酸甲酯共聚物、三乙酸纤维素、聚烯烃、聚酰胺、聚氯乙烯以及无定形聚烯烃。
衬底A的外形可以是，例如，薄片或薄膜。从生产和运输的角度出发，优选塑料薄膜。从生产和透明度的角度出发，衬底A的厚度优选10～500μm，进一步优选50～200μm。
下面，描述中间折射率层B。由于具有特殊折射率和特殊光学厚度的中间折射率层B成形于衬底A和导电层C之间。本实施方式的透明导电层合薄膜减少了紫光至蓝光的反射，因而减少了透过光线的变色。
中间折射率层B的折射率在1.7～1.85之间。这个值比衬底A的折射率要大，但比导电层C的折射率小。如果中间折射率层B的折射率低于1.7或者是高于1.85，则透过光线的变色度将增加。
中间折射率层B的光学厚度优选在100～175nm之间。将中间折射率层B的光学厚度设定在预定范围之内后，蓝色光(波长在400nm左右)的反射尤其被减少了。如果光学厚度低于100nm或者是高于175nm，透过光线的变色将更大。
只要折射率不超出特定的范围而本实施方式的目的未受影响，构成中间折射率层B的材料没有特别的限制，可以用公知的材料。例如，可使用无机物或者无机物和有机物的混合物。这里，作为无机物，可用，例如，金属氧化物，如氧化锌、氧化钛、氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化钽、氧化钇、氧化镱、氧化锆、氧化铟锡、氧化锑锡。以上无机物中，优选氧化锆、氧化钛、氧化铟锡、氧化锑锡以及氧化铈。从折射率、电绝缘性以及光电阻等角度出发，最优选氧化锆。
中间折射率层B的成型方法也没有特别的限制。例如，可采用干涂法，如气相沉积法、喷射法、离子镀法、化学气相沉积法(CVD)以及电镀法。以上方法中，从易于控制膜层的厚度的角度出发，优选气相沉积法和喷射法。
当中间折射率层B由无机物和有机物的混合物制成时，例如，当无机物为前面所述金属氧化物的微粒而有机物为可固化单体时，中间折射率层B的折射率可以很容易调控并且中间折射率层B也容易被制备。金属氧化物微粒的平均粒子尺寸优选不超过中间折射率层B的厚度。具体的说，金属氧化物微粒的平均粒子尺寸优选不超过0.1μm，进一步优选不超过0.05μm，最优选在0.01～0.05μm之间。过大的平均粒子尺寸将引起光散射并降低中间折射率层B的透明度，这是不可取的。
如有必要，微粒的表面还可用偶联剂处理。至于偶联剂，可使用，例如，有机硅化合物、由含如铝、钛、锆以及锑等金属的化合物引入有机基团而得的金属烷氧化物、以及有机酸盐。
可固化单体也没有特别的限制，可使用公知的单体。例如，可使用单官能团或多官能团的甲基丙烯酸酯、有机硅化合物如四乙氧基硅烷。从生产率和中间折射率层B的层强度角度出发，可固化单体优选可紫外光固化单体；从改善层强度的角度出发，优选多官能团单体。由于以上原因，最优选可紫外光固化、多官能团的丙烯酸酯和有机硅化合物。
作为可紫外光固化、多官能团的丙烯酸酯，可使用，例如，多官能团乙醇衍生物，如二季戊四醇六丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三丙烯酸酯、季戊四醇五丙烯酸酯、二羟甲基丙烷三丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，6-双(3-丙烯酰氧-2-羟丙氧基)己烷以及丙烯酸氨酯如聚二丙烯酸乙二醇酯、季戊四醇三丙烯酸酯、六亚甲基二异氰酸氨基甲酸酯预聚物。至于可固化单体，可使用一种或多种上述单体的混合物或者是添加了另一种组分的混合物。
金属氧化物的微粒和可固化单体的混合比(金属氧化物的微粒/可固化单体的重量比)优选50/50～90/10。进一步优选60/40～85/15。如果金属氧化物颗粒的重量比不到50重量份，即，可固化单体的重量比超过了50重量份，则不能得到具有满足要求的折射率的中间折射率层B。如果金属氧化物颗粒的重量比超过了90重量份，即，可固化单体的重量比不到10重量份，则中间折射率层B的成模性能和强度都趋于降低。
在本实施方式的效果不受影响的范围内，中间折射率层B的原材料中可加入各种添加剂，如无机或有机颜料、聚合物、聚合反应引发剂、聚合反应终止剂、抗氧剂、分散剂、表面活性剂、光稳定剂、光吸收剂以及匀涂剂。
在用湿涂法形成层后进行干燥步骤时，中间折射率层B原料中可加入一定量的溶剂。当中间折射率层B原料为无机物和有机物的混合物时，中间折射率层B的形成通常采用湿涂法。至于湿涂法，已知的有辊涂法、旋涂法以及浸涂法。优选的湿涂法为辊涂法和浸涂法，它们可连续成层且生产效率较高。
透明导电层合薄膜的导电电路形成于导电层C上，导电层C的材料没有特别的限制，但优选使用金属或者金属氧化物。例如，优选含金属如金、银、铜、铂、和镍或者是金属氧化物如氧化锡、氧化铟锡(ITO)和氧化锑锡(ATO)的透明导电层。以上物质中，从导电性、透明度和稳定性综合考虑，进一步优选氧化铟锡(ITO)。
导电层C的形成方法没有特别的限制，可采用，例如，干涂法，如气相沉积法、喷射法、离子镀法、CVD法以及电镀法。以上方法中，从易于控制膜层的厚度的角度出发，特别优选气相沉积法和喷射法。
以光学厚度的形式表示的话，导电层C的厚度在10～60nm之间。如果光学厚度低于10nm，则表面电阻升高，另一方面，如果光学厚度大于60nm，则透明度降低。
为了改善硬度，可以，例如，在衬底A和中间折射率层B之间形成一硬涂层。为了防眩，防止牛顿环现象发生，改善各层之间的粘附力以及屏蔽具有特殊波长的光线，至少需要引入一层功能层。至于功能层的材料，可使用，无机物，如氧化硅；有机物，如可紫外光固化多官能团丙烯酸酯，或者是两者的混合物。功能层的厚度优选在0.005～20μm之间，其折射率优选在1.45～1.65之间。功能层的形成方法没有特别的限制，可使用公知的方法，如干涂法和湿涂法。
只要本实施方式的效果不受影响，功能层原料中可加入各种添加剂，如无机填料、无机或有机颜料、聚合物、聚合反应引发剂、聚合反应终止剂、抗氧剂、分散剂、表面活性剂、光稳定剂、光吸收剂以及匀涂剂。当使用湿涂法形成功能层后进行干燥步骤时，功能层原料中可加入一定量的溶剂。
通过调整各层的折射率和光学厚度以使透明导电层合薄膜中接近导电层的表面的反射曲线在波长为380～500nm的范围内具有局部最小值，紫光至蓝光的反射可进一步被减少，且透过光的变色度也可进一步被减小。
在下面，反射系数显示出局部最小值的波长被指为局部最小反射系数的波长。当局部最小反射系数的波长低于380nm或者高于500nm时，透过光趋向于变色，因为紫光至蓝光的反射的减少效果变低或者是反射程度变大。
通过调整各层的折射率和光学厚度以使接近上述导电层的表面上的局部最小反射系数的波长在380～500nm之间。透过光线的色差用依据JIS Z8729的L*a*b*颜色体系来表示，其值落在-2＜a*＜2，-2＜b*＜2的范围内。相应的，可制得完全不受变色问题影响的透明导电层合薄膜。
通过调整各层的折射率和光学厚度以使局部最小反射系数的波长落在450～500nm之间，紫光至蓝光的反射可被进一步减少。其结果是，透过光的变色度进一步降低了，并且由于依据JIS K7361-1测出的透明导电层合薄膜的总透过率不低于85％而更为优选。
透明导电层合薄膜可作为导电材料应用于要求光透过率高、色调优异的场合。特别是，它可用于电子图像显示设备如有机或无机电致发光显示器或液晶显示器或是用于电阻式接触面板的电极衬底上。
如有需要，可预先在导电层还未形成的透明导电层合薄膜表面形成一粘合层，这样，层合薄膜就可粘附于其它物体上。粘合层所用的材料没有特别的限制。其实施例包括有机硅粘合剂、丙烯酸粘合剂、可紫外光固化粘合剂以及热固性粘合剂。
当层合薄膜在电阻式接触面板中用作上部(接触表面一侧)电极衬底时，为了改善表面强度，优选在与导电层C相对的透明导电层合薄膜的表面上形成一硬涂层。所述硬涂层至少被赋予一种功能，如防眩功能、抗静电功能以及减少反射的功能。与导电层C相对的导电层合薄膜的表面可以通过粘合层很紧密的层压于具有硬涂层的衬底背侧。
当用于电阻式接触面板的下部(显示器一侧)电极衬底时，透明导电层合薄膜本身可使用或层压一基底如玻璃或塑料后使用。而且，为改善光透过率，在其背侧，可通过一层或多层直接或间接的形成至少一层的抗反射层，或者是层压一个具有抗反射层的基底。所述抗反射层没有特别的限制，可用公知材料。
本实施方式的透明导电层合薄膜由位于衬底A上的光学厚度在100～175nm之间的中间折射率层B和层压其上的光学厚度在10～60nm之间的导电层C组成。也就是说，透明导电层合薄膜可通过在衬底A和导电层C之间只形成中间折射率层B制得。因此，其结构比多层结构要简单，并且薄膜也容易制备。
中间折射率层B的折射率在1.7～1.85之间，比衬底A的折射率大而比导电层C的折射率小。相应的，如图3所示，透明导电层合薄膜的光反射率被降低了，且大约固定在400～780nm这一波长范围内，同时，透过光的变色问题也被防止了。并且，如图4所示，透过率(总的透过率)大约固定在85％，且透过光是明亮的。如上所述，因为中间折射率层B的折射率值被调整在衬底A的折射率值和导电层C的折射率值之间，透明导电层合薄膜的反射率和波长之间关系的特征曲线图显得相对平直(反射率的局部最大值和局部最小值之间的差别较小)。因此，透过光的变色问题被防止了。而且，透过率与波长高度无关并大致固定，因此，可得到明亮的透过光。
通过优选实施方式，可得如下优点。
在透明导电层合薄膜中，衬底A、中间折射率层B和导电层C至少各一层以上述那样的顺序直接或间接的层压成型。中间折射率层B的光学厚度在100～175nm之间，导电层C的光学厚度在10～60nm之间。中间折射率层B的折射率在1.7～1.85之间，其值介于衬底A的折射率和导电层C的折射率之间。相应的，透过光的变色可被降低。而且，由于组成层合薄膜的层数较少，因此，透明导电层合薄膜结构简单并且可容易的以低成本制得。相应的，本实施方式的透明导电层合薄膜可用作接触面板的电极衬底。
由于导电层C由金属或者金属氧化物制得，故可得到优良的表面电阻。
导电层C可以很容易的用氧化铟锡，以选自下述的方法制得：真空沉积法、离子镀法、CVD法以及喷射法。
由于衬底A为厚度在10～500μm之间的塑料薄膜，故透明导电层合薄膜能显示出稳定的透明度。
由于中间折射率层B用原材料通过湿涂法制得，膜的形成可很方便的操作，并且制造透明导电层合薄膜的成本也可降低。
在透明导电层合薄膜中，靠近导电层C的膜表面的局部最小反射率的波长在380～500nm范围内。相应的，反射光谱中，蓝色反射光可被减少，色泽变黄也因而减少了。
在透明导电层合薄膜中，靠近导电层C的膜表面的局部最小反射率的波长在450～500nm范围内。相应的，色泽变黄可被减少而不降低总的透过率。
由于用依据JIS Z8729的L*a*b*颜色体系来表示的透过光线的色差为-2＜a*＜2和-2＜b*＜2，接近零，因此，透明导电层合薄膜的变色问题被防止了。
                        实施例
现在更为详细的描述本发明的实施例。本发明不限于下述实施例，除导电层以外，其它各层的折射率也都按下面的步骤测定。
(1)使用浸渍涂布机(SUGIYAMA-GEN RIKAGAKUKIKI有限公司制造)，将各层的涂布溶液涂覆于折射率为1.63的PET薄膜上(产品名：A4100，Toyobo有限公司提供)，同时调整光学厚度(n×d)，使其干燥后约在110nm。
(2)涂层干燥后在氮气氛围下，用紫外光照射(紫外照射仪：120W高压水银灯，400mJ，IWASAKI ELECTRIC有限公司制造)使其硬化。
(3)PET薄膜的背侧(与固化涂层相反的一侧)用砂纸打磨使其粗糙化，并用黑色涂料涂覆，以制备测试样品。样品的镜面反射光谱(380～780nm，+5°，-5°)用分光光度计(产品名：U-best 50，JASCO公司制造)测定。
(4)基于下面的方程，用从反射光谱得到的反射率的局部最大值和局部最小值计算折射率。
Figure A0381139000101
其中，nM代表PET薄膜的折射率，n代表各层的折射率。
至于导电层的折射率，导电层形成于折射率为1.63的PET薄膜上(产品名：A4100，Toyobo有限公司提供)，光学厚度(n×d)约为110nm，折射率按照上述步骤(3)和(4)进行测定。
制备例1
(中间折射率层的涂布液(H-1)的制备)
将80重量份的氧化锆微粒(平均粒径：0.04μm)、15重量份的四羟甲基甲烷三丙烯酸酯、900重量份的丁醇、1重量份的光聚合引发剂(产品名：IRGACURE 907，Ciba-Geigy有限公司提供)混合，制得中间折射率层的涂布液(H-1)。涂布液H-1用紫外光固化后得到的固化产品的折射率为1.77。
制备例2
(中间折射率层的涂布液(H-2)的制备)
以80重量份的氧化钛的微粒(平均粒径：0.03μm)取代80重量份的氧化锆微粒(平均粒径：0.04μm)，除此之外，以与制备例1同样的方式制备中间折射率层的涂布液H-2。涂布液H-1用紫外光固化后得到的固化产品的折射率为1.85。
制备例3
(硬涂层的涂布液(HC-1)的制备)
将70重量份的二聚季戊四醇六丙烯酸酯、30重量份的1，6-二丙烯酰氧己烷、4重量份的光聚合引发剂(产品名：IRGACURE 184，Ciba-Geigy有限公司提供)以及100重量份的异丙醇混合，制得硬涂层的涂布液HC-1。涂布液HC-1用紫外光固化后得到的固化产品的折射率为1.52。
制备例4
(硬涂层处理过的PET薄膜的制备)
预备实施例3中制备的涂布液HC-1用刮涂机涂覆于厚度为188μm的PET薄膜(产品名：A4100，Toyobo有限公司提供，折射率1.63)上，干燥后涂层厚度为5μm，制得涂布液层。涂布液层用紫外光照射(紫外照射仪：120W高压水银灯，400mJ，IWASAKIELECTRIC有限公司制造)固化，以制得硬涂层处理过的PET薄膜。
制备例5
(二氧化硅微粒分散液(L-1)的制备)
将25重量份的四羟甲基甲烷三丙烯酸酯、220重量份的二氧化硅微粒分散液(产品名：XBA-ST，NISSAN化学有限公司提供)、900重量份的丁醇以及5重量份的光聚合引发剂(产品名：KAYACURE BMS，NIPPON KAYAKU有限公司提供)混合，制得二氧化硅微粒分散液(L-1)。分散液L-1用紫外光固化后得到的固化产品的折射率为1.50。
实施例1
按照下面的方法，使用中间折射率层的涂布液H-1，在厚度为188μm的PET薄膜(产品名：A4100，Toyobo有限公司提供，折射率1.63)上形成中间折射率层B。
使用浸渍涂布机(SUGIYAMA-GEN RIKAGAKUKIKI有限公司制造)，采用一定量的中间折射率层的涂布液H-1(使固化后涂层光学厚度为160nm)，形成涂布液层。涂布液层在氮气氛围下，用紫外光照射(紫外照射仪：120W高压水银灯，400mJ，IWASAKIELECTRIC有限公司制造)固化并干燥，制得中间折射率层B。
含中间折射率层B的薄膜在100℃下预干燥1小时，以ITO(铟∶锡＝92∶8，膜层形成后折射率为2.00)为靶进行喷射，在中间折射率层B上形成光学厚度为40nm的导电层C。制得如图1所示的透明导电层合薄膜100。
透明导电层合薄膜100具有包含PET薄膜在内的衬底A、形成于衬底A上的中间折射率层B以及形成于层B上的导电层C。
随后，薄膜100的总透过率、局部最小反射系数的波长、透过光的色差(a*，b*)以及表面电阻分别按照如下方法测定，结果见表1。
(1)用烟柱探测仪(产品名：NDH2000，Nippon Denshoku工业有限公司制造)测定总的透过率。
(2)用分光光度计(产品名：UV1600，Shimadzu公司制造)，在380～780nm内所测的反射光谱得出局部最小反射系数的波长。
(3)用色差仪(产品名：SQ-2000，Nippon Denshoku工业有限公司制造)测定透过光的色差(a*，b*)。
(4)用表面电阻仪(产品名：LorestaMPMCP-T350，Mitsubishi化学公司制造)测定表面电阻。
表1
                       实施例                               对比实施例
  1   2   3   4   1   2   3   4 5 6
中间层的折射率   1.77   1.77   1.77   1.85   -   1.77   1.77   1.50 2.30 -
中间层的光学厚度(nm) 160 120 160 160 - 90 190 160 160 -
硬涂层   无   无   有   有   无   无   无   无 无 无
总透过率(％)   86.1   82.2   87.5   87.8   86.2   81.2   88.1   87.1 75.1 88.9
局部最小反射系数波长(nm) 480 400 500 500 - 350 530 - 430 550
透过光色差 a*   -1.1   0.7   -1.3   -1.6   -0.3   0.8   -2.4   -0.1 -0.1 -3.9
b*   0.5   -0.8   0.3   0.2   3.0   2.2   4.6   5.1 -8.2 5.9
表面电阻(×102Ω) 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3
实施例2
除了薄膜固化后的光学厚度改为120nm外，用与实施例1中同样的方式制备透明导电层合薄膜。
实施例3
除了使用预备实施例4制备的硬涂层处理过的PET薄膜代替PET薄膜外，用与实施例1中同样的方式制备透明导电层合薄膜。
实施例4
除了中间层的折射率改为1.85外，用与实施例3中同样的方式制备透明导电层合薄膜。
对比实施例1
用与实施例1同样的方式，在厚度为188μm的PET薄膜(产品名：A4100，Toyobo有限公司提供，折射率1.63)上直接形成一导电层，以制得透明导电层合薄膜。
对比实施例2
除了固化后的光学厚度改为90nm外，用与实施例1中同样的方式制备透明导电层合薄膜。
对比实施例3
除了同化后的光学厚度改为190nm外，用与实施例1中同样的方式制各透明导电层合薄膜。
对比实施例4
除了固化后的光学厚度改为160nm，以及使用二氧化硅微粒的分散液(L-1)(折射率：1.50)代替中间折射率层的涂布液H-1外，用与实施例1中同样的方式制备透明导电层合薄膜。
对比实施例5
在厚度为188μm的PET薄膜(产品名：A4100，Toyobo有限公司提供，折射率1.63)上，以氧化钛为靶，喷射形成金属氧化物层(折射率：2.30，光学厚度：160nm)作为中间折射率层。在金属氧化物层上，以ITO(铟∶锡＝92∶8)为靶，喷射形成导电层(光学厚度：40nm)，从而制得透明导电层合薄膜。
对比实施例6
通过在1～2×10-4Torr(1.33～2.66×10-2Pa)的减压下用电子束加热进行氧化钛的真空沉积，在PET薄膜的表面形成厚度为100nm、折射率为2.35的透明介电薄膜。然后，以与实施例1同样的方式形成导电层C后制得透明导电层合薄膜。
如表1所示，实施例1～4的透明导电层合薄膜具有较小的表面电阻以及较高的导电性能。而且，较小的透过色差(a*，b*)显示其表面变色程度较小。
另一方面，在对比实施例1和6中，没有中间折射率层B，在对比实施例2和3中，中间折射率层B的光学厚度超出了预定的范围，而在对比实施例4中，中间折射率层B的折射率低于预定的范围，可以看出，透过光色差，尤其是b*的值变大，从而引起透过光线的变色。
在对比实施例5中，中间折射率层的折射率高于导电层的折射率，可以看出，透过光色差，尤其是b*的值变的非常小，从而引起透过光线的变色。
实施例5和实施例6
通过丙烯酸粘合片(产品名：NONCARRIER，Lintec公司提供)，将在预备实施例4中制备的硬涂层处理过的PET薄膜的背侧均匀的层压于实施例3和实施例4的透明导电层合薄膜的背侧。在厚度为2mm的玻璃片(产品名：FL2.0，Nippon Sheet Glass有限公司提供)上，通过如实施例1的喷射方法，形成ITO(铟∶锡＝92∶8)导电层。接着，将透明导电层合薄膜的导电层和玻璃片上的导电层相互对置，再通过双面胶带将其各边粘合，制得如图2所示的电阻式接触面板200。
电阻式接触面板200包括一透明导电层合薄膜100a，薄膜中，中间折射率层B和导电层C通过形成于衬底A上的第一硬涂层1而层压。透明导电层合薄膜100a通过粘合层4与具有第二硬涂层2的PET薄膜3粘合。接触面板200还包括形成于玻璃基底5上的导电层6。此导电层6通过双面胶带7与透明导电层合薄膜100a的导电层C粘合。
电阻式接触面板200的总体透过率和透过光色差(a*，b*)用与实施例1同样的方式测定，其结果见表2。
对比实施例7～9
对比实施例7中，除了采用对比实施例1的薄膜作为透明导电膜之外，以与实施例5同样的方式制备电阻式接触面板。对比实施例8中采用对比实施例2的薄膜，对比实施例9中采用对比实施例3的薄膜。电阻式接触面板的总体透过率和透过光色差(a*，b*)见表2。
如表2所示，实施例5和实施例6的接触面板具有较小的透过光色差，透过光的变色不明显。
另一方面，使用不含中间折射率层B的薄膜的对比实施例7的接触面板和使用中间折射率层的光学厚度不恰当的薄膜的对比实施例8和对比实施例9的接触面板具有较大的透过光色差，尤其是b*值非常大，透过光变黄。
表2
        实施例            对比实施例
    5     6     7     8     9
中间层的折射率     1.77     1.85     -     1.77     1.77
中间层的光学厚度(nm)     160     160     -     90     190
硬涂层     有     有     无     无     无
总透过率(％)     80.3     80.4     79.1     74.6     81.1
透过光色差 a*     -1.5     -1.8     -0.5     0.1     -1.7
 b*     1.5     1.7     4.3     3.4     6.0
所得到的接触面板安置于CRT显示器中并测试其性能。实施例5和实施例6的接触面板可以在CRT显示器上精确地显示各种色彩。但是使用对比实施例7～9的接触面板，CRT显示器上白色则显示为微黄色。
优选实施方式可作如下修改。
中间折射率层B可能含两层。对于双中间折射率层B，优选靠近衬底A的一层具有较小的折射率而靠近导电层C的一层具有较大的折射率。且折射率在1.7～1.85范围内。在此情况下，透明导电层合薄膜的反射系数可以较小而透过率较高。
中间折射率层B的光学厚度和折射率可以依据下面的方程式而定，这样，来自衬底A的表面的反射光可与来自中间折射率层B的反射光相互干涉而抵消。公式中，λ代表反射光的波长。
2×(中间折射率层B的光学厚度)/λ＝1/2
当用湿涂法将金属氧化物和可固化单体的混合物固化形成中间折射率层B时，可用电子束照射。在此情况下，中间折射率层B迅速固化。
在形成中间折射率层B时，通过往金属氧化物和可固化单体的混合溶液中加入粘度控制剂(增稠剂)，可以调整粘度以使膜层达到所需的光学厚度。

Claims (15)

1.一种透明导电层合薄膜，其包括：
光透过衬底；
通过至少一个层直接或间接地层压于衬底的一个或两个表面上、且光学厚度在100～175nm之间的中间层；以及
层压于中间层上的、光学厚度在10～60nm之间的导电层，其特征在于，所述中间层的折射率在1.7～1.85之间，其值介于衬底的折射率和导电层的折射率之间。
2.如权利要求1所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述导电层由金属或者金属氧化物制成。
3.如权利要求1所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述导电层含氧化铟锡。
4.如权利要求1所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述衬底为厚度在10～500μm之间的塑料薄膜。
5.如权利要求1所述的透明导电层合薄膜，它具有更靠近导电层的第一表面，其特征在于，所述第一表面具有在380～500nm之间的局部最小反射系数的波长。
6.如权利要求5所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述第一表面具有在450～500nm之间的局部最小反射系数的波长。
7.如权利要求1所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，在L*a*b*颜色体系中，透过光的色差为-2＜a*＜2和-2＜b*＜2。
8.如权利要求1所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述导电层与中间层和衬底接触。
9.如权利要求1所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述中间层为无机物和有机物的混合物。
10.如权利要求9所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述无机物为金属氧化物，所述有机物为可固化单体。
11.如权利要求10所述的透明导电层合薄膜，其特征在于，所述可固化单体为可紫外光固化单体。
12.一种接触面板，其包括如照权利要求1～11中任何一项所述的透明导电层合薄膜。
13.一种制备透明导电层合薄膜的方法，其包括：
制备光透过衬底；
在衬底的一个表面上形成光学厚度在100～175nm之间、折射率在1.7～1.85之间并大于衬底的折射率的中间层；以及
在中间层上形成光学厚度在10～60nm之间、折射率大于中间层折射率的导电层。
14.如照权利要求13所述的方法，其特征在于，所述的形成导电层包括按照选自如下方法形成的氧化铟锡层：气相沉积法、离子镀法、化学气相沉积法或喷射法。
15.如照权利要求13所述的方法，其特征在于，以湿涂法形成中间层。
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